DE4310318A1 - Sensormaterial mit perowskitähnlicher Kristallstruktur und erhöhtem magnetoresistiven Effekt sowie Verfahren zur Herstellung des Materials - Google Patents

Sensormaterial mit perowskitähnlicher Kristallstruktur und erhöhtem magnetoresistiven Effekt sowie Verfahren zur Herstellung des Materials

Info

Publication number
DE4310318A1
DE4310318A1 DE4310318A DE4310318A DE4310318A1 DE 4310318 A1 DE4310318 A1 DE 4310318A1 DE 4310318 A DE4310318 A DE 4310318A DE 4310318 A DE4310318 A DE 4310318A DE 4310318 A1 DE4310318 A1 DE 4310318A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
component
group
sensor
magnetoresistive effect
elements
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE4310318A
Other languages
English (en)
Other versions
DE4310318C2 (de
Inventor
Rittmar Von Dipl Phys Helmolt
Joachim Dipl Phys Dr Wecker
Bernhard Dipl Phys Holzapfel
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DE4310318A priority Critical patent/DE4310318C2/de
Publication of DE4310318A1 publication Critical patent/DE4310318A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE4310318C2 publication Critical patent/DE4310318C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01DMEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01D5/00Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
    • G01D5/12Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means
    • G01D5/14Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means influencing the magnitude of a current or voltage
    • G01D5/142Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means influencing the magnitude of a current or voltage using Hall-effect devices
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y25/00Nanomagnetism, e.g. magnetoimpedance, anisotropic magnetoresistance, giant magnetoresistance or tunneling magnetoresistance
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G45/00Compounds of manganese
    • C01G45/12Manganates manganites or permanganates
    • C01G45/1221Manganates or manganites with a manganese oxidation state of Mn(III), Mn(IV) or mixtures thereof
    • C01G45/125Manganates or manganites with a manganese oxidation state of Mn(III), Mn(IV) or mixtures thereof of the type[MnO3]n-, e.g. Li2MnO3, Li2[MxMn1-xO3], (La,Sr)MnO3
    • C01G45/1264Manganates or manganites with a manganese oxidation state of Mn(III), Mn(IV) or mixtures thereof of the type[MnO3]n-, e.g. Li2MnO3, Li2[MxMn1-xO3], (La,Sr)MnO3 containing rare earth, e.g. La1-xCaxMnO3, LaMnO3
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08Oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/28Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/02Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
    • G01R33/06Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
    • G01R33/09Magnetoresistive devices
    • G01R33/093Magnetoresistive devices using multilayer structures, e.g. giant magnetoresistance sensors
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N50/00Galvanomagnetic devices
    • H10N50/80Constructional details
    • H10N50/85Magnetic active materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/30Three-dimensional structures
    • C01P2002/34Three-dimensional structures perovskite-type (ABO3)
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/50Solid solutions
    • C01P2002/52Solid solutions containing elements as dopants
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/40Electric properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/42Magnetic properties

