DE4231851C2 - Spiegeloberflächen-Eigenschaftstestverfahren und -Vorrichtung - Google Patents
Spiegeloberflächen-Eigenschaftstestverfahren und -VorrichtungInfo
- Publication number
- DE4231851C2 DE4231851C2 DE4231851A DE4231851A DE4231851C2 DE 4231851 C2 DE4231851 C2 DE 4231851C2 DE 4231851 A DE4231851 A DE 4231851A DE 4231851 A DE4231851 A DE 4231851A DE 4231851 C2 DE4231851 C2 DE 4231851C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- series
- mirror
- fringe
- light
- interference
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000010998 test method Methods 0.000 title description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 53
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 38
- 238000013519 translation Methods 0.000 claims description 8
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 7
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 description 13
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 12
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 11
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 10
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 8
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 2
- 235000010678 Paulownia tomentosa Nutrition 0.000 description 2
- 244000153888 Tung Species 0.000 description 2
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 description 2
- 240000001879 Digitalis lutea Species 0.000 description 1
- 240000008881 Oenanthe javanica Species 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007516 diamond turning Methods 0.000 description 1
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 238000011326 mechanical measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 238000004204 optical analysis method Methods 0.000 description 1
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000011410 subtraction method Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/005—Testing of reflective surfaces, e.g. mirrors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf optische Sy
steme und insbesondere auf ein Verfahren und eine Vor
richtung zum Testen der optischen Qualität von asphäri
schen Spiegeln. Die Erfindung bezieht sich weiterhin auf
eine optische Technik zum Kartographieren der Oberflä
chendefekte (Fehler) von sphärischen oder nicht-kreissym
metrischen Spiegeln.
Hochqualitative reflektierende Spiegel werden in einer
Vielzahl von fortschrittlichen optischen Anwendungen ver
wendet, wie zum Beispiel Bildscannern (Abtastern) oder
Sensoren, Bildvervielfältigung oder Bilddigitalisie
rungssystemen. In hochauflösenden optischen Systemen müs
sen die Spiegel hochqualitative optische Oberflächen be
sitzen und sie müssen sehr genau ausgerichtet werden, um
eine gewünschte hohe Auflösung oder hohe Bildregi
strierung (Ausrichtung) vorzusehen. Daher ist es notwen
dig, Herstellungsverfahren für Spiegel mit sehr genau de
finierten Fokalmustern (Brennmustern) mit extrem kleinen
Zonalen oder Oberflächendefekten vorzusehen, und Spiegel
vorzusehen, die in der Lage sind, eine hohe Genauigkeit
aufweisende Ausrichtung innerhalb eines optischen Systems
zu erhalten. Der Ausrichtungsvorgang kann Systemausrich
tung umfassen, könnte aber auch Anfangsausrichtung für
Spiegel innerhalb einer Montagestruktur zum späteren Ge
brauch umfassen.
Wenn flache, kreisförmige oder kreisförmig symmetrische
Spiegel verwendet werden, ist es oft einfach, die Spiegel
auszurichten durch einfaches Verwenden einer mechanischen
Messung des Brennpunktes (Fokus) des Spiegels. Die Größe
und kreisförmige Krümmung solcher Spiegel ist leicht zu
messen und von diesen ist der Brennpunkt oder die Achse
auch leicht zu bestimmen. Lichtstrahlen können auch von
der Spiegeloberfläche reflektiert werden, und das re
flektierte Licht beobachtet werden, um einen gemeinsamen
Schnittpunkt zu bilden, der verwendet wird zum Skizzieren
von vorbestimmten Mustern. Eine andere Methode ist es
einen Spiegel zu drehen, während ein kollimierter Licht
strahl oder ein Bild reflektiert wird und durch Einstel
len der Spiegeldrehachse, bis ein reflektiertes Bild sta
tionär ist. Eine Mehrzahl von interferometrischen Techni
ken ist verfügbar, die einfallende und reflektierte La
serlichtstrahlen und Bilder verwenden. Wenn jedoch mit
asphärischen oder parabolischen oder komplexeren geome
trischen Formen und versetzten Spiegeln umgegangen wird,
arbeiten interferometrische Verfahren nicht gut.
Näheres zum Stand der Technik befindet
sich beispielsweise in der Patentschrift
DD 2 34 490 A1, die eine Anordnung
zur optoelektronischen Verzeichnungsmessung
von optisch abbildenden Systemen beschreibt.
Viele der komplexeren asphärischen Spiegel werden mit ho
hen Genauigkeiten (Toleranzen) hergestellt, und zwar un
ter Verwendung von speziellen Diamantdrehwerkzeugen und
Polierprozessen. Unglücklicherweise hinterlassen diese
Werkzeuge und Techniken oft kleine Bearbeitungsmale oder
Oberflächenstörstellen und Verschlechterungen, die über
mäßige Lichtstreuung oder falsche Reflektionen erzeugen
und die Verwendung von hochauflösenden interferometri
schen Laservorrichtungen unmöglich machen. Zur gleichen
Zeit sind Zonaldefekte in einigen asphärischen Spiegeln
in ihrer Natur von einer solchen Größe und Unregelmäßig
keit, daß interferometrische Techniken schwer betroffen
und häufig unbrauchbar sind.
Bei einem Verfahren zur Spiegelausrichtung wird angenom
men, daß jeder Zonalfehler konzentrisch oder symmetrisch
um die optische Mittelachse ist, wenn die Ausrichtung
perfekt ist. Ein Interferogramm wird verwendet zum De
tektieren oder Fokussieren einer Spiegelzone, die dann
zur Einstellung der optischen Achse verwendet wird. In
ähnlicher Weise können Ronchi-Tests verwendet werden, um
Muster, die über eine Spiegelzone hinweggehen, zu finden.
Jedoch bei Bearbeitungsmalen und anderen Oberflächende
fekten erweist sich die Zonalsymmetrieannahme als falsch,
und die Ausrichtungstechniken schlagen fehl, es sei denn,
daß zusätzliche Information über die Oberflächenver
änderungen vorgesehen werden kann.
Asphärische Spiegel und Spiegel mit komplexen Oberflä
chenformen werden für viele fortschrittliche Systeme ver
wendet. Daher wird ein Verfahren und eine Vorrichtung
benötigt zum Vorsehen von hohe Genauigkeit aufweisende
Messungen der optischen Qualität und Fokal- oder Brenn
eigenschaften solcher Spiegel. Es ist auch für jede op
tische Technik wünschenswert mit einem Minimum an Kosten
und Komplikationen verwendbar zu sein, während sie leicht
zur automatisieren ist, für effizientere Spiegelver
arbeitung.
In Hinsicht auf die Einschränkungen der Spiegeltest- und
Ausrichtungsverfahren im Stand der Technik ist es ein
Zweck der Erfindung, eine neue Technik zum Messen der op
tischen Qualität von asphärischen Spiegeln vorzusehen.
Ein anderer Zweck der Erfindung ist es, ein hochgenaues
Verfahren zum Ausrichten von asphärischen und geometrisch
komplexen Spiegeln vorzusehen.
Es ist ein Vorteil der Erfindung, daß ein hochgenaues und
hochauflösendes Spiegeltestverfahren mit einem Minimum an
Komplexität vorgesehen ist.
Ein anderer Vorteil der Erfindung ist, daß sie sich zur
Automatisierung von einigen Oberflächentestverfahren und
Ausrichtungsvorgängen eignet.
Diese und andere Zwecke, Ziele und Vorteile werden rea
lisiert in einem Verfahren gemäß Anspruch 1 und einer
Vorrichtung gemäß Anspruch 11 zum Te
sten und Analysieren der optischen Oberflächeneigen
schaften von Spiegeln, in der ein kreuzraster- oder
kreuzgitterartiges Ronchi-Gitter von vorbestimmter und im
wesentlichen einheitlicher Periodizität angeordnet ist
entlang einer vorbestimmten Beobachtungsachse und zwar
zum Analysieren der Spiegeloberfläche. Die Periodizität
wird bestimmt durch die für die Anwendung interessante,
verwendete Wellenlängen, sie ist aber typischerweise ein
Bruchteil eines Millimeters. Die Beobachtungsachse sollte
zumindest annähernd die optische Spiegelachse sein, was
durch Verwendung verschiedener Ausrichtungstechniken er
reicht werden kann. Bei der Verwendung eines Projektions
selements sollte Licht mit einer vorbestimmten Frequenz
reflektiert werden von der Spiegeloberfläche, und zwar
entlang der Beobachtungsachse, und zwar von hinten durch
das Gitter um ein rasterartiges Interferenz streifen- oder
Fransenmuster an einer Beobachtungspupille durch das Zu
sammenwirken mit dem Gitter zu erzeugen. Ein Abtastele
ment wird verwendet, um das Streifenmuster an vorbestimm
ten Koordinatenstellungen abzutasten, zur Bestimmung ei
ner relativen Interferenzstreifenzahl für jede
Interferenzstreifenlinie im Muster, und dann zum Erzeugen
von Zernike-Koeffizienten entsprechend dem Streifenmu
ster. Das Streifenmuster wird analysiert zum Bestimmen
der Zonal- und Fokaleigenschaften (Defekte) der Spiege
loberfläche, und zwar durch Analyse der seitlichen Ver
setzung der Streifenlinien von der optischen Achse. Die
Zernike-Koeffizienten werden in herkömmlicher Beziehung
verwendet, zum Rekonstruieren der Spiegeloberflächenei
genschaften.
Das Licht wird vorgesehen durch Positionieren eines
lichtreflektierenden Elements transvers zur Beobach
tungsachse, und zwar zwischen dem Spiegel und dem Gitter,
das mindestens eine optische lichtreflektierende Ober
fläche so angeordnet besitzt, daß sie Licht gegen den
Spiegel reflektiert und im wesentlichen durchlässig ist
für licht reflektiert vom Spiegel. Das Reflexionselement
wird beleuchtet von der Seite, die dem Spiegel zugerich
tet ist, und zwar von einer Quelle, beispielsweise einem
Diodenlaser, der mit einer bestimmten Frequenz arbeitet.
