DE4416845C2 - Verfahren zur Justierung zweier übereinander liegender und lateral gegeneinander verschiebbarer Proben - Google Patents
Verfahren zur Justierung zweier übereinander liegender und lateral gegeneinander verschiebbarer ProbenInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Justierung
zweier übereinander liegender und lateral gegeneinander ver
schiebbarer Proben nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Zweck einer solchen Justierung ist es, die zwei Proben zuein
ander in einer vorbestimmter Lage zu fixieren, um danach wei
tere, örtlich begrenzte Arbeitsprozesse an den beiden Proben
durchführen zu können.
In der vollautomatischen Maskenjustierung, wie aus der groß
seriellen Chipfertigung bekannt, werden sog. Maskaligner ver
wendet, die mit digitalen Bildverarbeitungstechniken die Zen
tren von speziellen Marken vollautomatisch detektieren und
vollständig rechnergesteuert justieren. Voraussetzung dafür
sind spezielle Marken und eine daran angepaßte umfangreiche
rechnergestützte Bildverarbeitung (siehe Siemens Forsch.- u.
Entwickl.- Ber. Bd. 13 (1984) Nr. 2, S. 43-47, "Automatic Mask
Alignment for X-Ray Microlithography", Springer-Verlag 1984).
Im Forschungs- und Entwicklungsbereich sowie bei Kleinserien
lohnt sich diese spezielle Bildverarbeitung nicht. Die Justie
rung erfolgt dann manuell mit Hilfe eines Mikroskops und einer
Bildspeichereinrichtung (siehe EPA 0 556 669 A1). Hierzu benö
tigt der Operateur unmittelbare Information durch Mikroskopbe
obachtung über die Position der Justiermarken des aktuell
nicht sichtbaren Justierpartners, also der von der Mikroskop
optik aus gesehenen, unten liegenden Probe. Die darüber lie
gende Probe ist wenigstens in der engeren Umgebung der auf ihr
vorhandenen Justiermarken optisch durchsichtig. Diese Justier
marken werden als Grauwertbild gespeichert und nach dem Umfo
kussieren auf die darunter liegende Justiermarke mit diesem
gemischt. Jetzt kann die Justierung erfolgen.
Bei diesem Verfahren des Mischens des Grauwertbildes mit dem
Echtbild der Justiermarkenumgebung der unteren Probe ist nicht
klar zwischen beiden Bildanteilen zu unterscheiden. Erst wenn
das zugehörige, abgespeicherte Grauwertbild des Justierpart
ners bewegt wird, kann der Bediener die aktuelle Position er
kennen. Besonders nachteilig ist das, wenn die beiden Justier
marken gleiche Form haben, weil dann eine völlige Verdeckung
bestehen kann. Der problematischste Fall ist der der gleich
artigen Justiermarken, bei der eine von beiden kleiner in den
Abmessungen ist. Dieser Fall könnte durch solche Verdeckungen
zu Fehljustierungen führen, die im weiteren Fertigungsprozeß
unvermeidlich einen Produktausschuß zur Folge haben würden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, für den Forschungs- und
Entwicklungsbereich als auch für die Kleinserienfertigung
von Mikrostrukturen (Elektronik- und Mikrostrukturfertigung)
ein zuverlässiges und wirtschaftliches Justierverfahren bereit
zu stellen.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die kennzeichnenden
Verfahrensschritte des Anspruchs 1 gelöst. Entscheidend ist
die Darstellung des einen Justierpartners in Form einer Lini
engraphik von seinen Kanten und die Einblendung dieser Linien
graphik in das aktuelle Bild des andern Justierpartners. Von
dem nicht sichtbaren Justierpartner werden die ausschließlich
für die Justierung erforderlichen Markenkanten als die Linien
graphik eingeblendet. Dadurch kann ständig die aktuelle Posi
tion der beiden Justierpartner zueinander beurteilt und eine
genaue oder nur optimale Justierung, letzteres bei verschie
denen Justierpartnerpaaren der gerade eingespannten Proben,
wie in Anspruch 2 gekennzeichnet, bei nur einer monokularen
Mikroskopoptik vorgenommen werden.
Wird die Liniengraphik in einer Farbe dargestellt, die sich
stets deutlich auf dem Monitorbild von der Darstellung des
Echtbilds abhebt, ist eine zusätzliche Erleichterung für die
Positionierarbeit gegeben. Anspruch 3 kennzeichnet diesen Ver
fahrensschritt.
Bei balkenartigen Justiermarkenstrukturen ist es bei ver
schwommenen Grauwertstrukturen hilfreich, wenn in der Linien
graphik noch eine Mittellinie mit dargestellt wird. Andere Li
niengraphiken, wie einstellbare Visierfadenkreuze (Anspruch
4), können für die Justierung ebenfalls nützlich sein. Sie wä
ren in ihrer Struktur entsprechend herzustellen.