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Material zur Verwendung in einem magnetoresistiven Sensor, das eine perowskitähn­ liche Kristallstruktur besitzt und einen erhöhten magneto­ resistiven Effekt zeigt. Ein derartiges Material geht z. B. aus "Physica B", Vol. 155, 1989, Seiten 362 bis 365 her­ vor. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Her­ stellung dieses Materials.
Der allgemeine Aufbau und die Funktionsweise von magneto­ resistiven Sensoren mit Dünnfilmen aus ferromagnetischen Übergangsmetallen sind z. B. in der Veröffentlichung "Sensors", Vol. 5, 1989, Seiten 341 bis 380 näher erläu­ tert. Die dort offenbarten, weitgehend magnetostriktions­ freien Schichten, die z. B. aus einer speziellen Ni-Fe- Legierung (Permalloy) oder aus einer speziellen NiCo- Legierung bestehen, zeigen jedoch nur einen verhältnis­ mäßig geringen magnetoresistiven Effekt Mr von etwa 2 bis 3%. Dabei gilt: Mr = (R(0) - R(B))/R(0), wobei R(B) der elektrische Widerstand im Magnetfeld mit der Induktion B und R(0) der Widerstand bei fehlendem Magnetfeld sind. Bisweilen wird der magnetoresistive Effekt auch folgender­ maßen definiert:
Mr′ = (R(0) - R(B))/R(B); d. h.: Mr = Mr′/(1+Mr′).
Man ist an einer Erhöhung dieses magnetoresistiven Effek­ tes interessiert, um so Sensoren mit verbessertem Signal- Rausch-Verhältnis realisieren und den Einsatzbereich ent­ sprechender Sensoren erweitern zu können. Eine Erhöhung des magnetoresistiven Effektes konnte bei einigen Mehr­ schichtsystemen wie z. B. Co/Cu, Co/Ru, Co/Cr oder Fe/Cr nachgewiesen werden (vgl. z. B. "Appl. Phys. Lett.", Vol. 58, No. 23, 10.6.1991, Seiten 2710 bis 2712 oder "Phys. Rev. Lett.", Vol. 64, No. 19, 7. 5. 1990, Seiten 2304 bis 2307). Hierbei wird von der Tatsache ausgegangen, daß eine nicht-magnetische Zwischenschicht zwischen Schichten aus ferromagnetischem Material eine Austauschkopplung (Aus­ tausch-Wechselwirkung) bewirken kann. Diese Kopplung hängt von der Dicke der Zwischenschicht ab und bedingt Dicken im Nanometerbereich. Die Austauschkopplung ist dabei für das magnetische Verhalten ("ferromagnetisch" oder "antiferro­ magnetisch") des Mehrschichtsystems verantwortlich.
Dementsprechend können Mehrschichtsysteme mit unterschied­ licher Richtung der Polarisation der übereinanderliegenden ferromagnetischen, durch nicht-magnetische Schichten ge­ trennten Einzelschichten einen erhöhten magnetoresistiven Effekt Mr zeigen. Dieser Effekt, der für geschichtete Cu- Co-Dünnfilmstrukturen bei Raumtemperatur bis zu 40% be­ tragen kann (vgl. die genannte Literaturstelle aus "Appl. Phys. Lett." 58), wird deshalb auch als "Giant magneto resistive effect" (GMR) bezeichnet (vgl. "Phys. Rev. Lett.", Vol. 61, No. 21, 21. 11. 1988, Seiten 2472 bis 2475).
Die Beschränkung auf Multilagensysteme und die starke Ab­ hängigkeit des Effektes von der sehr geringen Dicke der magnetischen bzw. nicht-magnetischen Schichten im Nanome­ ter-Bereich stellt jedoch hohe Anforderungen an die Prä­ parationstechnik der Schichten und schränkt den Einsatz­ bereich auf entsprechende Dünnschichtstrukturen ein.
Darüber hinaus sind Untersuchungen bekannt, nach denen ein magnetoresistiver Effekt auch in beispielsweise granularen Stoffsystemen auftreten kann (vgl. "Phys. Rev. Lett.", Vol. 68, No. 25, 1992, Seiten 3745 bis 3752). Gemäß dieser sich auf das Stoffsystem Cu-Co erstreckenden Untersuchun­ gen werden CuCo-Legierungsschichten durch simultanes Zer­ stäuben der Elemente hergestellt und durch eine anschlie­ ßende Wärmebehandlung nanokristalline (magnetische) Co- Ausscheidungen in einer (nicht-magnetischen) Cu-Matrix er­ zeugt. Der in diesen Dünnfilmen zu messende magnetoresi­ stive Effekt Mr beträgt nach der genannten Literaturstel­ le aus "Phys. Rev. Lett." 68 etwa 7% bei Raumtemperatur.