Die Streifenzahl jeder Streifenlinie wird geschätzt an
einer Vielzahl von Koordinatenstellen entlang einer Serie
von gemeinsamen horizontalen und dann gemeinsamen verti
kalen Positionen unter Verwendung einer Monomserie, und
zwar zum Darstellen einer Streifenzahl an jeder Position.
Die Serien- oder Reihenkoeffizienten werden abgeleitet
unter Verwendung einer Vielzahl von erzeugten Serien und
bekannten mathematischen Beziehungen. Die abgeleiteten
Serienkoeffizienten werden verwendet zur Bestimmung der
entsprechenden Zernike-Koeffizienten.
In weiteren Aspekten der Erfindung wird ein Subtrak
tionselement verwendet, um eine Differenz zwischen den
Monom-Serien benachbarter Streifenlinien zu bilden, und
zwar vor dem Auflösen für eine relative Interferenzstrei
fenzahl. Diese Subtraktion beseitigt Fehler, die durch
ein Verfehlen des genauen Ausrichtens der Interferenz
streifenlinien mit der entsprechenden Spiegelachse auf
treten kann und ermöglicht eine verbesserte
Hochgeschwindigkeitsspiegelanalyse.
In weiteren Ausführungsbeispielen der Erfindung werden
die Interferenzstreifenmuster übertragen, und zwar unter
Verwendung einer oder mehrerer Linsen, wie zum Beispiel
einer Null-Linsenanordnung, und zwar an ein Bildverarbei
tungs- oder Digitalisierungselement, wie zum Beispiel
eine CCD-artige Kamera oder einem Bildabtaster (Scanner).
Das Interferenzstreifenmuster wird digitalisiert und
elektronisch abgetastet zum Vorsehen einer digitalen Dar
stellung der Konturen der Intereferenzstreifenlinien. Das
abgetaste oder elektronische Bild wird verwendet von ei
nem Indexierungselement zum Errechnen der Streifenzahl an
einer Vielzahl von Koordinatenstellungen entlang der Wege
von gemeinsamen horizontalen und gemeinsamen vertikalen
Positionen unter Verwendung von Monom-Seriendarstellun
gen. Die Koeffizienten für die erzeugte Vielzahl von Mo
nom-Serien unter Verwendung von algebräischen Beziehungen
und entsprechenden Zernike-Koeffizienten.
In einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung
wird eine digitale Berechnungseinheit, wie zum Beispiel
ein Computer verwendet zur Ableitung der Interferenz
streifenzahl und Bestimmung der Zernike-Koffizienten. Zur
gleichen Zeit werden die resultierenden Zernike-Koeffi
zienten verwendet, um eine digitale Darstellung der Spie
geloberfläche zu erzeugen, die weiterhin verwendet werden
kann, um eine visuelle Darstellung der Spiegeloberfläche
zu bilden. Die visuelle Darstellung kann zum Ansehen prä
sentiert werden unter Verwendung einer Präsentationssein
richtung, wie zum Beispiel einem Videobildschirm oder ei
nem Drucker.
Zusätzlich kann die digitale Berechnungs- und Verarbei
tungseinrichtung verbunden werden, und zwar zum Zusam
menwirken mit einem oder mehreren Verarbeitungssteuerern,
die wiederum gekoppelt sind mit Positionstranslations- oder
Versetzungselementen, die verbunden sind mit dem zu
testenden Spiegel und jeder Fokussier- und Abtasteinrich
tung. Dies ermöglicht, das Automatisieren des Beobachtens
und Abtastens der Spiegeloberfläche. Der Computer oder
die Verarbeitungssteuerer können vorprogrammiert werden,
um ausgewählte Positionsversetzungsbefehle vorzusehen,
und zwar zum bewegbaren Anbringen der Einrichtungen für
den Spiegel. Die Interferenzstreifeninformation kann auch
für späteres Wiederaufrufen oder Analysieren gespeichert
werden.
Die neuen Merkmale der vorliegenden Erfindung können bes
ser verstanden werden durch die Beschreibung zusammen mit
der Zeichnung, in der gleiche Bezugszeichen durchgehend
gleiche Elemente bezeichnen. In der Zeichnung zeigt:
Fig. 1 eine Übersicht einer Vorrichtung zum Testen der
optischen Qualität und Oberflächeneigenschaften
eines asphärischen Spiegels, die gemäß der vor
liegenden Erfindung konstruiert ist und arbeitet;
Fig. 2 ein beispielhaftes Raster- oder Gittermuster das
in der Vorrichtung gemäß Fig. 1 zur Beobachtung
von Spiegeloberflächen verwendet wird;
Fig. 3 ein beispielhaftes Interferenzstreifen- oder Fran
senmuster, hergestellt durch die Vorrichtung ge
mäß Fig. 1 während des Beobachtens einer im we
sentlichen perfekten Spiegeloberfläche;
Fig. 4 ein beispielhaftes Interferenzstreifenmuster, her
gestellt durch die Vorrichtung gemäß den Fig. 1
und 2 während des Beobachtens einer fehlerhaften
Spiegeloberfläche;
Fig. 5 eine Anwendung einer optischen Analyse auf das In
terferenzstreifenmuster der Fig. 3 und 4;
Fig. 6 ein Automatisierungssystem zum Durchführen des
Verfahrens der vorliegenden Erfindung;
Fig. 7a und 7b beispielhafte Oberflächenkarten oder Kontu
ren eines sphärischen Spiegels, hergestellt durch
die vorliegende Erfindung, und zwar mit und ohne
Interferenzstreifensubtraktion;
Fig. 8a und 8b beispielhafte Oberflächenkarten oder Kontu
ren eines parabolischen Spiegels, hergestellt
durch die vorliegende Erfindung, und zwar mit und
ohne die Interferenzstreifensubtraktion; und
Fig. 9a, 9b und 9c beispielhafte Oberflächenkonturprofile
für einen zweiten parabolischen Spiegel unter
Verwendung von drei verschiedenen Bezugsradius
werten.
Die vorliegende Erfindung sieht ein Verfahren und eine
Vorrichtung zum sehr genauen und effizienten Testen der
optischen Qualität oder Oberflächenkonturen und Eigen
schaften von Spiegeln, insbesondere von asphärischen
Spiegeln vor. Die Erfindung erreicht dies durch Proji
zieren von Licht auf die abzutastende Spiegeloberfläche
und dessen Beobachten durch ein gitter- oder rasterarti
ges Ronchi-Gitter (Beugungsgitter, grating). Das Ronchi-Gitter
ist entlang einer Beobachtungsachse angeordnet,
und zwar relativ nahe zum Brennpunkt (Fokus) des Spiegels
und erzeugt ein gitter- oder rasterartiges Interferenz
streifenmuster. Das Streifenmuster wird analysiert zum Be
stimmen der Zonal- und Fokaleigenschaften (Defekte) der
Spiegeloberfläche, und zwar durch Analysieren der seitli
chen Versetzung der Interferenzstreifenlinien von der op
tischen Achse. Um Ausrichtungsfehler während der Analse
zu reduzieren, wird jede Interferenzstreifenlinie subtra
hiert von der Linie mit der nächst höheren Ordnung, und
diese Differenz wird verwendet zum Bestimmen einer Serie
von Monom-Koeffizienten, aus denen die Zernike-Koeffi
zienten erhalten werden.
Die für die Testtechnik der vorliegenden Erfindung ver
wendete Vorrichtung wird in allgemein schematischer Form
in Fig. 1 dargestellt. In Fig. 1 ist ein optisches Meß
system 10 zur Bestimmung der optischen Oberflächeneigen
schaften für einen Spiegel 12 gezeigt. Der Spiegel 12
kann eine Vielzahl von sphärischen, asphärischen oder
nicht-kreisförmig symmetrischen Spiegelbauarten umfassen,
die dem Fachmann bekannt sind. Der in Fig. 1 dargestellte
Spiegel ist zum Zwecke der Klarheit und nicht als eine
Einschränkung der Erfindungstechnik dargestellt. Obwohl
das Verfahren der Erfindung für kreisförmig symmetrische
oder flache Spiegel verwendet werden kann, wird ein grö
ßerer Vorteil erreicht bei der Verwendung mit komplexen
Spiegeloberflächenformen.
Ein lineares Ronchi-Gitter 14 ist angeordnet entlang ei
ner Beobachtungsachse 16 zwischen einem Beobachtungs
element 18 und dem Spiegel 12. Das Beobachtungselement 18
kann ein ohne Hilfsmittel versehenes menschliches Auge
zum anfänglichen Ausrichten der Vorrichtung 10 umfassen.
Ein ohne Hilfsmittel versehenes Auge kann typischerweise
leicht die Grundinterferenzstreifenverformungen mit einem
Abstand beim Beobachten von Gittern detektieren. Jedoch,
für hochgenaue Ausrichtung umfaßt das Beobachtungselement
mindestens ein Linsensystem zum Beobachten feiner Details
der Interferenzstreifenformen und im allgemeinen eine
elektro-optische Einrichtung, wie zum Beispiel eine la
dungsgekoppelte Kamera (CCD-type camera) oder ein Video
system. Die letztere Art der Einrichtung ermöglicht zum
einen verbesserte Beobachtung und zum anderen Aufnehmen
von Spiegeleigenschaften, die mit dem Spiegel 12 katalo
gisiert werden können.
Um mit der Erfindung hochgenaue Ergebnisse zu erzielen,
ist es wünschenswert, den Spiegel mit der Beobachtungs
achse und dem verwendeten Raster genau auszurichten. Eine
bevorzugte Spiegelausrichtungstechnik ist in dem US-Pa
tent Ser. No. 07/676 013 offenbart, in dem ein kreisför
miges Ronchi-Gitter in einer ähnlichen Vorrichtung ver
wendet wird. Daher kann ein solches Ausrichtungsschema
leicht aufgenommen werden in der Vorrichtung der vor
liegenden Erfindung.
Die präzise Größe des Rastergitters 14 und des Reflektors
24 hängen von ihrer Stellung entlang des Spiegelbrennweges
und der Größe des Spiegels oder reflektierten Lichtmu
sters ab, wie es dem Fachmann bekannt ist. Für einen
Spiegel mit einem Durchmesser oder einer Höhe in der Grö
ßenordnung von 150 mm (ungefähr 6 inch) und einem Krüm
mungsradius in der Größenordnung von 610 mm (ungefähr 24
inch) wird typischerweise ein Raster von ungefähr 25 mm
(1 inch) oder weniger im Durchmesser verwendet.
