DE546196T1 - Synthetisches glasoptiches element fuer excimer-laser und seine herstellung. - Google Patents
Synthetisches glasoptiches element fuer excimer-laser und seine herstellung.Info
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Claims (7)
1. Ein optisches Bauteil für Excimerlaser, welches aus synthetischem Quarzglas hergestellt ist, wobei das
optische Bauteil einen OH-Gruppengehalt im Bereich von 10 bis 100 ppm, einen Chlorgehalt von nicht mehr
als 200 ppm, einen Wasserstoffmolekül-Gehalt von
nicht mehr als 1 &khgr; 1016 Molekülen/cm3, eine Gleichförmigkeit der Brechungsindexverteilung von nicht
mehr als 5 &khgr; 10'6, wenn in Form von &Dgr;&eegr; ausgedrückt, und eine Doppelbrechung von nicht mehr als 5 nm/cm aufweist.
nicht mehr als 1 &khgr; 1016 Molekülen/cm3, eine Gleichförmigkeit der Brechungsindexverteilung von nicht
mehr als 5 &khgr; 10'6, wenn in Form von &Dgr;&eegr; ausgedrückt, und eine Doppelbrechung von nicht mehr als 5 nm/cm aufweist.
2. Das optische Bauteil für Excimerlaser, welches aus synthetischem Quarzglas hergestellt ist, wie in
Anspruch 1 dargelegt, wobei das optische Bauteil
eine innere Lichtdurchlässigkeit von, wenn bei 245 nm bestimmt, nicht weniger als 99 % aufweist.
Anspruch 1 dargelegt, wobei das optische Bauteil
eine innere Lichtdurchlässigkeit von, wenn bei 245 nm bestimmt, nicht weniger als 99 % aufweist.
3. Das optische Bauteil für Excimerlaser, welches aus synthetischem Quarzglas hergestellt ist, wie in
Anspruch 1 dargelegt, wobei es ein Fenster, einen
Spiegel, eine Linse und ein Prisma für Excimerlaser mit Oszillationswellenlängen von nicht mehr als nm darstellt.
Anspruch 1 dargelegt, wobei es ein Fenster, einen
Spiegel, eine Linse und ein Prisma für Excimerlaser mit Oszillationswellenlängen von nicht mehr als nm darstellt.
4. Ein Verfahren zum Produzieren eines optischen Bauteils für Excimerlaser, welches aus synthetischem
Quarzglas hergestellt wird, welches einen OH-Gruppengehalt im Bereich von 10 bis 100 ppm, einen Chlorgehalt von nicht mehr als 200 ppm, einen Wasserstoff-
Quarzglas hergestellt wird, welches einen OH-Gruppengehalt im Bereich von 10 bis 100 ppm, einen Chlorgehalt von nicht mehr als 200 ppm, einen Wasserstoff-
molekül-Gehalt von nicht mehr als 1 &khgr; &Igr;&Ogr;16
Molekülen/cm3, eine Gleichförmigkeit der Brechungsindexverteilung von nicht mehr als 5 &khgr; 10"6, wenn in
Form von &Dgr;&eegr; ausgedrückt, und eine Doppelbrechung von nicht mehr als 5 nm/cm aufweist, mit den Schritten
der Flammenhydrolyse einer flüchtigen Siliziumverbindung unter Verwendung einer Knallgasflamme, um feine
Siliziumdioxidteilchen zu bilden, des Anlagerns der feinen Siliziumdioxidteilchen auf einem wärmeresistenten
Substrat, um einen porösen Siliziumdioxid-Block zu ergeben, des Entwässerns und Entgasens
durch Erwärmen des porösen Siliziumdioxid-Blocks bei einer Temperatur von nicht weniger als 14000C und
einem hohen Vakuumgrad in der Größenordnung von nicht weniger als 1 &khgr; 10"2 Torr, dann des Vereinheitlichens
des entwässerten und entgasten transparenten Quarzglases, um ein hochgradig gleichförmiges Quarzglas
frei von Schlieren in wenigstens eine seiner Richtungen zu ergeben, des Formens des resultierenden
hochgradig gleichförmigen Quarzglases und Temperns des geformten Quarzglasgegenstandes.
5. Das Verfahren zum Produzieren eines optischen Bauteils für Excimerlaser, welches aus synthetischem
Quarzglas hergestellt wird, wie in Anspruch 5 dargelegt, worin die vereinheitlichende Behandlung des
Quarzglases bei einer Temperatur von nicht weniger als 1600°C ausgeführt wird.
6. Das Verfahren zum Produzieren eines optischen Bauteils für Excimerlaser, welches aus synthetischem
Quarzglas hergestellt wird, wie in Anspruch 5 dargelegt, worin das Formen des hochgradig gleichförmigen
Quarzglases bei einer Temperatur von nicht weniger als 15000C ausgeführt wird.
7. Das Verfahren zum Produzieren'eines optischen Bauteils
für Excimerlaser, welches aus synthetischem Quarzglas hergestellt wird, wie in Anspruch 5 dargelegt,
worin das Tempern bei einer Temperatur im Bereich von 800 bis 125O0C ausgeführt wird.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3182858A JP2835540B2 (ja) | 1991-06-29 | 1991-06-29 | エキシマレーザー用石英ガラス部材の製造方法 |
| JP3299997A JPH0742133B2 (ja) | 1991-08-31 | 1991-08-31 | 紫外線レーザー用合成石英ガラス光学部材 |
| PCT/JP1992/000821 WO1993000307A1 (en) | 1991-06-29 | 1992-06-29 | Synthetic quartz glass optical member for excimer laser and production thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE546196T1 true DE546196T1 (de) | 1993-11-04 |
Family
ID=27306901
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE199292913798T Pending DE546196T1 (de) | 1991-06-29 | 1992-06-29 | Synthetisches glasoptiches element fuer excimer-laser und seine herstellung. |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE546196T1 (de) |
-
1992
- 1992-06-29 DE DE199292913798T patent/DE546196T1/de active Pending
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