Zwar wurden wesentlich größere magnetoresistive Effekte auch bei anderen ferromagnetischen Stoffsystemen beobach­ tet. Dies trifft für Einkristalle des Stoffsystems Eu1-xGdxSe zu (vgl. "Journ. Appl. Phys.", Vol. 38, No. 3, 1. 3. 1967, Seiten 959 bis 964). Ein entsprechender Effekt zeigt sich auch in Nd0,5Pb0,5MnO3-Kristallen. Diese Kri­ stalle haben eine perowskitähnliche Struktur (vgl. die eingangs genannte Literaturstelle aus "Physica B" 155). Die in diesen Stoffsystemen zu beobachtende Änderung des elektrischen Widerstandes in Abhängigkeit von der magne­ tischen Induktion ist jedoch auf tiefe Temperaturen be­ schränkt, die deutlich unter Raumtemperatur liegen.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es deshalb, ein Material für einen magnetoresistiven Sensor anzugeben, das einen erhöhten magnetoresistiven Effekt etwa bei Raum­ temperatur zeigt.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß ein Material mit einer Zusammensetzung auf Basis von (A1)1-x(A2)xMnOz vorgesehen ist, wobei die dreiwertige Komponente A1 ein Lanthanid einschließlich Lanthan (La) oder Yttrium (Y) und die zweiwertige Komponente A2 ein Erdalkalimetall oder Blei (Pb) zumindest enthalten und 0,1 x 0,9 sowie 2,5 z 3,5 sind.
Unter einer Basis der hier genannten Zusammensetzung sei die Grundzusammensetzung mit den vier genannten Komponen­ ten verstanden. Die einzelnen Komponenten stellen dabei Hauptkomponenten dar, die gegebenenfalls durch andere Elemente zu einem geringeren Anteil (unter 50%) durch ein anderes Element aus der zu den jeweiligen Komponenten ge­ nannten Elementengruppe substituiert sein können. Insbe­ sondere lassen sich z. B. bis zu 35 Atom-% der Mn-Komponen­ te durch ein anderes Metall mit 3d-Elektronenkonfigura­ tion, vorzugsweise auch durch Cu oder durch Al, ersetzen. Für die Zusammensetzung dieser Komponente gilt dann also: Mn1-y(A3)y mit 0 < y < 0,35. Bei den 3d-Elementen handelt es sich dabei um die Elemente des Periodensystems der Ele­ mente mit den Ordnungszahlen zwischen 21 und 30 (ein­ schließlich). Außerdem können selbstverständlich in dem erfindungsgemäßen Material übliche Verunreinigungselemente mit jeweils einem Anteil unter 0,5 Atom-% vorhanden sein. Die Erfindung ist darin zu sehen, daß erkannt wurde, daß das erfindungsgemäße Material einen verhältnismäßig hohen magnetoresistiven Effekt zeigt, so daß es vorteilhaft für magnetoresistive Sensoren vorgesehen wird. Die Curie-Tem­ peratur des Sensormaterials liegt je nach Stöchiometrie der Zusammensetzung etwa bei Raumtemperatur (vgl. "Physica", Vol. 16, 1950, Seiten 337 ff.). Bei dieser Temperatur zeigt das Material ebenfalls den erwähnten elektronischen Übergang vom lokalisierten (halbleitenden), unmagnetischen zum metallisch leitenden, magnetischen Zustand (vgl. "Solid State Commun.", Vol. 82, No. 9, 1992, Seiten 693 bis 696). Die formale Mn-Valenz, welche die Leitfähigkeit und die Übergangstemperatur beeinflußt, wird durch die Anteile an der dreiwertigen A1-Komponente und der zweiwertigen A2-Komponente bestimmt. So ergibt sich beispielsweise für das Stoffsystem La-Ba-Mn-O unter der Annahme der Valenzen für 0 = -2, La = +3 und Ba = +2 eine Zusammensetzung La2/3Ba1/3MnO3, d. h. Mn = 3,33. Für die vorgesehene Verwendung in magnetoresistiven Sensoren ist vorteilhaft ein Anteil von x zwischen 10 und 90 Atom-% bzgl. des Anteils A1 + A2 (= 100 Atom-%). Einen ähnlichen Einfluß hat auch die Substitution des Mn durch andere 3d- oder 4s-Elemente, wobei bis zu 35 Atom-% der Mn-Komponente durch das andere Element ersetzt werden können. Ferner ist ein Sauerstoffgehalt mit z ≈ 3 als besonders günstig anzu­ sehen.
Besonders vorteilhaft läßt sich das Sensormaterial als Schicht auf einem Substrat durch Laserablation eines ent­ sprechenden Targetmaterials abscheiden. Diese Abscheidung kann vorzugsweise "off-axis" erfolgen.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen Materials bzw. des Herstellungsverfahrens gehen aus den jeweils abhängenden Ansprüchen hervor.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand eines Ausführungs­ beispieles noch weiter erläutert, wobei auch auf die Zeichnung Bezug genommen wird. Dabei zeigen deren Fig. 1 und 2 jeweils in einem Diagramm den relativen elektri­ schen Widerstand eines erfindungsgemäßen Materials als Funktion der Stärke eines angelegten Magnetfeldes bzw. den elektrischen Widerstand in Abhängigkeit von der Temperatur bei verschiedenen Magnetfeldverhältnissen.