Eine optische Quelle 20, wie zum Beispiel, aber nicht
darauf beschränkt, ein Diodenlaser wird verwendet zum
Projizieren eines Beleuchtungsstrahls 22 auf einen op
tischen Reflektor oder ein Reflexionselement 24 und auf
den Spiegel 12. Der Reflektor 24 kann mehrere bekannte
Elemente aufweisen, wie zum Beispiel eine optische Ebene,
einen Strahlenteiler, ein Prisma oder eine andere Ver
bundreflexionsvorrichtung. Die optische Quelle 20 ist so
ausgewählt, daß sie typischerweise spektral reines und
kohärentes Licht vorsieht, und zwar zum Vorsehen einer
stark mittig fokussierten Lichtquelle und um Streuung zu
reduzieren. Aus diesem Grund wird eine laserartige Licht
quelle vorgezogen für diese Anwendung, aber auch andere
hochkollimierte optische Quellen können sich als geeignet
erweisen zum Erreichen der Vorteile der Erfindung.
Die Lichtquelle 20 wird auch so ausgesucht, daß sie bei
einer vorbestimmten Frequenz oder in einem erwünschten
Frequenzbereich arbeitet, und zwar abhängig von der An
wendung des Spiegels 12. Der Fachmann wird leicht erken
nen, daß die optische Frequenz basiert auf den optischen
Eigenschaften des Spiegels oder seinen vorgesehenen An
wendungen, dem erwünschten Genauigkeitspegel, und den zu
messenden Entfernungen oder Winkeln. Zur gleichen Zeit
werden jeder der in dem Meßsystem 10 verwendeten reflek
tierenden oder teilweise reflektierenden Überzüge, wie
zum Beispiel auf dem Reflektor 24 so ausgewählt, daß sie
die Wirkungsweise bei der Frequenz der optischen Quelle
20 verbessern.
Ein Verfahren der optischen Analyse würde ein lineares
Gitter verwenden, welches eine Serie von Linien oder
Drähten aufweist, die sich parallel zueinander und in ei
ner einzigen axialen Richtung erstrecken. Dies sieht ein
Interferenzstreifenmuster vor, das entlang oder für eine
axiale Richtung analysiert werden kann. Das Raster wird
dann umorientiert oder gedreht, und zwar senkrecht zu der
ursprünglichen Einstellung und die Analyse wird wieder
holt. Jedoch hat sich bei der Genauigkeit der Auflösung
von Interesse ergeben, daß die Wiederausrichtung eines
Gitters oder die Verwendung eines zusätzlichen Gitters
Ergebnisse liefert, die weniger als befriedigend sind und
eine minimale Wiederholbarkeit besitzen.
Daher wird in der vorliegenden Erfindung ein neues kreuz
rasterartiges Gitter verwendet. Das Gitter 14 ist als ein
kreuzrasterartiges Ronchi-Phasengitter ausgebildet, das
zwei Serien von Linien oder Drähten verwendet, die sich
parallel zueinander erstrecken, wobei jede Serie senk
recht zu der anderen angeordnet ist. Das Resultat ist ein
echtes "Raster"-Muster, das auch angesehen werden kann
als eine Reihe von quadratischen Öffnungen. Die Rasterli
nien sind mit Abstand voneinander angeordnet, und zwar
mit einer Periodizität, die bestimmt wird, durch die Fre
quenz des verwendeten Lichts.
Ein beispielhaftes Gitter zum Arbeiten bei einer Licht
wellenlänge von 680 nm besitzt eine Periodizität von un
gefähr 0,333 mm oder weniger im Abstand zwischen den Li
nien. Solch geringer Rasterabstand wird im allgemeinen
benötigt, um genau die Oberflächenveränderungen zu karto
graphieren, die in ihrer vertikalen Ausmessung recht
klein sind, jedoch einen großen Einfluß auf die Spiegel
qualität besitzen. Das Rastergitter 14 ist über die Beob
achtungsachse 16 in dem allgemeinen optischen Brennweg
des Spiegels 12 angeordnet, und zwar zwischen dem Reflek
tor 24 und irgendeinem Beobachtungselement 18, weg von
dem Spiegel 12. Das quadratische Gitter 14 wird im we
sentlichen senkrecht zu der Beobachtungsachse angeordnet,
die eine Schätzung der optischen Achse des Spiegels 12
repräsentiert.
Eine Vielzahl von rasterartigen Gittern kann verwendet
werden, um die vorliegende Erfindung zu realisieren, aber
einige können sich als geeigneter erweisen als andere für
die sehr hochgenaue Ausrichtung. Verschiedene Arten von
Gittern werden in der Technik verwendet, und viele sind
hilfreich beim Erreichen der Vorteile der vorliegenden
Erfindung. Jedoch wurde herausgefunden, daß die lambda/2
geätzte Art des Gitters ein einen hohen Kontrast aufwei
sendes hochsensitives Interferenz streifen erzeugendes
Element vorsieht. Tief geätzte oder schwarz und weiße
Ronchi-artige Gitter besitzen hohe Frequenzkomponenten,
die in einem reduzierten Kontrast bei der Anordnung der
Erfindung resultieren. Daher wird ein Halb-Wellen, für
die Lichtquellenwellenlänge geätztes Gitter bevorzugt.
Der Eingangslichtstrahl 22 reflektiert von dem Reflektor
24 hinter dem Rastergitter 14 und trifft die Oberfläche
des Spiegels 12, wo er einen verallgemeinerten reflek
tierten Strahl bildet, dessen optischen Eigenschaften von
der Oberfläche des Spiegels 12 abhängen, der dem reflek
tierten Licht Phasen- und Richtungsveränderungen hinzu
fügt. Dieser Lichtstrahl wird nach außen entlang der op
tischen Achse des Spiegels 12 als ein Lichtstrahl 26 re
flektiert, wo es durch das Gitter 14 aufgefangen wird und
nachfolgend durch das Beobachtungselement 18 beobachtet
wird. Das Kreuzgitter 14 wirkt zusammen mit dem re
flektierten Lichtstrahl 26 zum Erzeugen rasterartiger In
terferenz- oder Streifenmustern, wie dies in den Fig. 3
und 4 dargestellt ist. Die Fransenmuster, dargestellt in
den Fig. 3 und 4 werden erhalten unter Verwendung eines
beispielhaften Ausführungsbeispiels mit den oben genann
ten physikalischen Ausmessungen (Dimensionen) und durch
Verwendung von Bilddigitalisierung und elektronisches
Aufzeichnen. Die Figuren repräsentieren Messungen der In
terferenz eines 0,33 mm periodischen Multiachsen
drahtgitters mit dem reflektierten Licht eines Spiegels
mit einem Durchmesser von 6 inch und einer ungefähren
Brennweite von ungefähr 24 inch. Eine Lichtwellenlänge
von ungefähr 600 nm wurde verwendet.
Gemäß Fig. 5 werden das Zusammenwirken des reflektierten
Lichts mit dem Kreuzgitter und die resultierenden Inter
ferenzstreifen beschrieben, in Form von relativer Posi
tion eines über lagerten Bildes innerhalb einer Beobach
tungspupille. Die reflektierte Lichtwellenfront, die sich
durch die Pupille bewegt, besitzt Koordinaten X und Y,
während die Pupille selbst radiale Koordinaten L und Θ
besitzt, die mit der Wellenfront in Beziehung stehen,
und zwar gemäß:
X = L cos Θ
und
Y = L sin Θ.
Das Raster oder Gitterbild auf der beobachteten Pupille,
zum Beispiel beobachtet durch eine Kamera, besitzt axiale
Koordinaten U und V, die idealerweise mit der Wellenfront
und Pupillenachse ausgerichtet werden müssen.
Wenn das Gitter nahe dem Fokus oder Brennpunkt des Spie
gels 12 angeordnet ist, kann der Schatten des Gitters auf
der Beobachtungspupille für die Wellenfront W(X,Y) ausge
drückt werden durch:
wobei:
R der Krümmungsradius ist;
Hm die Spiegelhöhe ist;
p die Periode des Gitters in festen Einheiten (hier in mm) ist;
n die Interferenzstreifenzahl ist.
Hm die Spiegelhöhe ist;
p die Periode des Gitters in festen Einheiten (hier in mm) ist;
n die Interferenzstreifenzahl ist.
Die numerische Öffnung (Apertur), NA, ist definiert als:
NA = Hm/R = sin Θ
Wenn das Gitter 14 mit einem Abstand d von dem achsen
nahen (paraxialen) Brennpunkt des Spiegels angeordnet
ist, wird die entsprechende Änderung in der Wellenfront
aberration, die äquivalente Wellenlänge genannt, die aus
gedrückt werden kann als:
EWL = (1 - cosθ) d = [(1 - cosθ)/tanθ]p (2)
und die relativen axialen Positionen für U und V können
ausgedrückt werden als:
Bei der Verwendung der äquivalenten Wellenlängenmessungs
einheit kann Gleichung 1 ausgedrückt werden als:
dW(X,Y)/dX = n für die X-Achse und
dW(X,Y)/dY = n für die Y-Achse
dW(X,Y)/dY = n für die Y-Achse
Die Wellenfrontaberrationen können ausgedrückt werden als
eine verallgemeinerte Monom-Serien, und zwar als:
Dieser Ausdruck für die Wellenfrontaberrationen kann bei
jeder Interferenzstreifenzahl n oder Stellung analysiert
werden, und zwar zur Bestimmung der Koeffizientenwerte.
Wenn diese Analyse für die Gitterlinien oder Drähte, die
parallel zur Y-Achse liegen, erreicht ist, wird der Aus
druck:
wobei die in Klammern befindlichen Faktoren [Bmn] Aus
drücke repräsentieren, die eliminiert werden oder durch
den Prozeß des Differenzierens fehlen. In gleicher Weise
für die Gitterlinien oder Drähte, die parallel zur X-Achse
liegen, wird der Ausdruck (Gleichung 3):
Die Interferenzstreifenzahl n sollte der Gitterkoordinate
(relative Draht- oder Linienposition im Raster) entspre
chen und ist eine ganzzahlige Zahl in einem normali
sierten Koordinatensystem. Ist der Gitterschatten ent
sprechend der UV-Achse (des Gitterbildes) auf der Pupille
fehlausgerichtet mit der Wellenfront X-, Y-Achse, so wird
ein Fehler in das Interferenzstreifenmuster eingeführt.
Wo das Gitter parallel zur X-Achse genau ausgerichtet ist
mit der Achse, stimmt die Mittelrasterlinie, Interferenz
streifenzahl Null, mit der X-Achse überein, und wo die Y-Achse
des Gitters genau ausgerichtet ist, mit der Achse
stimmt die Mittelrasterlinie mit der Y-Achse überein. Da
her werden die obigen Gleichungen:
dW(X,Y)/dX = 0, und
dW(X,Y)/dY = 0.
dW(X,Y)/dY = 0.
Wenn die Mittelinie oder das Rasterelement nicht mit der
Achse übereinstimmt, tritt ein wesentlicher Fehler beim
Bestimmen der Serienkoeffizienten unter Verwendung der
obigen Beziehungen auf. Nicht nur ist die Mittellinien
berechnung falsch, sondern alle Koeffizienten in den Se
rien sind betroffen. Die Ausrichtung steuert die Genauig
keit des Verfahrens. Jeder Fehler, der an diesem Punkt
eingeführt würde, würde die effektive Verwendung der
Technik verhindern, da solche Fehler zu einem inkorrekten
Wert, oder zur Maskierung Verdecken der Oberflächeneigen
schaften führen.
In der Praxis ist, obwohl das Gitter mit extremer Ge
nauigkeit in der Größenordnung eines Bruchteils eines
Mikrometers hergestellt ist, wäre es nicht praktikabel,
ein Gitter exakt mit den X- und Y-Achsen auszurichten.
Zum Beseitigen dieses Fehlausrichtungsproblems verwendet
die vorliegende Erfindung aufeinanderfolgende
Interferenz streifen und subtrahiert benachbarte Interfe
renzstreifen entlang einer axialen Richtung voneinander,
bei einem gemeinsamen Wert für die andere Achse. Zum Bei
spiel werden Interferenz streifen entlang der X-Achse von
einander subtrahiert bei gemeinsamen Y-Achsenwerten und
dann werden die Y-Achseninterferenzstreifen bei gemeinsa
men X-Achsenwerten subtrahiert. Die Interferenzstreifen
subtraktion wird erreicht durch Subtrahieren des n-1
Interferenzstreifens von dem n Interferenzstreifen. Daher
wird die Interferenzstreifenzahl 2 subtrahiert von der
Interferenzstreifenzahl 3, Zahl 1 von Zahl 2, Zahl -2 von
Zahl -1 usw., abhängig von der Zahl der beobachteten
Interferenzstreifen. Wenn die Periodizität des Gitters
sehr gleichmäßig über das Gitter hergestellt ist, vermei
det dieser Vorgang Fehler in der Erzeugung der
Interferenzstreifenzahl n.
Die Gitterinterferensstreifen, die erzeugt werden durch
Hindurchgehen des Lichtstrahls 26 durch das Gitter 14
werden dann digitalisiert an einer Serie von gemeinsamen
Achswerten. In dem vorliegenden beispielhaften Ausfüh
rungsbeispiel werden die Interferenzstreifen erst digi
talisiert durch Digitalisierung jedes Interferenzstrei
fens parallel zur Y-Achse, und zwar von links nach rechts
im Gesichtsfeld und dann durch Digitalisieren der Inter
ferenzstreifen parallel zur X-Achse, und zwar von unten
nach oben.
Jedoch wird der Fachmann bemerken, daß anderen Digitali
sierungsmustern gefolgt werden können unter der Voraus
setzung, daß die Gesamtbeziehung der Information beibe
halten wird.
Die Interferenz streifen werden in der oben beschriebenen
Art und Weise digitalisiert, zuerst an einer Serie von
gemeinsamen Y-Achswerten und dann gemeinsamen X-Achswer
ten. In dem vorliegenden Beispiel werden vier solcher
Werte auf einer normalisierten Skala ausgesucht, wobei
die aus gesuchten Werte durch im wesentlichen gleiche In
tervalle getrennt sind, hier 0.96, 0.72, 0.48, 0.24, und
die X-Achse (0). In der Praxis kann der Digitali
sierungsfehler in den Y-Werten reduziert werden auf ein
Spitzen-zu-Tal-Verhältnis (P-V) von ungefähr 0.006 (für
die Wellenlänge von Interesse) mit einem mittleren Fehler
von ungefähr 0.0035 für die normalisierten Koordinaten.
Mit einem arithmetischen Mittelwert für Ym können wir für
die Interferenzstreifenwerte lösen unter Verwendung des
folgenden Ausdrucks:
Wo der Ausdruck B₂₀ leicht bekannt ist, von dem Ronchi-Gramm
und die eingeklammerten Ausdrücke [Ym Bnm] ver
schwinden durch Substraktion, um den folgenden Ausdruck
zu erhalten:
Dann wird für ein Gitter parallel zur X-Achse der obige
Ausdruck:
Die fehlenden Ausdrücke, die gelöst werden beim Analy
sieren von einer optischen Oberfläche werden:
wobei der Ausdruck B₂₀ direkt bestimmt wird von dem Ron
chi-Gramm. Durch Verwendung von zwei Ronchi-Grammen in
den X- und Y-axialen Richtungen kann der gesamte Satz von
Koeffizienten leicht bestimmt werden.
Der Fachmann wird leicht erkennen, daß unter Vorgabe der
obigen Gleichungen und Information erzeugt durch Beob
achtungen der Gittermusterinterferenzstreifen die Koef
fizienten gelöst werden können unter Verwendung von be
kannten algebraischen Techniken, wie zum Beispiel der
Fehlerquadratmethode und multilinearen Regression. Wenn
eine Serie von fünf Datenpunkten entlang jeder der X- und
Y-Achsen, wie oben beschrieben, verwendet werden, wird
aus den Gleichungen 7 und 8 eine Serie von Gleichungen,
die beginnt mit:
1 - 2B₂₀(x-1 - x-2) = . . . , 1 - 2B₂₀ (x₀ - x-1) = . . .
1 - 2B₂₀(x₁ - x₀) = . . . , 1 - 2B₂₀(x₂ - x₁) = . . .
1 - 2B₂₀(x₃ - x₂) = . . . , beim Lösen für x, und
1 - 2B₂₀(x₁ - x₀) = . . . , 1 - 2B₂₀(x₂ - x₁) = . . .
1 - 2B₂₀(x₃ - x₂) = . . . , beim Lösen für x, und
1 - 2B₂₀(y-1 - y-2) = . . . , 1 - 2B₂₀(y0 - y-1) = . . .
1 - 2B₂₀(y₁ - y₀) = . . . , 1 - 2B₂₀(y2 - y₁) = . . .
1 - 2B₂₀(y₃ - y₂) = . . . , beim Lösen für y.
1 - 2B₂₀(y₁ - y₀) = . . . , 1 - 2B₂₀(y2 - y₁) = . . .
1 - 2B₂₀(y₃ - y₂) = . . . , beim Lösen für y.
Diese Beziehungen werden dann gelöst unter Verwendung von
bekannten mathematischen Techniken zum Ableiten der un
bekannten Koeffizienten. Sobald die Monom-Serien
koeffizienten bekannt sind, werden die Zernike-Koeffi
zienten erhalten, aus denen dann die Oberflächenkonturen
oder -eigenschaften errechnet werden. Unter Vorgabe der
Monom-Serienkoeffizienten wird die Übersetzung in Zer
nike-Koeffizienten in der Tabelle I unten vorgesehen.
wobei die ungeradzahligen Zernike-Ausdrücke im allgemei
nen bekannt sind als die "Koma"-Ausdrücke und die gerad
zahligen Zernicke-Ausdrücke im allgemeinen bekannt sind
als die "Astigmatismus"-Ausdrücke.
Zur Erläuterung der Arbeitsweise der vorliegenden Er
findung wird nun auf die Interferenzstreifenmuster gemäß
den Fig. 3 und 4 Bezug genommen. Zum Erhalten des Inter
ferenzstreifenmusters gemäß Fig. 3 wird eine im we
sentlichen perfekte Spiegeloberfläche, innerhalb der Ge
nauigkeit des Systems, verwendet und nur ein im we
sentlichen quadratisches Interferenzstreifenmuster wird
beobachtet. Das Gitterindex oder Rastermuster zum Er
zeugen dieses Interferenzstreifenmusters ist in Fig. 2
gezeigt.
Das Beispiel der Fig. 2 dient dem Zwecke der Darstellung
und repräsentiert einen vergrößerten Teil eines nahezu
perfekten Kreuzrastermusters. Ein Raster mit einer Perio
dizität von 0,333 mm würde ungefähr 76 Interferenzstrei
fenlinien in jener Richtung vorsehen, und zwar in einer
Größe von einem Quadratinch. Die Linien sind mit den an
gemessenen Indexzahlen bezeichnet, wie sie es zum Zwecke
der Ausrichtung und Digitalisierung wären. Dieses Raster
muster wird gehalten (preserviert) in dem Zusammenwirken
von reflektiertem Licht von einer im wesentlichen idealen
Spiegeloberfläche, abhängig von den Brechungseffekten
die die dunklen Bereiche innerhalb der Rasteröffnungen
erzeugen.
Wenn der Spiegel 12 sphärische Aberrationen besitzt, zum
Beispiel ein parabolischer Spiegel, dann wird ein Muster
gemäß Fig. 4 erzeugt und beobachtet. Das Bild gemäß Fig.
4 sieht gekrümmte Interferenzstreifenlinien vor, obwohl
das gleiche quadratische Raster der Fig. 2 verwendet
wird. Die Spiegeldefekte haben bewirkt, daß das pro
jizierte Rastermuster versetzt wird relativ zu den axia
len Positionen. Dieser Grad der Versetzung sieht die In
formation vor, die gebraucht wird zum Rekonstruieren der
Spiegeloberflächendefekte, die benötigt werden zum Erzeu
gen dieses Musters aus dem bekannten Gitterraster.
Es ist für den Fachmann offensichtlich, daß, wenn der
Spiegel 12 zusätzliche oder unterschiedlichere Oberflä
chendefekte aufweist, das Interferenzstreifenmuster zu
sätzlich Krümmung und Verwerfung der beobachteten Inter
ferenzstreifenmuster aufweist. Das vergrößerte symme
trisch gekrümmte Rastermuster der Fig. 4 dient nur dem
Zwecke der Darstellung und wird erreicht unter Verwendung
von simplen, großen Oberflächendefekten. Für hochgenaue
Spiegeloberflächenanalyse einer Vielzahl von kleineren
Oberflächendefekten wäre die Anzahl der analysierten In
terferenzstreifenlinien oder Datenpunkte viel größer und
mehrere Verschiebungen oder Krümmungen in verschiedene,
nicht-symmetrische Richtungen können über das Raster be
obachtet werden für komplexe Fehler-(Defekt) Muster.
Die beispielhaften 76 Interferenzstreifenlinien pro inch
Gitter, wie oben beschrieben, sehen eine große Menge ei
nes zu beobachtenden Details vor. Es ist leicht zu sehen,
daß sowohl ein hoher Genauigkeitsgrad als auch eine
Sichtbarkeit der Darstellung erhalten wird für Oberflä
chenfehler, und zwar bei der Verwendung der vorliegenden
erfindungsgemäßen Technik.
Wo dies wünschenswert ist, können eine oder mehrere
Transfer- oder Null-Linsen 28 entlang der Beobachtungs
achse 16 eingesetzt werden, und zwar zwischen dem Be
obachtungselement 18 und dem Reflektor 24 zum Verbessern
des Bildes oder Verlängern des Beobachtungsweges.
Während die oben gegebene Beschreibung die Vorteile der
vorliegenden Erfindung offenbart, kann eine weitere Ver
besserung gemacht werden durch Automatisieren oder elek
tronisches Steuern eines Teils des Ausrichtungsvorgangs.
Fig. 6 illustriert eine Anwendung eines Computers oder
einer elektronischen Steuerung auf den Oberflächenana
lysevorgang, und die Fig. 7a, 7b, 8a, 8b, 9a, 9b und 9c
zeigen digitale Oberflächenkarten, die aus solchen Vor
gängen resultieren.
In Fig. 6 ist eine elektronisch gesteuerte oder steuerba
re Oberflächenkartographiervorrichtung 50 gezeigt, in der
der Spiegel 12 wieder getestet und eingestellt wird unter
Verwendung einer Lichtquelle 20 zum Vorsehen des Ein
gangsstrahls 22 von dem Reflektor 24 und dem Spiegel 12.
Das Licht 26 wird reflektiert von dem Spiegel 12, geht
durch das Gitter 14 und wird durch eine Abbildvorrichtung
52 beobachtet. Die Einrichtung 52 ist eine elektronische
Abbildungseinrichtung oder -system, wie zum Beispiel eine
ladungsgekoppelte Kamera, ist aber nicht hierauf be
schränkt. Die Abbildungseinrichtung 52 sieht als ein
elektronisches Signal, ein Ausgangssignal vor, das eine
digitalisierte Version des beobachteten Interferenzstrei
fenmusters repräsentiert. Das heißt, das Ausgangssignal
kartographiert das Auftreten von hellen und dunklen Be
reichen in dem Interferenzstreifenmuster in eine digitale
Darstellung von Hell und Dunkel, oder Nullen und Einsen.
Diese Information wird wiederum durch einen Datenbus, Ka
bel oder Verbinder zu einem Vorgangssteuerer oder einer
Digitalanalysevorrichtung 54 übertragen.
Die Kamera 52 ist typischerweise angebracht auf einem be
wegbaren Betätiger oder Positionstranslationselement 60,
welches wiederum auf einem Tragelement 62 angeordnet ist.
Der Translator 60 kann eine von vielen bekannten elektro
mechanischen Einrichtungen, wie zum Beispiel einen
Schrittmotor oder ein Elektromagnet (Solenoid) sein, das
unter Verwendung eines Eingangssteuersignals betätigt
werden kann. Der Translator 60 stellt die Position der
Abbildungseinrichtung 60 relativ zu anderen Teilen der
Vorrichtung 50 ein, wo dies angemessen ist, wie zum Bei
spiel zum Aufnehmen sowohl einer Ausrichtung als auch ei
nes Oberflächentestvorgangs, wie dies oben beschrieben
ist.
Der Träger 62 ist ein relativ fester Bezugsrahmen für die
Bauteile der Testvorrichtung 50 und kann eine Einrichtung
sein, wie zum Beispiel eine optische Bank oder eine spe
ziell ausgerichtete Tragschienenanordnung. Dem Fachmann
sind diese Arten von Einrichtungen bekannt. Die Linsenan
ordnung 28 ist auch auf einem Positionstranslator 64 an
geordnet, und zwar zur benötigten Feineinstellung der Re
lativposition.
Das Kreuzrastergitter 14 ist gesichert an einem Posi
tionstranslator 66 und der Spiegel 12 ist angeordnet auf
einem Horizontalpositionstranslator 68. Der Translator 68
wird im allgemeinen als eine bewegbare Tragplattform für
eine Vertikalpositiontranslationsanordnung 70 mit einem
vertikalen Tragelement 72 mit einem oder mehreren verti
kalen Translatoren 74, die sich entlang des Tragelements
72 bewegen. Der Spiegel 12 ist gesichert an dem Transla
tor 74 durch Elemente, wie zum Beispiel Befestigungspfo
sten 76, die weiterhin individuell bewegbare Betätiger
oder Rotationselemente verwenden können, und zwar zum un
abhängigen Bewegen von unterschiedlichen Teilen des Spie
gels 12 zur Ausrichtung. Der Fachmann erkennt, daß diese
Übersetzungs- oder Translationsbauteile nur als Darstel
lung der Einrichtungen dienen, die als nützlich befunden
wurden zum Erreichen der Arbeitsweise der Erfindung, und
daß es andere, oft komplexere Betätiger und Mehrfach-
Freiheitsachsen-Anbringungssysteme (multiple-axis-of-freedon
mounting systems) sein können, die in der Kon
struktion der Erfindung nützlich sein können. Es ist nur
nötig, daß Positionsübersetzungseinrichtungen verwendet
werden, die leicht steuerbar sind durch die Anwendung von
Steuersignalen, die leistungs- oder impulsbreitenein
stellbare oder digitale Befehle umfassen.
Jeder der Positionsübersetzungstreiber oder -betätiger
ist typischerweise verbunden zum Empfangen von Positions
korrektursignalen oder -befehlen entlang eines Signalbus
ses. Dieser Bus kann auch einen Zwei-Richtungs (bi-direk
tionalen) Datenkanal repräsentieren, der etwas Positions
information an den Vorgangssteuerer 54, und zwar den un
terschiedlichen Bauteilen, wie zum Beispiel durch Wider
stands- oder elektromechanische Sensoren usw. Die Positi
onsübersetzer 60, 64, 66, 68 und 70 sind gezeigt verbun
den mit dem Prozessor 54, durch die Befehlsignalleitungen
80, 84, 86, 88 bzw. 90.
Der Vorgangssteuerer repräsentiert eine der vielen be
kannten Einrichtungen zum Bewirken der Steuerung von Mo
toren und ähnlichen Betätigern durch Ausgeben von Be
fehlssignalen. Die Signale können analoge oder digitale
Steuersignale sein, abhängig von der Art des verwendeten
Übersetzers oder Betätigers. Ein beispielhafter Vorgangs
steuerer 54 weist einen digitalen Computer auf mit inter
ner Speicherung (memory) zum Speichern von vorbestimm
ten Steuerprogrammen, die ansprechen auf empfangene Bild
daten und das Einstellen der Position des Spiegels, wenn
dies benötigt ist, vorsehen.
Außerdem empfängt und analysiert der Computer die digita
lisierten Interferenzstreifenliniendaten, die eingerahmt
und gegriffen wurden durch die CCD-Kamera und dann digi
talisiert werden. Dies wird erreicht durch elektronisches
Abtasten der digitalisierten Daten in vorbestimmten Mu
stern, d. h. von links nach rechts, von unten nach oben,
usw., und zwar zum Bestimmen der Stellung der Interfe
renzstreifenlinien. Die Linien werden durch unterschied
liche Defekte versetzt, aber sie werden alle verwendet
zum Erzeugen der angemessenen Interferenzstreifenindex
zahl mit Anwendung von einer oder mehreren analytischen
Techniken, zum Erzeugen der Monom-Serienkoeffizienten,
wie oben diskutiert wurden. Der Computer führt auch die
benachbarte Interferenzstreifensubtraktion als ein Teil
dieser Analyse der Interferenzstreifenlinien durch, und
zwar entsprechend dem oben offenbarten Vorgang.
Der Computer bestimmt die Monom-Koeffizienten und leitet
dann die entsprechenden Zernike-Koeffizienten ab. Bei der
Verwendung der Zernike-Koeffizienten wird eine Wellen
front und somit Oberflächenkonturkarte für den Spiegel
erzeugt. Beispielhafte Oberflächenkonturen, entwickelt
unter Verwendung dieser Technik, sind in den Profilen der
Fig. 7, 8 und 9 dargestellt. Videoanzeigelemente 56 kön
nen verwendet werden zum Durchführen von zwei- oder drei
dimensionalen Anzeigen der Wellenfrontkontur, wo dies er
wünscht ist oder die Kontur kann gedruckt oder abgebildet
werden auf einem transportierbaren Medium unter Verwen
dung eines Druckers.
Der Computer 54 kann auch eine Speicherung (memory) oder
Speicherelemente 58 zum Speichern der Bilddaten oder zum
Zusammenstellen von Matrizen und bekannten Bildauswahl
kriterien zum Bestimmen der Zahl der vorhandenen Interfe
renzstreifenlinien in einem empfangenen Bild verwenden.
Zur selben Zeit können menschliche Betätigungssignale
durch Eingangslinien oder Leitungen 92 empfangen werden
zum Helfen des Auswählens oder Steuern des Betriebs des
Vorgangs oder zum Auswählen oder Implementieren von Be
triebsprogrammen.
