DE4400949C1 - Verfahren zum berührungslosen Messen von Spannungen innerhalb von integrierten Schaltungen - Google Patents
Verfahren zum berührungslosen Messen von Spannungen innerhalb von integrierten SchaltungenInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum berüh
rungslosen Messen von Spannungen innerhalb von integrierten
Schaltungen nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Insbesondere befaßt sich die vorliegende Erfindung mit einem
berührungslosen Meßverfahren innerhalb von integrierten Di
gitalschaltungen, bei dem wenigstens zwei verschiedene Span
nungsbereiche, die innerhalb von Digitalschaltungen den lo
gischen Pegeln 0 und 1 entsprechen, optisch erfaßbar sind.
Eine der bekannten Techniken zum Messen von Spannungen in
nerhalb von integrierten Schaltungen bedient sich sogenann
ter Elektronenstrahltester. Elektronenstrahltester prüfen
eine integrierte Schaltung, die innerhalb einer Vakuumkammer
angeordnet ist, mit vergleichsweise hohen Strahlenergien, so
daß eine Zerstörung der zu prüfenden Schaltung insbesondere
im Fall von CMOS-Schaltungen nicht ausgeschlossen werden
kann. Die Notwendigkeit der Messung innerhalb einer Vakuum
kammer bei Einsatz eines Elektronenstrahltesters bedingt
einen enorm hohen technischen und finanziellen Aufwand, der
eine berührungslose Spannungsmessung mittels Elektronen
strahltestern für viele Anwender ausschließt. Ferner kann
das Meßverfahren mit Elektronenstrahltestern aufgrund der
erwähnten Gefährdung der Schaltungen häufig nicht eingesetzt
werden.
Ferner ist es bekannt, eine berührungslose Spannungsmessung
innerhalb von integrierten Schaltungen dadurch vorzunehmen,
daß ein Flüssigkristall zur Erfassung elektrischer Felder
oberhalb der integrierten Schaltung verwendet wird, wobei
innerhalb des Flüssigkristalls die vom elektrischen Feld
abhängige Ausrichtung von Molekülen ausgenutzt wird, um mit
tels eines Polarisationsmikroskopes eine Potentialkontrast
darstellung zu erzeugen.
So offenbart beispielsweise die Fachveröffentlichung D.J.
Burns: "Microcircuit Analysis Technigues Using Field-Effect
Liquid Crystals", IEEE Trans. on Electron Devices, Januar
1979, Seiten 90-95 unter Bezugnahme auf Fig. 1 ein derar
tiges, allgemein übliches Meßverfahren unter Verwendung von
Flüssigkristallen, bei dem zunächst Flüssigkristalle auf die
integrierte Schaltung aufgetragen werden, dann eine optisch
transparente Platte auf den Flüssigkristall aufgelegt wird,
die üblicherweise geeignet vorbehandelt ist, um eine Voraus
richtung der Flüssigkristalle zu gewährleisten, wobei nach
Anlegen von elektrischen Spannungen an die integrierte
Schaltung Bereiche mit hohen Feldstärkeänderungen bei Be
trachtung im Polarisationsmikroskop hell, feldfreie Bereiche
hingegen dunkel erscheinen.
Dieses bekannte Verfahren hat zwar den Vorteil, daß gleich
zeitig im Polarisationsmikroskop die Bereiche verschiedener
Spannungen mit im Beispielsfall 0 bzw. 5 Volt darstellbar
sind, jedoch versagt das bekannte Verfahren, wenn mehrere,
nebeneinander liegende Leiterbahnen auf gleichem Potential
liegen. In heutigen integrierten Schaltungen liegen häufig
Bündel von eng nebeneinander liegenden Leiterbahnen auf
gleichem Potential. Da in diesem Fall zwischen benachbarten
Leiterbahnen kaum Feldstärkeänderungen auftreten, versagt
die Anzeige über das Polarisationsmikroskop.
Die genannte Entgegenhaltung offenbart ferner für den ver
gleichsweise ungewöhnlichen Fall, daß Signale mit Spannungen
gemessen werden sollen, die unterhalb der dem verwendeten
Flüssigkristall abhängigen Ansprechspannung liegen, den Ein
satz einer Feldplatte oder Elektrode, die mit einer getak
teten, nicht konstanten, polaritätsmäßig zu der nachzuwei
senden Spannung entgegengesetzten Spannung gepulst wird.
Einerseits ermöglicht dieses Verfahren nur die Darstellung
des zum jeweiligen Potential der Feldplatte oder Elektrode
mit der entgegengesetzten Spannung beaufschlagten Bereiches
im Polarisationsmikroskop, so daß ein derartiges Verfahren
zur gleichzeitigen Darstellung verschiedener Spannungsbe
reiche nicht tauglich ist. Andererseits bezeichnet sogar der
Autor dieser Entgegenhaltung die von ihm durchgeführten Ex
perimente in dieser Beziehung als nicht erfolgreich, da es
zu einer Kontaktzerstörung zwischen dem Flüssigkristall und
der Feldplatte gekommen ist.
Aus der DE 39 22 204 C1 ist be
reits ein gattungsgemäßes Verfahren zum berührungslosen Mes
sen von Spannungen bekannt. Dieses bekannte Verfahren nutzt
zur kontaktlosen Messung elektrischer Spannungen an Leiter
bahnen in einer integrierten Schaltung die vom elektrischen
Feld abhängige Ausrichtung der Moleküle nematischer Flüssig
kristalle. Zur Vorbereitung der Messung wird die Oberfläche
der integrierten Schaltung mit einer Lezithinschicht ver
sehen. Durch diese Beschichtung wird im feldfreien Fall eine
homöotrope Ausrichtung der Moleküle an der Oberfläche be
wirkt. Auf die Lezithinschicht wird nunmehr ein Flüssig
kristall aufgetragen. Mit Hilfe eines Manipulators, der auf
einem Kreuztisch eines Polarisationsmikroskopes befestigt
ist, wird eine Glasplatte auf die Flüssigkristallschicht ab
gesenkt. Die Glasplatte ist mit einer dünnen, elektrisch
leitenden und optisch transparenten Schicht versehen, die
eine Gegenelektrode für die durchzuführende Spannungsmessung
bildet. Mit einer äußeren Spannungsquelle wird zwischen die
ser Gegenelektrode und der Schaltungsmasse eine Potential
differenz eingestellt. Bei Änderung des Potentiales von
Leiterbahnen der Schaltung gegenüber dem Potential der Ge
genelektrode ergeben sich Änderungen der elektrischen Feld
stärke im Flüssigkristall. Bei genügend hohen Feldstärke
änderungen drehen sich die Moleküle des Flüssigkristalls, so
daß eine Doppelbrechung beobachtet werden kann. Mit dem
Polarisationsmikroskop erhält man eine Potentialkontrast
darstellung, wobei feldfreie Gebiete der integrierten Schal
tung dunkel erscheinen. Obgleich mit diesem Verfahren auch
Spannungen an eng benachbarten Leiterbahnen mit einem ähn
lichen Pegel erfaßt werden können, was bei dem oben ge
schilderten bekannten-Verfahren nicht der Fall ist, hat das
bekannte Verfahren eine Beschränkung dahingehend, daß nur
langsame Änderungen der Leiterbahnpotentiale beobachtet
werden können, da die Moleküle des Flüssigkristalles schnel
len Änderungen der Feldstärke nicht zu folgen vermögen.
Aus der DE-OS 23 09 371 ist bereits ein Verfahren zum
berührungslosen Messen von Spannungen bekannt, bei dem ein
Zusammenhang zwischen dem an die Elektrode angelegten
Potential und dem an das zu prüfende Objekt angelegten
Potential besteht.
Ausgehend von diesem Stand der Technik liegt der vorliegen
den Erfindung daher die Aufgabe zugrunde, das Verfahren zum
berührungslosen Messen von Spannungen der oben geschilderten
Art (vergleiche DE-39 22 204C1) so weiterzubilden, daß auch
Spannungen in integrierten Schaltungen erfaßbar sind, die
sich schnell ändern.
Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren gemäß Patentanspruch
1 gelöst.
Die Erfindung schafft ein Verfahren zum berührungslosen Mes
sen von Spannungen innerhalb von integrierten Schaltungen,
bei dem wenigstens zwei verschiedene Spannungsbereiche in
der integrierten Schaltung optisch erfaßbar sind, mit fol
genden Verfahrensschritten:
- - Auftragen eines Flüssigkristalles auf die integrierte Schaltung;
- - in Berührung Bringen einer optisch transparenten Platte mit dem Flüssigkristall;
- - Anordnen einer Gegenelektrode zur Festlegung einer Äquipotentialfläche in einem bestimmten Abstand zu der integrierten Schaltung;
- - Anlegen von elektrischen Spannungen an die integrierte Schaltung; und
- - Erfassen der Spannung in der integrierten Schaltung durch optisches Erfassen der vom elektrischen Feld in dem Flüssigkristall bewirkten Teilchenausrichtung,
wobei an die Gegenelektrode eine in einer zeitlichen
Beziehung zu der Spannung eines Spannungsbereiches der
integrierten Schaltung stehende Impulsspannung ange
legt wird.
Weiterbildungen des erfindungsgemäßen Verfahrens sind in den
Unteransprüchen definiert.
Eine bevorzugte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Ver
fahrens wird nachfolgend näher erläutert.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann mit einer Vorrichtung
durchgeführt werden, wie sie in der DE-39 22 204C1 offenbart
ist. Zur Vorbereitung des Spannungsmeßverfahrens wird auf
die Oberfläche einer integrierten Schaltung eine Lezithin
schicht aufgetragen, die in der bereits geschilderten Art im
feldfreien Fall eine homöotrope Ausrichtung der Moleküle an
der Oberfläche bewirkt. Nunmehr wird die Lezithinschicht mit
einer Flüssigkristallschicht versehen. Mittels eines Mikro
manipulators wird eine Glasplatte auf die Flüssigkristall
schicht abgesenkt. Bei einer bevorzugten Ausgestaltung ist
die Glasplatte mit einer dünnen, elektrisch leitenden und
optisch transparenten Schicht versehen, die eine Gegenelek
trode bildet.
In Abweichung von dieser Ausgestaltung ist es möglich, die
Gegenelektrode unabhängig von der Glasplatte auszugestalten.
Bei Verwendung einer Glasplatte wird es als bevorzugt ange
sehen, diese auf ihrer der integrierten Schaltung zuge
wandten Seite zu bürsten und ebenso wie die integrierte
Schaltung selbst mit einer Lezithinschicht zu versehen.
Die Einstellung der Schichtdicke des Flüssigkristalles kann
durch Verdünnen desselben mit einem flüssigen Lösungsmittel
geschehen.
Das Einstellen der Glasplatte mittels des Mikromanipulators
wird derart durchgeführt, daß die Glasplatte in einem Ab
stand von beispielsweise 10 Mikrometer von der Oberfläche
der integrierten Schaltung beabstandet an dem Flüssigkri
stall anliegt.
Bei dem erfindungsgemäßen Meßverfahren wird die Gegenelek
trode mit einer Impulsspannung beaufschlagt, die zeitlich zu
der interessierenden Leiterbahnspannung der integrierten
Schaltung korreliert ist. Bei einem periodischen digitalen
Leiterspannungssignal wird die impulsförmige Spannung, die
an die Gegenelektrode angelegt wird, in einer einstellbaren
Phasenlage gegenüber der Phase der Leiterbahnspannung er
zeugt. Bei diesem Anwendungsfall des erfindungsgemäßen Ver
fahrens wird in der nachfolgend beschriebenen Weise der
Effektivwert der Spannungsdifferenz zwischen der Leiter
spannung und der Spannung an der Gegenelektrode eingestellt.
Hierbei wird ausgenutzt, daß der Effektivwert dieser Span
nung unterschiedliche Werte annimmt, je nach dem, ob das
Impulsdach der Impulsspannung mit dem niedrigen oder mit dem
hohen Pegel einer Leiterbahnspannung zeitlich zusammen
trifft. Der Effektivwert ist hierbei der über eine Periode
gebildete Mittelwert des Quadrats der Spannungsdifferenz.
Bei der Einstellung wird vorzugsweise damit begonnen, daß
zunächst an die Gegenelektrode eine konstante Spannung
angelegt wird, die später dem Pegel des Impulsbodens ent
spricht. Diese Spannung wird derart eingestellt, daß der
Effektivwert der Spannungsdifferenz die Schwellenspannung
des verwendeten Kristalls nicht erreicht, d. h. keine Aus
wirkung auf das optische Verhalten des Kristalles zeigt.
Nach Einschalten des Impulses wird der Pegel des Impuls
daches gerade so eingestellt, daß nur bei einem Zusammen
treffen mit einem niedrigen Leiterbahnpegel der Effektivwert
der Spannungsdifferenz die Schwellenspannung überschreitet.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird an die Gegenelek
trode also eine von der Meßgröße, die bei dem gezeigten Aus
führungsbeispiel die Leiterbahnspannung ist, zeitlich abge
leitete impulsförmige Spannung angelegt. Durch zeitliche
Verschiebung des Abtastimpulses bezogen auf die Phase der
Meßgröße, also der Leiterbahnspannung, ist es möglich, den
zeitlichen Verlauf der Digitalsignale auf der Leiterbahn zu
bestimmen.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird die Zeitauflösung
nicht mehr durch den Flüssigkristall beschränkt, sondern
hauptsächlich durch die Impulsbreite des verwendeten Impul
ses festgelegt. Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht
das Erfassen von Datensignalen von hoher Datenrate auf Lei
terbahnen in integrierten Schaltungen trotz der Verwendung
eines Flüssigkristalles, dessen Moleküle sich bei Änderung
des angelegten Feldes nur relativ langsam ändern.
Zur optischen Erfassung der Molekülausrichtung innerhalb des
Flüssigkristalles kann auch bei dem erfindungsgemäßen Ver
fahren in an sich üblicher Weise ein Polarisationsmikroskop
verwendet werden, das im wesentlichen aus einer Lichtquelle
mit einem ersten Polarisator und einer Betrachtungsoptik mit
einem zu dem ersten Polarisator gekreuzt angeordneten zwei
ten Polarisator besteht. Übliche industrielle Auflichtpola
risationsmikroskope haben einen derartigen, für die Zwecke
der Erfindung geeigneten Aufbau. Bei Betrachtung mit dem
Polarisationsmikroskop werden feldfreie Gebiete dunkel und
Gebiete mit hohem Feld hell dargestellt.
Für die Zwecke der Erfindung eignen sich nicht nur ferro
elektrische Flüssigkristalle, die die Erfassung von Span
nungen hoher Frequenzen aufgrund ihrer kurzen Relaxations
zeiten ermöglichen, sondern auch Flüssigkristalle mit langen
Relaxationszeiten, die bei bekannten Verfahren Grenzfrequen
zen von einigen Kiloherz bezüglich der erfaßbaren Meßsignale
vorgaben, jedoch bei dem erfindungsgemäßen Verfahren die
Erfassung von Signalen im Hochfrequenzbereich ermöglichen.
Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht ferner die Dar
stellung des Potentialkontrastbildes unter Verwendung eines
Laser-Raster-Mikroskopes.
Grundsätzlich ermöglicht das erfindungsgemäße Verfahren auch
eine Spannungsmessung, wenn nach einer Kalibrierung der Im
pulsamplitude eine quantitative Messung der Drehung der
Polarisationsebene durchgeführt wird.
Hauptsächliche Anwendungsfälle des erfindungsgemäßen Verfah
rens betreffen die Untersuchung von Prototypen integrierter
Schaltungen und die Fehleranalyse bei der Serienfertigung
von integrierten Schaltungen.
Claims (13)
1. Verfahren zum berührungslosen Messen von Spannungen in
nerhalb von integrierten Schaltungen, bei dem wenigstens
zwei verschiedene Spannungsbereiche in der integrierten
Schaltung optisch erfaßbar sind,
mit folgenden Verfahrensschritten:
mit folgenden Verfahrensschritten:
- - Auftragen eines Flüssigkristalles auf die integrierte Schaltung;
- - in Berührung Bringen einer optisch transparenten Plat te mit dem Flüssigkristall;
- - Anordnen einer Gegenelektrode zur Festlegung einer Äquipotentialfläche in einem bestimmten Abstand zu der integrierten Schaltung;
- - Anlegen von elektrischen Spannungen an die integrierte Schaltung; und
- - Erfassen der Spannungen in der integrierten Schaltung durch optisches Erfassen der vom elektrischen Feld in dem Flüssigkristall bewirkten Teilchenausrichtung,
dadurch gekennzeichnet,
daß an die Gegenelektrode eine in einer zeitlichen Be ziehung zu der Spannung eines Spannungsbereiches der integrierten Schaltung stehende Impulsspannung angelegt wird.
daß an die Gegenelektrode eine in einer zeitlichen Be ziehung zu der Spannung eines Spannungsbereiches der integrierten Schaltung stehende Impulsspannung angelegt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Spannungsbereiche Leiterbahnen der integrierten
Schaltung sind.
3. Verfahren nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch folgende
Schritte zur Spannungseinstellung:
Anlegen einer konstanten Spannung an die Gegenelektrode, deren Pegel dem Impulsboden der Impulsspannung ent spricht, derart, daß der Effektivwert der Spannungs differenz zwischen der Leiterbahnspannung und der Span nung der Gegenelektrode die Schwellenspannung des ver wendeten Flüssigkristalls nicht erreicht.
Anlegen einer konstanten Spannung an die Gegenelektrode, deren Pegel dem Impulsboden der Impulsspannung ent spricht, derart, daß der Effektivwert der Spannungs differenz zwischen der Leiterbahnspannung und der Span nung der Gegenelektrode die Schwellenspannung des ver wendeten Flüssigkristalls nicht erreicht.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß der Pegel des Impulsdaches der angelegten Impuls
spannung derart eingestellt wird, daß nur bei einem
Zusammentreffen mit einem der möglichen Leiterbahnpegel
der Effektivwert der Spannungsdifferenz die Schwellen
spannung des verwendeten Flüssigkristalles überschrei
tet, während bei einem Zusammentreffen mit einem anderen
der möglichen Leiterbahnpegel der Effektivwert der
Spannungsdifferenz die Schwellenspannung nicht erreicht.
5. Verfahren nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeich
net,
daß der zeitliche Verlauf der Leiterbahnspannung durch
Veränderung der Phasenlage des Impulses der Impulsspan
nung gegenüber der Phase der Leiterbahnspannung bestimmt
wird, wobei die Zeitauflösung durch die gewählte Impuls
breite unabhängig von der Änderungsgeschwindigkeit der
Lage der Moleküle des Flüssigkristalles bei Änderung des
elektrischen Feldes festgelegt ist.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch ge
kennzeichnet,
daß der Verfahrensschritt des in Berührung Bringens der
optisch transparenten Platte mit dem Flüssigkristall und
der Verfahrensschritt des Anordnens der Gegenelektrode
gleichzeitig durch Absenken einer mit der Gegenelektrode
versehenen Glasplatte in Richtung auf die integrierte
Schaltung hin bis zur Berührung der Glasplatte mit dem
Flüssigkristall durchgeführt werden.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß das Absenken der Gegenelektrode mittels eines Mikro
manipulators durchgeführt wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch ge
kennzeichnet,
daß zur optischen Erfassung der Teilchenausrichtung im
Flüssigkristall ein Polarisationsmikroskop verwendet
wird.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch
gekennzeichnet,
daß zur optischen Erfassung der Teilchenausrichtung im
Flüssigkristall ein Laser-Raster-Mikroskop verwendet
wird.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 9, gekenn
zeichnet durch
den Verfahrensschritt der Lezithinbe
schichtung der Glasplatte.
11. Verfahren nach Anspruch 10, gekennzeichnet durch
den Verfahrensschritt des Bürstens der
Glasplatte.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, gekenn
zeichnet durch
den Verfahrensschritt der Lezithinbe
schichtung der integrierten Schaltung.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19944400949 DE4400949C1 (de) | 1994-01-14 | 1994-01-14 | Verfahren zum berührungslosen Messen von Spannungen innerhalb von integrierten Schaltungen |
Applications Claiming Priority (1)
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DE19944400949 DE4400949C1 (de) | 1994-01-14 | 1994-01-14 | Verfahren zum berührungslosen Messen von Spannungen innerhalb von integrierten Schaltungen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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DE4400949C1 true DE4400949C1 (de) | 1995-06-14 |
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ID=6507934
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DE19944400949 Expired - Fee Related DE4400949C1 (de) | 1994-01-14 | 1994-01-14 | Verfahren zum berührungslosen Messen von Spannungen innerhalb von integrierten Schaltungen |
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Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4400949C1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018024549A1 (de) * | 2016-08-04 | 2018-02-08 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur vermessung einer vielzahl an halbleiterchips in einem waferverbund |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2309371A1 (de) * | 1972-03-01 | 1973-09-27 | Steremat Veb | Verfahren und pruefeinrichtungen zur pruefung von spannungsgroessen elektrischer pruefobjekte |
DE3922204C1 (en) * | 1989-07-06 | 1990-05-10 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 8000 Muenchen, De | Non-contact voltage measurement method - has optically transparent plate in contact with liquid crystal coated IC with optical alignment and constant potential measurement |
-
1994
- 1994-01-14 DE DE19944400949 patent/DE4400949C1/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2309371A1 (de) * | 1972-03-01 | 1973-09-27 | Steremat Veb | Verfahren und pruefeinrichtungen zur pruefung von spannungsgroessen elektrischer pruefobjekte |
DE3922204C1 (en) * | 1989-07-06 | 1990-05-10 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 8000 Muenchen, De | Non-contact voltage measurement method - has optically transparent plate in contact with liquid crystal coated IC with optical alignment and constant potential measurement |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
D.J. BURNS: "Microcircuit Analysis Techniques Using Field-Effect Liquid Crystals", IEEE Trans. on Electron De- vices, Jan.1979, S.90-95 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018024549A1 (de) * | 2016-08-04 | 2018-02-08 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur vermessung einer vielzahl an halbleiterchips in einem waferverbund |
US10867873B2 (en) | 2016-08-04 | 2020-12-15 | Osram Oled Gmbh | Method and device for measurement of a plurality of semiconductor chips in a wafer array |
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