Das erfindungsgemäße Sensormaterial soll allgemein eine Zusammensetzung aufweisen, die auf der Zusammensetzung (A1)1-x(A2)xMnOz basiert. Hierbei handelt es sich bei der Komponente A1 um Y oder ein Lanthanid wie z. B. La, Pr, Nd, Sm, Eu oder Dy. Die Komponente A2 soll aus der Gruppe der Erdalkalimetalle, insbesondere Mg, Ca, Sr, Ba oder aus Pb, ausgewählt sein. Die einzelnen Anteile der Komponenten sind dabei so zu wählen, daß gilt:
0,1 x 0,9, vorzugsweise 0,25 x 0,75,
und
2,5 z 3,5, vorzugsweise z 3.
Die beiden Komponenten A1 und A2 sollen dabei jeweils min­ destens ein Element aus der jeweiligen Elementengruppe aufweisen. Darüber hinaus kann die angegebene Zusammen­ setzung noch minimale Verunreinigungen mit jeweils unter 0,5 Atom-% pro Verunreinigungselement enthalten. Ausfüh­ rungsbeispiele für entsprechende Materialien sind demnach La0,67Ba0,33MnO3 oder Pr0,5Sr0,5MnO3 oder Nd0,33Ca0,67MnO3. Diese Materialien haben eine perowskit­ ähnliche Kristallstruktur und zeichnen sich durch einen erhöhten magnetoresistiven Effekt Mr von insbesondere über 10%, vorzugsweise über 50% aus. Der Effekt liegt damit deutlich höher als bei bekannten Cu/Co-Multilagensystemen.
Schichten aus dem erfindungsgemäßen Material können bei­ spielsweise durch Sputter- oder spezielle Aufdampfprozesse hergestellt werden. Besonders geeignet ist auch die Her­ stellung einer Schicht mittels Laserverdampfens, wie es zur Herstellung von metalloxidischen Supraleitermateria­ lien mit Sprungtemperaturen Tc von insbesondere über 77 K her bekannt ist (vgl. z. B. "Appl. Phys. Lett.", Vol. 53, No. 16, 17. 10. 1988, Seiten 1557 bis 1559). Entsprechende Schichten aus dem erfindungsgemäßen Sensormaterial wer­ den vorteilhaft auf Substraten abgeschieden, deren jewei­ lige kristalline Einheitszelle an die Einheitszelle des Sensormaterials angepaßte Maße hat. Besonders geeignet sind deshalb Substratmaterialien, die ebenfalls perowskit­ ähnliche Kristallstruktur haben. Entsprechende Ausfüh­ rungsbeispiele sind SrTiO3, MgO, LaAlO3, NdGaO3, MgAl2O4 oder Y-stabilisiertes ZrO2 (Abkürzung: YSZ). Daneben sind aber auch Si-Substrate geeignet, die mit einer speziellen Zwischenschicht, einer sogenannten "buffer layer", über­ zogen sind. Derartige Zwischenschichten sind ebenfalls bei der Abscheidung von Hoch-Tc-Supraleitermaterialien be­ kannt. Ein Beispiel ist das YSZ.
Als konkretes Ausführungsbeispiel sei die Abscheidung von La0,67Ba0,33MnO3 auf einem SrTiO3-Substrat ausgewählt. Als Abscheidungsverfahren ist vorzugsweise ein Laser-Verdamp­ fen (Laser-Ablation) vorgesehen (vgl. die genannte Litera­ turstelle aus Appl. Phys. Lett." 53 oder die DE-PS 38 16 192). Eine hierfür geeignete Abscheidungseinrichtung umfaßt einen Laser zum Erzeugen eines gepulsten Laser­ strahls. Mit diesem Laserstrahl muß eine vorbestimmte Energiedichte an einem Target aus dem zu ablatierenden Material zu erzeugen sein. XeCl-Excimer-Laser oder Nd-YAG- Laser können diese Forderung erfüllen. Das Material des Targets enthält dabei mindestens die drei metallischen Komponenten des herzustellenden Sensormaterials in ent­ sprechender Stöchiometrie. Insbesondere kann von einem sauerstoffhaltigen Targetmaterial ausgegangen werden.