In die Zeichnung sind Beispiele zweier Justierpartner, die auf
dem Monitor dargestellt werden, aufgenommen. Zusätzlich soll
anhand des schematischen Aufbaus einer Justiereinrichtung der
Einstellvorgang erläutert werden.
Es zeigt:
Fig. 1 die aus seinem Echtbild detektierten Markenkanten des
ersten Justierpartners,
Fig. 2 die detektierten Markenkanten dem Echtbild des anderen
Justierpartners als Liniengraphik überlagert,
Fig. 3 den schematischen Aufbau des Justiersystems und
Fig. 4 die gleichzeitige Darstellung der abgespeicherten Bil
der auf dem Monitor von zwei Justiermarkenpaaren.
Zur Herstellung beweglicher LIGA-Mikrostrukturen mit der
Opferschichttechnik muß vor der Probenbestrahlung das Substrat
bezüglich der Maske justiert werden. Für diese Justierung sind
auf der Maske und dem Substrat jeweils zwei Justiermarken vor
handen. Zur Beobachtung der Justierkreuze auf dem Substrat
sind Justieröffnungen in der nicht transparenten Maskenträger
folie vorhanden. Über diesen freigeätzten Justieröffnungen
sind feine Golddrähte kreuzförmig gespannt. Diese Justier
kreuze auf der Maske müssen mit den Justiermarken auf dem Sub
strat zur Deckung gebracht werden, und zwar mit einer Genauig
keit von 1 bis 2 µm.
Zur automatischen Bestimmung der Markenzentren werden Bildver
arbeitungsalgorithmen eingesetzt. Von der Maskenmarke werden
die Stegränder ermittelt und die Ausgleichsgeraden dazu gebil
det, die sich dann zu der Liniengraphik zusammensetzen.
Fig. 1 zeigt das Monitorbild 14 der Maskenmarke und die de
tektierte Liniengraphik 2, die durch den Einsatz digitaler
Bildverarbeitungstechniken im Rechner (PC) 9 des Positionie
rungssystems erzeugt wurde. Das Echtbild der Substratmarke 3
wäre ja schon aufgrund der geringen Tiefenschärfe nicht mehr
gleichzeitig mit der zugehörigen Maskenmarke 5 scharf dar
stellbar.
Fig. 2 zeigt das Echtbild 1 der Substratmarke mit den Masken
markenkanten als Liniengraphik 2 eingeblendet. Die Position
des Substrats und der Maske zueinander ist in dieser Darstel
lung versetzt und muß noch justiert werden, indem über die Ju
stiervorrichtung der laterale Versatz 4 der Markenzentren ma
nuell oder durch angeflanschte Stellmotoren behoben wird.
Letztere können bei ausreichender Automatisierung auch über
oder von dem PC 9 betrieben werden.
Fig. 3 zeigt den schematischen Aufbau des Positioniersystems
CALIMA (Computer Aided LIGA Mask-Alignment), mit dem die Ju
stierung Maske und Substrat zur Erzeugung von LIGA-Strukturen
rasch und zuverlässig durchgeführt wird.
Das Mikroskop 6 hat nur eine Optik 7 mit Wechselobjektiv 8. An
diese Optik 7 ist eine CCD-Kamera 10 angekoppelt, die eine Vi
deoverbindung zu dem PC 9 hat. Auf dem x-y-Tisch 11 ist die
Justiervorrichtung 12 aufgesetzt, in der das Substrat und die
Maske eingespannt sind. Die Justiervorrichtung 12 hat eine
Verbindung zum Rechner 9, von dem der Ausgleich des lateralen
Versatz 4 gesteuert werden kann. Desgleichen besteht eine Ver
bindung vom x-y-Tisch zum Rechner, um gegebenenfalls weitere
Justierpositionen anzufahren. Verfolgt wird der ganze Justier
prozeß über den Monitor 13.
Fig. 4 zeigt die gleichzeitige Darstellung auf dem Monitor 13
der rechten und linken Substratmarke 3 und 3′ mit den einge
blendeten graphischen Kanten der zugehörigen Maskenmarke 5 und
5′. Mit dieser Darstellung auf dem geteilten Bildschirm kann
der Operateur beurteilen, welche Qualität die aktuelle Justie
rung bereits aufweist.
Dieses Verfahren kann neben der Erzeugung von LIGA-Strukturen
oder integrierter Schaltkreise auch für ein einfaches Inspek
tions- oder Qualitätskontrollsystem bei der Lithographie oder
auch beim Kopieren eingesetzt werden. Die Strukturen der Maske
werden in diesem Fall in der selben Weise mit der Kamera auf
genommen. Mit digitalen Bildverarbeitungstechniken werden wie
derum die Konturen ermittelt und als Liniengraphik in das
Echtbild beim Betrachten eingeblendet. Aus diesen eingeblende
ten Konturen kann der Bediener erkennen, ob alle Strukturen in
ausreichender Qualität auf das Substrat übertragen wurden.
Bezugszeichenliste
1 Bild, Echtbild
2 Liniengraphik
3 Substratmarke
4 Versatz
5 Maskenmarke
6 Mikroskop
7 Optik, Mikroskopoptik
8 Wechselobjektiv
9 Rechner, PC
10 CCD-Kamera
11 x-y-Tisch
12 Justiervorrichtung
13 Monitor
2 Liniengraphik
3 Substratmarke
4 Versatz
5 Maskenmarke
6 Mikroskop
7 Optik, Mikroskopoptik
8 Wechselobjektiv
9 Rechner, PC
10 CCD-Kamera
11 x-y-Tisch
12 Justiervorrichtung
13 Monitor
Claims (4)
1. Verfahren zur Justierung zweier in einer Justiervorrichtung
übereinander liegender und gegeneinander lateral verschieb
barer, mit Justiermarken versehener Proben, von denen die
eine mit einer Bildaufnahme- und Bildspeicher-Vorrichtung
abgetastet und abgespeichert wird, und nach Nachfokussie
rung die zweite auf einem Bildschirm (Monitor) überlagert
wird, um unter visueller Kontrolle die Justiermarken über
einander zu justieren,
dadurch gekennzeichnet, daß
mittels digitaler Bildverarbeitungstechniken die Lage der Kanten der Justiermarken des aufgenommenen Bildes (5) de tektiert und in Form einer Liniengraphik (2) als Bildersatz abgespeichert werden,
nach dem Nachfokussieren auf die andere Probe und Darstel lung derselben auf einem Monitor (13) die Liniengraphik (2) in ihrer tatsächlichen Position dazu eingeblendet und dann die eventuell notwendige laterale Positionsverschiebung der Proben in der Justiervorrichtung gegeneinander vorgenom men wird.
mittels digitaler Bildverarbeitungstechniken die Lage der Kanten der Justiermarken des aufgenommenen Bildes (5) de tektiert und in Form einer Liniengraphik (2) als Bildersatz abgespeichert werden,
nach dem Nachfokussieren auf die andere Probe und Darstel lung derselben auf einem Monitor (13) die Liniengraphik (2) in ihrer tatsächlichen Position dazu eingeblendet und dann die eventuell notwendige laterale Positionsverschiebung der Proben in der Justiervorrichtung gegeneinander vorgenom men wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
bei mindestens zwei Justiermarkenpaaren auf den Proben die
einzelnen Justiermarken sukzessive angefahren, der Ein
stellvorgang mit dem monokularen Mikroskopoptik iterativ
durchgeführt und die Bilder der Justiermarken einschließ
lich der eingeblendeten Liniengraphik abgespeichert werden,
so daß der Bediener die Qualität der Justierung durch
gleichzeitiges Darstellen der abgespeicherten Bilder auf
dem Monitor beurteilen kann.
3. Verfahren nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
auf dem Monitor die Linien der Liniengraphik (2) in einer
zum Bild des Justierpartner kontrastreichen Farbe darge
stellt werden.
4. Verfahren nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet, daß
auf dem Monitor (13) in das Echtbild (1) die Liniengraphik
(2) in Form einer einstellbaren Visierkonfiguration einge
blendet wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19944416845 DE4416845C2 (de) | 1994-05-13 | 1994-05-13 | Verfahren zur Justierung zweier übereinander liegender und lateral gegeneinander verschiebbarer Proben |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19944416845 DE4416845C2 (de) | 1994-05-13 | 1994-05-13 | Verfahren zur Justierung zweier übereinander liegender und lateral gegeneinander verschiebbarer Proben |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4416845A1 DE4416845A1 (de) | 1995-11-16 |
DE4416845C2 true DE4416845C2 (de) | 1997-07-10 |
Family
ID=6518010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19944416845 Expired - Fee Related DE4416845C2 (de) | 1994-05-13 | 1994-05-13 | Verfahren zur Justierung zweier übereinander liegender und lateral gegeneinander verschiebbarer Proben |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4416845C2 (de) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5204739A (en) * | 1992-02-07 | 1993-04-20 | Karl Suss America, Inc. | Proximity mask alignment using a stored video image |
-
1994
- 1994-05-13 DE DE19944416845 patent/DE4416845C2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4416845A1 (de) | 1995-11-16 |
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