Im allgemeinen wird ein Testspiegel mit bekannten Eigen
schaften verwendet, um zuerst das System 50 zu bestätigen
und zu eichen. Sobald die anfängliche Konfiguration der
Vorrichtung bestätigt ist, wird ein Spiegel einer un
bekannten Oberflächenqualität oder mit unbekannten Ober
flächeneigenschaften an den Befestigungspfosten 76 ange
ordnet und ausgerichtet mit der Beobachtungsachse der Ab
bildungseinrichtung 52. Während des Vorganges kann ein
Bild auf den Videoschirm 56 sowie dem Steuerer 54 darge
stellt werden. Die digitalisierten Bilddaten werden ver
wendet zur Bestimmung des Vorhandenseins der Interfe
renzstreifenlinien und der Steuerer 54 gibt Übersetzungs
befehle an die Betätiger 68 und 70 zum Wiederausrichten
des Spiegels, wo dies erwünscht ist. Der Spiegel kann
auch relativ zu der Beobachtungsachse 16 geneigt werden
unter Verwendung der angemessenen Übersetzer oder Betäti
ger, die in Serie mit dem Befestigungspfosten 76 angeord
net sind. Diese Art System ist hocheffizient für große
Spiegel, da es die Oberflächenkonturen und Schnittpunkte
für mehrere Messungen sehr schnell errechnen kann.
Bei der Verwendung des in Fig. 2 gezeigten quadratischen
Rasters wurde ein eine gute Qualität aufweisender Spiegel
getestet. Das erhaltene Interferenzstreifenmuster wurde
analysiert unter Verwendung von "klassischen" Techniken
wie in Gleichungen 4 und 5 und der neuen Subtraktions
technik wie in Gleichungen 7 und 8. Die resultierenden
Zernike-Koeffizienten sind in der Tabelle II aufgelistet
und sehen die zwei-dimensionalen Oberflächenkonturkarten
oder Darstellungen, die in den Fig. 7a, bzw. 7b gezeigt
sind, vor.
Die Zernike-Koeffizienten, die während dieser Analyse er
zeugt wurden, wurden gelöst für eine äquivalente Wellen
länge von 1,66 Mikrometer. Die Wirkung des Achsenaus
richtungsfehlers ist in Fig. 7a gezeigt, wo er asymme
trische Aberrationen beeinflußt, wie zum Beispiel die
ungradzahligen Koeffizienten, die Koma repräsentieren und
die geradzahligen Koeffizienten, die Astigmatismus reprä
sentieren. Wenn das Subtraktionsverfahren der Erfindung
verwendet wird, ist die resultierende zwei-dimensionale
Konturenkarte, die der Fig. 7b, wo Fehlausrichtungsfehler
beseitigt werden und die asymmetrischen Aberrationen ver
ringert werden. Die korrigierte Analyse zeigt eine fast
perfekte sphärische Spiegeloberfläche.
Wenn dieselbe Technik, klassische gegen Subtraktion aus
einen parabolischen Spiegel angewandt wurde, resultierten
die resultierende Oberflächenrekonstruktion in den zwei
dimensionalen Karten gemäß den Fig. 8a bzw. 8b. In dieser
Konfiguration waren die "Transparenten" oder "klaren"
Schachbrettmuster ausgerichtet mit der Achse im Gegensatz
zum Ausrichten der dunklen Rasterlinien. Eine ähnliche
fehlerhafte Analyse tritt auf für Fehlausrichtung in Fig.
8a, während dieser Fehler in der Fig. 8b verschwindet.
Wieder werden die Zernike-Koeffizienten in Tabelle II un
ten aufgelistet, zusammen mit dazugehörigen RMS und Spit
zen-zu-Tal-Werten.
Um weiter den Betrieb der Erfindung darzustellen, wurde
der parabolische Spiegel, der für die Oberflächenkon
turanalyse der Fig. 8a und 8b verwendet wurde, auch ver
wendet zum Erzeugen einer Serie von drei-dimensionalen
Oberflächenkonturdrucken für eine äquivalente Wellenlänge
von 1,66 µm. Diese drei-dimensionalen Drucke wurden er
zeugt unter Verwendung von unterschiedlichen Werten für
den Bezugskrümmungsradiuswert für den R20 Zernike-Koeffi
zienten und sie sind dargestellt in den Fig. 9a, 9b und
9c. In diesen Figuren wurde der Krümmungsradius verändert
durch Defokussieren von 0 bis 0,4 und 1,4. Das Resultat
ist eine Bezugssphäre, die nahezu der Krümmung einer Pa
rabel gleicht, wobei eine die Parabel an ihren Mitpunkt
ihrer Höhe berührt bzw. eine die Parabel an ihrem Eck
punkt berührt. Die Werte von R20 zusammen mit assoziier
ten P-V- und RMS-Werten sind dargestellt in der Tabelle
III. Die Drucke zeigen eine größere Perspektive der zwei
dimensionalen Karte, dargestellt in Fig. 7b.
Was beschrieben wurde, ist eine neue Technik zum Testen
von Spiegeln, welche sehr genaues Kartographien von ver
schiedenen Oberflächendefekten und -konturen an einer
Vielzahl von Spiegelgeometrien vorsieht, und die sehr ef
fizient und wirtschaftlich durchzusetzen ist. Diese Tech
nik reagiert auch nicht besonders sensibel auf Vi
brationen (kein Dämpfer wird gebraucht) und kann größere
Oberflächenverformungen sehen, wie sie mit interfero
metrischen Techniken zu beobachten sind.
Zusammenfassend sieht die Erfindung folgendes vor. Eine
Vorrichtung und ein Verfahren sind offenbart zum Charak
terisieren der Oberfläche von Spiegeln, in der ein kreuz
rasterartiges Phasengitter von hinten durch Licht reflek
tiert von dem Spiegel beleuchtet wird, um ein ra
sterartiges Interferenzmuster zu erzeugen, wenn entlang
einer Beobachtungsachse beobachtet wird. Die Interfe
renzstreifenlinien in dem erzeugten oder beobachteten In
terferenzmuster werden in Übereinstimmung mit dem Gitter
gebracht und auf relative Versetzung von der Gitterachse
beobachtet. Interferenzstreifenindexzahlen für die
Interferenzstreifenlinien werden verwendet zum Bestimmen
von Koeffizienten für eine Vielzahl von Monom-Serien, die
wiederum verwendet werden zum Ableiten von Zernike-Koef
fizienten, aus denen eine Wellenfrontkontur erhalten
wird. Um Ausrichtungsfehler während der Analyse zu redu
zieren, wird jede Interferenzstreifenlinie subtrahiert
von der Linie der nächst niedrigeren Ordnung, und zwar
bevor die Monomkoeffizienten bestimmt werden. In weiteren
Ausführungsbeispielen der Erfindung wird das
Interferenzstreifenmuster übertragen unter Verwendung ei
ner oder mehrerer Linsen, und zwar an einen Bilddigitali
sierer, wie zum Beispiel eine CCD-Kamera, die gekoppelt
ist mit einer digitalen Berechnungseinrichtung, die die
beobachteten Interferenz streifen analysiert und die Seri
enkoeffizienten berechnet, und dann diese in Zernike-Ko
effizientenwerte übersetzt, die verwendet werden durch
die Spiegeloberflächenkonturen zu rekonstruieren.
Claims (18)
1. Ein Verfahren zum Messen der optischen Oberflächen
eigenschaften eines Spiegels, das folgende Schritte
aufweist:
Reflektieren von eingestrahltem Licht mit vorgewählter Frequenz von einer Oberfläche des Spiegels, für die die optischen Eigenschaften entlang einer Beobachtungsachse bestimmt werden sollen;
Übertragen des reflektierten Lichts durch ein kreuz rasterartiges Ronchi-Gitter einer vorgewählten und im wesentlichen gleichförmigen Periodizität, das entlang der Beobachtungsachse angeordnet ist, um ein rasterartiges Interferenzstreifenmuster zu erzeugen;
Abtasten des Interferenzstreifenmuster an vorbe stimmten Koordinatenstellen;
Bilden einer Differenz zwischen benachbarten Interferenzstreifenlinien; und
Bestimmen einer relativen Interferenzstreifenzahl für jede Interferenzstreifenlinie in dem Muster; und
Erzeugen von Zernike-Koeffizienten für das Interferenzstreifenmuster.
Reflektieren von eingestrahltem Licht mit vorgewählter Frequenz von einer Oberfläche des Spiegels, für die die optischen Eigenschaften entlang einer Beobachtungsachse bestimmt werden sollen;
Übertragen des reflektierten Lichts durch ein kreuz rasterartiges Ronchi-Gitter einer vorgewählten und im wesentlichen gleichförmigen Periodizität, das entlang der Beobachtungsachse angeordnet ist, um ein rasterartiges Interferenzstreifenmuster zu erzeugen;
Abtasten des Interferenzstreifenmuster an vorbe stimmten Koordinatenstellen;
Bilden einer Differenz zwischen benachbarten Interferenzstreifenlinien; und
Bestimmen einer relativen Interferenzstreifenzahl für jede Interferenzstreifenlinie in dem Muster; und
Erzeugen von Zernike-Koeffizienten für das Interferenzstreifenmuster.
2. Das Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Schritte des
Reflektierens und Übertragens die folgenden Schritte
aufweisen:
Positionieren eines lichtreflektierenden Elements transversal zu der Beobachtungsachse zwischen dem Spiegel und dem Gitter, wobei das Reflexionselement mindestens eine optische Oberfläche besitzt, die das Licht reflektiert und die so angeordnet ist, daß sie das Licht gegen die Spiegeloberfläche reflektiert und im wesentlichen durchlässig ist für Licht, re flektiert von dem Spiegel; und
Beleuchten des Reflexionselements von einer Seite, die dem Spiegel zugerichtet ist, und zwar mit einem Lichtstrahl.
Positionieren eines lichtreflektierenden Elements transversal zu der Beobachtungsachse zwischen dem Spiegel und dem Gitter, wobei das Reflexionselement mindestens eine optische Oberfläche besitzt, die das Licht reflektiert und die so angeordnet ist, daß sie das Licht gegen die Spiegeloberfläche reflektiert und im wesentlichen durchlässig ist für Licht, re flektiert von dem Spiegel; und
Beleuchten des Reflexionselements von einer Seite, die dem Spiegel zugerichtet ist, und zwar mit einem Lichtstrahl.
3. Das Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt des
Abtastens weiterhin den Schritt des Übertragens
eines Bildes an ein Digitaiisierungselement und
Digitalisieren des Interferenzstreifenmusters auf
weist.
4. Das Verfahren nach Anspruch 3 weist weiterhin die
folgenden Schritte auf:
Schätzen der Interferenzstreifenzahl an einer Viel zahl von Koordinatenstellen entlang einer Serie von gemeinsamen horizontalen und dann gemeinsamen ver tikalen Positionen unter Verwendung einer Monom-Serie zum Repräsentieren der Interferensstreifenzahl an jeder Position;
Lösen der Serienkoeffizienten unter Verwendung einer erzeugten Vielzahl der Serien; und
Bestimmen der Zernike-Koeffizienten, die den Serien koeffizienten entsprechen.
Schätzen der Interferenzstreifenzahl an einer Viel zahl von Koordinatenstellen entlang einer Serie von gemeinsamen horizontalen und dann gemeinsamen ver tikalen Positionen unter Verwendung einer Monom-Serie zum Repräsentieren der Interferensstreifenzahl an jeder Position;
Lösen der Serienkoeffizienten unter Verwendung einer erzeugten Vielzahl der Serien; und
Bestimmen der Zernike-Koeffizienten, die den Serien koeffizienten entsprechen.
5. Das Verfahren nach Anspruch 4 weist weiterhin Bilden
einer Differenz zwischen Monom-Serien benachbarter
Interferenzstreifenlinien vor dem Lösen für eine re
lative Interferenzstreifenzahl auf.
6. Das Verfahren nach Anspruch 5 weist weiterhin die
Verwendung der Zernike-Koeffizienten zum
Rekonstruieren der Spieloberflächeneigenschaften
auf.
7. Das Verfahren nach Anspruch 5 weist weiterhin die
Verwendung eines digitalen Berechnungsmittels zum
Schätzen der Interferenzstreifenzahl und Bestimmen
der Zernike-Koeffizienten auf.
8. Das Verfahren nach Anspruch 7 weist weiterhin den
Schritt des Erzeugens einer digitalen Darstellung
der Spiegeloberfläche auf.
9. Das Verfahren nach Anspruch 3 umfaßt weiterhin die
folgenden Schritte:
Digitalisieren der beobachteten Interferenzstreifen in einer ladungsgekoppelten Kamera;
elektronisches Abtasten der digitalisierten Interfe renzstreifen; und
Schätzen der Interferenzstreifenzahl an einer Viel zahl von Koordinaten entlang einer Serie von gemein samen horizontalen und dann gemeinsamen vertikalen Positionen unter Verwendung einer Monom-Serie zum Repräsentieren der Interferenzstreifenzahl einer jeden Position;
Lösen der Serienkoeffizienten unter Verwendung einer erzeugten Vielzahl der Serien; und
Bestimmen der Zernike-Koeffizienten, die den Serien koeffizienten entsprechen.
Digitalisieren der beobachteten Interferenzstreifen in einer ladungsgekoppelten Kamera;
elektronisches Abtasten der digitalisierten Interfe renzstreifen; und
Schätzen der Interferenzstreifenzahl an einer Viel zahl von Koordinaten entlang einer Serie von gemein samen horizontalen und dann gemeinsamen vertikalen Positionen unter Verwendung einer Monom-Serie zum Repräsentieren der Interferenzstreifenzahl einer jeden Position;
Lösen der Serienkoeffizienten unter Verwendung einer erzeugten Vielzahl der Serien; und
Bestimmen der Zernike-Koeffizienten, die den Serien koeffizienten entsprechen.
10. Das Verfahren nach Anspruch 9 weist weiterhin den
Schritt des Berechnens jedes der Koeffizienten in
einem digitalen Berechnungsmittel auf.
11. Eine Vorrichtung zum Bestimmen der optischen
Oberflächeneigenschaften von Spiegeln, wobei die
Vorrichtung folgendes aufweist:
ein rasterartiges Ronchi-Gitter mit vorbestimmter und im wesentlichen gleichförmiger Periodizität, an geordnet entlang einer vorbestimmten Beobachtungsachse relativ zur reflektierenden Oberfläche des Spiegels; Projiziermittel zum Projizieren eines Lichtstrahls auf die reflektierende Oberfläche des Spiegels und durch Reflexion auf das Gitter, um ein Interferenz streifen- oder Fransenmuster zwischen dem reflek tieren Licht und dem Gitter zu erzeugen;
Abtastmittel zum Abtasten des Interferenzstreifen musters an vorbestimmten Koordinatenstellen zum Be stimmen einer relativen Interferenzstreifenzahl für jede Interferenzstreifenlinie in dem Muster;
Subtraktionsmittel zum Bilden einer Differenz zwischen benachbarten Interferenzstreifenlinien; und
Übersetzungsmittel zum Berechnen der Zernike-Koef fizienten für das Interferenzstreifenmuster.
ein rasterartiges Ronchi-Gitter mit vorbestimmter und im wesentlichen gleichförmiger Periodizität, an geordnet entlang einer vorbestimmten Beobachtungsachse relativ zur reflektierenden Oberfläche des Spiegels; Projiziermittel zum Projizieren eines Lichtstrahls auf die reflektierende Oberfläche des Spiegels und durch Reflexion auf das Gitter, um ein Interferenz streifen- oder Fransenmuster zwischen dem reflek tieren Licht und dem Gitter zu erzeugen;
Abtastmittel zum Abtasten des Interferenzstreifen musters an vorbestimmten Koordinatenstellen zum Be stimmen einer relativen Interferenzstreifenzahl für jede Interferenzstreifenlinie in dem Muster;
Subtraktionsmittel zum Bilden einer Differenz zwischen benachbarten Interferenzstreifenlinien; und
Übersetzungsmittel zum Berechnen der Zernike-Koef fizienten für das Interferenzstreifenmuster.
12. Die Vorrichtung nach Anspruch 11, wobei die
Projiziermittel folgendes aufweisen:
einen Laser, der mit einer vorbestimmten Frequenz als eine optische Lichtquelle arbeitet, und
ein Lichtreflexionselement, angeordnet transversal zu der Beobachtungsachse, das mindestens eine optische Oberfläche besitzt, die das Laserlicht reflektiert, und zwar so angeordnet, daß sie Licht gegen die Spiegeloberfläche reflektiert und die im wesentlichen durchlässig ist für reflektiertes Licht von dem Spiegel.
einen Laser, der mit einer vorbestimmten Frequenz als eine optische Lichtquelle arbeitet, und
ein Lichtreflexionselement, angeordnet transversal zu der Beobachtungsachse, das mindestens eine optische Oberfläche besitzt, die das Laserlicht reflektiert, und zwar so angeordnet, daß sie Licht gegen die Spiegeloberfläche reflektiert und die im wesentlichen durchlässig ist für reflektiertes Licht von dem Spiegel.
13. Die Vorrichtung nach Anspruch 11, wobei Abtastmittel
weiterhin ein Bilddigitalisierungelement aufweisen.
14. Die Vorrichtung nach Anspruch 11, wobei Abtastmittel
weiterhin folgendes aufweisen:
Schätzmittel zum Schätzen der Interferenzstreifen zahl für jede Interferenzstreifenlinie an einer Vielzahl von Koordinatenstellen entlang einer Serie von gemeinsamen horizontalen und dann gemeinsamen vertikalen Positionen, unter Verwendung einer Monom-Serie zum Repräsentieren der Interferenzstreifenzahl an jeder Position;
Koeffizientenerzeugungsmittel zum Bestimmen der Se rie unter Verwendung einer erzeugten Vielzahl der Serien.
Schätzmittel zum Schätzen der Interferenzstreifen zahl für jede Interferenzstreifenlinie an einer Vielzahl von Koordinatenstellen entlang einer Serie von gemeinsamen horizontalen und dann gemeinsamen vertikalen Positionen, unter Verwendung einer Monom-Serie zum Repräsentieren der Interferenzstreifenzahl an jeder Position;
Koeffizientenerzeugungsmittel zum Bestimmen der Se rie unter Verwendung einer erzeugten Vielzahl der Serien.
15. Die Vorrichtung nach Anspruch 14, die weiterhin
Subtraktionsmittel zum Bilden einer Differenz
zwischen Monom-Serien, benachbarter
Interferenzstreifenlinien vor dem Schätzen der
relativen Interferenzstreifenzahl aufweist.
16. Die Vorrichtung nach Anspruch 15, die digitale
Berechnungsmittel zum Erzeugen der
Interferenzstreifenzahl und der Zernike-Koeffizienten
aufweist.
17. Die Vorrichtung nach Anspruch 16 weist weiterhin fol
gendes auf:
Abtastmittel zum Digitalisieren der beobachteten In terferenzstreifen; und die Berechnungsmittel weisen folgendes auf:
Indexierungsmittel zum Berechnen der Interferenz streifenzahl an einer Vielzahl von Kooordinaten stellen entlang einer Serie von gemeinsamen horizon talen und dann gemeinsamen vertikalen Positionen un ter Verwendung einer Monom-Serie zum Repräsentieren der Interferenzstreifenzahl an jeder Position; und
Koeffizientenmittel zum Lösen der Serienkoeffizien ten unter Verwendung einer erzeugten Vielzahl der Serien.
Abtastmittel zum Digitalisieren der beobachteten In terferenzstreifen; und die Berechnungsmittel weisen folgendes auf:
Indexierungsmittel zum Berechnen der Interferenz streifenzahl an einer Vielzahl von Kooordinaten stellen entlang einer Serie von gemeinsamen horizon talen und dann gemeinsamen vertikalen Positionen un ter Verwendung einer Monom-Serie zum Repräsentieren der Interferenzstreifenzahl an jeder Position; und
Koeffizientenmittel zum Lösen der Serienkoeffizien ten unter Verwendung einer erzeugten Vielzahl der Serien.
18. Die Vorrichtung nach Anspruch 17, die weiterhin Dar
stellungsmittel zum Bilden einer visuellen Dar
stellung der Spiegeloberfläche aus der Zernike-Koef
fizienteninformation aufweist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/763,784 US5187539A (en) | 1991-09-23 | 1991-09-23 | Mirror surface characteristic testing |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4231851A1 DE4231851A1 (de) | 1993-03-25 |
DE4231851C2 true DE4231851C2 (de) | 1998-02-19 |
Family
ID=25068801
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4231851A Expired - Fee Related DE4231851C2 (de) | 1991-09-23 | 1992-09-23 | Spiegeloberflächen-Eigenschaftstestverfahren und -Vorrichtung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5187539A (de) |
JP (1) | JPH0792372B2 (de) |
DE (1) | DE4231851C2 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10056077B4 (de) * | 2000-11-08 | 2004-08-26 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Abbildungseigenschaften eines optischen Spiegelelementes |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2689653B1 (fr) * | 1992-04-01 | 1994-05-20 | Angenieux P Ets | Dispositif optique du type deflectometre, notamment a detection de phase, a grand domaine de mesure. |
DE69402281T2 (de) * | 1993-09-17 | 1997-09-04 | Essilor Int | Verfahren und Gerät zur absoluten Messung der geometrischen oder optischen Struktur eines optischen Bestandteiles |
US5923466A (en) * | 1993-10-20 | 1999-07-13 | Biophysica Technologies, Inc. | Light modulated confocal optical instruments and method |
US5898486A (en) * | 1994-03-25 | 1999-04-27 | International Business Machines Corporation | Portable moire interferometer and corresponding moire interferometric method |
US5754286A (en) * | 1996-05-30 | 1998-05-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of identifying defective picture element in image-wise exposure apparatus |
DE19708447A1 (de) * | 1997-03-01 | 1998-09-03 | Ingolf Dr Weingaertner | Vorrichtung und Verfahren für die Justierung von Twyman-Interferometern |
US6461778B1 (en) | 2000-12-11 | 2002-10-08 | Micron Technology, Inc. | In-line method of measuring effective three-leaf aberration coefficient of lithography projection systems |
JP2002296020A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Nidek Co Ltd | 表面形状測定装置 |
AUPR419301A0 (en) * | 2001-04-03 | 2001-05-03 | Solar Systems Pty Ltd | Solar mirror testing and alignment |
US6972849B2 (en) * | 2001-07-09 | 2005-12-06 | Kuechel Michael | Scanning interferometer for aspheric surfaces and wavefronts |
US6788423B2 (en) * | 2001-08-31 | 2004-09-07 | Digital Optics Corp. | Conic constant measurement methods for refractive microlenses |
JP4312602B2 (ja) * | 2001-11-16 | 2009-08-12 | ザイゴ コーポレイション | 非球面表面および波面の走査干渉計 |
US7218403B2 (en) * | 2002-06-26 | 2007-05-15 | Zygo Corporation | Scanning interferometer for aspheric surfaces and wavefronts |
EP1682851B1 (de) | 2003-10-20 | 2013-02-06 | Zygo Corporation | Umkonfigurierbares interferometersystem |
US20070047237A1 (en) * | 2005-08-30 | 2007-03-01 | Jimmy Perez | Method of forming a lamp assembly |
TWI264523B (en) * | 2005-09-06 | 2006-10-21 | Instr Technology Res Ct | Method and instrument for measuring decenter and tilt of lens by interferometer |
US7492450B2 (en) * | 2005-10-24 | 2009-02-17 | General Electric Company | Methods and apparatus for inspecting an object |
US7612893B2 (en) * | 2006-09-19 | 2009-11-03 | Zygo Corporation | Scanning interferometric methods and apparatus for measuring aspheric surfaces and wavefronts |
CN100462773C (zh) * | 2007-06-22 | 2009-02-18 | 哈尔滨工业大学 | 运用Zernike系数精确确定激光收发同轴基准的方法 |
TWI414757B (zh) * | 2010-11-17 | 2013-11-11 | Univ Nat Yunlin Sci & Tech | Measuring device and method for generating twist interference by grating modulation phase shift |
US9068904B2 (en) * | 2011-01-18 | 2015-06-30 | Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona | System and method for non-contact metrology of surfaces |
CN113295386B (zh) * | 2021-05-21 | 2022-11-01 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种光学镜片检测系统及检测方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD234490A1 (de) * | 1985-02-04 | 1986-04-02 | Zeiss Jena Veb Carl | Anordnung zur optoelektronischen verzeichnungsmessung |
US4692003A (en) * | 1983-11-07 | 1987-09-08 | Adachi Iwao P | Real-time analysis keratometer |
DE4018004A1 (de) * | 1989-06-05 | 1990-12-13 | Essilor Int | Optische vorrichtung mit einem gitter und einem trennelement zur ueberpruefung eines beliebigen optischen systems, insbesondere eines brillenglases, durch erfassen der phase |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4818108A (en) * | 1987-12-14 | 1989-04-04 | Hughes Optical Products, Inc. | Phase modulated ronchi testing of aspheric surfaces |
FR2647912B1 (fr) * | 1989-06-05 | 1991-09-13 | Essilor Int | Dispositif optique a reseau pour le controle, en transmission, par detection de phase, d'un quelconque systeme optique, en particulier d'une lentille ophtalmique |
US5080477A (en) * | 1989-08-28 | 1992-01-14 | Yoshi Adachi | Surface topographer |
US5076689A (en) * | 1991-03-27 | 1991-12-31 | Rockwell International | Off axis mirror alignment |
-
1991
- 1991-09-23 US US07/763,784 patent/US5187539A/en not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-07-31 JP JP4204148A patent/JPH0792372B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1992-09-23 DE DE4231851A patent/DE4231851C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4692003A (en) * | 1983-11-07 | 1987-09-08 | Adachi Iwao P | Real-time analysis keratometer |
DD234490A1 (de) * | 1985-02-04 | 1986-04-02 | Zeiss Jena Veb Carl | Anordnung zur optoelektronischen verzeichnungsmessung |
DE4018004A1 (de) * | 1989-06-05 | 1990-12-13 | Essilor Int | Optische vorrichtung mit einem gitter und einem trennelement zur ueberpruefung eines beliebigen optischen systems, insbesondere eines brillenglases, durch erfassen der phase |
Non-Patent Citations (5)
Title |
---|
Applied Optics, Vol. 23, No. 20, 15. Oktober 1984, S. 3676-3679 * |
Applied Optics, Vol. 27, No. 21, 1. November 1988, S. 4504-4513 * |
Applied Optics, Vol. 27, No. 3, 1. Februar 1988, S. 523-528 * |
Applied Optics, Vol. 29, No. 22, 1. August 1990, S. 3255-3265 * |
Applied Optics, Vol. 29, No. 31, 1. November 1990, S. 4618-4621 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10056077B4 (de) * | 2000-11-08 | 2004-08-26 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Abbildungseigenschaften eines optischen Spiegelelementes |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4231851A1 (de) | 1993-03-25 |
US5187539A (en) | 1993-02-16 |
JPH06109454A (ja) | 1994-04-19 |
JPH0792372B2 (ja) | 1995-10-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4231851C2 (de) | Spiegeloberflächen-Eigenschaftstestverfahren und -Vorrichtung | |
DE602005002274T2 (de) | Berührungsloses Messsystem für sphärische und asphärische Oberflächen und Methode zur Benutzung | |
DE3781197T2 (de) | Verfahren und vorrichtung mit einem zweistrahleninterferenzmikroskop zur untersuchung von integrierten schaltungen und dergleichen. | |
DE68923172T2 (de) | Verfahren und Fühler für optoelektronische Winkelmessung. | |
DE102010016997B4 (de) | Inspektionssystem und Verfahren mit Mehrfachbildphasenverschiebungsanalyse | |
DE10154125A1 (de) | Messverfahren und Messsystem zur Vermessung der Abbildungsqualität eines optischen Abbildunsgssystems | |
DE69116852T2 (de) | Ausrichtung eines verkippten Spiegels | |
EP0370229A2 (de) | Interferometrisches Verfahren zur Prüfung von asphärische Wellenfronten erzeugenden optischen Elementen | |
DE102012204704A1 (de) | Messvorrichtung zum Vermessen einer Abbildungsgüte eines EUV-Objektives | |
DE19643018A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Messen des Verlaufs reflektierender Oberflächen | |
CH693968A5 (de) | Verfahren und Vorrichtung fuer die Topographiepruefung von Oberflaechen. | |
WO2001023833A1 (de) | Topometrische erfassung einer reflektierenden oberfläche | |
DE60132551T2 (de) | Verfahren und apparat zur messung der geometrischen struktur eines optischen bauteils durch lichtübertragung | |
EP1636542A1 (de) | Verfahren und messvorrichtung zur berühungslosen messung von winkeln oder winkeländerungen an gegenständen | |
DE4018005C2 (de) | Optische Prüfvorrichtung zum Prüfen eines optischen Systems | |
DE102006057606B4 (de) | Verfahren und Messvorrichtung zur Vermessung einer optisch glatten Oberfläche | |
WO2006081998A1 (de) | Vorrichtung zur positionsbestimmung voneinander distanzierter bereiche in transparenten und/oder diffusen objekten | |
EP1805476B1 (de) | Interferometer mit einer spiegelanordnung zur vermessung eines messobjektes | |
DE4413758C2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Prüfung der Gestalt einer Oberfläche eines zu vermessenden Objektes | |
DE10321883A1 (de) | Verfahren und Sensor zur hochgenauen optischen Abtastung | |
DE102017203390B4 (de) | Deflektometer und Verfahren zur Topografiebestimmung eines Objekts | |
EP1585938A1 (de) | Optisches messverfahren und prazisionsmessmaschine zur ermittlung von idealformabweichungen technisch polierter oberflachen | |
EP4067809A2 (de) | Computerimplementiertes verfahren, verfahren, messgerät und computerprogrammprodukt | |
DE19747061A1 (de) | Verfahren und Einrichtung zur flächenhaften, dreidimensionalen, optischen Vermessung von Objekten | |
EP2027434B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur bestimmung von formabweichungen und welligkeiten an stetigen freiformflächen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
ON | Later submitted papers | ||
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |