DE4311360A1 - Anordnung zum reaktiven Abscheiden von Werkstoffen als Dünnfilm durch Mittelfrequenz-Katodenzerstäubung - Google Patents
Anordnung zum reaktiven Abscheiden von Werkstoffen als Dünnfilm durch Mittelfrequenz-KatodenzerstäubungInfo
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- DE4311360A1 DE4311360A1 DE19934311360 DE4311360A DE4311360A1 DE 4311360 A1 DE4311360 A1 DE 4311360A1 DE 19934311360 DE19934311360 DE 19934311360 DE 4311360 A DE4311360 A DE 4311360A DE 4311360 A1 DE4311360 A1 DE 4311360A1
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Description
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zum reaktiven Abscheiden
von Werkstoffen als Dünnfilm durch Mittelfrequenz-Katodenzer
stäubung, jeweils abwechselnd von mehreren Targets mit einem
Einlaß für das Reaktivgas in die Prozeßkammer und mit einer
den Katoden gegenüberliegenden, elektrisch isolierten
Substrathalterung.
Es ist eine Einrichtung für die Beschichtung eines Substrats
mit einem Material, das aus einem Plasma gewonnen wird, be
kannt (DE-OS 38 02 852), wobei sich das Substrat zwischen
einer ersten und einer zweiten Elektrode befindet und bei der
die erste Elektrode an einem ersten Anschluß einer Wechselstrom
quelle und die zweite Elektrode an einem zweiten Anschluß der
Wechselstromquelle liegt. Die Wechselstromquelle ist in diesem
Falle als Streufeldtransformator ausgebildet, der aus einer
Schutzgasschweißanlage oder einer ähnlichen geregelten Wechsel
stromversorgung gespeist wird. Darüberhinaus sind die beiden
Elektroden wahlweise auch mit einer Gleichstromversorgung ver
bindbar.
Weiterhin ist eine Zerstäubungseinrichtung bekannt (DD 2 52 205
A1), bestehend aus einem Magnetsystem und mindestens zwei
darüber angeordneten Elektroden, die aus dem zu zerstäubenden
Material bestehen und so geschaltet sind, daß sie wechselweise
Katode und Anode einer Gasentladung sind, wobei die Elektroden
an eine sinusförmige Wechselspannung von vorzugsweise 50 Hz
angeschlossen sind. Jeder Elektrode ist dabei ein unabhängiges
Magnetsystem zugeordnet, wobei ein Pol des einen Magnetsystems
zugleich ein Pol des benachbarten Magnetsystems ist und die
Elektroden in einer Ebene angeordnet sind.
Der vorliegenden Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde,
eine Vorrichtung zum Sputtern von Materialien mit hoher
Affinität zu einem Reaktivgas zu schaffen, die einen
gleichmäßigen bzw. stabilen Prozeß ermöglicht und auch bei
langen Betriebszeiten störungsfrei und insbesondere
überschlagsfrei arbeitet und dies bei Abscheidung isolierender
Schichten, wie z. B. Al2O3, wobei diese Schichten besonders
fest auf dem Substrat haften sollen und ihre Schichtdicken
verteilung besonders gleichmäßig sein sollen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch erreicht, daß das
sich in unmittelbarer Nachbarschaft der Katoden erstreckende
Gaseinlaß- und Verteilungsrohr mit einer Vielzahl von über
seine Länge verteilt angeordneten Auslaßdüsen versehen ist,
wobei beide Enden des Verteilungsrohres mit der Gasquelle
verbunden sind und der Gasströmungskanal des Verteilungsrohres
etwa in seinem mittleren Bereich durch eine feste Trennwand
unterbrochen ist und das Gas von beiden einander diametral
gegenüberliegenden Enden her in die beiden Kanalabschnitte
kontrolliert einströmt.
Weitere Einzelheiten und Merkmale sind in den Patentansprüchen
näher charakterisiert und gekennzeichnet.
Die Erfindung läßt die verschiedensten Ausführungsmöglich
keiten zu; eine davon ist in den anhängenden Zeichnungen sche
matisch näher dargestellt, die in Fig. 1 den Schnitt durch
eine Sputteranlage mit zwei Magnetron-Sputterkatoden und in
Fig. 2 die perspektivische Ansicht eines Gasverteilungsrohres
zeigen.
In der Zeichnung sind Substrate 1, 1′, 1′′ dargestellt, die
jeweils mit einer dünnen Schicht 2, 2′, 2′′ aus einem Oxid
(z. B. Aluminiumoxid) versehen werden sollen. Diesen Substraten
1, 1′, 1′′ liegen Targets 3, 3a gegenüber, die zu zerstäuben
sind. Jedes Target 3, 3a ist mit einem Katodengrundkörper 11,
11a verbunden, der ein Magnetjoch 4, 4a aufnimmt, das jeweils
drei Magnete 19, 19a, 19b bzw. 19c, 19d, 19e aufweist.
Die auf die Targets 3, 3a gerichteten Polaritäten der Pole der
sechs Magnete 19a bis 19e wechseln sich ab, so daß jeweils die
Südpole der beiden jeweils äußeren Magnete 19, 19b bzw. 19c,
19e mit dem Nordpol der jeweils innenliegenden Magneten 19a
bzw. 19d etwa kreisbogenförmige Magnetfelder durch die Targets
3, 3a bewirken. Diese Magnetfelder verdichten das Plasma vor
den Targets 3, 3a, so daß es jeweils dort, wo die Magnetfelder
das Maximum ihrer Kreisbögen aufweisen, seine größte Dichte
hat. Die Ionen im Plasma werden durch elektrische Felder be
schleunigt, die sich aufgrund einer Wechselspannung aufbauen,
die von der Wechsel-Stromquelle 10 abgegeben wird.
Diese Wechsel-Stromquelle 10 weist zwei Anschlüsse 12, 13 auf,
die von den Enden einer sekundären Transformatorwicklung 27
gebildet sind und an die beiden Katoden 5, 5a angeschlossen
sind. Die beiden Stromleiter 8, 9 der sekundären Transformator
wicklung 27 sind mit den beiden Targets 3, 3a elektrisch ver
bunden, wobei in diese Stromleiter Kondensatoren 46, 46a
eingeschaltet sind.
Die Targets 3, 3a sind außerdem jeweils über eine Leitung 14,
14a mit einer gegen Erde geschalteten Spannungseffektivwert
erfassung 20 verbunden, die wiederum über eine zweite Leitung
21 an einen ersten Regler 16 angeschlossen ist, der seiner
seits über Leitungen 17, 17a mit Absperrventilen 18, 18a in
Verbindung steht, die den Zufluß der in den Behältern 22, 23
befindlichen Gase in die Verteilerleitung 6 bzw. 7 bzw. in die
Leitungen 6a, 6b, 6c und 6a′, 6b′, 6c′ bzw. 7a, 7b und 7a′,
7b′ kontrollieren. Über eine dritte Leitung 21a ist der Regler
20 mit einem weiteren Regler 21a elektrisch verbunden, von dem
aus die Durchflußmesser 29, 29a, 30, 30a, 31, 31a, 45, 45a
elektrisch angesteuert werden.
Die Beschichtungskammer 28 ist mit drei zueinander parallel
angeordneten Gas-Verteilungsrohre 32, 32a bzw. 33, 33a bzw.
34, 34a versehen, durch die Gase aus den Verteilerleitungen 6
bzw. 7 in die Beschichtungskammer 28 einströmen können. Jedes
dieser drei Gas-Verteilungsrohre 32, 32a bzw. 33, 33a bzw. 34,
34a weist einen Längskanal auf, der in der Mitte durch eine
Trennwand 44 geschlossen ist, so daß jeweils zwei separate von
den gegenüberliegenden Enden aus zugängliche Kanäle 43a, 43b
gebildet sind. Im übrigen ist jede Hälfte jedes
Gasverteilungsrohrs 32, 32a bzw. 33, 33a bzw. 34, 34a mit
Düsen 38, 38′, . . . bzw. 39, 39′ bzw. 40, 40′ versehen.
Die Frequenz der Wechselstromquelle 10 ist während des Sputter
prozesses so eingestellt, daß die Ionen dem Wechselfeld noch
folgen können, was bei einer Frequenz von etwa 1 kHz-100 kHz
der Fall ist. Die über die Leitungen 14, 14a abgegriffenen
Entladespannungen sind mit Hilfe der Spannungseffektivwerterfas
sung 20 über die Leitung 21 als Gleichspannung einem ersten
Regler 16 zugeführt, der wiederum über die Leitung 17, 17a die
Magnetventile 18, 18a für die Zuführung bzw. den Einlaß der
Gase ansteuert und zwar derart, daß die gemessene Spannung die
erforderliche Gasmenge bestimmt.
Die beiden Magnetronkatoden 5, 5a (Rechteckkatoden) können -
wie dies Fig. 1 zeigt - nebeneinander oder aber dachförmig
angeordnet sein (nicht näher dargestellt), wobei sie dann z. B.
einen Winkel von 168 Grad einschließen. Neben jeder Katode 5,
5a ist aber bei jeder Ausführungsform außen ein Gasverteilungs
rohr 32, 32a bzw. 34, 34a parallel zu ihren Längsachsen ange
ordnet. Zwischen beiden Katoden 5, 5a ist außerdem ein Gasver
teilungsrohr 33, 33a vorgesehen. Diese Gasverteilungseinrich
tungen bestehen aus Rohren (Fig. 2), in die an mindestens
zwei Stellen Gas durch große Öffnungen eingelassen werden
kann. In Längsrichtung der Rohre sind eine Vielzahl von
kleinen, düsenartigen Bohrungen 38, 38′, . . . bzw. 39, 39′,
bzw. 40, 40′, . . . vorhanden, durch die das Gas gleichmäßig in
den Prozeßraum 15 verteilt wird bzw. dem Target 3, 3a gleich
mäßig verteilt zuströmt.
Gegenüber den Katoden 5, 5a befindet sich ein wassergekühlter
Substrattisch 41 für die (z. B. statische) Beschichtung. Der
Substrattisch besteht aus der eigentlichen wassergekühlten
Substrataufnahmeplatte 41, welche durch die Wanne 42
elektrisch isoliert so aufgebaut ist, daß ein elektrisches
Potential angelegt werden (DC und/oder HF) und mit einer
Dunkelraumabschirmung versehen sein kann.
Für den Prozeß des reaktiven Katodenzerstäubens muß sowohl
Argon (oder evtl. ein anderes Inertgas) als Prozeßgas und
mindestens ein Reaktivgas (O2 im Fall von Al2O3) in die Pro
zeßkammer 15 eingelassen werden. Für Argon ist ein Gasfluß
regler bzw. Durchflußmesser 45, 45a vorgesehen. Von diesem
Gasflußregler 45, 45a zweigen Rohrleitungen 7a, 7b etwa
gleicher Länge ab und münden jeweils in eines der äußeren
Gasverteilungsrohre 32, 34 ein.
Es ist Ziel und Inhalt der Erfindung, das Reaktivgas (oder die
Reaktivgase) so in den Prozeßraum bzw. Plasmaraum 15 einzu
leiten, daß über den gesamten Substratbereich homogene Eigen
schaften (z. B. Schichtdicke, Transparenz, Härte, . . . ) der zu
erzeugenden Schichten 2, 2′, 2′′ erreicht werden und daß diese
Homogenität über die Lebenszeit der Targets 3, 3a erhalten
bleibt (Langzeitstabilität).
Das Reaktivgas bzw. die Reaktivgase (O2 und/oder N2) werden
deshalb über Gasflußmesser 29, 29a bzw. 30, 30a bzw. 31, 31a
den Gasverteilungsrohren zugeführt, wobei pro Gasver
teilungsrohr 32, 32a bzw. 33, 33a bzw. 34, 34a mindestens ein
Gasflußmesser 29, 29a bzw. 30, 30a bzw. 31, 31a vorgesehen
ist.
Mit der Aufteilung des Reaktivgasflusses auf die beiden äußeren
Gasrohre 32, 32a bzw. 34, 34a kann die Querverteilung der
Schichteigenschaften eingestellt werden. Das mittlere Gasrohr
33, 33a ist notwendig, um die Schichthomogenität quer zur Ka
todenlängsachse zu verbessern.
In einer alternativen Ausführungsform können für jedes Gasver
teilungsrohr jeweils zwei Gasflußmesser für eine Reaktivgas
sorte vorgesehen sein, die an den zwei Enden in das Gasver
teilungsrohr einmünden. Zwei (oder mehrere) Gasflußmesser pro
Gasverteilungsrohr (und für eine Reaktivgassorte) sind erfah
rungsgemäß für die Einstellung der Schichthomogenität in Ka
todenlängsrichtung notwendig.
Im Fall von jeweils einem Gaseinlaß zu jedem Ende der Gasver
teilungsrohre, kann die Längsverteilung der Schichteigen
schaften eingestellt werden, indem ein bestimmtes Verhältnis
eingehalten wird, zwischen dem Gesamtfluß an Reaktivgas durch
alle Gasflußmesser der einen Seite zu dem Gesamtfluß an Reak
tivgas durch alle Gasflußmesser der anderen Seite. Bei einer
Änderung dieses Verhältnisses darf der Gesamtfluß an Reaktiv
gas durch alle Gasflußmesser nicht geändert werden.
Zur Regelung/Steuerung des Prozesses, z. B. von Al2O3:
Targets Aluminium
Gase Ar, O2
Mittelfrequenzversorgung 1 kHz-100 kHz
aktuell 40 kHz.
Targets Aluminium
Gase Ar, O2
Mittelfrequenzversorgung 1 kHz-100 kHz
aktuell 40 kHz.
Die beiden floatenden Ausgänge der MF-Versorgung 10 sind je
mit einer Katode 5, 5a über in Reihe geschaltete Kondensatoren
46, 46a verbunden, die für die verwendete Frequenz niederohmig
sind, aber dafür sorgen, daß die Katoden 5, 5a gleich
spannungsmäßig getrennt sind. Auf diese Weise kann das Gleich
spannungspotential jeder Katode 5, 5a separat gemessen werden.
Mit Hilfe der Spannungsmeßeinrichtung 20 wird die Entlade
spannung jeder Katode 5, 5a gegen Masse gemessen. An den ge
messenen, zeitabhängigen Spannungsverläufen werden zwei Aus
gangssignale (z. B. 0 . . . 10 V) erzeugt. Das erste Signal ent
spricht der gemittelten Summe der beiden Spannungsverläufe und
wird zur Prozeßregelung benötigt. Das zweite Signal entspricht
der gemittelten Differenz der beiden Spannungsverläufe und
kann zur Regelung der Homogenität der Schichteigenschaften
quer zur Längsrichtung der Katoden verwendet werden.
Das Summensignal wird zur Prozeßregelung verwendet, d. h., über
einen ersten Regelkreis wird die Summenspannung konstant
gehalten (Arbeitspunktstabilisierung). Durch den Reglerausgang
wird der Strom oder die Leistung des MF-Senders festgelegt.
Dagegen werden der Gesamtfluß des Reaktivgases (der über die
verschiedenen Gasflußmesser 29, 29a bzw. 30, 30a bzw. 31, 31a
in der Prozeßkammer 15 verteilt wird) und natürlich der
Argonfluß über die Durchflußmesser 45, 45a konstant gehalten.
Einem zweiten Regelkreis wird das Signal der Differenzspannung
zugeführt. Dieser Regler steuert die Aufteilung des Reaktivgas
flusses auf die beiden äußeren Gasverteilungsrohre 32, 32a
bzw. 34, 34a derart, daß die gemessene Differenzspannung mit
einem gewünschten Sollwert übereinstimmt, wobei der Gesamtfluß
durch die äußeren Gasverteilungsrohre konstant bleibt und auch
das Verhältnis der Flüsse in Längsrichtung nicht geändert
wird.
Damit wird sichergestellt, daß die Eigenschaften der zu er
zeugenden Schichten quer zur Längsrichtung der Katoden 5, 5a
homogen sind und daß diese Homogenität der Eigenschaften über
einen langen Zeitraum (Targetabbrand) erhalten bleibt.
Um auch eine Langzeitstabilisierung der Schichthomogenität in
Längsrichtung der Katoden 5, 5a zu erreichen, ist eine Mes
sung, z. B. der Schichtdicke, jeweils am rechten und linken
Ende des Substratbereiches vorgesehen. Über einen weiteren
Regelkreis (nicht näher dargestellt) kann durch Verstellen des
Verhältnisses der Reaktivgasflüsse rechts/links eine konstante
Schichtdicke in Längsrichtung aufrecht erhalten werden. Die
Messung kann mittels Schwingquarzen oder auch optisch er
folgen.
Zur Langzeitstabilisierung der Abscheiderate werden zwei
Möglichkeiten berücksichtigt, mit dem Ziel, die Leistung bzw.
den Strom des MF-Senders über längere Zeiträume (Target
alterung) konstant zu halten. Diese Stabilisierung wird
über einen weiteren Regelkreis erreicht, der
- 1. entweder den Summenspannungswert (Arbeitspunkt),
- 2. oder den Gesamtfluß des Reaktivgases geeignet ändert, so daß die Leistungs-/Spannungsdrift ver hindert wird.
Die Vorrichtung zielt vor allem auf das Sputtern von Aluminium
oxidschichten (Al2O3).
Die Arbeitspunktstabilisierung wird über die Leistung bzw. den
Strom des MF-Senders erreicht.
Die drei Gaseinlaßrohre 32, 32a bzw. 33, 33a bzw. 34, 34a, die
im Regelfall durch mindestens je zwei Gasflußregler 29, 29a
bzw. 30, 30a bzw. 31, 31a mit Reaktivgas beschickt werden
ermöglichen durch unterschiedliche Gasflüsse durch die ein
zelnen Durchflußmesser homogene Schichteigenschaften über den
gesamten Substratbereich.
Bei einer alternativen Ausführungsform können auch pro Gasein
laßrohr drei Gaseinlässe mit Gasflußreglern vorgesehen sein.
Weiterhin liegt es im Sinne der Erfindung, die Gaseinlaßrohre
unterteilt aufzubauen, so daß pro Gaseinlaß nur ein separater
Teil 43a, 43b des Rohres (z. B. 32, 32a gemäß Fig. 2) be
schickt werden kann (siehe Fig. 2).
Im übrigen sind zwei Regelkreise vorgesehen, die den Einlaß
des Reaktivgases durch die verschiedenen Gasflußregler so
organisieren, daß einerseits die Querverteilung der
Schichteigenschaften und andererseits die Längsverteilung der
Schichteigenschaften über längere Zeiträume konstant bleibt,
wobei bei allen Änderungen der Gasflüsse durch diese Regel
kreise der Gesamtfluß konstant bleiben muß.
Ein weiterer Regelkreis stabilisiert die Leistung des MF-
Senders gegen Langzeitdrift.
Bezugszeichenliste
1, 1′, 1′′ Substrat
2, 2′, 2′′ Schicht
3, 3a Target
4, 4a Magnetjoch
5, 5a Katode
6, 6a, 6b, 6c Verteilerleitung
7, 7a, 7b Verteilerleitung
8 Stromleiter
9 Stromleiter
10 Wechselstromquelle
11, 11a Katodenkörper
12 Stromanschluß
13 Stromanschluß
14, 14a Stromleiter
15 Plasmaraum
16, 16a Regler
17, 17a Signalleitung
18, 18a Einlaßventil, Absperrventil
19, 19a, 19b, 19c, 10d, 19e Magnet
20 Spannungseffektivwerterfassung
21 Stromleiter
22 Behälter für Reaktivgas
23 Behälter für Inertgas (Argon)
24, 24a Gasleitung
25, 25a Gasleitung
26, 26a Gasleitung
27 sekundäre Transformatorwicklung
28 Rezipient
29, 29a Durchflußmesser
30, 30a Durchflußmesser
31, 31a Durchflußmesser
32, 32a Gasverteilungsrohr
33, 33a Gasverteilungsrohr
34, 34a Gasverteilungsrohr
35, 35a Isolator
36, 36a Isolator
37, 37a Isolator
38, 38′, . . . Düse
39, 39′, . . . Düse
40, 40′, . . . Düse
41 Substrathalter
42 Isolator-Wanne
43a, 43b Kanalabschnitt
44 Trennwand
45, 45a Durchflußmesser
46, 46a Kondensator
2, 2′, 2′′ Schicht
3, 3a Target
4, 4a Magnetjoch
5, 5a Katode
6, 6a, 6b, 6c Verteilerleitung
7, 7a, 7b Verteilerleitung
8 Stromleiter
9 Stromleiter
10 Wechselstromquelle
11, 11a Katodenkörper
12 Stromanschluß
13 Stromanschluß
14, 14a Stromleiter
15 Plasmaraum
16, 16a Regler
17, 17a Signalleitung
18, 18a Einlaßventil, Absperrventil
19, 19a, 19b, 19c, 10d, 19e Magnet
20 Spannungseffektivwerterfassung
21 Stromleiter
22 Behälter für Reaktivgas
23 Behälter für Inertgas (Argon)
24, 24a Gasleitung
25, 25a Gasleitung
26, 26a Gasleitung
27 sekundäre Transformatorwicklung
28 Rezipient
29, 29a Durchflußmesser
30, 30a Durchflußmesser
31, 31a Durchflußmesser
32, 32a Gasverteilungsrohr
33, 33a Gasverteilungsrohr
34, 34a Gasverteilungsrohr
35, 35a Isolator
36, 36a Isolator
37, 37a Isolator
38, 38′, . . . Düse
39, 39′, . . . Düse
40, 40′, . . . Düse
41 Substrathalter
42 Isolator-Wanne
43a, 43b Kanalabschnitt
44 Trennwand
45, 45a Durchflußmesser
46, 46a Kondensator
Claims (7)
1. Anordnung zum reaktiven Abscheiden von Werkstoffen als
Dünnfilm durch Mittelfrequenz-Katodenzerstäubung, jeweils
abwechselnd von mehreren Targets (3, 3a), mit einem Ein
laß für das Reaktivgas in die Prozeßkammer und einer den
Katoden (5, 5a) gegenüberliegenden elektrisch isolierten
Substrathalterung (41), dadurch gekennzeichnet, daß die
sich in unmittelbarer Nachbarschaft der Katoden (5, 5a)
erstreckenden Gaseinlaß- und Verteilungsrohre (32, 32a
bzw. 33, 33a bzw. 34, 34a) mit einer Vielzahl von über
ihre Länge verteilt angeordneten Auslaßdüsen (38, 38′,
bzw. 39, 39′, . . . bzw. 40, 40′, . . . ) versehen sind,
wobei jeweils beide Enden oder jeweils eine mittlere
Partie jedes Verteilungsrohres mit der Gasquelle (22)
verbunden sind und der Gasströmungskanal (43a, 43b) jedes
Verteilungsrohres etwa in seinem mittleren Bereich durch
eine feste Wand in zwei voneinander getrennte Abschnitte
(44) unterteilt ist, wobei das Gas von beiden einander
diametral gegenüberliegenden Enden bzw. von der jeweils
mittleren Partie her in die beiden Kanal-Abschnitte (43a,
43b) über in die Gasleitungen (24, 24a bzw. 25, 25a bzw.
26, 26a) eingeschaltete und jeweils von einem Regler
(16a) angesteuerte Durchflußmesser (29, 29a bzw. 30, 30a
bzw. 31, 31a) kontrolliert einströmt.
2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
jedes Gasverteilungsrohr oder jeweils dessen Gaszuleitung
(24, 24a bzw. 25, 25a bzw. 26, 26a) von einem elektrischen
Isolator (35, 35a, 35b) an der Wand der Prozeßkammer (28)
gehalten ist und so selbst auf elektrisch floatendem
Potential liegt.
3. Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Effektivwerte der Entladespannungen von
einer über elektrische Leitungen (14, 14a) an die Katoden
(5, 5a) angeschlossenen Spannungseffektivwerterfassung
(20) gemessen und als Gleichspannung Reglern (16, 16a)
über elektrische Leitungen (21, 21a) zugeführt wird, wo
bei der eine Regler (16) Absperrventile (18, 18a) an
steuert, über die Gase aus Behältern (22, 23) in die Ver
teilerleitungen (6, 7) einlaßbar sind und wobei der
andere Regler (16a) mit Durchflußmessern (29, 29a, 30,
30a, 31, 31a) zusammenwirkt, die die durch die Gas-Ver
teilungsrohre (32, 32a bzw. 33, 33a bzw. 34, 34a) in den
Plasmaraum (15) einströmenden Gasmengen kontrollieren.
4. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß jeweils beider
seits jeder Längsseite jeder Katode (5, 5a), mit einer
rechteckigen Targetflächenkonfiguration (5, 5a) bin
Gasverteilungsrohr (32, 32a bzw. 33, 33a bzw. 34, 34a)
angeordnet ist, das jeweils über ein eigenes Paar
Gasleitungen (24, 24a bzw. 25, 25a bzw. 26, 26a) an die
Verteilerleitung (6) des Behälters (22) für das Reak
tivgas (Sauerstoff) angeschlossen ist.
5. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die einander
diametral gegenüberliegenden Enden bzw. die jeweils
mittleren Abschnitte (43a, 43b) jedes einzelnen
Gasverteilungsrohrs (32, 32a bzw. 33, 33a bzw. 34, 34a)
über jeweils eine Verteiler-Zweigleitung (7a, 7b bzw.
7a′, 7b′) mit dem Behälter (23) für das Inertgas (Argon)
unter Zwischenschaltung eines Einlaßventils (18a)
und/oder eines Durchflußmessers (45, 45a) verbunden sind.
6. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die einander
diametral gegenüberliegenden Enden bzw. die jeweils
mittleren Partien eines jeden Gas-Verteilungsrohres (32,
32a bzw. 33, 33a bzw. 34, 34a) über Zweigleitungen (6a,
6b, 6c bzw. 6a′, 6b′, 6c′) mit dem Behälter (22) für das
Reaktivgas (z. B. Sauerstoff) in Verbindung stehen, wobei
der gemeinsamen Zuleitung (6) ein Absperr-Ventil (18)
vorgeschaltet ist.
7. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Substratträger
(41) gegenüber dem Gehäuse (28) der Prozeßkammer durch
eine elektrisch isolierende Platte oder Wanne (42) ge
trennt ist und somit auf elektrisch floatendem Potential
liegt.
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