DE60023717T2 - Verfahren zur umwandlung optischer wellenlängen mit einem elektro-optischen laser mit integriertem modulator - Google Patents

Verfahren zur umwandlung optischer wellenlängen mit einem elektro-optischen laser mit integriertem modulator Download PDF

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  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

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  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Gebiet der Erfindung
  • Diese Erfindung betrifft allgemein Laseraufbauten und insbesondere ein Verfahren zum Umwandeln einer optischen Wellenlänge unter Verwendung eines weitgehend einstellbaren bzw. abstimmbaren Laseraufbaus mit integriertem Modulator.
  • Kurze Beschreibung des verwandten Standes der Technik
  • Ein Lasertransmitter für faseroptische Netzwerke muß Signale mit einer gegebenen stabilen Wellenlänge bereitstellen, die mit einer gewünschten Rate mit geringem Chirp und einer geeigneten, in die optische Faser eingebrachten Energie moduliert sind. Derzeitige Netzwerke weisen nicht weniger als 100 Wellenlängenkanäle auf, wobei jedem Kanal ein Laser zugeordnet ist und jeder Laser einen externen Modulator aufweist. Eine bedeutend größere Effizienz könnte mit einem Lasertransmitter und einem Modulator auf einem Chip erzielt werden, wobei der modulierte Laser so eingestellt werden kann, daß jeder Kanal eines Systems abgedeckt wird. Photonische Integration kann verwendet werden, um einen Lasertransmitter auf einem Chip bereitzustellen, wie es im Stand der Technik gut bekannt ist. 1 zeigt ein Blockdiagramm einer Struktur, die verwendet werden kann, um dies zu erreichen. Während die photonische Integration in der Technik gut bekannt ist, konzentrierten sich andere Versuche im Stand der Technik auf die Integration von Lasern, die nicht weitgehend einstellbar sind. Kobayashi, N., Noda, A., Watanabe, T., Miura, S., Odagawa, T., Ogita, S. "2.5-Gb/s-1200-km transmission of electroabsorption modulator integrated DFB laser with quarterwavelength-shifted corrugation", IEEE Photonics Technology Letters, Band 11, (Nr. 8), IEEE, Aug. 1999, S. 1039–41; Delprat, D., Ramdane, A., Silvestre, L.; Ougazzaden, A., Delorme, F., Slempkes, S. "20-Gb/s integrated DBR laser-EA modulator by selective area growth for 1.55-mu m WDM applications", IEEE Photonics Technology Letters, Band 9, Nr. 7, IEEE, Juli 1997, S. 898–900. Im Hinblick auf die Lehren aus dem Stand der Technik im allgemeinen und aus dem Stand der Technik betreffend in beschränktem Maße einstellbare Vorrichtungen im besonderen lassen große Einstellbereiche die Erzielung einer angemessenen Leistung dieser funktionalen Blöcke als nicht naheliegend erscheinen. Es werden Techniken der photonischen Integration benötigt, um eine weitgehend einstellbare Laservorrichtung mit integriertem Modulator herzustellen.
  • Beispielsweise beschreibt die Veröffentlichung von Kim, B. S. et al. mit dem Titel "Dynamic Analysis of Widely Tunable Laser Diodes Integrated with Sampled- and Chirped-Grating Distributed Bragg Reflectors and an Electroabsorption Modulator", IEICE Transactions on Electronics, Institute of Electronics Information and Comm. Eng., Tokio, JP, Band E81-C, Nr. 8, August 1998, Seiten 1342–1349, bezüglich der Wellenlänge einstellbare Laserdioden, die entscheidende Komponenten einer großen Vielzahl von WDM- und Paketvermittlungsarchitekturen sind. Auch bezüglich der Wel lenlänge eingestellte kurze Pulse, die von den Halbleiterlaserdioden erzeugt werden, sind für die Entwicklung von Ultrahochgeschwindigkeits- und optischen WDM-Kommunikationssystemen von großer Bedeutung. In den vergangenen Jahren wurden sowohl kontinuierlich als auch diskontinuierlich einstellbare Laser, die periodisch abgetastete und gechirpte Gitter beinhalten, theoretisch und mittels Experimenten untersucht. Diese Laserdioden zeigen den großen Einstellbereich von mehr als 60 nm, stabile Laserbedingungen und ein großes Nebenmoden-Unterdrückungsverhältnis. Direkt modulierte Halbleiterlaserdioden, selbst diejenigen mit einer einzigen Mode, zeigen während der Ein/Aus-Modulation einen dynamischen Frequenzchirp. Die dynamische Vergrößerung der Linienbreite, die durch einen solchen großen Frequenzchirp verursacht wird, kann die Leistung von optischen Hochgeschwindigkeits-Fernkommunikationssystemen signifikant beeinträchtigen. Die CW-Laserdioden, die in einem externen EA-Modulator integriert sind, stellen bei der Realisierung der optischen Hochgeschwindigkeitssysteme mit geringem Chirp einen Durchbruch dar. Auch die Erzeugung kurzer Pulse unter Verwendung des externen Modulators wurde experimentell umgesetzt, wobei das optische Schalten (optical gating) des Elektroabsorptionsmodulators das Prinzip der Pulserzeugung ist. In diesem Dokument werden weitgehend einstellbare Laserdioden, die periodisch abgetastete und gechirpte Gitter und einen externen Modulator beinhalten, unter Verwendung eines verbesserten dynamischen Zeitbereichsmodells analysiert. Erstens wird gezeigt, daß das verbesserte Modell beim Simulieren der komplexen Laserdioden mit aktiven und passiven Abschnitten sehr leistungsfähig ist. Auch werden die dynamischen Eigenschaften der DBR-Laserdioden mit Abtastgitter und der DBR-Laserdioden mit gechirptem Gitter untersucht. Zweitens werden die Modulationscharakteristika der in dem externen Elektroabsorptionsmodulator integrierten Laserdiode untersucht. Es wird gezeigt, daß die externe Modulation der direkten Modulation im Hinblick auf den geringeren Frequenzchirp überlegen ist. Des weiteren wird die Pulserzeugung durch das optische Schalten des externen Modulators in der Theorie beobachtet.
  • Die Veröffentlichung von Kim et al. offenbart eine einstellbare Laserdiode mit mehreren Abschnitten mit einem integrierten externen Elektroabsorptionsmodulator, der einen einzigen elektrischen Kontakt beinhaltet.
  • In einem weiteren Beispiel beschreibt die Veröffentlichung von Koch, T. L. et al. mit dem Titel "Semiconductor Photonic Integrated Circuits", IEEE Journal of Quantum Electronics, IEEE, Inc., New York, Band 27, Nr. 3, 1. März 1991 (1991-03-01), Seiten 641–653, photonische integrierte Halbleiterschaltkreise (PIC), die sich auf denjenigen Subsatz optoelektronischer integrierter Schaltkreise (OEIC) beziehen, die sich in erster Linie auf die monolithische Integration optisch miteinander verbundener optoelektronischer Vorrichtungen mit leitungsgeführten Wellen konzentrieren. Die Hauptmotivation für die PIC-Forschung bilden die erwartete Kosteneinsparung und die Robustheit der Verpackung, die mit dem Ersetzen individuell ausgerichteter, optischer Einzelmodenverbindungen zwischen diskreten optoelektronischen Vorrichtungen mit lithographisch erzeugten integrierten Wellenleitern einhergehen. Auf diesem Gebiet wurden kürzlich bedeutende Fortschritte erzielt, die aus einem verbesserten epitaktischen III-V-Kristallwachstum und damit in Beziehung stehenden Verarbeitungstechniken resultieren. In diesem Dokument werden Ausgestaltungs- und Herstellungsfragen diskutiert, die durch eine Anzahl kürzlich vorgestellter PIC auf InP-Basis veranschaulicht werden. Die Veröffentlichung von Koch et al. offenbart Laser mit mehreren Abschnitten mit integrierten Ausgangskopplern und Modulatoren, wobei die Modulatoren einen einzigen elektrischen Kontakt beinhalten.
  • ZUSAMMENFASSUNG
  • Dementsprechend ist die vorliegende Erfindung auf einen Diodenlaseraufbau gerichtet, der folgendes beinhaltet: ein Substrat, eine auf dem Substrat ausgebildete epitaktische Schicht, einen in der epitaktischen Schicht ausgebildeten einstellbaren Laserresonator, der einen Ausgang erzeugt, wobei der einstellbare Laserresonator einen ersten und einen zweiten Reflektor, einen Verstärkungsabschnitt und einen Phasenabschnitt beinhaltet, wobei der Verstärkungsabschnitt und der Phasenabschnitt jeweils zwischen dem ersten und dem zweiten Reflektor positioniert sind, wobei die Ausgangswellenlänge über einen breiteren Wellenlängenbereich hinweg einstellbar ist, als es durch Indexeinstellung irgendeines Abschnitts erzielbar ist, und der breitere Wellenlängenbereich durch Δλ/λ > Δn/n dargestellt wird, einen Modulator mit mindestens einem ersten Abschnitt und einem zweiten Abschnitt, die in der epitaktischen Struktur außerhalb des einstellbaren Laserresonators gebildet sind, wobei dem ersten und dem zweiten Abschnitt des Modulators getrennte elektrische Verbindungen bereitgestellt werden, die so ausgestaltet sind, daß sie durch Anlegen einer umgekehrten Vorspannung eine Amplituden- und Phasenantwort des Ausgangs von dem einstellbaren Laserresonator steuern, um ein elektrisches Feld in dem ersten und dem zweiten Abschnitt des Modulators zu verändern, und einen in der epitaktischen Struktur ausgebildeten Koppler, wobei der Koppler so angeordnet und ausgestaltet ist, daß er einen Ausgang von dem Modulator empfängt, Rückreflexionen zu dem Modulator reduziert und den Ausgang des Modulators mit einem nachfolgenden optischen Aufbau verbindet.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER FIGUREN
  • 1 ist ein Blockdiagramm eines Laseraufbaus, welches verschiedene funktionale Elemente eines Laseraufbaus veranschaulicht.
  • 2 ist eine Querschnittsansicht einer Ausführungsform eines weitgehend einstellbaren Laseraufbaus der vorliegenden Erfindung.
  • 3(a) ist eine Querschnittsansicht des Aufbaus von 2, die mehrschichtige Strukturen und die Integration zweier verschiedener Bandlückenmaterialien durch eine Offsetquantentopf-Technik veranschaulicht.
  • 3(b) ist eine Querschnittsansicht des Aufbaus von 2, die mehrschichtige Strukturen und die Integration zweier verschiedener Bandlückenmaterialien durch Stoßfugenwiederanwachsen (butt-joint regrowth) veranschaulicht.
  • 3(c) ist eine Querschnittsansicht des Aufbaus von 2, die eine Ausführungsform für die Integration mehrerer verschiedener Bandlückenmaterialien mittels flächenselektiven Wachstums (SAG) veranschaulicht.
  • 3(d) ist eine Querschnittsansicht des Aufbaus von 2, die eine Ausführungsform für die Integration mehrerer verschiedener Bandlückenmaterialien mittels Quantentopfmischen veranschaulicht.
  • 4(a) veranschaulicht eine Ausführungsform des Modulatorelements von 2 mit einem Einzelabschnittsmodulator, der dasselbe Bandlückenmaterial verwendet wie der vordere Spiegel.
  • 4(b) veranschaulicht eine Tandem-Ausführungsform des Modulatorelements von 2, die dasselbe Bandlückenmaterial verwendet wie der vordere Spiegel, um einen besseren Chirp und eine bessere Linearitätsleistung bereitzustellen.
  • 4(c) veranschaulicht eine Ausführungsform eines Einzelabschnittsmodulators des Modulatorelements von 2, die ein Bandlückenmaterial verwendet, das ausgewählt wurde, um über einen bestimmten Wellenlängenbereich den besten Chirp, die beste Antriebsspannung und das beste Ein-/Aus-Verhältnis bereitzustellen.
  • 4(d) veranschaulicht eine Tandem-Ausführungsform des Modulators des Modulatorelements von 2 mit Bandlückenmaterialien, die ausgewählt wurden, um die beste Leistung des Chirps, der Antriebsspannung und des Ein-/Aus-Verhältnisses für den zusammengesetzten Modulator über einen breiteren Wellenlängenbereich, als er durch einen einzigen Modulatorabschnitt erzielbar ist, bereitzustellen.
  • 5(a) ist eine Querschnittsansicht einer Ausführungsform des Modulatorelements von 2, die eine EAM-Nachverstärkung mit einem Einzelabschnittsverstärker beinhaltet, um auf Kosten einer aufgrund von ASE reduzierten Extinktion die höchste Ausgangsleistung bereitzustellen.
  • 5(b) ist eine Querschnittsansicht einer Ausführungsform des Modulatorelements von 2 mit einem vor dem EAM angeordneten Verstärker, um eine Verschlechterung des Extinktionsverhältnisses auf Kosten einer aufgrund von Modulatoreinfügungsverlust geringeren Ausgangsleistung zu verhindern.
  • 5(c) ist eine Querschnittsansicht einer Ausführungsform des Ausgangskopplerelements von 2, die eine Kombination aus Vor- und Nachverstärkung verwendet, um mit einer minimalen Verschlechterung des Extinktionsverhältnisses die höchste Ausgangsleistung zu erzielen.
  • 6(a) ist eine Querschnittsansicht einer Ausführungsform des Ausgangskopplerelements von 2, wobei die Dicke des Wellenleiters konisch ausgeführt ist, um zu erlauben, daß die Ausgangsmode durch einen darunterliegenden Wellenlängenleiter festgelegt wird.
  • 6(b) ist eine Draufsicht von oben auf eine Ausführungsform des Ausgangskopplerelements von 2, die veranschaulicht, daß die Breite des Wellenleiters und der Einfallswinkel auf die Facette verändert wurden, um eine große Kopplungseffizienz und eine geringe modale Reflektivität zu fördern.
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG
  • Unter Bezugnahme auf 2 stellt ein weitgehend einstellbarer Laseraufbau 10 mit einer auf einem Substrat ausgebildeten epitaktischen Schicht eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar. Für Zwecke dieser Erfindung wird ein weitgehend einstellbarer Laser als ein Laser definiert, dessen Ausgangswellenlänge über einen breiteren Wellenlängenbereich hinweg eingestellt werden kann, als es durch konventionelle Indexeinstellung, d.h. Δλ/λ < Δn/n, erzielbar ist, und dessen wellenlängenselektive Elemente innerhalb desselben optischen Wellenleiters liegen, d.h. keinen parallelen Aufbau von DFB-Lasern bilden.
  • Ein Laserelement 12 und ein Modulatorelement 14 sind in der epitaktischen Struktur ausgebildet. In der epitaktischen Struktur ist auch ein Ausgangskopplerelement 16 angeordnet, um ein von dem Modulator 14 empfangenes Ausgangssignal zu empfangen und anzupassen. Die verschiedenen Elemente werden in üblichen Verfahrensschritten hergestellt.
  • Der Laser 12 beinhaltet vordere Spiegel 18 und hintere Spiegel 20, die verteilte Bragg-Reflektoren ("DBR") sein können. In dem Laser 12 sind ein Verstärkungsabschnitt 22 sowie ein Modenauswahlabschnitt 24 angeordnet. Der Modenauswahlabschnitt 24 kann ein Element zur Auswahl einer lateralen Mode, ein Element zur Auswahl einer longitudinalen Mode, ein steuerbares Phasenverschiebungselement und dergleichen sein.
  • Der Modulator 14 kann einen optischen Halbleiterverstärker 26 ("SOA 26"), einen ersten Elektroabsorptionsmodulator ("EAM 28") und einen zweiten EAM 30 beinhalten.
  • Der Laser 12 ist vorzugsweise weitgehend einstellbar, um eine Laseremission mit den gewünschten spektralen Eigenschaften, wie z.B. Linienbreite, SMSR, Wellenlänge, für die Verwendung in einem optischen WDM-Kommunikationssystem über das gesamte Wellenlängenband oder zumindest einen großen Teil davon zu erzeugen. In einer Ausführungsform liegen die interessierenden Wellenlängenbänder im Bereich von 1300–1600 nm und haben typischerweise eine Bandbreite, die durch die Verstärkungscharakteristika faseroptischer Verstärker bestimmt wird.
  • In einer Ausführungsform ist der Laser 12 ein SG/SSG-DBR-Laser, der zwei SG/SSG-DBR-Spiegel 18 und 20, einen Verstärkungsabschnitt 22 und einen Phasenabschnitt 24 beinhaltet. Jayaraman, V., Chuang, Z.-M., Coldren, L. A. "Theory, design, and performance of extended tuning range semiconductor lasers with sampled gratings", IEEE Journal of Quantum Electronics, Band 29, (Nr. 6), Juni 1993, S. 1824–34. In dieser Ausführungsform wird die Bandlücke des Verstärkungsabschnitts 22 so gewählt, daß eine Verstärkung über das gesamte interessierende Wellenlängenband hinweg bereitgestellt werden kann. Die Bandlücke der SG/SSG-DBR-Spiegel 18 und 20 und des Phasenabschnitts 24 wird so gewählt, daß bei geringsten Verlust- und Einstellströmen alle Wellenlängen in dem gewünschten Wellenlängenband abgedeckt werden.
  • Andere Ausführungsformen, die für den Laser 12 verwendet werden können, beinhalten, sind jedoch nicht beschränkt auf, den GCSR-Laser, bei dem der Ausgang von der Seite des SG/SSG-DBR-Spiegels genommen wird, was die Integration der anderen Elemente, wie in 1 veranschaulicht, erlaubt. Oberg, M., Nilsson, S., Streubel, K., Wallin, J., Backbom, L., Klinga, T. "74 mm wavelength tuning range of an InGaAsP/InP vertical grating assisted codirectional coupler laser with rear sampled grating reflector", IEEE Photonics Technology Letters, Band 5, (Nr. 7), Juli 1993, S. 735–7. Eine weitere Ausführungsform für den weitgehend einstellbaren Laser 12 ist ein in Reihe geschalteter, verstärkungsgekoppelter DFB-Laser. Hong, J., Kim, H., Shepherd, F., Rogers, C., Baulcomb, B., Clements, S. "Matrix-grating strongly gain-coupled (MC-SGC) DFB lasers with 34-nm continuous wavelength tuning range", IEEE Photonics Technology Letters, Band 11, (Nr. 5), IEEE; Mai 1999, S. 515–17. Diese beiden Ausführungsformen können in die anderen Elemente von 2 integriert werden.
  • Der Modulator 14 codiert Daten, die von dem weitgehend einstellbaren Laser 12 erzeugt werden, auf dem optischen Träger. Die gewünschten Modulationscharakteristika sind folgende: geeignetes Ein/Aus-Verhältnis, Steuerung der instantanen Wellenlänge, wie z.B. Chirp, niedrige Antriebsspannung und hohe Sättigungsleistung. Für eine analoge Modulation ist es ebenfalls wünschenswert, sehr lineare Antworten zu erhalten.
  • Der Modulator 14 kann ein Elektroabsorptionsmodulator sein und eine Mehrzahl von Elektroabsorptionsmodulatoren beinhalten. In einer Ausführungsform weist der Modulator 14 dieselbe Bandlücke auf wie der vordere Spiegelabschnitt 18. In einer weiteren Ausführungsform weist der Modulator 14 eine andere Bandlücke auf als der vordere Spiegelabschnitt 18. In einer weiteren Ausführungsform beinhaltet der Modulator eine Mehrzahl von Modulatorabschnitten mit verschiedenen Bandlücken. Der Modulator 14 kann nicht strahlende Ladungsträgerfallen beinhalten, um die Ladungsträgerlebensdauer des Modulatormaterials zu verringern. Weiterhin kann der Modulator 14 einen optischen Verstärker beinhalten, der so ausgestaltet ist, daß er einen Ausgang von dem Elektroabsorptionsmodulator 14 empfängt. In einer weiteren Ausführungsform beinhaltet der Modulator 14 einen optischen Verstärker, der so ausgestaltet ist, daß er einen Ausgang erzeugt, der auf den Elektroabsorptionsmodulator trifft. Ein Elektroabsorptionsmodulator kann zwischen dem ersten und dem zweiten optischen Verstärker positioniert sein.
  • Der Ausgangskoppler 16 wird verwendet, um die Kopplungseffizienz und die Ausrichtungstoleranz gegenüber irgendeinem auf den Aufbau 10 folgenden optischen Aufbau zu erhöhen, einschließlich, jedoch nicht beschränkt auf eine optische Faser oder einer optischen Faser vorausgehende Linsen. Der Ausgangskoppler 16 reduziert eine modale Reflektivität an einer Ausgangsfacette des Ausgangskopplers 16 und modifiziert eine Ausgangsmodenform des Lasers 12.
  • Ein wichtiger Aspekt bei der Erzielung der Struktur von 2 ist die Verwendung von Bereichen, die verschiedene Bandlücken aufweisen, um ihre speziellen Aufgaben zu erfüllen. Eine Art der Spezifizierung dieser Bandlücke besteht darin, die Wellenlängenspitze der von diesen Abschnitten emittierten Photolumineszenz anzugeben. Der Verstärkungsabschnitt des Lasers 12 und des SOA 26 hat Bandlücken, die so ausgewählt werden, daß sie in dem Wellenlängenbereich, in dem der Laser 12 betrieben werden soll, eine Verstärkung bereitstellen. Der vordere Spiegel 18 und der hintere Spiegel 20 haben eine Bandlücke, die so ausgewählt ist, daß sie bei minimalem optischem Verlust eine Indexveränderung bereitstellt, die notwendig ist, um eine Laserwellenlänge zwischen benachbarten Spitzen eines Abtastgitterspiegels über den gesamten Wellenlängenbereich hinweg einzustellen. Die Bandlücke und die Länge des Modulators 14 werden so ausgewählt, daß sie die erforderliche Extinktion der Laserwellenlänge bei einer umgekehrten Vorspannung, die für eine gegebene Modulationsgeschwindigkeit leicht zu erzielen ist, liefern.
  • Die monolithische Integration optisch unähnlicher Elemente des Aufbaus 10 wird durch ein Herstellungsverfahren, welches die optischen Eigenschaften ausgewählter Bereiche auf eine gewünschte elektrooptische Funktion anpaßt bzw. abstimmt, erzielt. Abgestimmte optische Eigenschaften einschließlich der Bandlücke führen, ausgehend von einer üblichen epitaktischen Schichtstruktur, zu optisch aktiven und passiven Bereichen auf demselben Wafer. Weiterhin sind die üblichen Schritte des Herstellungsverfahrens, die zur Bildung der Elemente der Vorrichtung notwendig sind, mit den Herstellungsverfahren für photonische Einrichtungen, wie sie derzeit auf dem Gebiet der Glasfaserindustrie verwendet werden, kompatibel. Somit ist die Vorrichtung der vorliegenden Erfindung einfach herzustellen.
  • In einer bestimmten Ausführungsform beinhalten die Herstellungsverfahren für das selektive Abstimmen der Bandlücken von Bereichen auf dem Wafer den Schritt des Implantierens von Störstellen durch Ionen geringer Energie, beispielsweise weniger als etwa 200 eV, in einen Teil eines ausgewählten Waferbereichs in der Nähe der Waferoberfläche. Der Wafer wird dann getempert. Dies erlaubt es den in der Nähe der Waferoberfläche implantierten Störstellen und Fehlstellen, durch den gesamten ausgewählten Bereich zu diffundieren und die Bandlücke des Bereichs auf eine gewünschte elektrooptische Funktion abzustimmen.
  • In den passiven Wellenleiterbereichen des Phasenverschiebungsabschnitts und des Spiegelabschnitts des Aufbaus 10 sollte die effektive Bandlücke beispielsweise etwas größer (z.B. > 0,1 eV) sein als die Lichtwellen-Betriebsenergie, die nur geringfügig größer (typischerweise ~ 0,01–0,05 eV) ist als die effektive Bandlücke der aktiven Schichten im Verstärkungsabschnitt 22. Integrierte externe Modulatorelemente 14 können für irgendeine gewünschte Funktionalität, wie z.B. zur Reduzierung des Chirps oder für eine verbesserte Linearität, Abschnitte mit derselben größeren Bandlücke wie in den anderen passiven Bereichen oder mit einer Zwischen-Bandlücke, die zwischen der des aktiven und des passiven Bereichs liegt, aufweisen. Integrierte externe Verstärkerelemente können für irgendeine Funktionalität, wie z.B. gesteigerte Sättigungsleistung oder verbesserter Chirp von Modulator-/Verstärker-Kombinationen, dieselbe Bandlücke wie der aktive Verstärkungsabschnitt oder eine leicht modifizierte Bandlücke aufweisen.
  • In vielen Ausführungsformen werden die passiven Bereiche durch selektives Entfernen der Schichten mit der geringsten Bandlücke, die für eine Verstärkung in den aktiven Bereichen verantwortlich sind, in derselben Sequenz erzeugt, in der andere Verarbeitungsschritte ausgeführt werden, wie z.B. Gitterbildung in den Spiegelbereichen. In diesen Fällen ist der Vorgang der Ionenimplantierung nicht notwendig, kann jedoch verwendet werden, um andere Bereiche, z.B. in integrierten Modulatoren und/oder Verstärkerelementen, besser abzustimmen. Auf diese Abfolge folgt ein erneutes Aufwachsen der oberen Deckschichten, die für den oberen Teil des optischen Wellenleiters benötigt werden.
  • Es gibt verschiedene Schichtstrukturen, die Fachleuten auf dem Gebiet gut bekannt sind und die Integration von Bereichen mit verschiedenen Bandlücken erlauben.
  • 3 Die 3(a) bis 3(d) veranschaulichen mehrere dieser Strukturen. Der einfachste Ansatz besteht darin, einen gemischten Quantentopf-("MQW 30")Verstärkungsabschnitt auf der passiven Wellenleiterschicht 32 zu züchten, wie es in 3(a) veranschaulicht ist.
  • Ein Vorteil der Ausführungsform von 3(a) ist ihre Einfachheit; des weiteren können die Bandlücke und die Geometrie jedes Abschnitts für die Aufgabe, die der betreffende Bereich zu erfüllen hat, etwas optimiert werden.
  • In einer anderen Ausführungsform, die in 3(b) veranschaulicht ist, wird der MQW 30 durch Stoßfugenwachsen gebildet. Diese Ausführungsform erlaubt eine völlig unabhängige Optimierung der verschiedenen Bandlückenbereiche. Ein erneutes Stoßfugenwachsen beinhaltet das Wegätzen der Schichten in einem Bereich der Vorrichtung und das selektive erneute Aufwachsen von Schichten mit der gewünschten Bandlücke. Wallin, J., Landgren, G., Strubel, K., Nilsson, S., Oberg, M. "Selective area regrowth of butt-joint coupled waveguides in multi-section DBR lasers". Journal of Crystal Growth, Band 124, Nr. 1–4, Nov. 1992, S. 741–6.
  • Ausgefeiltere Strukturen zum Erzielen von Bereichen mit mehreren Bandlücken sind in den 3(c) und 3(d) veranschaulicht. In 3(c) beinhaltet das flächenselektive Wachstum ("SAG") das Züchten der gewünschten Schichtstruktur auf einem Substrat mit einem Muster von dielektrischen Masken. Aoki, M., Suzuki, M., Sano, H., Taniwatari, T., Tsutsui, T., Kawano, T. "Quantum energy control of multiple-quantum-well structures by selective area MOCVD and its application to photonic integrated devices", Electronics and Communications in Japan, Teil 2 (Elektronik), Band 77, (Nr. 10), Okt. 1994, S. 33–44. Die Anwesenheit der Masken stört das Wachstum und steigert die Wachstumsrate in der Nähe der Masken. Die MQW-Bereiche 30 mit verschiedenen Bandlücken können nachfolgend unter Verwendung von Masken verschiedener Breiten gezüchtet werden, um Quantentöpfe verschiedener Dicken zu züchten. In 3(d) wird ein MQW-Bereich 30 mit der kleinsten der gewünschten Bandlücken gezüchtet. Durch Mischen des Quantentopfs und der Barriere wird die Bandlücke der Struktur zum blauen Bereich hin verschoben. Hofstetter, D., Maisenholder, B., Zappe, H. P. "Quantum-well intermixing for fabrication of lasers and photonic integrated circuits", IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics, Band 4, Nr. 4, IEEE, Juli-Aug. 1998, S. 794–802. Der Betrag dieser Blauverschiebung wird durch die anfänglichen Zusammensetzungen von Topf und Barriere und das Ausmaß des Mischens bestimmt. Durch räumliches Steuern des Ausmaßes des Mischens können verschiedene Bereiche mit verschiedenen Bandlücken erzeugt werden.
  • Ein Materialsystem einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist In-GaAsP/InP, wobei die Angabe der Bandlücke der speziellen gitterangepaßten Legierung das gewünschte Bulk-Material sowie die Legierungen, die erforderlich sind, um das Quantentopfmaterial zu erhalten, dessen PL-Spitze der genannten Bandlücke entspricht, spezifiziert. Die gewünschten Eigenschaften können auch unter Verwendung von Legierungen in dem InGaAlAs/InP-System, die die spezifische Bandlücke aufweisen, erzielt werden.
  • Wenn für die Ausführungsformen verschiedene Bandlücken ausgewählt oder spezifiziert werden, so impliziert dies, daß eine oder mehrere der in den 3(a) bis 3(d) veranschaulichten Techniken in geeigneter Weise verwendet wurden, um die Bandlücken, die für alle Elemente des Aufbaus 10 spezifiziert wurden, zu erzeugen. Diese Techniken und deren Kombinationen sind Fachleuten auf dem Gebiet bekannt und können die Beschreibungen aller folgenden Ausführungsformen erzielen. Delprat, D., Ramdane, A., Silvestre, L., Ougazzaden, A., Delorme, F., Slempkes, S. "20-Gb/s integrated DBR laser-EA modulator by selective area growth for 1.55-mu m WDM applications", IEEE Photonics Technology Letters, Band 9, Nr. 7, IEEE, Juli 1997, S. 898–900; Hansen, P. B., Raybon, G., Koren, U., Miller, B. I., Young, M. G., Newkirk, M. A., Chien, M.-D., Tell, B., Burrus, C. A. "Monolithic semiconductor soliton transmitter", Journal of Lightwave Technology, Band 13, (Nr. 2), Feb. 1995, S. 297–301; Wallin, J., Landgren, G., Strubel, K., Nilsson, S., Oberg, M. "Selective area regrowth of butt-joint coupled waveguides in multi-section DBR lasers", Journal of Crystal Growth, Band 124, Nr. 1–4, Nov. 1992, S. 741–6; Aoki, M., Suzuki, M., Sano, H., Taniwatari, T., Tsutsui, T., Kawano, T. "Quantum energy control of multiple-quantum-well structures by selective area MOCVD and its application to photonic integrated devices", Electronics and Communications in Japan, Teil 2 (Elektronik), Band 77, (Nr. 10), Okt. 1994, S. 33–44; Hofstetter, D., Maisenholder, B., Zappe, H. P. "Quantum-well intermixing for fabrication of lasers and photonic integrated circuits", IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics, Band 4, Nr. 4, IEEE, Juli, Aug. 1998, S. 794–802. Fachleuten auf dem Gebiet ist bekannt, daß es für bestimmte dieser Techniken notwendig ist, daß Quantentopfbereiche eine Bandlückeneinstellung erlauben. Die spezifischen Bandlücken der Ausführungsformen beziehen sich auf die PL-Spitze der Abschnitte nach allen Bandlückeneinstellungsanstrengungen, ganz gleich, ob sie das Bulk-Material oder Quantentöpfe bzw. Quantenwells betreffen.
  • Der Laser 12, der Modulator 14 und der Ausgangskoppler 16 sind elektrisch voneinander isoliert, so daß der Betrieb von einem von ihnen durch keinen benachbarten Abschnitt innerhalb der Elemente oder durch keines der Elemente von 2 elektrisch beeinflußt wird.
  • Die 4(a) bis 4(d) veranschaulichen verschiedene Ausführungsformen des Modulators 14, wobei Elektroabsorption verwendet wird, um die Modulation zu erzeugen. In 4(a) verwendet der EAM-Abschnitt 28 dasselbe Bandlückenmaterial wie der SG/SSG-DBR 18. Um die Modulationscharakteristika zu optimieren, kann die DC-Vorspannung für jede von dem Laser 12 erzeugte Wellenlänge angepaßt werden. Eine getrennte Optimierung der Bandlücke kann für den EAM-Bereich 28 und den SG/SSG-DBR 18 gewünscht sein, wobei eine der Ausführungsformen der 3(a) bis 3(d) verwendet wird, um die gewünschten Bandlücken zu erzeugen. Das Ergebnis ist in 4(c) gezeigt.
  • Aufgrund der weitgehenden Einstellbarkeit des Lasers 12 ist es schwierig, unter Verwendung eines einzigen Modulatorabschnitts für alle oben aufgelisteten Parameter bei allen Wellenlängen eine optimale Leistung zu erzielen. Durch ein- oder mehrmaliges Aufspalten des Kontakts, wie es in 4(b) mit dem ersten EAM-Bereich 28 und dem zweiten EAM-Bereich 30 gezeigt ist, können auf jeden der EAM-Abschnitte 28 und 30 mit identischer Modulation oder einer Modulation mit einer Phasen-/Amplitudenverschiebung zwischen den EAM-Abschnitten 28 und 30 getrennte Vorspan nungen angelegt werden. Dieses Tandem-Modulationsschema ist für die Steuerung des Chirps und für das Erzielen einer größeren Linearität vorteilhaft.
  • Die in 4(b) veranschaulichte Ausführungsform kann durch ebenfalls erfolgendes Anpassen der Bandlücke jedes der Modulatorabschnitte, wie in 4(d) gezeigt, weiter ausgedehnt werden. Die Bandlücke jedes der EAM-Abschnitte 28 und 30 wird so gewählt, daß seine Absorption so eingestellt wird, daß er ein geeignetes Ein/Aus-Verhältnis, eine Antriebsspannung und einen Chirp für einen Subsatz von Wellenlängen innerhalb des von dem Laser 12 emittierten Bereichs liefert. Durch Anlegen einer geeigneten Vorspannung an jeden der EAM-Abschnitte 28 und 30 kann der zusammengesetzte Modulator 14 diese optimalen Charakteristika über den gesamten Wellenlängenbereich des Lasers 12 hinweg erzeugen. Weiterhin kann die Modulation mit einer oder ohne eine Phasen-/Amplitudenverschiebung in geeigneter Weise auf einen oder mehrere der EAM-Abschnitte 28 und 30 angelegt werden, um den Chirp oder die Linearität über das Maß hinaus zu erhöhen, das durch Modulieren nur eines einzigen EAM-Abschnitts erzielt werden kann.
  • Um höhere Sättigungsleistungen zu erzielen, wird die Ladungsträgerlebensdauer des den Modulator 14 bildenden Materials reduziert. Zu diesem Zweck können geeignete Quantentopfstrukturen mit reduzierter Ladungsträgerlebensdauer verwendet werden. Czajkowski, I. K., Gibbon, M. A., Thompson, G. H. B., Greene, P. D., Smith, A. D., Silver, M. Strain-compensated MQW electroabsorption modulator for increased optical power handling. Electronics Letters, Band 30, (Nr. 11), 26. Mai 1994, S. 900–1. Es ist wichtig, daß diese Quantentopfstrukturen nachfolgend zu allen Bandlücken-Einstellungsschritten erzielt werden. Alternativ können Fallen z.B. über einen Implantationsschritt eingefügt werden, um die Lebensdauer des Ladungsträgers durch nicht strahlende Prozesse zu reduzieren. Woodward, T. K., Knox, W. H., Tell, B., Vinattieri, A., Asom, M. T. "Experimental studies of proton-implanted GaAs-AlGaAs multiple-quantum-well modulators for low-photocurrent applications", IEEE Journal of Quantum Electronics, Band 30, (Nr. 12), Dezember 1994, S. 2854–65. Aufgrund des Einfügungsverlusts in den EAM-Bereichen 28 und 30 kann es vorteilhaft sein, dem Modulatorelement 14 mittels SOA 2 eine Verstärkung hinzuzufügen; dies ist jedoch nicht notwendig.
  • Die 5(a) bis 5(d) veranschaulichen verschiedene Ausführungsformen des Modulators 14, die eine Verstärkung beinhalten. Obwohl in 4(d) nur eine Ausführungsform für den Modulationsteil des Modulations-/Verstärkungselements veranschaulicht ist, versteht es sich, daß auch alle Ausführungsformen der 4(a) bis 4(c) verwendet werden können.
  • 5(a) veranschaulicht eine Ausführungsform, in der der SOA 26 auf den Modulator 14 folgt. Diese Ausführungsform ist für das Erzeugen der höchsten Ausgangsleistung bei einer bestimmten gegebenen Sättigungsleistung des SOA 26 vorteilhaft. Ein weiterer Vorteil besteht in der Fähigkeit, die Nichtlinearität in dem SOA 26 dazu zu verwenden, einen positiven Chirp in dem EAM-Abschnitt 28 auszugleichen. Woodward, T. K., Knox, W. H., Tell, B., Vinattieri, A., Asom, M. T. "Experimental studies of proton-implanted GaAs-AlGaAs multiple-quantum-well modulators for lowphotocurrent applications", IEEE Journal of Quantum Electronics, Band 30, (Nr. 12), Dezember 1994, S. 2854–65; Watanabe, T., Sakaida, N., Yasaka, H., Koga, M. "Chirp control of an optical si gnal using phase modulation in a semiconductor optical amplifier", IEEE Photonics Technology Letters, Band 10, (Nr. 7), IEEE, Juli 1998, S. 1027–9.
  • 5(b) veranschaulicht eine Ausführungsform, bei der der SOA 26 dem Modulator 14 vorausgeht. Diese Ausführungsform ist vorteilhaft, um das Extinktionsverhältnis des Modulators 14 zu erhalten und um die Einfügung unmodulierter ASE in das Netzwerk zu verhindern. Ein Nachteil dieser Ausführungsform besteht darin, daß die erzielbare Ausgangsleistung aufgrund der Sättigung des SOA 26 und durch den Einfügungsverlust des EAM 28 reduziert wird. Es ist auch nicht mehr möglich, irgendeinen positiven Chirp, der in dem EAM-Abschnitt 28 mit dem SOA 26 erzeugt werden kann, auszugleichen.
  • 5(c) veranschaulicht eine Ausführungsform, in der der SOA 28 und der SOA 34 dem EAM-Abschnitt 30 sowohl vorausgehen als auch folgen. Diese Ausführungsform erlaubt eine Steigerung der maximalen erzielbaren Ausgangsleistung gegenüber dem lediglich vorausgehenden SOA 28 der Ausführungsform von 5(b) mit geringerem Rauschen und geringerer Verschlechterung des Extinktionsverhältnisses als bei dem lediglich nachfolgenden SOA 26 von 5(a). Zusätzlich benutzt diese Ausführungsform auch die Nichtlinearität in dem SOA 26, um einen positiven Chirp im EAM-Abschnitt 28 auszugleichen.
  • Des weiteren kann es vorteilhaft sein, ein Tandem-Verstärkungsschema zu verwenden, bei dem getrennte Vorspannungen auf einen geteilten Kontaktverstärker angelegt werden, um die Eigenschaften von Rauschen und Verstärkungssättigung des zusammengesetzten Verstärkers unabhängig voneinander zu steuern. Alle Ausführungsformen der 5(a), 5(b) und 5(c) können unter Verwendung eines solchen Tandem-Verstärkungsschemas implementiert werden.
  • Eine weitere Möglichkeit zum Steuern der gesättigten Ausgangsleistung eines SOA besteht darin, seine Breite und/oder die Bandlücke des Verstärkungsmaterials anzupassen, um die Lebensdauer des Ladungsträgers für eine größere optische Leistung zu erhöhen. Jegliche Anpassung der Breite erfolgt adiabatisch, um einen geringen optischen Übergangsverlust sicherzustellen.
  • 6(a) veranschaulicht eine Ausführungsform des Ausgangskopplers 16 mit einem Ausgangskopplerwellenleiter 36. In dieser Ausführungsform ist die Dicke des Ausgangskopplerwellenleiters 34 konisch ausgebildet, um zu erlauben, daß die Ausgangsmode von einer darunterliegenden Schicht 38 definiert wird. Durch Umwandeln der optischen Mode, die in jedem anderen Element der Ausführungsform von 2 verwendet wird, der Mode des photonischen Schaltkreises ("PIC"-Mode), in eine größere optische Mode, die eher eine einer optischen Faser mit einer Linse entsprechende faserangepaßte("FM"-Mode)Mode ist, werden gleichzeitig die Kopplungseffizienz und die Ausrichtungstoleranz gesteigert.
  • Die Verfahren zum Transformieren der Modengröße sind Fachleuten auf dem Gebiet gut bekannt und beinhalten üblicherweise eine adiabatische Verjüngung (adiabatic tapering) des Kerns, was die optische PIC-Mode festlegt. Diese Verjüngung kann lateral, wie z.B. durch Verjüngung der Breite des Kerns, oder vertikal, durch Verjüngung der Dicke des Kerns, erfolgen. Kawano, K., Kohtoku, M., Okamoto, N., Itaya, Y., Naganuma, M. "Comparison of coupling characteristics for several spotsize-converter-integrated laser diodes in the 1.3-mu m-wavelength region", IEEE Photonics Technology, Band 9, (Nr. 4), IEEE, April 1997, S. 428–30. Diese Verjüngungen erfolgen vorzugsweise in nicht linearer Weise, um den Modentransformationsverlust für kürzere Verjüngungslängen zu reduzieren. J. D. Love "Application of a low-loss criterion to optical waveguides and devices", IEE Proceedings J (Optoelectronics), Band 136, S. 225–8, 1989.
  • Die darunterliegende Wellenleiterschicht 38 kann verwendet werden, um die FM-Mode zu definieren. Dies ist vorteilhaft, weil die FM-Modenform gegenüber den Dimensionen des nach unten hin konisch zulaufenden bzw. sich verjüngenden PIC-Wellenleiterkerns, die für seine Definition verwendet werden, sehr empfindlich ist, was es schwierig macht, die gewünschte FM-Modenform in reproduzierbarer Weise herzustellen. Durch Einschließen der darunterliegenden Wellenleiterschicht 38 kann der PIC-Wellenleiterkern vollständig entfernt werden, was eine Bestimmung der FM-Mode allein durch die darunterliegende Wellenleiterschicht 38 ermöglicht. Weiterhin wird der Brechungsindex der darunterliegenden Wellenleiterschicht 38 vermindert, so daß das Vorhandensein der Schicht 38 die PIC-Modenform nicht beeinflußt, und die FM-Modenform ist gegenüber den Dimensionen der darunterliegenden Schicht toleranter.
  • Der Ausgangskopplerwellenleiter 36 kann nicht linear verjüngt sein, er kann in einer Richtung im wesentlichen parallel zu einer optischen Achse des Lasers 12 verjüngt sein oder er kann in einer Richtung im wesentlichen senkrecht zu einer optischen Achse des Lasers 12 verjüngt sein. Die Verjüngung des Ausgangskopplerwellenleiters 36 bedeutet, daß ein Abschnittsbereich "X" des Wellenleiters entlang des Wellenleiters 36 variiert. Der Ausgangskopplerwellenleiter 36 kann entlang einer kristallographischen Achse der epitaktischen Struktur des Aufbaus 10 orientiert sein.
  • Eine weitere Verwendung des Ausgangskopplers 16 besteht darin, die modale Reflektivität an einer Ausgangsfacette 40 auf weniger als 10–5 zu reduzieren. Es gibt mehrere Verfahren, um dies zu bewerkstelligen; diese sind Fachleuten auf dem Gebiet gut bekannt. In einer Ausführungsform wird dies durch Abscheiden einer dielektrischen AR-Beschichtung 42, um diese Reflektivität zu erzielen, erreicht.
  • 6(b) veranschaulicht eine Ausführungsform, bei der der Einfallwinkel des Ausgangskopplerwellenleiters 36 an der Ausgangsfacette 40 so ausgewählt wird, daß er die modale Reflektivität auf 10–4 reduziert, was die Verwendung einer einfacheren Breitband-AR-Beschichtung erlaubt, um eine Reflektivität von 10–5 zu erreichen. Der Ausgangskopplerwellenleiter 36 ist gekrümmt, um den gewünschten Winkel zu erreichen. Die Krümmung wird so gesteuert, daß Moden höherer Ordnung nicht signifikant angeregt werden. Die Krümmung des Wellenleiters 36, um den gewünschten Winkel zu erreichen, erlaubt eine Orientierung des Wellenleiters 36 entlang einer kristallographischen Richtung auf dem Rest des Aufbaus 10. Dies ist, wie Fachleuten auf dem Gebiet gut bekannt ist, aufgrund der kristallographischen Beschaffenheit vieler Verfahrensschritte, die zur Herstellung des Aufbaus 10 notwendig sind, vorteilhaft. Zusätzlich kann aufgrund der großen Länge des Aufbaus 10 das Anwinkeln des Wellenleiters 36 entlang der gesamten Länge des Aufbaus 10 dazu führen, daß die in dem Verfahren verwendete Preßform übermäßig breit ist.
  • In einer Ausführungsform beinhaltet der Ausgangskoppler 16 wenigstens einen aktiven Bereich und wenigstens einen passiven Bereich. Eine Grenzfläche zwischen dem aktiven und dem passiven Bereich kann im wesentlichen senkrecht oder schräg zu einer Mittellinie des Ausgangskopplerwellenleiters 36 verlaufen. Reflexionen an der Grenzfläche zwischen dem aktiven und dem passiven Bereich können reduziert werden, indem der Ausgangskopplerwellenleiter 36 sich adiabatisch verjüngt. Die verjüngten Abschnitte des Ausgangskopplerwellenleiters 36 können in dem passiven oder in dem aktiven Bereich liegen. Der Ausgangskopplerwellenleiter 36 erstreckt sich durch den aktiven und den passiven Bereich und kann abgeschnitten werden, ehe er eine Ausgangsfacette des Ausgangskopplers 16 erreicht. Darüber hinaus kann ein Ende des Ausgangskopplerwellenleiters 36 in einem schiefen Winkel zur Ausgangsfacette des Ausgangskopplers 36 enden.
  • In einer weiteren Ausführungsform kann der Ausgangskoppler 16 zwei oder mehr aktive Bereiche und einen passiven Bereich beinhalten. Die aktiven Bereiche können unabhängig voneinander steuerbar und durch einen passiven Bereich voneinander getrennt sein.
  • Die vorstehende Beschreibung einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung wurde zu Zwecken der Veranschaulichung und Beschreibung gegeben. Sie soll nicht erschöpfend sein oder die Erfindung auf die genau offenbarten Formen beschränken. Es versteht sich, daß viele Modifikationen und Variationen für Fachleute auf dem Gebiet auf der Hand liegen. Der Schutzumfang der Erfindung soll durch die folgenden Ansprüche definiert werden.

Claims (38)

  1. Diodenlaseraufbau (10), der aufweist: ein Substrat, eine epitaktische Struktur, die auf dem Substrat gebildet ist, einen einstellbaren Laserresonator (12), der in der epitaktischen Struktur ausgebildet ist, der einen Ausgang erzeugt, wobei der einstellbare Laserresonator (12) einen ersten und einen zweiten Reflektor (18, 20), einen Verstärkungsabschnitt (22) und einen Phasenabschnitt (24) beinhaltet, wobei der Verstärkungsabschnitt (22) und der Phasenabschnitt (24) jeweils zwischen dem ersten und dem zweiten Reflektor (18, 20) positioniert sind, wobei die Ausgangswellenlänge einstellbar ist über einen breiteren Wellenlängenbereich als durch die Indexeinstellung irgendeines Abschnitts erzielbar ist und wobei der breitere Wellenlängenbereich dargestellt wird durch Δλ/λ > Δn/n, einen Modulator (14) mit zumindest einem ersten Abschnitt und einem zweiten Abschnitt, die in der epitaktischen Struktur außerhalb des einstellbaren Laserresonators (12) ausgebildet sind, wobei dem ersten und zweiten Abschnitt des Modulators (14) getrennte elektrische Verbindungen bereitgestellt werden, die konfiguriert sind, um eine Amplituden- und Phasenantwort des Ausgangs von dem einstellbaren Laserresonator (12) durch Anlegen einer umgekehrten Vorspannung zu steuern, um ein elektrisches Feld in dem ersten und zweiten Abschnitt des Modulators (14) zu verändern, und einen Koppler, der in der epitaktischen Struktur ausgebildet ist, wobei der Koppler positioniert und konfiguriert ist, um einen Ausgang von dem Modulator (14) zu empfangen, Rückreflexionen zu dem Modulator (14) zu reduzieren und den Ausgang des Modulators (14) mit einem nachfolgenden optischen Aufbau zu verbinden.
  2. Aufbau nach Anspruch 1, bei dem der Koppler eine modale Reflektivität bei einer Ausgangsfläche (40) des Kopplers reduziert.
  3. Aufbau nach Anspruch 1, bei dem der Koppler eine Ausgangsmodusform des einstellbaren Laserresonators (12) modifiziert.
  4. Aufbau nach Anspruch 1, bei dem der Koppler einen optischen Wellenleiter (36) beinhaltet.
  5. Aufbau nach Anspruch 4, bei dem der optische Wellenleiter (36) in einer Ebene des Substrates, die nicht parallel zu einer optischen Achse des einstellbaren Laserresonators (12) ist, gekrümmt ist.
  6. Aufbau nach Anspruch 1, bei dem der Koppler einen ersten optischen Wellenleiter (36) und einen zweiten optischen Wellenleiter (38), der unterhalb des ersten optischen Wellenleiters (36) liegt, beinhaltet.
  7. Aufbau nach Anspruch 6, wobei der erste optische Wellenleiter (36) gekrümmt ist.
  8. Aufbau nach Anspruch 6, wobei zumindest einer der optischen Wellenleiter (36, 38) spitz zuläuft.
  9. Aufbau nach Anspruch 6, bei dem zumindest einer der optischen Wellenleiter (36, 38) nicht linear spitz zuläuft.
  10. Aufbau nach Anspruch 6, wobei zumindest einer der optischen Wellenleiter (36, 38) in einer Richtung im wesentlichen parallel zu einer optischen Achse des einstellbaren Laserresonators (12) spitz zuläuft.
  11. Aufbau nach Anspruch 6, wobei zumindest einer der optischen Wellenleiter (36, 38) in einer Richtung im wesentlichen senkrecht zu einer optischen Achse des einstellbaren Laserresonators (12) spitz zuläuft.
  12. Aufbau nach Anspruch 6, wobei zumindest einer der optischen Wellenleiter (36, 38) entlang einer kristallographischen Achse der epitaktischen Struktur orientiert ist.
  13. Aufbau nach Anspruch 1, wobei der Modulator (14) ein Elektroabsorptionsmodulator ist.
  14. Aufbau nach Anspruch 1, wobei der Modulator (14) eine Mehrzahl von Elektroabsorptionsmodulatoren aufweist.
  15. Aufbau nach Anspruch 1, wobei der Modulator (14) dieselbe Bandlücke wie ein vorderer Spiegel (18) innerhalb des einstellbaren Laserresonators (12) hat.
  16. Aufbau nach Anspruch 1, wobei der Modulator (14) eine andere Bandlücke als ein vorderer Spiegel (18) innerhalb des einstellbaren Laserresonators hat.
  17. Aufbau nach Anspruch 1, bei dem der Modulator (14) eine andere Bandlücke als ein Verstärkungsmedium (22) innerhalb des einstellbaren Laserresonators (12) hat.
  18. Aufbau nach Anspruch 1, wobei die Modulatorsektionen (14) unterschiedliche Bandlücken haben.
  19. Aufbau nach Anspruch 1, wobei der Modulator (14) nicht strahlende Ladungsträgerfallen hat, um eine Ladungsträgerlebensdauer des Modulatormaterials (14) zu reduzieren.
  20. Aufbau nach Anspruch 1, wobei der Modulator (14) einen optischen Verstärker (34) beinhaltet, der konfiguriert ist, um einen Ausgang des Elektroabsorptionsmodulators (14) zu empfangen.
  21. Aufbau nach Anspruch 1, wobei der Modulator (14) einen optischen Verstärker (26) beinhaltet, der derart konfiguriert ist, daß er einen Ausgang erzeugt, der auf den Elektroabsorptionsmodulator (14) auftrifft.
  22. Aufbau nach Anspruch 1, wobei der Modulator (14) einen Elektroabsorptionsmodulator (14) beinhaltet, der zwischen einem ersten und einem zweiten optischen Verstärker (26, 34) positioniert ist.
  23. Aufbau nach Anspruch 1, wobei der Aufbau (10) eine gemeinsame epitaktische Struktur mit Bereichen unterschiedlicher Bandlücken hat.
  24. Aufbau nach Anspruch 23, wobei die Gebiete mit unterschiedlicher Bandlücke gebildet werden durch Entfernen von Offsetquantentöpfen (quantum wells) vor dem erneuten Aufwachsen.
  25. Aufbau nach Anspruch 23, wobei die Gebiete unterschiedlicher Bandlücke gebildet werden durch ein Stoßfugenwachsen (butt-joint growth) der anschließenden Wellenleiter.
  26. Aufbau nach Anspruch 23, wobei die Bereiche mit unterschiedlichen Bandlücken gebildet werden durch selektives Flächenwachstum.
  27. Aufbau nach Anspruch 23, wobei die Gebiete mit unterschiedlicher Bandlücke durch Quantenwellmischen gebildet werden.
  28. Aufbau nach Anspruch 27, wobei das Quantenwellmischen erzielt wird durch Beschießen ausgewählter Abschnitte der epitaktischen Struktur mit Ionen und Ausheilen der epitaktischen Struktur, um Störstellen und Fehlstellen in eine ausgewählte Region der epitaktischen Struktur zu diffundieren, um die optischen Eigenschaften der Region zu bestimmen.
  29. Aufbau nach Anspruch 1, wobei der einstellbare Laserresonator (12) ein Modenselektionselement (24) aufweist.
  30. Aufbau nach Anspruch 29, wobei das Modusauswahlelement (24) ein Element für die Auswahl einer lateralen Mode ist.
  31. Aufbau nach Anspruch 29, wobei das Modusauswahlelement (24) ein Element für die Auswahl der longitudinalen Mode ist.
  32. Aufbau nach Anspruch 29, wobei das Modusauswahlelement (24) ein steuerbares Phasenverschiebungselement ist.
  33. Aufbau nach Anspruch 1, wobei der erste und zweite Reflektor (18, 20) eine Laserkavität festlegt und wobei zumindest einer, der erste oder der zweite Reflektor (18, 20) einstellbar ist.
  34. Aufbau nach Anspruch 33, wobei zumindest der erste oder der zweite Reflektor (18, 20) ein verteilter Bragg-Reflektor ist.
  35. Aufbau nach Anspruch 33, wobei der erste und der zweite Reflektor (18, 20) verteilte Bragg-Reflektoren sind.
  36. Aufbau nach Anspruch 33, wobei eine Wellenlänge maximaler Reflektivität des einstellbaren Laserresonators (12) einstellbar ist.
  37. Aufbau nach Anspruch 1, wobei der einstellbare Laserresonator (12) ein multiaktives Bereichsverstärkungsmedium (22) hat.
  38. Aufbau nach Anspruch 1, wobei der nachfolgende optische Aufbau nicht auf dem Substrat enthalten ist.
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