DE60015919T2 - Elektronenstrahlbedampfungsanlage mit stabmagazin - Google Patents

Elektronenstrahlbedampfungsanlage mit stabmagazin Download PDF

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DE60015919T2
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Douglas John EVANS
Frank Antonio MARICOCCHI
Rudolfo Viguie
John David WORTMAN
Vincent David RIGNEY
Seth William WILLEN
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  • GEBIET DER ERFINDUNG
  • Diese Erfindung betrifft im allgemeinen eine physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung. Insbesondere betrifft diese Erfindung eine solche Beschichtungseinrichtung, die keramische Beschichtungen auf Komponenten, wie z. B. Wärmebarrierenbeschichtungen auf Superlegierungskomponenten von Gasturbinenmotoren abscheiden kann.
  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Höhere Betriebstemperaturen für Gasturbinenmotoren werden ständig angestrebt, um deren Wirkungsgrad zu erhöhen. Jedoch muß mit der Zunahme der Betriebstemperaturen die Hochtemperaturbeständigkeit der Komponenten des Motors entsprechend zunehmen. Obwohl bedeutende Fortschritte mit Superlegierungen auf Eisen-, Nickel- und Kobalt-Basis erzielt worden sind, sind die Hochtemperatureigenschaften dieser Legierungen alleine oft für Komponenten nicht ausreichend, die in bestimmten Abschnitten eines Gasturbinenmotors, wie z. B. in der Turbine, in der Brennkammer und in dem Nachbrenner angeordnet sind. Eine übliche Lösung besteht in der thermischen Isolation derartiger Komponenten, um deren Betriebstemperaturen zu minimieren. Für diesen Zweck haben Wärmebarrierenbeschichtungen (TBC – thermal barrier coatings), die auf den ausgesetzten Oberflächen von Hochtemperaturkomponenten ausgebildet werden, breite Anwendung gefunden.
  • Um effektiv zu sein, müssen die Wärmebarrierenbeschichtungen eine niedrige Wärmeleitfähigkeit besitzen und gut an der Komponentenoberfläche anhaften. Verschiedene Keramikmaterialien wurden bisher als die TBC verwendet, insbesondere Zirkoniumdioxid (ZrO2), stabilisiert mit Yttriumoxid (Y2O3), Magnesiumoxid (MgO) oder anderen Oxiden. Diese speziellen Materialien werden in großen Umfang im Fachgebiet eingesetzt, da sie leicht durch Plasmaspritz- oder Vakuumabscheidungstechniken abgeschieden werden können. Ein Beispiel der Letzteren ist die physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtung (EBPVD), welche eine Wärmebarrierenbeschichtung mit einer säulenartigen Kornstruktur erzeugt, die in der Lage ist, sich mit dem darunter liegenden Substrat auszudehnen, ohne beschädigende Spannungen zu bewirken, die zu einem Abplatzen führen, und daher eine verbesserte Belastungstoleranz zeigt. Die Anhaftung der TBC an der Komponente wird ferner oft durch das Vorhandensein einer metallischen Bindebeschichtung, wie zum Beispiel ein Diffusions-Aluminid oder eine oxidationsbeständige Legierung, wie zum Beispiel MCrAlY verbessert, wobei M Eisen, Kobalt und/oder Nickel ist.
  • Verfahren zum Erzeugen einer TBC durch EBPVD umfassen im allgemeinen das Vorerhitzen einer Komponente auf eine akzeptable Beschichtungstemperatur, und dann das Einführen der Komponente in eine beheizte Beschichtungskammer, die auf einem Druck von etwa 0,005 mbar gehalten wird. Höhere Drücke werden vermieden, da die Steuerung des Elektronenstrahls bei Drücken über 0,005 mbar schwieriger ist, wobei ein fehlerhafter Betrieb bei Beschichtungskammerdrücken über 0,010 mbar berichtet wird. Man hat auch geglaubt, daß die Lebensdauer des Heizfadens der Elektronenstahlkanone reduziert würde oder die Kanone kontaminiert würde, wenn man bei Drücken über 0,005 mbar arbeitet. Die Komponente wird in der Nähe zu einem Barren bzw. Block des keramischen Beschichtungsmaterials (zum Beispiel YSZ) gehaltert, und ein Elektronenstrahl auf den Block gerichtet, um so die Oberfläche des Blockes zu schmelzen und einen Dampf des Beschichtungsmaterials zu erzeugen, der sich auf der Komponente absetzt.
  • Der Temperaturbereich, innerhalb welchem EBPVD Verfahren durchgeführt werden können, hängt zum Teil von den Zusammensetzungen der Komponente und des Beschichtungsmaterials ab. Eine minimale Verfahrenstemperatur wird im allgemeinen festgelegt, um sicherzustellen, daß das Beschichtungsmaterial in geeigneter Weise verdampft und sich auf der Komponente abscheidet, während eine maximale Verfahrenstemperatur im allgemeinen festgelegt wird, um eine mikrostrukturelle Beschädigung an dem Gegenstand zu vermeiden. Während des gesamten Abscheidungsverfahrens steigt die Temperatur innerhalb der Beschichtungskammer ständig als eine Folge des Elektronenstrahls und des Vorhandenseins eines geschmolzenen Pools des Beschichtungsmaterials an. Demzufolge werden EBPVD Beschichtungsverfahren oft in der Nähe der gewünschten minimalen Verfahrenstemperatur begonnen und dann beendet, wenn sich die Beschichtungskammer der maximalen Verfahrenstemperatur annähert, wobei zu diesem Zeitpunkt die Beschichtungskammer gekühlt und gereinigt wird, um das Beschichtungsmaterial zu entfernen, daß sich an den Innenwänden der Beschichtungskammer abgesetzt hat. Fortschrittliche EBPVD Einrichtungen ermöglichen das Entfernen der beschichteten Komponenten aus der Beschichtungskammer und die Ersetzung mit vorgeheizten, unbeschichteten Komponenten ohne die Vorrichtung abzuschalten, so daß ein kontinuierlicher Betrieb erreicht wird. Der kontinuierliche Betrieb der Einrichtung während dieser Zeit kann als eine "Kampagne" bezeichnet werden, wobei größere Anzahlen von Komponenten erfolgreich während der Kampagne beschichtet werden, was höheren Wirkungsgraden in der Bearbeitung und Wirtschaftlichkeit entspricht.
  • Angesichts des Vorstehenden ist es eine beträchtliche Motivation, die Anzahl der Komponenten zu erhöhen, die innerhalb einer einzigen Kampagne beschichtet werden können, den Anteil der Zeit zu reduzieren, der erforderlich ist, um die Komponenten in die Beschichtungskammer einzubringen und daraus zu entfernen, und den Zeitanteil zu reduzieren, der erforderlich ist, um eine Wartung an der Einrichtung zwischen den Kampagnen durchzuführen. Jedoch sind Einschränkungen des Stands der Technik oft das Ergebnis eines relativ schmalen Bereichs akzeptabler Beschichtungstemperaturen, die Komplexität der Bewegung extrem heißer Komponenten in die und aus der Beschichtungskammer und die Schwierigkeiten, denen man bei der Wartung einer modernen EBPVD Einrichtung gegenüber steht. Demzufolge werde verbesserte EBPVD Einrichtungen und Verfahren kontinuierlich zur Abscheidung von Beschichtungen gesucht und insbesondere von keramischen Beschichtungen wie TBCs.
  • DE 197 43 799 C offenbart eine physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung mit einem drehbaren Magazin, das Blöcke aus Beschichtungsmaterial enthält.
  • KURZZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung ist eine physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (EBPVD) gemäß dem Anspruch 1, welche in einem Verfahren zur Anwendung der Einrichtung zum Erzeugen einer Beschichtung (zum Beispiel einer keramischen Wärmebarrierenbeschichtung) auf einem Gegenstand nützlich ist. Die EBPVD Einrichtung dieser Erfindung enthält im allgemeinen eine Beschichtungskammer, die bei einer erhöhten Temperatur (zum Beispiel wenigstens 800°C) und bei einem subatmosphärischen Druck (zum Beispiel zwischen 10–3 mbar und 5×10–2 mbar) betrieben werden kann. Eine Elektronenstrahlkanone wird dazu verwendet, einen Elektronenstrahl in die Beschichtungskammer und auf ein Beschichtungsmaterial in der Kammer zu projizieren. Die Elektronenstrahlkanone wird betrieben, um das Beschichtungsmaterial zu schmelzen und zu verdampfen. Ferner ist eine Vorrichtung zum Halten eines Gegenstandes in der Beschichtungskammer enthalten, so daß Dämpfe des Beschichtungsmaterials sich auf dem Gegenstand abscheiden können.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung kann der Betrieb der EBPVD Einrichtung durch den Einschluß oder die Anpassung von einem oder mehreren Merkmalen und/oder Verfahrenmodifikationen verbessert werden. Gemäß einem Aspekt der Erfindung bezüglich der Verfahrenstemperatursteuerung enthält die Beschichtungskammer Strahlungsreflektoren, die innerhalb der Beschichtungskammer bewegt werden, um den Anteil an reflektierter Erwärmung zu erhöhen oder zu verringern, den der Gegenstand aus dem geschmolzenen Beschichtungsmaterial während einer Beschichtungskampagne empfängt. Verfahrensdrucksteuerung ist ebenfalls ein Aspekt der Erfindung, mittels welcher Verarbeitungsdrücke größer als 0,010 mbar gemäß der gleichzeitig anhängenden U.S. Patentanmeldung Ser. Nr. 091108,201 für Rigney et al., (äquivalent zu EP 0 969 117 A und demselben Inhaber wie die vorliegende Erfindung übertragen) mit minimalen oder keinen nachteiligen Effekten auf den Betrieb und die Zuverlässigkeit der Elektronenstahlkanone, und mit minimalen Schwankungen in den Prozeßdrücken praktisch ausgeführt werden können. Auf diesen Aspekt der Erfindung bezogene mechanische und Verfahrensverbesserungen umfassen Modifikationen der Elektronenstrahlkanone, der Beschichtungskammer und der Art, mittels welcher Gase in die Einrichtung eingeführt und daraus entfernt werden. Außerdem wird durch diese Erfindung das Elektronenstrahlmuster auf dem Beschichtungsmaterial verbessert.
  • Gemäß einem weiteren bevorzugten Aspekt der Erfindung wird ein Tiegel verwendet, um das Beschichtungsmaterial innerhalb der Beschichtungskammer zu halten. Der Tiegel weist bevorzugt wenigstens zwei Elemente auf, ein erstes, welches einen geschmolzenen Pool des Beschichtungsmaterials umgibt und haltert, während das zweite Element an dem ersten Element befestigt ist, und einen nicht geschmolzenen Anteil des Beschichtungsmaterials umgibt. Die ersten und zweiten Elemente definieren einen ringförmigen Kühlkanal dazwischen der nahe an dem geschmolzenen Pool angrenzt, so daß eine effiziente Kühlung des Tiegels erreicht werden kann, was die Rate reduziert, mit welcher die Verfahrenstemperatur innerhalb der Beschichtungskammer ansteigt.
  • Die Erfindung umfaßt wenigstens ein drehbares Magazin, das mehrere Blöcke des Beschichtungsmaterials unterhalb der Beschichtungskammer haltert. Das Magazin ist gerastert, um individuell mehrere Stapel von einem oder mehreren Blöcken mittels einer Blende zu der Beschichtungskammer auszurichten, um sequentiell die Blöcke in die Beschichtungskammer einzuführen ohne den Abscheidungsvorgang des Beschichtungsmaterials zu unterbrechen.
  • Gemäß einem weiteren bevorzugten Aspekt der Erfindung ist eine Sichtöffnung für die Betrachtung des geschmolzenen Beschichtungsmaterials innerhalb der Beschichtungskammer vorgesehen. Um in der Lage zu sein, eine Sicht auf den innerhalb der Beschichtungskammer stattfindenden Prozeß bei extrem hoher Temperatur zu ermöglichen, ist die Sichtöffnung fluidgekühlt und besitzt eine Hochdrehzahl-Stroboskoptrommel und eine Magnetteilchendichtung, die eine Hochtemperatur-Vakuumdichtung für die Stroboskoptrommel bereitstellen. Ein weiterer bevorzugter Aspekt besteht darin, daß die Sichtöffnung eine stereoskopische Betrachtung der Beschichtungskammer ermöglicht, wodurch einer oder mehrere Bediener gleichzeitig die Beschichtungskammer unter Beibehaltung einer stereoskopischen Sicht beobachten können.
  • Weitere Aufgaben und Vorteile dieser Erfindung werden besser aus der nachstehenden detaillierten Beschreibung verständlich.
  • KURZBESCHREIBUNG DER ZEICHNUNG
  • 1 und 2 sind schematische Drauf- bzw. Vorderansichten einer EBPVD, welche zum Abscheiden eines Beschichtungsmaterials gemäß dieser Erfindung verwendet wird.
  • 3, 4 und 5 sind Querschnittsansichten entlang einer Schnittlinie 3-3 von 1 und stellen eine gemäß einem Aspekt dieser Erfindung verwendete bewegliche Plattform dar.
  • 6 und 7 sind detailliertere Vorder- bzw. Draufsicht-Querschnittsansichten bevorzugter Innenkomponenten für eine Beschichtungskammer der Einrichtungen der 1 und 2.
  • 8 und 9 vergleichen eine EB Kanonenblendenöffnung des Stands der Technik und eine gemäß der bevorzugten Ausführungsform dieser Erfindung konfigurierte Blendenöffnung.
  • 10 ist eine Querschnittsansicht eines einen Block aus Beschichtungsmaterial beherbergenden Tiegels und eines auf die Oberflächen des Tiegels und des Blocks in Abhängigkeit von der bevorzugten Ausführungsform dieser Erfindung projizierten Elektronenstrahls.
  • 11 ist eine Draufsicht auf den Tiegel von 10 und auf ein bevorzugtes Muster für den Elektronenstrahl auf dem Tiegel und dem Block.
  • 12 stellt eine bevorzugte Energieintensitätsverteilung des Elektronenstrahlmusters über der Oberfläche des Blockes und des Tiegel der 10 und 11 dar.
  • 13 stellt eine bevorzugte Sichtöffnung für die Beobachtung des Verfahrens innerhalb der Beschichtungskammer der in den 1 und 2 dargestellten Einrichtung dar.
  • 14 stellt eine Steuertafel für die Überwachung und Steuerung des Betriebs der Einrichtungen von 1 und 2 dar.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
  • Eine EBPVD Einrichtung 10 gemäß dieser Erfindung ist allgemein in den 1 und 2 dargestellt, während verschiedene Komponenten und Merkmale in den 3 bis 14 dargestellt sind. Die Einrichtung 10 ist insbesondere gut für die Abscheidung einer keramischen Wärmebarrierenbeschichtung auf einer Metallkomponente geeignet, welche für einen Betrieb in einer thermisch aggressiven Umgebung gedacht ist. Erwähnenswerte Beispiele derartiger Komponenten umfassen die Hoch- und Niederdruckturbinendüsen und Schaufeln, Mäntel, Brennerteile und Nachbrennermechanik von Gasturbinenmotoren. Obwohl die Vorteile dieser Erfindung unter Bezugnahme auf die Abscheidung einer keramischen Beschichtung auf derartigen Komponenten beschrieben werden, können die Lehren dieser Erfindung auch allgemein auf eine Vielzahl von Beschichtungsmaterialien und Komponenten angewendet werden.
  • Für Zwecke der Veranschaulichung der Erfindung ist die EBPVD Einrichtung 10 in den 1 und 2 als eine Beschichtungskammer 12, ein Paar von Vorheizkammern 14 und zwei Paare von Ladekammern 16 und 18 umfassend dargestellt, so daß die Vorrichtung 10 eine symmetrische Konfiguration besitzt. Die vorderen Ladekammern 16 sind zu ihren entsprechenden Vorheizkammern 16 ausgerichtet dargestellt, wobei ursprünglich auf einen Rechen 22 innerhalb der linken Kammer 16 geladene Teile 20 in die Vorheizkammer und, wie in 1 dargestellt, in die Beschichtungskammer 12 übertragen worden sind. Mit der symmetrischen Konfiguration der Vorrichtung 10 kann, während die durch die vordere linke Ladekammer 16 geladenen Teile 20 innerhalb der Beschichtungskammer 12 beschichtet werden, ein zweites Los von Teilen in der vorderen rechten Ladekammer 16 in der rechten Vorheizkammer 14 vorgeheizt werden, ein drittes Los von Teilen in die hintere linke Ladekammer 18 geladen und ein viertes Los von Teilen aus der hinteren rechten Ladekammer 18 entnommen werden. Demzufolge können vier Verfahrensstadien gleichzeitig mit der bevorzugten EBPVD Einrichtung 10 dieser Erfindung stattfinden.
  • Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform dieser Erfindung sind die Ladekammern 16 und 18 auf beweglichen Plattformen 24 mit einem niedrigen Profil montiert, so daß die Ladekammern 16 und 18 selektiv zu ihren Vorheizkammern ausgerichtet werden können. Beispielsweise wird, wenn die vordere linke Ladekammer 16 in Ausrichtung zu der linken Vorheizkammer 14 gebracht wird, um das Einbringen der Teile 20 in die Beschichtungskammer 12 zu ermöglichen, die hintere linke Ladekammer 18 von der linken Vorheizkammer 14 zurückgesetzt, so daß Teile gleichzeitig aus dem Rechen 22 der hinteren linken Ladekammer 18 geladen oder entladen werden können. Jede Plattform 24 ist auch bevorzugt in eine Wartungsposition verschiebbar, in welcher keine ihrer Ladekammern 16 und 18 zu ihrer Vorheizkammer ausgerichtet ist, so daß man auf die Innenräume der Vorheiz- und Ladekammern 14, 16 und 18 zum Reinigen Zugang hat. Die Plattformen 24 werden bevorzugt wenigstens teilweise durch im Boden montierte Kugellager 44 gelagert, obwohl es vorhersehbar ist, daß eine Vielzahl von Lagern verwendet werden können. Jede Plattform 24 besitzt ein niedriges Höhenprofil (Überstand über dem Boden von nicht mehr als etwa 2,5 cm (1 inch) mit einer abgeschrägten Kante (bevorzugt 30 Grad aus der Horizontalen), welche zusammen im wesentlichen die Möglichkeit beseitigen, daß eine Bedienungsperson über den Rand der Plattform 24 stolpert. Die Einrichtung 10 umgebende feststehende Objekte sind bevorzugt von den Rändern der Plattformen 24 beabstandet positioniert, um zu verhindern, daß eine Bedienungsperson durch eine Plattform 24 eingequetscht wird, wenn sie neu positioniert wird. Als Alternative zu der dargestellten Plattformkonfiguration könnten Plattformsysteme mit mehreren überlappenden oder teleskopartig beweglichen Segmenten verwendet werden. Ferner könnten die beweglichen Segmente unterhalb einer fixierten erhöhten Plattform gleiten, welche die Plattformanordnungen umgibt. Schließlich könnten getrennte Vorheizkammern für das Laden der Kammern 16 und 18 vorgesehen werden, so daß beide Ladekammern 16 und 18 und ihre Heizkammern von einem beweglichen Plattformsystem umgeben wären.
  • Gemäß Darstellung in den 3 bis 5 ist ein Abschnitt der Beschichtungskammer 12 bevorzugt auch so konfiguriert, daß er sich relativ zu der Vorheizkammer 14 bewegt, um das Reinigen des Inneren der Kammer 12 zwischen Beschichtungskampagnen zu erleichtern. Wie es in 3 zu sehen ist, befindet sich die Beschichtungskammer 12 in ihrer Betriebsposition, wobei eine später im Detail beschriebene Sichtöffnung an einem vorderen Abschnitt der Kammer 12 montiert ist. In 4 ist der vordere Abschnitt der Beschichtungskammer 12 (sowie ein der Beschichtungskammer 12 wie nächstehend diskutiert zugeordnetes Blockmagazin 102 von dem Rest der Beschichtungskammer 12 weggeschoben dargestellt, um Zugang zu einer beweglichen Arbeitsplattform 50 zu haben, welche in 5 in eine Arbeitsposition gedreht dargestellt ist. In dieser Position ist das Innere der Beschichtungskammer 12 leicht über die Arbeitsplattform 50 zugänglich. Die Plattform 50 ist als mit einem Scharnier 52 mit der Basis der Beschichtungskammer 12 verbunden dargestellt, wobei es jedoch vorhersehbar ist, daß andere akzeptable Strukturen verwendet werden könnten. Die Plattform 50 könnte unterschiedlich zu der in den 3 bis 5 dargestellten konfiguriert sein, einschließlich einer gelenkigen segmentierten Konstruktion und mit Trittschutzplatten und anderem sicherheitsbezogenen Zubehör.
  • Die Beschichtungs-, Vorheiz- und Ladekammern 12, 14, 16 und 18 sind über (nicht dargestellte) Ventile verbunden, welche eine Vakuumabdichtung zwischen diesen Kammern erzielen. Zum Maximieren der Größe und Anzahl der Teile 20, welche zwischen den Kammern 12, 14, 16 und 18 geladen werden können, haben die Ventile bevorzugte eine minimale Abmessung von etwa 250 mm, welche erheblich größer ist, als eine von dem Fachmann auf diesem Gebiet bisher als praktikabel betrachtete. Da die Beschichtungs-, Vorheiz- und Ladekammern 12, 14, 16 und 18 auf unterschiedliche Vakuumpegel abgepumpt werden müssen und in einigen Fällen sich im Bezug zueinander, wie es vorstehend erläutert wurde, bewegen müssen, müssen die Ventile in der Lage sein, zahlreiche Zyklen bei relativ hohen Drücken zu überstehen. Für diesen Zweck geeignete Dichtungskonstruktionen sind im Fachgebiet bekannt und werden daher hier nicht im Detail diskutiert.
  • Bezugnehmend auf die 6 und 7 wird eine Beschichtung innerhalb der Beschichtungskammer 12 durch Schmelzen und Verdampfen von Blöcken 26 aus keramischem Material mit Elektronenstrahlen 28 durchgeführt, welche von Elektronenstrahl-(EB) Kanonen 30 erzeugt und auf die Blöcke 26 fokussiert werden. Die intensive Erhitzung des Keramikmaterials durch die Elektronenstrahlen 28 bewirkt das die Oberfläche jedes Blockes 26 schmilzt, was geschmolzene Keramikpools ausbildet, aus welchen Moleküle des keramischen Materials verdampfen, nach oben wandern und sich auf den Oberflächen der Teile 20 abscheiden, und dadurch die gewünschte keramische Beschichtung erzeugen, deren Dicke von der Dauer des Beschichtungsverfahrens abhängt. Obwohl zwei Blöcke 26 in diesen Figuren dargestellt sind, liegt es innerhalb des Schutzumfangs dieser Erfindung, daß einer oder mehrere Blöcke 26 vorhanden sein und zu einem beliebigen Zeitpunkt verdampft werden könnten.
  • EBPVD Beschichtungskammern können typischerweise auf einem Vakuumpegel von etwa 0,001 mbar (etwa 1 × 10–3 Torr) oder darunter gehalten werden. Nach dem Stand der Technik würde unter der Annahme, daß sich schlechtere Beschichtungen ergeben würden, ein Vakuum von höchstens 0,010 mbar und mehr, typischerweise etwa 0,005 mbar, innerhalb der Beschichtungskammer 12 während des Beschichtungsverfahrens erzeugt werden, wobei der Grund darin liegt, daß höhere Drücke bekanntermaßen einen fehlerhaften Betrieb der EB Kanonen 30 bewirkten und die Elektronenstrahlen 28 schwer steuerbar machten. Man hat auch geglaubt, daß die Lebensdauer des Kanonenheizfadens reduziert würde oder die Kanone kontaminiert würde, wenn sie bei Beschichtungstemperaturdrücken über 0,005 mbar betrieben würde. Jedoch wird gemäß der gleichzeitig anhängigen U.S. Patentanmeldung Ser. Nr. 09(108,201 für Rigney et al., die dem selben Zessionar wie diese Erfindung übertragen ist, die Beschichtungskammer 12 bevorzugt bei höheren Drücken betrieben, die überraschenderweise eine Keramikbeschichtung mit verbesserter Abplatz- und Stoßfestigkeit ergeben, sowie die Beschichtungsabscheidungsrate in Verbindung mit höheren Blockverdampfungsraten fördern, als die, die nach dem Stand der Technik erzielt wurden.
  • Ein grobes Abpumpen kann in den Beschichtungs-, Vorheiz- und Ladekammern 12, 14, 16 und 18 mit mechanischen Pumpen 31 durchgeführt werden. Eine Kryopumpe 32 eines im Fachgebiet verwen deten Typs ist in den 1 und 2 zur Unterstützung Evakuierung der Beschichtungskammer 12 vor dem Abscheidungsverfahren dargestellt. Ferner ist in den 1, 3, 4 und 5 eine Diffusionspumpe 34 dargestellt, deren Betrieb ähnlich denen im Fachgebiet bekannten ist, die jedoch mit einem Drosselventil 36 modifiziert ist, um den Betrieb der Pumpe 34 in Abhängigkeit von dieser Erfindung zu steuern. Insbesondere wird das Drosselventil 36 zwischen einer offenen Position (3) und einer geschlossenen Position (4 und 5) sowie in Positionen dazwischen betrieben. Der Vorteil des Drosselventils 36 wird realisiert, wenn das Vakuum innerhalb der Beschichtungskammer 12 auf den in dieser Erfindung verwendeten relativ hohen Drücken gehalten wird. Wenn die maximale Betriebskapazität der Diffusionspumpe 34 erforderlich ist, um die Beschichtungskammer 12 zu evakuieren, ist das Drosselventil 36 gemäß Darstellung in 3 offen. Zur Bearbeitung von Hardware muß die Beschichtungskammer 12 auf dem Solldruck (zum Beispiel 0,015 mbar) gehalten werden, was es erfordert, daß das Drosselventil 36 in eine voreingestellte Drosselposition in einem bestimmten Abstand von der vollständig geschlossenen Position von 4 und 5 bewegt wird. Wie es in 1 zu sehen ist, werden getrennte Diffusionspumpen 38, welche in gleicher Weise mit (nicht dargestellten) Drosselventilen ausgestattet sind, bevorzugt verwendet, um die Vorheizkammern 14 wiederum aus dem Grund, daß ein relativ hoher Druck für den Beschichtungsvorgang dieser Erfindung erwünscht ist, zu evakuieren. Die mechanischen Pumpen 31 enthalten bevorzugt Leckdetektorverbindungen 33, mit welchen ein Leckdetektor verbunden werden kann, um ein Systemvakuumleck unter Verwendung von Helium oder einem anderen Gas zu detektieren, das sicher durch Lecks in die Kammern 12, 14, 16 und 18 oder in zugehörige Geräte eingeführt werden kann.
  • Gemäß nochmaligem Bezug auf die 1 und 2 sind die Ladekammern 16 und 18 im allgemeinen in der Form langgestreckt und mit Ladetüren 40 ausgestattet, durch welche Teile in die Rechen 22 geladen werden. Die Ladekammern 16 und 18 sind auch mit Zugangstüren 42 zu den Bewegungsantrieben (schematisch bei 46 in 1 dargestellt) ausgestattet, welche den Betrieb der Rechen 22 steuern. Insbesondere werden die auf den Rechen 22 gelagerten Teile 20 bevorzugt gedreht und/oder innerhalb der Beschichtungskammer 12 hin und herbewegt, um die gewünschte Beschichtungsverteilung um die Teile 20 herum zu begünstigen. Die Zugangstüren 42 ermöglichen es der Bedienungsperson der Einrichtung 10, schnell die Einstellungen der Bewegungsantriebe 46 ohne Störung des Ladens und Entladens der Teile aus den Ladekammern 16 und 18 einzustellen oder zu ändern.
  • Unter nochmaligem Bezug auf die 6 und 7 wird das Innere der Beschichtungskammer 12 detaillierter beschrieben. Zum Lösen der vorstehend erwähnten Probleme bezüglich der Steuerung der Elektronenstahlen 28 und des Schutzes der EB Kanonen 30 bei höheren Beschichtungsdrücken, die durch diese Erfindung verwendet werden, wurde bestimmte Verbesserungen an den EB Kanonen 30 und der Beschichtungskammer 12 durchgeführt. Wie es in 6 zu sehen ist, werden Sauerstoff- und Argongase in die Beschichtungskammer 12 durch einen Einlaß 54 eingeführt, der nahe an Tiegeln 56 angeordnet ist, die die Blöcke 26 innerhalb der Beschichtungskammer 12 haltern und die geschmolzenen Pools aus keramischem Material, die durch Elektronenstrahlen 28 erzeugt werden, auffangen. Die Strömungsraten des Sauerstoffs und Argons werden individuell auf der Basis des Soll-Verfahrensdruckes und des Soll-Par tialdruckes des Sauerstoffs gesteuert. Um das Auftreten von Druckschwingungen innerhalb der Beschichtungskammer 12 zu reduzieren, wurde die Regelschleifen-Reaktionszeit für diese Gase reduziert, in dem die Steuerventile 58 für die Gase physikalisch unmittelbar angrenzend an den Einlaß 54 unmittelbar außerhalb der Beschichtungskammer 12 platziert wurden, wie es in den 1 und 6 dargestellt ist. Die Platzierung der Steuerventile 58 so nahe an der Beschichtungskammer 12 erzeugte eine überraschend deutliche Verbesserung in der Drucksteuerung, der Reduzierung von Druckschwankungen innerhalb der Beschichtungskammer 12 und der Reduzierung von Störungen in dem Fokus und der Position der Elektronenstrahlen 28 auf den Blöcken 26.
  • Um den Elektronenstrahlfokus und das Muster weiter zu verbessern, sind die EB Kanonen 30 relativ von dem höheren Beschichtungsdruck innerhalb der Beschichtungskammer 12 durch eine Kondensathaube 52 isoliert, welche den größten Teil der überschüssigen Keramikdämpfe auffängt, die sich nicht auf den Teilen 20 abscheiden. Die Haube 52 ist gemäß dieser Erfindung konfiguriert, daß sie einen Beschichtungsbereich um die Teile 20 herum ausbildet, innerhalb welchem insbesondere der für das Beschichtungsverfahren gewünschte erhöhte Druck eingehalten wird. Um die Reinigung zwischen den Beschichtungskampagnen zu erleichtern ist die Haube 52 bevorzugt mit Schirmen 76 ausgestattet, die entfernt und außerhalb der Beschichtungskammer 12 gereinigt werden können. Bevorzugt werden die Schirme 76 von Federstiften 78 anstelle von Gewindebefestigungselementen gehalten, um das Entfernen der Schirme 76 zu erleichtern, wenn sie sich in dem Zustand einer Beschichtung mit einer Schicht des Beschichtungsmaterials am Ende der Kampagne befinden. Obwohl es insgesamt komplizierter wäre, könnte die gesamte Kondensathaube 52 entfernt und durch eine zweite saubere Haube 52 ersetzt werden.
  • Da die Haube 52 die Teile 20, wie es in 6 zu sehen ist, umgibt, ist eine Öffnung 62 für jeden Strahl 28 durch die Haube 52 hindurch erforderlich. Um die Möglichkeit einer Aufrechterhaltung höherer Drücke innerhalb der Kondensathaube 52 im Vergleich zu dem Rest der Beschichtungskammer 12, einschließlich der Umgebung um die EB Kanonen 30 herum zu begünstigen, werden die Öffnungen 62 bevorzugt so ausgebildet, daß sie nicht größere Abmessungen als erforderlich besitzen, um dem Elektronenstrahl 28 den Durchtritt durch die Haube 52 zu ermöglichen. Für diesen Zweck werden die Öffnungen 63 bevorzugt mit den Elektronenstrahlen 28 während des Aufbaus der EBPVD Einrichtung 10 geschnitten, so daß jede Öffnung 62 eine Querschnittsfläche besitzt, die angenähert gleich der ihres Elektronenstrahlmusters an dem Schnittpunkt mit der Haube 52 ist.
  • Um die EB Kanonen 30 weiter gegenüber dem erhöhten Druck innerhalb der Kondensathaube 52 zu isolieren, wandern die Strahlen 28 aus ihren entsprechenden Kanonen 30 durch Kammern 64, welche zwischen Innenwänden der Beschichtungskammer 12 und der Kondensathaube 52 ausgebildet sind. Bevorzugt besitzt die Diffusionspumpe 32 einen Einlaß in der Nähe von und pneumatisch mit jeder der Kammern 64 verbunden. Aufgrund der minimalen Größe der Öffnungen 62 leckt der erhöhte Druck innerhalb der Kondensathaube 52 (der durch die Einführung von Sauerstoff und Argon mit dem Einlaß 54 erzielt wird) in die Kammern 64 mit einer ausreichend reduzierten Rate, um der Diffusionspumpe 34 zu ermöglichen, die Kammern 64 auf einem niedrigeren Druck als den innerhalb der Kondensathaube 52 zu halten.
  • Die 6, 8 und 9 veranschaulichen einen für die EB Kanonen 30 mit dieser Erfindung bereitgestellten zusätzlichen Schutz. Wie es allgemein üblich ist, sind die EB Kanonen 30 mit Vakuumpumpen 66 ausgestattet, die die Drücke innerhalb der Kanonen 30 auf Pegeln von etwa 8 × 10–5 bis etwa 8 × 10–4 mbar halten, welcher gut unter dem liegt, der außerhalb der Kanonen 30, das heißt in der EBPVD Beschichtungskammer 12 dieser Erfindung, sowie typischen EBPVD Beschichtungskammern nach dem Stand der Technik vorliegt. Um derart niedrige Drücke aufrecht zu erhalten, müssen die Elektronenstrahlen 28 durch zylindrische Blendenöffnungen 68 hindurch treten, um die Kanonen 30 zu verlassen, wie es schematisch in 6 dargestellt ist. 8 stellt eine herkömmliche Konfiguration für eine derartige Blendenöffnung 168 dar. Um einen Bereich von Strahlfokussierungsbedingungen, welche durch Fokuspositionen A, B und C für einen in 8 dargestellten Elektronenstrahl 128 dargestellt werden, zu ermöglichen, besitzt die Blendenöffnung 168 einen relativ großen Durchmesser und eine Länge von etwa 30 mm bzw. etwa 120 mm. Der Nachteil des Stands der Technik ist der reduzierte Schutz, den eine derartig große Blendenöffnung 168 für die in der höheren Druckumgebung der Vorrichtung 10 dieser Erfindung arbeitenden EB Kanonen 30 bieten kann. Während der zu dieser Erfindung führenden Untersuchung bewies ein Test, daß eine verbesserte Steuerung der Verarbeitungsbedingungen eine Identifizierung einer optimalen Position des Strahlfokuspunktes (D in 9) ermöglichte. Eine effektivere Blendenöffnungskonstruktion wurde dann untersucht, welche zu der in den 6 und 9 dargestellten Blendenöffnung 68 dieser Erfindung führte, welche in 9 mit kleinerem(r) Durchmesser und Länge als die der herkömmlichen Blende 168 von 8 dargestellt ist. Ein bevorzugter Durchmesser und eine Länge für die Blende 68 sollen bei etwa 15 bzw. 50 mm liegen, obwohl optimale Werte für diese Abmessungen, abhängig von den Drücken und Fokus, Ablenkspulenstrom und Gesamtgeometrien variieren können.
  • Wie es vorstehend erwähnt wurde, ist die Kondensathaube 52 um die Teile 20 herum positioniert, um die Abscheidung von keramischem Material auf den Innenwänden der Beschichtungskammer 12 zu minimieren. Gemäß dieser Erfindung ist die Kondensathaube 52 auch speziell zum Regeln der Erwärmung der Teile 20 nach Bedarf konfiguriert, um eine geeignete Teiletemperatur während der Beschichtungskampagne aufrecht zu erhalten. Insbesondere ist die Haube 52 mit einer beweglichen Reflektorplatte 72 ausgestattet, die von den geschmolzenen Oberflächen der Blöcke 62 emittierte Wärme zurück auf die Teile 20 strahlt. Bei dem anfänglichen Hochlaufen einer Kampagne, während welcher die Temperatur dieser Beschichtungskammer 12 relativ niedrig ist, wird die Reflektorplatte 72 nahe an den Teilen 22 mit einer Betätigungseinrichtung 74 positioniert, um die Erwärmung der Teile 20 zu maximieren. Da die Temperatur der Beschichtungskammer 12 im Verlauf der Kampagne ansteigt, wird die Reflektorplatte 72 von den Teilen 20 (wie es in Strichlinien in 6 dargestellt ist) weg bewegt, um den auf die Teile reflektierten Anteil der Strahlungswärme zu reduzieren. Auf diese Weise können die Teile 20 einfacher auf eine geeignete Abscheidungstemperatur (zum Beispiel etwa 925°C) zu Beginn einer Kampagne gebracht werden, während das Erreichen der maximal zulässigen Beschichtungstemperatur (zum Beispiel etwa 1140°C) verzögert wird, um die Länge der Beschichtungskampagne zu maximieren. Die Haube 52 und die Platte 72 begünstigen auch gleichmäßigere und stabilere Schaufelbeschichtungstemperatur, was die gewünschte säulenartige Kornstruktur für die keramischen Beschichtungen auf den Teilen 20 begünstigt. Um den gewünschten relativ hohen Druck innerhalb der Kondensathaube 52 aufrecht zu erhalten, während sich die Reflektorplatte 72 in der angehobenen Position befindet, ist ein wassergekühlter Mantel 75 dargestellt, welcher die Platte 72 umgibt, um eine Gasströmung zwischen der Kondensathaube 52 und der Platte 72 zu verhindern, um dadurch den Druckverlust zwischen der Haube 52 und der Platte 72 reduziert.
  • In 7 sind Manipulatoren 77 dargestellt, die sich in die Beschichtungskammer 12 durch eine Kugelgelenkdurchführung 79 in der Kammerwand erstrecken. Die Manipulatoren 77 werden zum Unterstützen der Regelung der Erhitzung der Teile 20 genutzt, indem keramische oder keramisch beschichtete Reflektoren 80 (dargestellt als ein körniges Material in 10) auf die Tiegel 56 zu oder davon weg während einer Beschichtungskampagne bewegt werden. Insbesondere befinden sich die Reflektoren 80 aufgrund ihrer Nähe zu den Tiegeln 56 auf einer sehr hohen Temperatur während des Beschichtungsverfahrens und strahlen daher Hitze nach oben zu den Teilen 20 ab. Der Anteil der durch die Reflektoren 80 abgestrahlten Hitze ist im allgemeinen maximal, wenn sich die Reflektoren 80 am nächsten zu den Tiegeln 56 befinden und kann reduziert werden, in dem die Reflektoren 80 von den Tiegeln 56 weg bewegt werden. Die Reflektoren 80 werden bevorzugt auf einer fluidgekühlten Platte 81 gelagert, die keine merkliche Hitze zu den Teilen 20 strahlt. Demzufolge können die Reflektoren 80 in Verbindung mit der Reflektorplatte 72 verwendet werden, um die Temperatur der Teile 20 zu regeln, die innerhalb der Beschichtungskammer 12 während einer laufenden Kampagne beschichtet werden. Zu Beginn einer Kampagne werden die Reflektoren 80 ursprünglich in der Nähe der Tiegel 56 angeordnet, um die Erhitzung der Teile 20 zu maximieren, und werden später mit den Manipulatoren 77 von den Tiegeln 56 entfernt, um Anteil der abgestrahlten Hitze zu reduzieren.
  • Um die Beschichtungskammerumgebung zu überleben, sind die Abschnitte der Manipulatoren 77 innerhalb der Beschichtungskammer 12 bevorzugt mit einer Hochtemperaturlegierung, wie z. B. einer Nickelbasislegierung wie beispielsweise X-15 beschichtet. Anstelle eines körnigen Materials könnten die Reflektoren 80 im wesentlichen in jeder Form vorliegen und in wesentlichen jede Form aufweisen. Beispielsweise könnten eine oder mehrere Platten, die mit einem reflektierten Material beschichtet sind, verwendet werden. Zur Vereinfachung könnten die Reflektoren 80 relativ große Teile sein, die aus Blöcken eines Materials, ähnlich dem Abzuscheidenden geschnitten sind, obwohl es offensichtlich ist, daß auch andere keramische Materialien verwendet werden könnten.
  • Wie es vorstehend erwähnt wurde, werden die Blöcke 26 aus keramischem Material innerhalb der Beschichtungskammer 12 durch Tiegel 56 gehaltert, welche die geschmolzenen Pools des durch die Elektronenstrahlen 28 erzeugten keramischen Materials aufnehmen. Einer der Tiegel 56 ist in 10 detaillierter mit einer dreiteiligen Konfiguration dargestellt. Ein oberes Element 82 mit einer abgeschrägten oberen Oberfläche 84 ist mit einem unteren Element 86 zusammengebaut indes es dazwischen einen Kühlkanal ausbildet, durch welchen Wasser oder ein anderes geeignetes Kühlungsmittel strömt, um die Temperatur des Tiegels 56 unter der Schmelztemperatur seines Materials zu halten. Eine Drosselplatte 90 ist ebenfalls in 10 dargestellt, deren Dicke gewählt werden kann, um die Querschnittsströmungsfläche des Kanals 28 zwischen einem Einlaß 29 und Auslaß 94 des Kühlmittels zu verändern, beispielsweise zu verkleinern. Aus Gründen der Wärmeleitfähigkeit besteht ein bevorzugtes Material für den Tiegel 56 aus Kupfer oder einer Kupferlegierung, was es erfordert, daß die Kühlmittelströmungsraten durch den Kanal 88 ausreichend sein müssen, um die Tiegelwand 96 unmittelbar an den geschmolzenen Anteil des Blockes 26 gut unterhalb der Temperatur der geschmolzenen Keramik zu halten. Wie es ferner aus 10 ersichtlich ist und weiter unter Bezugnahme auf die 11 und 12 diskutiert wird, wird der Elektronenstrahl 28 bevorzugt auf die abgeschrägte Oberfläche 84 sowie den Block 26 projiziert. Demzufolge muß, damit die Außenoberfläche des oberen Elementes 82 ausreichend gekühlt wird, die Dicke der Wand 96 minimiert werden, um die Wärmeübertragung ohne Gefährdung der mechanischen Festigkeit des Tiegels 56 zu begünstigen. Die mehrteilige Tiegelkonfiguration dieser Erfindung erleichtert die Erzeugung einer optimalen Konfiguration für den Kühlmittelkanal 88 und ermöglicht auch eine Herstellung der Dicke der Wand 96 mit engen Toleranzen. Obwohl eine optimale Konfiguration von verschiedenen Faktoren abhängt, beträgt eine bevorzugte Kühlmittelströmungsrate etwa 20 bis 200 Liter/Minute (etwa 5 bis 55 gallons/minute) unter Verwendung von Wasser bei einem Druck von etwa 6 Atmosphären (etwa 2 bis 6 Bar) durch einen Kanal 88, dessen Querschnittsfläche etwa 400 mm2 ist und mit einer maximalen Wanddicke von etwa 10 mm angrenzen an die Oberfläche 84 und etwa 7 mm angrenzend an den Block 26.
  • 11 und 12 stellen ein bevorzugtes Muster für die Elektronenstrahlen 28 auf die Blöcke 26 dar, um die Pools aus keramischem Material zu erzeugen. Wie es in den 10 und 11 zu sehen ist, wird der Stahl 28 auch auf den Abschnitt der Tiegeloberfläche 84, der unmittelbar den Block 26 umgibt, mit dem Umfang des Strahls 28 auf der Tiegeloberfläche 84 projiziert. Die bevorzugte Energieverteilung 98 des Elektronenstrahls 28 ist in 2 mit Spitzen in der Nähe der Block/Tiegel-Grenzfläche dargestellt, wobei wenig oder keine Energie in der Mitte des Blockes 26 erwünscht ist. Gemäß dieser Erfindung liegt der Vorteil der Ausrichtung derartig hoher Strahlenintensitäten außerhalb der Mitte des geschmolzenen Pools in einer reduzierten Auswurfneigung, welche allgemein vorliegt, wenn ein Tröpfchen geschmolzener Keramik aus dem Pool während der Beschichtung ausgestoßen wird. Auswurf ist mit Defekten in der Beschichtung verbunden, die auf den Teilen 20 erzeugt wird, und wird daher bevorzugt vermieden. Die Projektion des Strahls 28 auf den Tiegel 56 dient dazu die Menge an Keramik zu reduzieren, die sich ansonsten auf dem Tiegel 56 aufgrund von Auswurf ablagern könnte, und liefert auch eine gleichmäßigere Temperaturverteilung über den geschmolzenen Pool, wie es mittels Infrarotbildgebung ermittelt wurde. Wenn YSZ als das Blockmaterial verwendet wird, liegen geeignete Strahlungsintensitäten an den Spitzen in 12 in der Größenordnung von etwa 0,1 kW/mm2 im Vergleich zu einem maximalen Wert von etwa 0,01 kW/mm2 in der Mitte des Pools.
  • Außerdem ist in 10 dargestellt, daß der Elektronenstrahl 28 auf die Oberfläche des Blockes 26 in einem schrägen Winkel auftrifft, so daß er bezüglich seiner entsprechenden EB Kanone 30 einen pro ximalen Schnittpunkt 100 und einen gegenüberliegend angeordneten distalen Schnittpunkt 101 mit dem Tiegel 56 an dem Umfang des Strahlenmusters ausbildet. Gemäß Darstellung in 10 nimmt die bevorzugte Strahlmusterintensität auf dem Block 26 und dem Tiegel 59, an Stellen auf dem Tiegel 56, die den proximalen und distalen Schnittpunkten 100 und 101 entsprechen, leicht, bevorzugt um etwa 30% bis 70% bezüglich des restlichen Umfangs des Strahlenmusters ab. Der Zweck der Reduzierung der Intensität des Strahlenmusters an dem proximalen Schnittpunkt 100 besteht in der Reduzierung der Erosion des Tiegels 56 durch den Strahl 28, während die Reduzierung der Strahlintensität an dem distalen Schnittpunkt 101 gezeigt hat, daß sie von dem Strahl 26 auf den geschmolzenen Keramikpool erzeugte Wellen daran hindert, geschmolzenes Keramik über die Kante des Tiegels 56 zu drücken.
  • Ein weiteres bevorzugtes Steuermerkmal dieser Erfindung für die Elektronenstrahlen 28 ist die Fähigkeit, kurzzeitig das Strahlenmuster auf der Oberfläche der Tiegel 56 mit einem getrennten Strahlmuster 97 höherer Intensität zu unterbrechen, das dafür gedacht ist, eine schnellere Verdampfungsrate über einen kleinen Bereich zu erzielen, um jede Keramik zu verdampfen, die auf den Tiegeln 56 als Folge von Auswurf abgeschieden werden kann. Dieses Merkmal der Erfindung kann während des Beschichtungsvorgangs mit minimalem oder keinem Einfluß auf das Abscheidungsverfahren durchgeführt werden. In einer bevorzugten Ausführungsform wird, wenn die Bedienungsperson ein Auswandern eines getrennten Musters 97 zum Verdampfen einer Ablagerung von Keramik auf den Tiegel 56 veranlaßt, das Muster 97 zuerst automatisch auf eine bekannte Position repositioniert, von welcher aus das Muster 97 dann von Hand unter der Führung der Bedienungsperson zu der Keramikablagerung bewegt wird. Durch die automatische Rückkehr des Musters 97 in eine bekannte Position wird die Wahrscheinlichkeit von Fehlern, die zu einer Beschädigung des Tiegels 56 führen könnten, reduziert. Alternativ könnte die Position des Musters 97 vorprogrammiert werden, so daß die Bedienungsperson die Lage auf den Tiegel 56 eingeben kann, auf welche das Muster 97 zu projizieren ist. Eine Keramikablagerung auf dem Tiegel 56, die nicht leicht mit dem Muster 97 entfernt werden kann, kann oft mit dem in 7 dargestellten Manipulator 77 entfernt werden.
  • Magazine 102, die die Blöcke 26 enthalten und auf die Ebene der Beschichtungskammer 12 und in die Tiegel 56 bringen, kann man in den 1 bis 7 sehen. Wie man es am einfachsten in den 2, 6 und 7 sehen kann, besitzt jedes Magazin 102 eine Anzahl zylindrischer Kanäle 104, in welchem die Blöcke 26 festgehalten werden. Die Magazine 102 rotieren, um die Blöcke 26 in eine Ausrichtung zu den Tiegeln 56 zu bringen. Die Magazine 102 können auch aufeinander zu und voneinander weg bewegt werden (das heißt, seitlich in Bezug auf die Beschichtungskammer 12), um Einstellungen für die Tiegeltrennung vorzunehmen und dadurch die Beschichtungszone zu optimieren, über welchen die Abweichung der Beschichtungsdicke akzeptabel ist. Der zum Erfassen und Zuführen der Blöcke 26 in die Tiegel 56 verwendete Zuführmechanismus umfaßt im allgemeinen Greifarme 60, wovon jeder in einem Winkel aus der horizontalen angeordnet und zum Halten der Verdampfungsblöcke 26 in ihrer Lage angepaßt ist, während das Magazin 102 im Raster gedreht wird. Das obere Ende jedes Arms 60 erfaßt den Verdampfungsblock 26, was das Einführen des Blockes 26 in einer aufrechten Richtung mit einer Hubeinrichtung 61 ermöglicht, ohne einer Abwärtsgleiten des Greifarm 60 in eine horizontale Position zuzulassen, welche als eine Blockierung des Zuführmechanismus bewirkend erkannt wurde. Gemäß der Erfindung richtet jedes Magazin 102 sequentiell den nächsten Block 26 zu dem unteren Ende des gerade verdampfenden Blockes 26 innerhalb des Tiegels 60 aus, und die Hubeinrichtung 61 führt den nächsten Block 26 in die Beschichtungskammer 12 hinter den verdampfenden Block 26 mit keiner oder nur minimaler Unterbrechung der Abscheidung des Keramikmaterials auf den Teilen 20 zu.
  • Die unter Bezugnahme auf die 3 und 5 erwähnte Sichtöffnung 48 ist detaillierter in 13 dargestellt. Die Sichtöffnung 48 ist so konfiguriert, daß sie der Bedienungsperson der Einrichtung 10 das Beobachten des Beschichtungsvorgangs, einschließlich der zu beschichtenden Teile 20, der Poole der geschmolzenen Keramik, der Reflektoren 80 um die Tiegel 56 herum und der zum Bewegen der Reflektoren 80 verwendeten Manipulatoren 70 ermöglicht. Gemäß Darstellung ist die Sichtöffnung 48 im allgemeinen ein Gehäuse, das eine fluidgekühlte Öffnungsplatte 106 mit einem optionalen Fenster 108 enthält, das aus Saphir besteht, um den hohen Temperaturen (etwa 800°C oder mehr) in der Nähe des Beschichtungsvorgangs zu widerstehen. Ein Abschirmgas ist über einen Kanal 110 auf die Öffnungsplatte 106 für den Zweck der Minimierung einer Beschichtungsabscheidung auf dem Fenster 108 oder der Anlage hinter der Öffnungsplatte 106 gerichtet dargestellt. Innerhalb der Sichtöffnung 48 dient eine rotierende Stroboskoptrommel 112 zum Minieren der Aussetzung eines Betrachtungsfensters 114 an Strahlungshitze, Licht und andere Strahlung aus der Beschichtungskammer 12. Gemäß bekannter Praxis enthält die Trommel 112 Schlitze 116 durch ihre Wand und dreht sich mit einer hohen Drehzahl, um ein für das Auge des Beobachters sichtbares Flimmern zu eliminieren. Das Fenster 114 ist bevorzugt eine Mehrfachscheibe aus Quarzglas, Bleiglas und/oder gefärbten Glas. Das Quarzglas stellt physikalische Festigkeit bereit, das Bleiglas bietet Schutz vor Röntgenstrahlen und das gefärbte Glas ist nützlich, um die Lichtintensität zu reduzieren. Die Sichtöffnung 48 enthält ferner eine magnetische Teilchendichtung, die eine Hochtemperaturvakuumdichtung für die Stroboskoptrommel bereitstellt. Ein weiteres bevorzugtes Merkmal besteht darin, daß die Sichtöffnung 48 eine stereoskopische Sicht in das Innere der Beschichtungskammer 12 bereitstellt, mittels welcher eine oder mehrere Bedienpersonen gleichzeitig die Beschichtungskammer unter Aufrechterhaltung der Tiefenwahrnehmung beobachten können.
  • In 14 ist eine bevorzugte Steuertafel 118 zum Steuern und Überwachen der EBPVD Einrichtung dieser Erfindung dargestellt. Die Steuertafel 118 ist mit einer Skizze der Vorrichtung 10 und deren Komponenten einschließlich Anzeigesymbolen 120 für individuelle Komponenten (zum Beispiel die Beschichtungskammer 112) dargestellt. Ferner sind visuelle Anzeigeeinrichtung 122 angrenzend an die Anzeigesymbole 120 zum Anzeigen des Betriebszustands der Komponenten und Schalter 124 zum Ändern des Betriebs der entsprechenden Komponenten dargestellt. Die Tafel 118 ist bevorzugt von Meßgeräten zum Quantifizieren von Verfahrensparametern, wie zum Beispiel Drücken umgeben. Mit der Tafel 118 kann Information bezüglich des Betriebszustandes der EBPVD Einrichtung schnell und genau erkannt werden, um der Bedienungsperson zu ermöglichen, alle zweckmäßigen Einstellungen an der Einrichtung 10 und dem Beschichtungsprozeß vorzunehmen.
  • Im Betrieb kann die Vorrichtung 10 dieser Erfindung zu Beginn so aussehen, wie in den 1 und 2 dargestellt ist. Wie es vorstehend diskutiert wurde, werden die zu beschichtenden Teile 20 auf die Rechen 22 innerhalb der Ladekammern 16 und 18 geladen. Die Teile können aus jedem geeigneten Material, wie zum Beispiel einer Superlegierung auf Nickelbasis oder Kobaltbasis bestehen, wenn die Teile 20 Schaufeln eines Gasturbinenmotors sind. Im Falle von Schaufeln eines Gasturbinenmotors werden vor der Beschichtung mit der Einrichtung 10 die Oberflächen der Teile typischerweise mit einer Bindebeschichtung bekannter Zusammensetzung, wie es vorstehend diskutiert wurde, versehen. Ferner wird vor der Abscheidung der keramischen TBC die Oberfläche der Bindebeschichtung bevorzugt sandgestrahlt, um die Bindebeschichtungsoberfläche zu reinigen und eine optimale Oberflächengüte zu erzeugen, welche für die Abscheidung säulenförmiger EBPVD Keramikbeschichtungen erforderlich ist. Ferner wird vor der Beschichtung der Keramikbeschichtung eine Aluminiumdioxidhaut bevorzugt auf der Bindebeschichtung bei einer erhöhten Temperatur ausgebildet, um die Haftung der Beschichtung zu fördern. Die Aluminiumdioxidhaut, welche oft als ein thermisch aufgewachsenes Oxid oder TGO bezeichnet wird, entwickelt sich aus der Oxidation der Aluminium enthaltenden Bindeschicht, entweder durch Aussetzung an erhöhte Temperaturen vor oder während der Abscheidung der Keramikbeschichtung oder mittels einer Hochtemperaturbehandlung, welche speziell für diesen Zweck durchgeführt wird. Gemäß dieser Erfindung werden die Teile 20 bevorzugt auf etwa 1100°C in einer Argonatmosphäre vorerhitzt. Wenn sie nicht zur Vorerhitzung von Teilen 20 verwendet wird, wird die Vorheizkammer 14 bevorzugt auf etwa 600°C gehalten, um den Temperaturbereich zu minimieren, welchen die Kammer 14 während einer Kampagne unterworfen wird.
  • Nach dem Vorheizen innerhalb der Vorheizkammer 14 werden die Rechen 22 in die Beschichtungskammer 12 weitergeschoben. Wie es vorstehend erwähnt wurde, ist die Einrichtung 10 dieser Erfindung speziell für die Abscheidung einer keramischen Beschichtung unter den von Rigney et al. gelehrten erhöhten Druckbedingungen konfiguriert. Vor dem Beginn des Beschichtungsverfahrens wird bevorzugt ein Schnellvakuumtest durchgeführt, um die Abpumprate und den innerhalb jeder der Beschichtungs-, Vorheiz- und Ladekammer 12, 14, 16 und 18 währende einer festgelegten Zeitperiode erreichten Druck zu verfolgen. Dieses dient zum Feststellen der Vakuumintegrität der Vorrichtung 10, welche früher bei herkömmlichen EBPVD Operationen mittels eines an Opferproben durchgeführten Oxidationstestes festgestellt wurde. Die Kammer 12, 14, 16 und 18 werden mittels der mechanischen Pumpen 31 von Atmosphärendruck aus ausgepumpt und ein Verdichter gestartet, wenn die Drücke unter etwa 20 mbar fallen. Die Kryopumpe 32 wird bevorzugt gestartet, wenn ein Druck von etwa 5 × 10–1 mbar erreicht wird. Danach werden die Diffusionspumpen 32 und 34 für die Beschichtungs- und Vorheizkammern 12 und 14 gestartet, wenn ein Druck von etwa 5 × 10–2 mbar erreicht ist. Geeignete Prozeßdrücke innerhalb den Lade- und Vorheizkammern 14, 16 und 18 liegen bei etwa 10–3 bis 10–1 mbar, während geeignete Beschichtungsdrücke bei etwa 10–2 bis etwa 5 × 10–2 mbar innerhalb des durch die Haube 52 definierten Beschichtungsbereiches liegen. Ein Doppelelement-Ionisationsmanometer 55, das mit einem manuellen Abschaltventil 57 ausgestattet ist, wird bevorzugt zum Messen des Vakuumdruckes innerhalb der Beschichtungskammer 12 verwendet. Durch Verwendung eines Manometers 55 mit unabhängig betreibbaren Elementen kann jeweils ein Element zur Verwendung ohne Unterbrechung des Beschichtungsvorgangs ausgewählt werden. Alternativ könnten zwei durch ein Ventil getrennte Ionisationsmanometer vorgesehen werden, so daß jeder Sensor verwendet oder ohne Unterbrechung des Beschichtungsvorgangs umgeschaltet werden könnte.
  • In einem bevorzugten Aspekt dieser Erfindung wird die Kryopumpe 32 bevorzugt vor der Diffusionspumpe 34 im Gegensatz zu der herkömmlichen Praxis gestartet, in welcher beide Pumpen 32 und 34 typischerweise gleichzeitig gestartet wurden, um den Eisaufbau auf der Kryopumpe 32 zu minimieren. Es hat sich herausgestellt, daß das Starten der Kryopumpe 32 vor der Diffusionspumpe 34 deutlich den erforderlichen Zeitaufwand reduziert, um die für diese Erfindung gewünschten Beschichtungskammerdrücke zu erreichen. Obwohl das Starten der Kryopumpe 32 vor der Diffusionspumpe 34 den Eisaufbau auf der Kryopumpe 32 begünstigt, kann dieses Eis am Ende der Beschichtungskampagne oder zu einem beliebigen anderen günstigen Zeitpunkt entfernt werden.
  • Während des Beschichtungsvorgangs werden die Elektronenstrahlen 28 auf die Blöcke 26 fokussiert, um dadurch die Schmelzpools aus Keramik und Dämpfe zu erzeugen, die sich auf den Teilen 20 abscheiden. Obwohl verschiedene Beschichtungsmaterialien verwendet werden könnten, ist ein bevorzugtes Keramikmaterial für TBC (und damit für die Blöcke 26) Zirkoniumdioxid (ZrO2), teilweise oder vollständig stabilisiert durch Yttriumoxid (zum Beispiel 3% bis 20%, bevorzugt 4% bis 8% Y2O3), obwohl auch Yttriumoxid, stabilisiert mit Magnesiumoxid, Cerdioxid, Kalziumoxid, Skandiumoxid oder andere Oxide verwendet werden könnten. Der Beschichtungsvorgang dauert an bis die gewünschte Dicke für die Beschichtung auf den Teilen 20 erreicht ist, worauf die Teile 20 durch die Vorheizkammer 14 hindurch in die Ladekammer 16 übertragen werden, wonach die Ladekammer 16 auf Atmosphärendruck belüftet wird. Die Belüftungsventile haben bevorzugt wenigstens 30 mm Durchmesser, um die Belüftungsgeschwindigkeit zu erhöhen, jedoch im allgemeinen weniger als etwa 60 mm Durchmesser, um störenden Staub und andere mögliche Verschmutzungen innerhalb den Kammern 12, 14, 16 und 18 zu vermeiden. Für diesen Zweck kann es erwünscht sein, mittels eines Ventils mit kleinerem Durchmesser gefolgt von einem Ventil mit größerem Durchmesser zu belüften.
  • Nachdem die Erfindung im Hinblick auf eine bevorzugte Ausführungsform beschrieben wurde, dürfte es ersichtlich sein, daß weitere Formen von einem Fachmann auf diesem Gebiet eingesetzt werden könnten. Demzufolge soll der Schutzumfang dieser Erfindung nur durch die nachstehenden Ansprüche beschränkt sein.

Claims (17)

  1. Physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (10) enthaltend: eine Beschichtungskammer (12), die ein Beschichtungsmaterial (26) enthält, wobei die Beschichtungskammer (12) bei einer erhöhten Temperatur und einem subatmoshärischen Druck betrieben werden kann, eine Elektronenstrahlkanone (30) zum Projizieren eines Elektronenstrahls in die Beschichtungskammer (12) und auf das Beschichtungsmaterial (26), wobei die Elektronenstrahlkanone (30) betrieben werden kann, um das Beschichtungsmaterial (26) zu schmelzen und das geschmolzene Beschichtungsmaterial (26) zu verdampfen, eine Einrichtung (22) zum Haltern eines Gegenstandes (20) in der Beschichtungskammer (12), so dass sich die Dämpfe des Beschichtungsmaterials (26) auf dem Gegenstand (20) abscheiden, wenigstens ein drehbares Magazin (102), das mehrere Blöcke (26) des Beschichtungsmaterials (26) unter der Beschichtungskammer (12) trägt, wobei das Magazin (102) wenigstens einen der Blöcke (26) mit einer Öffnung (56) zur Beschichtungskammer (12) ausrichtet zum Zuführen der Blöcke (26) in die Beschichtungskammer (12), wobei das Magazin (102) seitlich unter die Beschichtungskammer (12) bewegbar ist zum seitlichen Positionieren des Beschichtungsmaterials (26) in der Beschichtungskammer (12), und einen Zufuhrmechanismus enthaltend eine Hubeinrichtung zum Anheben des Blockes (26) und einen Arm zum Ergreifen des Blockes (26), nachdem er durch die Hubeinrichtung angehoben worden ist, wobei der Arm in Winkeln schräg zur Horizontalen gehalten wird.
  2. Physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (10) nach Anspruch 1, ferner eine Kondensathaube (52) enthaltend, die in der Beschichtungskammer (12) angeordnet ist und die Halterungseinrichtung (22) wenigstens teilweise umgibt, wobei die Kondensathaube (52) ein erstes reflektierendes Teil (72) aufweist, das in der Beschichtungskammer (12) derart angeordnet ist, das ein auf der Halterungseinrichtung (22) gehalterter Gegenstand (20) sich zwischen dem ersten reflektierenden Teil (72) und dem geschmolzenen Beschichtungsmaterial (26) befindet, wobei das erste reflektierende Teil (72) zwischen ersten und zweiten Positionen relativ zu dem geschmolzenen Beschichtungsmatrial (26) bewegbar ist, wobei die erste Position näher an der Halterungseinrichtung (22) ist als die zweite Position, so dass ein auf der Halterungseinrichtung (22) gehalterter Gegenstand (20) mehr reflektierte Wärme von dem geschmolzenen Beschichtungsmaterial (26) empfängt, wenn das erste reflektierende Teil (72) in der ersten Position ist als wenn es in der zweiten Position ist.
  3. Physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (10) nach Anspruch 2, wobei in der Kondensathaube (52) ein höherer Druck aufrecht erhalten ist als in einem Rest der Beschichtungskammer (12).
  4. Physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (10) nach Anspruch 2, wobei die Kondensathaube (52) eine Öffnung (62) hat, durch die der Elektronenstrahl (28) hindurch führt.
  5. Physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (10) nach Anspruch 2, wobei ferner wenigstens ein Schirm (76) vorgesehen ist, der mit Federstiften (78) lösbar an der Kondensathaube (52) befestigt ist.
  6. Physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (10) nach Anspruch 1, ferner enthaltend: ein reflektierendes Teil (72, 80) neben dem geschmolzenen Beschichtungsmaterial (26), so dass ein von der Halterungseinrichtung (22) gehalterter Gegenstand (20) reflektierter Wärme von dem reflektierenden Teil (72, 80) ausgesetzt ist, und eine Einrichtung (74, 77) zum Bewegen des reflektierenden Teils (72, 80) in Richtung auf das geschmolzene Beschichtungsmaterial (26) und von diesem weg, um so die reflektierte Wärme von dem reflektierenden Teil (72, 80) zu vergrössern bzw. zu verkleinern.
  7. Physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (10) nach Anspruch 1, wobei das geschmolzene Beschichtungsmaterial (26) in einem Tiegel (56) enthalten ist, wobei der Tiegel (56) ein erstes Teil (82), das das geschmolzene Beschichtungsmaterial (26) umgibt und festhält, und ein zweites Teil (86) aufweist, das an dem ersten Teil (82) befestigt ist und einen ungeschmolzenen Teil des Beschichtungsmaterials (26) umgibt, wobei die ersten und zweiten Teile (82, 86) des Tiegels (56) einen ringförmigen Kühlkanal (88) dazwischen bilden.
  8. Physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (10) nach Anspruch 7, wobei der Elektronenstrahl (28) auf das Beschichtungsmaterial (26) projiziert wird, um ein Elektronenstrahlmuster auf dem Beschichtungsmaterial (26) zu bilden, wobei die Einrichtung (10) ferner eine Einrichtung aufweist zum Projizieren eines getrennten Elektronenstrahlmusters (97) auf den Tiegel (56) zum Verdampfen von Tröpfchen des geschmolzenen Beschichtungsmaterials (26) auf dem Tiegel (56), wobei das getrennte Elektronenstrahlmuster (97) eine höhere Intensität hat als das Elektronenstrahlmuster auf dem Beschichtungsmaterial (26).
  9. Physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (10) nach Anspruch 1, ferner enthaltend einen Auslass (54) neben dem geschmolzenen Beschichtungsmaterial (26) in der Beschichtungskammer (12), wobei der Auslass (54) Gas in die Beschichtungskammer (12) einführt, und eine Einrichtung (58) zum Steuern der Strömungsrate des Gases aus dem Auslass (54) in die Beschichtungskammer (12), wobei die Steuereinrichtung (58) ausserhalb der Beschichtungskammer (12), aber unmittelbar neben dem Auslass (54) in der Beschichtungskammer (12) angeordnet ist.
  10. Physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (10) nach Anspruch 1, ferner eine Sichtöffnung (48) enthaltend zum Betrachten des Gegenstandes (20) und des geschmolzenen Beschichtungsmaterials (26) in der Beschichtungskammer (12), wobei die Sichtöffnung (48) fluidgekühlt ist und eine magnetische Teilchendichtung aufweist und die Sichtöffnung (48) für eine stereoskopische Betrachtung der Beschichtungskammer (12) sorgt.
  11. Physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (10) nach Anspruch 1, ferner enthaltend: eine Vorheizkammer (14) neben der Beschichtungskammer (12) zum Vorheizen eines von der Halterungseinrichtung (22) gehalterten Gegenstandes (20) vor dem Einführen des Gegenstandes (20) in die Beschichtungskammer (12), eine Ladekammer (16, 18) neben der Vorheizkammer (14) und gegenüber der Beschichtungskammer (12), eine Einrichtung (46) in der Ladekammer (16, 18), die eine Bewegung des Gegenstandes (20) bewirkt, während er durch die Halterungseinrichtung (22) gehaltert wird, eine erste Tür (40) zur Ladekammer (16, 18) zum Laden und Entladen des Gegenstandes (20) aus der Halterungseinrichtung (22) und eine zweite Tür (42) zur Ladekammer (16, 18) für einen Zugang zu der eine Bewegung bewirkenden Einrichtung (46).
  12. Physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (10) nach Anspruch 11, ferner einen ersten Kanal zwischen der Ladekammer (16, 18) und der Vorheizkammer (14) und einen zweiten Kanal zwischen der Vorheizkammer (14) und der Beschichtungskammer (12) enthaltend, wobei jeder der ersten und zweiten Kanäle eine minimale Abmessung von wenigstens 250mm hat.
  13. Physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (10) nach Anspruch 1, ferner eine Diffusionspumpe (34) zum Evakuieren der Beschichtungskammer (12) und ein Drosselventil (36) enthaltend zum Regulieren der Evakuierung der Beschichtungskammer (12) durch die Diffusionspumpe (34).
  14. Physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (10) nach Anspruch 13, ferner eine Einrichtung (33) enthaltend zum Erfassen eines Systemvakkuumlecks.
  15. Physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (10) nach Anspruch 1, wobei ein erster Abschnitt von der Beschichtungskammer (12) bewegbar ist zwischen einer Betriebsstellung, in der der erste Abschnitt mit einem zweiten Abschnitt der Beschichtungskammer zusammen passt, und einer Wartungsstellung, in der der erste Abschnitt von dem zweiten Abschnitt getrennt ist, wobei die physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (10) ferner eine bewegbare Plattform (50) unter der Beschichtungskammer (12) aufweist, wenn die Beschichtungskammer (12) in der Wartungsstellung ist.
  16. Physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (10) nach Anspruch 1, wobei ferner wenigstens zwei Ionensensoren (55) vorgesehen sind zum Abtasten des subatmosphärischen Druckes in der Beschichtungskammer (12), wobei die Ionensensoren (55) unabhängig betrieben werden können, um einen selektiven Betrieb von einem der Ionensensoren (55) zu ermöglichen, ohne die Beschichtung des Gegenstandes (20) zu unterbrechen.
  17. Physikalische Elektronenstrahl-Dampfabscheidungs-Beschichtungseinrichtung (10) nach Anspruch 1, ferner enthaltend: wenigstens eine Kammer (70) in der Elektronenstrahlkanone (30), durch die der Elektronenstrahl (28) hindurch tritt, eine Vorrichtung (66) zum Evakuieren der Kammer (70) derart, dass die Kammer (70) auf einem niedrigeren Druck ist als die Beschichtungskammer (12), und eine Blendenöffnung (68), durch die der Elektronenstrahl (28) in der Elektronenstrahlkanone hindurch tritt, wobei die Blendenöffnung (68) die Kammer (70) von der Beschichtungskammer (12) trennt und die Blendenöffnung (68) einen Durchmesser und eine Länge von weniger als 30 mm bzw. 120 mm hat.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62247067A (ja) * 1986-04-18 1987-10-28 Citizen Watch Co Ltd イオンプレ−テイング装置
JPH03104860A (ja) * 1989-09-20 1991-05-01 Hitachi Ltd 蒸着装置
JPH06272028A (ja) * 1993-03-18 1994-09-27 Canon Inc 薄膜作製方法およびその装置
EP0821394A1 (de) * 1996-07-25 1998-01-28 The Boc Group, Inc. Elektronenstrahlverdampfer
EP0969117A3 (de) * 1998-07-01 2001-01-10 General Electric Company Verfahren zum Herstellen eines Wärmedämmschichtsystems
EP1123422B1 (de) * 1999-08-04 2002-11-06 General Electric Company Vorrichtung und verfahren zur elektronstrahl-pvd-beschichtung

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102018113483A1 (de) * 2018-06-06 2019-12-12 VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG Verdampfungsgut-Magazin, Verdampfungsvorrichtung und Verfahren
DE102018113483B4 (de) 2018-06-06 2023-11-09 VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG Verdampfungsgut-Magazin, Verdampfungsvorrichtung und Verfahren

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