Besonders vorteilhaft ist es, wenn in einer Beschichtungs­ kammer der Abscheidungseinrichtung das SrTiO3-Substrat be­ züglich des Teilchenstromes aus dem laserablatierten Tar­ getmaterial so angeordnet wird, daß die Normale auf der zu beschichtenden Fläche bzw. Flachseite mindestens annähernd senkrecht bezüglich der Ausbreitungsrichtung des Teilchen­ stromes ausgerichtet ist (sogenannte "Off-axis-Abschei­ dung"; vgl. z. B. "Appl. Phys. Lett.", Vol. 61, No. 26, 28. 12. 1992, Seiten 3177 bis 3180). Dabei werden in der Be­ schichtungskammer vorteilhaft besondere Verfahrensbedin­ gungen eingestellt, die eine dropletfreie Ausbildung einer Schicht des gewünschten Sensormaterials mit der perowskit­ ähnlichen Kristallstruktur auf der Substratfläche ermög­ lichen. Hierzu muß in der Beschichtungskammer ein Par­ tialdruck mindestens eines an sich beliebigen Gases zwi­ schen 10-3 mbar und 100 mbar eingestellt werden. Vorteil­ haft wird für die Abscheidung des Sensormaterials Sauer­ stoff mit einem verhältnismäßig hohen Partialdruck zwi­ schen etwa 0,2 mbar und 0,6 mbar vorgesehen. Dies ist insbesondere dann erforderlich, wenn von einem sauerstoff­ freien Targetmaterial ausgegangen wird. Ansonsten ist aber die Wahl eines O2-Partialdruckes unkritisch. Außerdem ist es vorteilhaft, wenn am Substrat eine Temperatur zwi­ schen 400°C und 1400°C eingehalten wird. Diese Tempera­ turverhältnisse können beispielsweise mittels einer Heiz­ vorrichtung gewährleistet werden, die den Substratkörper allein durch thermische Strahlung erwärmt. Gegebenenfalls kann aber auch auf eine derartige Aufheizung des Substrats verzichtet werden, oder es ist sogar eine Kühlung während des Beschichtungsvorganges bis auf Temperaturen von unter 20 K möglich.
Für eine entsprechend mit einer Wärmebehandlung hergestell­ te Schicht aus La0,67Ba0,3MnO3 auf einem SrTiO3-Substrat zeigt die in dem Diagramm der Fig. 1 wiedergegebene Kurve die Magnetfeldabhängigkeit des relativen elektrischen Wi­ derstandes Rr In dem Diagramm sind in Abszissenrichtung das angelegte (äußere) Magnetfeld der Stärke H (in kOe) und in Ordinatenrichtung der davon abhängige relative elektrische Widerstand Rr (in %) aufgetragen. Der rela­ tive elektrische Widerstand Rr ist dabei definiert als der Quotient aus dem bei einer Feldstärke H gemessenen elek­ trischen Widerstand R (H) und dem sich bei fehlendem Feld ergebenden elektrischen Widerstand R (0). Aus dem Kurvenverlauf ist eine maximale Widerstandsdifferenz dR/R des relativen elektrischen Widerstandes von etwa 55% ab­ zulesen. Diese Differenz entspricht der Größe des magneto­ resistiven Effektes Mr des erfindungsgemaß hergestellten Sensormaterials.
Der Einfluß der Meßtemperatur auf den elektrischen Wi­ derstand des La0,67Ba0,33MnO3-Sensormaterials läßt sich aus dem Diagramm der Fig. 2 ablesen. In diesem Diagramm sind in Abszissenrichtung die Meßtemperatur Tm (in K) und in Ordinatenrichtung der elektrische Widerstand R (in Ω) aufgetragen. Die mit I bezeichnete, durchgezogene Kurve ergibt sich bei fehlendem äußeren Magnetfeld H bzw. feh­ lender magnetischer Induktion B = 0 am Sensormaterial, während die punktiert eingezeichnete Kurve II bei einer magnetischen Induktion B = 5 T erhalten wird. Die größte Widerstandsdifferenz zwischen beiden Kurven, d. h. der größte relative Effekt, tritt demnach im Bereich der Meß­ temperatur Tm ≈ 290 K auf.
Dem dargestellten Ausführungsbeispiel aus dem erfindungs­ gemäßen Stoffsystem (A1)1-x(A2)xMnOz wurde das Material La0,67Ba0,33MnO3 zugrundegelegt. Ähnliche magnetoresisti­ ve Effekte werden auch beobachtet, wenn man andere Mate­ rialien für die Komponenten A1 und A2 aus den hierzu ge­ nannten Gruppen auswählt oder die für diese Komponenten gewählten Elemente partiell durch andere Elemente aus der jeweiligen Gruppe substituiert. Entsprechende Ausführungs­ beispiele sind das (La,Ce)0,67Ba0,33MnO3 oder das Y0,67(Ba,Sr)0,33MnO3.
Ferner kann vorteilhaft auch die Mn-Komponente partiell durch ein anderes Element aus der Gruppe der 3d-Elemente (Elemente mit einer Ordnungszahl zwischen 21 und 28 des Periodensystems) oder durch Cu substituiert werden. Hier­ bei sollte diese Substitution höchstens zu 35 Atom-% er­ folgen. Ein entsprechendes Ausführungsbeispiel ist das Sensormaterial (Sm0,33Ca0,67)(Mn0,8Cu0,2)O3. Selbstver­ ständlich sind auch in diesem Falle die erwähnten Substi­ tutionen für die Komponenten A1 und A2 möglich. Ein ent­ sprechendes Material zeigt ebenfalls einen erhöhten magne­ toresistiven Effekt.

Claims (8)

1. Material zur Verwendung in einem magnetoresistiven Sen­ sor, das eine perowskitähnliche Kristallstruktur besitzt und einen erhöhten magnetoresistiven Effekt zeigt, gekennzeichnet durch eine Zusammensetzung auf Basis von (A1)1-x(A2)xMnOzmit der dreiwertigen Komponente A1, ausgewählt aus der Gruppe der Lanthaniden einschließlich Lanthan (La) oder aus Yttrium (Y),
mit der zweiwertigen Komponente A2, ausgewählt aus der Gruppe der Erdalkalimetalle oder aus Blei (Pb), und mit 0,1 x 0,9 sowie 2,5 z 3,5.
2. Sensormaterial nach Anspruch 1, gekenn­ zeichnet durch eine Komponente A1 und/oder eine Komponente A2 mit mindestens zwei Elementen aus der für die Komponente A1 bzw. A2 jeweils genannten Elementen­ gruppe.
3. Sensormaterial nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Mn der Mn-Kompo­ nente durch mindestens ein zusätzliches Element A3 aus der Gruppe der Nebengruppenelemente mit 3d-Elektronenkonfigu­ ration oder mit Kupfer (Cu) oder Aluminium (Al) teilweise ersetzt ist, so daß diese Komponente die Zusammensetzung Mn1-y(A3)yhat
mit 0 < y 0,35.
4. Verfahren zur Herstellung einer Schicht aus dem Sen­ sormaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 3, da­ durch gekennzeichnet, daß das Sen­ sormaterial durch Laserablation eines entsprechenden Tar­ getmaterials auf einem Substrat abgeschieden wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch ge­ kennzeichnet, daß als Targetmaterial eine Legierung aus den metallischen Komponenten des Sensorma­ terials vorgesehen wird und die Abscheidung in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre erfolgt.
6. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch ge­ kennzeichnet, daß als Targetmaterial das oxidische Sensormaterial vorgesehen wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 6, da­ durch gekennzeichnet, daß bei der Abscheidung das zu beschichtende Substrat derart ange­ ordnet wird, daß die Normale auf seiner zu beschichtenden Oberfläche zumindest annähernd senkrecht bezüglich der Ausbreitungsrichtung des ablatierten Targetmaterials aus­ gerichtet ist.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 7, da­ durch gekennzeichnet, daß das Sub­ strat während der Abscheidung auf erhöhter Temperatur ge­ halten wird.
DE4310318A 1993-03-30 1993-03-30 Verwendung eines Materials mit perowskitähnlicher Kristallstruktur und erhöhtem magnetoresistiven Effekt sowie Verfahren zur Herstellung des Materials Expired - Fee Related DE4310318C2 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4310318A DE4310318C2 (de) 1993-03-30 1993-03-30 Verwendung eines Materials mit perowskitähnlicher Kristallstruktur und erhöhtem magnetoresistiven Effekt sowie Verfahren zur Herstellung des Materials

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4310318A DE4310318C2 (de) 1993-03-30 1993-03-30 Verwendung eines Materials mit perowskitähnlicher Kristallstruktur und erhöhtem magnetoresistiven Effekt sowie Verfahren zur Herstellung des Materials

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE4310318A1 true DE4310318A1 (de) 1994-10-06
DE4310318C2 DE4310318C2 (de) 1998-12-03

Family

ID=6484233

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE4310318A Expired - Fee Related DE4310318C2 (de) 1993-03-30 1993-03-30 Verwendung eines Materials mit perowskitähnlicher Kristallstruktur und erhöhtem magnetoresistiven Effekt sowie Verfahren zur Herstellung des Materials

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE4310318C2 (de)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0645831A1 (de) * 1993-09-29 1995-03-29 Siemens Aktiengesellschaft Magnetoresistiver Sensor unter Verwendung eines Sensormaterials mit perowskitähnlicher Kristallstruktur
WO1995035507A1 (en) * 1994-06-18 1995-12-28 The University Of Sheffield Magnetic field responsive device
EP0704917A1 (de) * 1994-09-29 1996-04-03 AT&T Corp. Verbessertes, magnetoresistives Oxydmaterial und Anordnungen, die ein solches Material enthalten
EP0864537A1 (de) * 1996-09-27 1998-09-16 Rohm Co., Ltd. Ferroelektrische material, verfahren zu seiner herstellung, halbleiterspeicheranordnung und verfahren zu seiner herstellung
DE19815399A1 (de) * 1998-04-06 1999-12-23 Max Planck Gesellschaft Widerstandsbauelement, das ein Seltenerdmanganat enthält
US6562486B2 (en) 1998-01-16 2003-05-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Exchange coupling film, magnetoresistance effect device, magnetoresistance effective head and method for producing exchange coupling film

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19932444C1 (de) * 1999-07-12 2001-02-01 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung einer texturierten Schicht aus oxidischem Material auf einem Substrat und Verwendung des Verfahrens
DE102004062474A1 (de) 2004-03-23 2005-10-13 Siemens Ag Vorrichtung zur potenzialfreien Strommessung

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3816192A1 (de) * 1988-05-11 1989-11-23 Siemens Ag Verfahren zur herstellung einer schicht aus einem metalloxidischen supraleitermaterial mittels laser-verdampfens

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3816192A1 (de) * 1988-05-11 1989-11-23 Siemens Ag Verfahren zur herstellung einer schicht aus einem metalloxidischen supraleitermaterial mittels laser-verdampfens

Non-Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
GB-Buch: A.F. Wells, Structural inorganic chemistry, 5. Aufl., Oxford 1984, S. 584-589 und S. 597-600 *
GB-Buch: Magnetic Oxides, ed. D.J. Craik, Vol. 1, 477-479, London 1975 *
NL-Z: Physica 16, 1950, 337-349 *
NL-Z: Physica B 155, 362-365 (1989) *
US-Z: Appl.,Phys.Lett. 53 (1988) 1557-1559 *
US-Z: Appl.Phys.Lett. 58 (1991) 2710-2712 *
US-Z: Appl.Phys.Lett. 61 (1992) 3177-3180 *
US-Z: J.Appl.Phys. 38 (1967) 959-964 *
US-Z: Journal of metals, März 1977, S. 61-63 (Verfasser S. Jin) *
US-Z: Phys.Rev. 100, 545-563 (1955) *
US-Z: Phys.Rev.Lett. 61 (1988) 2472-2475 *
US-Z: Phys.Rev.Lett. 64 (1990) 2304-2307 *
US-Z: Phys.Rev.Lett. 68 (1992) 3745-3752 *
US-Z: Solid state Comm. 82 (1992) 693-696 *

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0645831A1 (de) * 1993-09-29 1995-03-29 Siemens Aktiengesellschaft Magnetoresistiver Sensor unter Verwendung eines Sensormaterials mit perowskitähnlicher Kristallstruktur
DE4425356A1 (de) * 1993-09-29 1995-03-30 Siemens Ag Magnetoresistiver Sensor unter Verwendung eines Sensormaterials mit perowskitähnlicher Kristallstruktur
DE4425356C2 (de) * 1993-09-29 1998-07-02 Siemens Ag Magnetoresistiver Sensor unter Verwendung eines Sensormaterials mit perowskitähnlicher Kristallstruktur
WO1995035507A1 (en) * 1994-06-18 1995-12-28 The University Of Sheffield Magnetic field responsive device
US5886523A (en) * 1994-06-18 1999-03-23 University Of Sheffield, The Western Bank Magnetic field responsive device having giant magnetoresistive material and method for forming the same
EP0704917A1 (de) * 1994-09-29 1996-04-03 AT&T Corp. Verbessertes, magnetoresistives Oxydmaterial und Anordnungen, die ein solches Material enthalten
EP0864537A1 (de) * 1996-09-27 1998-09-16 Rohm Co., Ltd. Ferroelektrische material, verfahren zu seiner herstellung, halbleiterspeicheranordnung und verfahren zu seiner herstellung
EP0864537A4 (de) * 1996-09-27 2001-07-11 Rohm Co Ltd Ferroelektrische material, verfahren zu seiner herstellung, halbleiterspeicheranordnung und verfahren zu seiner herstellung
US6562486B2 (en) 1998-01-16 2003-05-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Exchange coupling film, magnetoresistance effect device, magnetoresistance effective head and method for producing exchange coupling film
DE19815399A1 (de) * 1998-04-06 1999-12-23 Max Planck Gesellschaft Widerstandsbauelement, das ein Seltenerdmanganat enthält

Also Published As

Publication number Publication date
DE4310318C2 (de) 1998-12-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69404267T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines magnetoresistives Material enthaltenden Gegenstands
DE69522304T2 (de) Film mit Austauschkopplung und magnetoresistives Element
DE69130351T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines GMR Gegenstandes
DE3854238T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines supraleitenden Elements.
DE4425356C2 (de) Magnetoresistiver Sensor unter Verwendung eines Sensormaterials mit perowskitähnlicher Kristallstruktur
DE4408274C2 (de) Magnetoresistenzeffekt-Element
EP0302354B1 (de) Verfahren zur Herstellung eines schichtartigen Aufbaus aus einem oxidkeramischen Supraleitermaterial
DE3854754T2 (de) Supraleitende Schaltungen aus Keramik und Verfahren zu ihrer Herstellung.
DE2827429A1 (de) Magnetische duennfilmstruktur mit ferro- und antiferromagnetischem austausch- vorspannungsfilm
DE3883422T2 (de) Verfahren und Vorrichtung eines dünnen Films mit einer grossen Oberfläche durch Zerstäubung aus einer Verbindung.
DE3886586T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer dünnen Schicht aus supraleitendem Mischoxid.
DE3855305T3 (de) Schichten von Supraleiteroxyden mit hohem Tc und Verfahren zu deren Herstellung
DE69428227T2 (de) Weichmagnetischer Mehrschichtfilm für einen Magnetkopf
DE4310318C2 (de) Verwendung eines Materials mit perowskitähnlicher Kristallstruktur und erhöhtem magnetoresistiven Effekt sowie Verfahren zur Herstellung des Materials
DE4324661C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Materials mit erhöhtem Magnetowiderstand und Verwendung des so hergestellten Materials
DE68923325T2 (de) Josephson-Einrichtung.
DE19622040A1 (de) Stark magnetoresistives Element und Verfahren zu dessen Herstellung
DE3886429T2 (de) Verfahren zum Herstellen einer supraleitenden Dünnschicht.
DE69119886T2 (de) Oxidischer supraleiter
DE3018510C2 (de) Josephson-Übergangselement
DE69113010T2 (de) Artikel mit supraleiter/isolator Lagenstruktur und Verfahren zur Herstellung des Artikels.
WO2009146797A1 (de) Inhomogene verbindungen mit hohem magnetwiderstand, ihre herstellung und verwendung
DE3889015T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer supraleitenden Schaltung.
DE3822905C2 (de)
EP0330899B1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Schicht aus einem metalloxidischen Supraleitermaterial mit hoher Sprungtemperatur und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
D2 Grant after examination
8320 Willingness to grant licences declared (paragraph 23)
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee