DE4212153A1 - Halbleiterlaser mit verteilter Rückkopplung - Google Patents
Halbleiterlaser mit verteilter RückkopplungInfo
- Publication number
- DE4212153A1 DE4212153A1 DE4212153A DE4212153A DE4212153A1 DE 4212153 A1 DE4212153 A1 DE 4212153A1 DE 4212153 A DE4212153 A DE 4212153A DE 4212153 A DE4212153 A DE 4212153A DE 4212153 A1 DE4212153 A1 DE 4212153A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- phase
- resonator
- semiconductor laser
- amount
- laser according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/12—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/0618—Details on the linewidth enhancement parameter alpha
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/12—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers
- H01S5/124—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers incorporating phase shifts
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/12—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers
- H01S5/124—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers incorporating phase shifts
- H01S5/1246—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers incorporating phase shifts plurality of phase shifts
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft einen Halbleiterlaser mit
verteilter Rückkopplung nach dem Oberbegriff des
Anspruchs 1. Dieser wird nachfolgend kurz als DFB-
(= Distributed Feedback) Laser bezeichnet.
DFB-Laser werden beispielsweise als Sendeelemente für
optische Nachrichtenübertragung über große Strecken
eingesetzt. Bei den dort übertragenen hohen Datenraten
macht sich Dispersion im Lichtwellenleiter bemerkbar,
ein zeitliches Auseinanderlaufen der übertragenen
Lichtimpulse aufgrund unterschiedlich schneller
Ausbreitung spektral verschiedener Lichtanteile. Um die
Dispersion niedrig zu halten, müssen die Lichtquellen
eine möglichst geringe spektrale Linienbreite und
kleine Emissionsfrequenzschwankungen aufweisen.
Bisher beschriebene theoretische Untersuchungen z. B.
von Kojima et al, IEEE Journal of Lightwave Technology,
Vol. LT-3, Oct. 1985, Seiten 1048 bis 1054 zeigen einen
Zusammenhang zwischen großen Resonatorlängen und großen
Kopplungskoeffizienten einerseits und einer geringen
Linienbreite andererseits. Eine verbesserte
Linienbreite durch einen Π/2-Phasensprung in der
Lasermitte und Auswirkungen von Reflexionen an den
Resonatorendflächen werden beschrieben. Auf den im
genannten Aufsatz beschriebenen Zusammenhängen basiert
eine Methode zur Analyse der spektralen Linienbreite
von DFB-Lasern, die in G. Duan et al, IEEE Jornal of
Quantum Electronics, Vol 26 No. 1, January 1990, Seiten
32 bis 40 veröffentlicht ist und dort auf DFB-Laser mit
Phasensprüngen und solche mit teilweise reflektierenden
Resonatorendflächen angewandt wird. Außerdem wird dort
ein effektiver Linienbreitefaktor für DFB-Laser
angegeben.
Aufgrund der bekannten Berechnungsmethoden konzipierte
DFB-Laser mit reduzierter Linienbreite und geringen
Emissionsfrequenzschwankungen sind jedoch in der Praxis
schwierig herzustellen, weil die entscheidenden
Parameter nicht genügend genau eingestellt werden
können. Die Änderung material- und geometrieabhängiger
Parameter, wie z. B. des Koppelfaktors, beeinflussen
zudem gleichzeitig für den Laserbetrieb wichtige
Randbedingungen.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, einen
DFB-Laser zu schaffen, bei dem eine reduzierte
Linienbreite auf einfache Weise eingestellt werden
kann, und bei dem die hierfür erforderlichen Parameter
bei der Herstellung reproduzierbar vorgegeben werden
können.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch einen
DFB-Laser mit den in Anspruch 1 angegebenen Merkmalen
gelöst. Ein solcher DFB-Laser weist eine reduzierte
Linienbreite und geringe Emissionsfrequenzschwankungen
gegenüber bekannten, einen Π/2-Phasensprung in der
Lasermitte enthaltenden DFB-Lasern auf.
Die Methode, Linienbreite und
Emissionsfrequenzschwankungen über materialunabhängige
Parameter, z. B. Ort und Betrag des Phasensprungs und
damit über die räumliche Gestalt des
Wellenleitergitters zu beeinflussen, ist bei der
Laser-Herstellung besser zu beherrschen und verbessert
die Reproduzierbarkeit der Kenndaten des
Halbleiterlasers. In den Unteransprüchen 2 bis 5 sind
Bereiche für Ort und Betrag von Phasensprüngen
angegeben, mit denen eine Reduktion von Linienbreite
und Emissionsfrequenzschwankungen erreicht wird.
In den Unteransprüchen 6 bis 10 sind diskrete Werte für
Ort und Betrag von Phasensprüngen genannt, in denen
eine optimale Reduktion von Linienbreite und
Emissionsfrequenzschwankungen erreicht wird. Die in den
Unteransprüchen 4, 5, 9 und 10 beschriebenen
Ausführungsformen, die jeweils zwei Phasensprünge
aufweisen, eignen sich bei minimierter Linienbreite und
Emissionsfrequenzschwankungen und gleichzeitig hoher
Seitenmodenunterdrückung für hohe Ausgangsleistungen.
Anspruch 12 gibt eine vorteilhafte Möglichkeit an,
einen Gitterphasensprung im Wellenleitergitter zu
erzeugen.
Im folgenden werden mögliche Ausführungen der Erfindung
anhand von Figuren erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 in vereinfachter Darstellung einen DFB-Laser
in Seitenansicht,
Fig. 2a den Verlauf der effektiven Reflektivität
reff, und
Fig. 2b den Verlauf der Umlaufphase Φeff für einen
DFB-Laser,
Fig. 3 eine Maßnahme zur Erzeugung eines
Phasensprungs in der Wellenleiterschicht,
Fig. 4 eine erfindungsgemäße Ausführungsform mit
einem Phasensprung,
Fig. 5 eine erfindungsgemäße Ausführungsform mit zwei
Phasensprüngen.
Der in Fig. 1 dargestellte DFB-Laser 1 weist ein
Substrat 2, eine aktive Zone 3 und ein
Wellenleitergitter 4 als eingebaute Struktur auf. Das
Wellenleitergitter 4 bewirkt eine wellenlängenselektive
Rückkopplung. Die Endflächen des Lasers 5, 6 sind zur
Unterdrückung von Fabry-Perot Moden meist entspiegelt.
Aus Symmetriegründen können, wenn die effektive
Reflektivität des Wellenleitergitters im Resonator den
Wert 1 erreicht (Fig. 2a), prinzipiell an zwei Orten
Emissionsmoden anschwingen, an denen die Umlaufphase
einen Nulldurchgang aufweist (Fig. 2b). Die Auswahl
einer der beiden Moden kann beispielsweise durch Einbau
eines Phasensprungs 7 mit Betrag Π/2 in der
Lasermitte getroffen werden. Dadurch wird ein
zusätzlicher Betrag zur Umlaufphase addiert und damit
die Emissionswellenlänge verschoben. Die Verschiebung
ist so bemessen, daß die ausgewählte Mode in die Nähe
des Maximums der effektiven Reflektivität, die andere
Mode aber in einen Wellenlängenbereich mit niedriger
Reflektivität verschoben wird. Somit kann nur noch die
ausgewählte Mode anschwingen.
In Fig. 2 sind die effektive Reflektivität (Fig. 2a)
sowie die zugehörigen Phasenverläufe (Fig. 2b) über der
Lichtwellenlänge λ (hier als Differenz zur
Braggwellenlänge λB) für den Fall eines mit
entspiegelten Endflächen ausgestatteten, aber ohne
Phasensprung konzipierten DFB-Lasers aufgetragen.
Brechungsindex n und Verstärkungskoeffizient g des
Lasermaterials sind bei einem solchen Laser von der
Ladungsträgerdichte N abhängig. Eine Erhöhung der
Ladungsträgerdichte, z. B. bei Modulation des
Laserlichts, verursacht einerseits eine Erhöhung des
Verstärkungskoeffizienten g und andererseits eine
Absenkung des Brechungsindex n. Dies kommt für g
jeweils durch die durchbrochene Kurve und für n durch
die punktierte Kurve zum Ausdruck.
Eine getrennte Betrachtung dieser Auswirkungen einer
Erhöhung der Ladungsträgerdichte bildet die Grundlage
für die erfindungsgemäße Reduzierung der Linienbreite
und der Emissionsfrequenzschwankungen unter Modulation.
Vorausgesetzt wird eine in der ersten Näherung
konstante Emissionswellenlänge.
Die Erhöhung des Verstärkungskoeffizienten bewirkt
entsprechend der durchbrochenen Linie in Fig. 2a eine
gleichsinnige Erhöhung der effektiven Reflektivität
beiderseits der Braggwellenlänge λbr, während sich
die Umlaufphase (Fig. 2b) unterhalb der
Braggwellenlänge in negativer und oberhalb der
Braggwellenlänge in positiver Richtung verschiebt.
Die Absenkung des Brechungsindes n entsprechend der
punktierten Linie in den Fig. 2a und 2b verschiebt
die Braggwellenlänge des Resonators und damit
gleichzeitig den Reflektivitätsverlauf sowie auch die
Phasenverläufe zu kleineren Wellenlängen. Bezogen auf
den ungestörten Reflexionsverlauf und Phasenverlauf
(durchgezogene Linie in Fig. 2a und 2b) erhöht sich die
effektive Reflektivität unterhalb, bzw. verringert sich
oberhalb der Braggwellenlänge, während sich die
Umlaufphase unterhalb und oberhalb der Braggwellenlänge
in positiver Richtung verschiebt.
Die oben beschriebenen Auswirkungen einer Erhöhung des
Verstärkungskoeffizienten und einer
Brechungsindexabsenkung überlagern sich im DFB-Laser.
Die Einflüsse der Verstärkungserhöhung und der
Brechungsindexabsenkung auf die effektive Reflektivität
überlagern sich derart, daß in Bereichen mit positiver
Steigung über der Wellenlänge sich beide Effekte
konstruktiv überlagern und zu einer verstärkten
Erhöhung der Reflektivität führen. In Bereichen mit
negativer Steigung der Reflektivität kompensieren sich
Erhöhung und Absenkung der Reflektivität.
Bei der Umlaufphase kompensieren sich die
Phasenverschiebungen unterhalb der Braggwellenlänge,
während sich oberhalb der Braggwellenlänge die
Phasenänderungen addieren.
DFB-Laser, deren Emissionsfrequenz in
Wellenlängenbereichen liegt, in denen die Reflektivität
mit größer werdender Wellenlänge zunimmt, weisen eine
reduzierte Linienbreite und verringerte
Emissionsfrequenzschwankungen auf. Die Umlaufphase,
welche die Emissionsfrequenz bestimmt, weist im
genannten Bereich geringere Abweichungen von ihrem
stationären Wert auf, wenn z. B. bei Modulation die
Ladungsträgerdichte erhöht wird.
Dieser Zusammenhang wird bei der Ausgestaltung eines
erfindungsgemäßen DFB-Lasers ausgenutzt, indem durch
Erzeugung von Phasensprüngen im Wellenleitergitter eine
Mode ausgewählt wird, bei der der Laser in einem
Bereich des Reflexionsverlaufes mit positiver Steigung
über der Wellenlänge emittiert.
In den folgenden Gleichungen wird jeweils der Einfluß
der Eigenschaften des Wellenleitergitters zum Ausdruck
gebracht, im Unterschied zu bekannten
Bestimmungsgleichungen.
Die Linienbreite Δv eines DFB-Lasers ist gegeben durch
wobei Rsp die Spontanemissionsrate pro Volumen und S
die Photonendichte im Resonator angibt. Anstelle des
materialabhängigen Henry′schen Linienbreitefaktors α
im Falle von Fabry-Perot-Lasern tritt hier für
DFB-Laser ein effektiver Linienbreitefaktor αeff
welcher nicht allein von Materialeigenschaften des
Lasers, sondern auch von Eigenschaften des
Wellenleitergitters abhängt.
Die Emissionsfrequenzschwankungen bei Modulation
(Chirp) weit unterhalb der Relaxationsfrequenz
des DFB-Lasers werden bestimmt durch
λ = Emissionswellenlänge
co = Lichtgeschwindigkeit im Volumen
e = Elementarladung
Leff = effektive Resonatorlänge
Leff = -½ dΦeff/dβ
β = Wellenzahl
Vact = Volumen der aktiven Zone
gth = Schwellverstärkung
ε = Verstärkungskompressionsfaktor
Γ = Führungsfaktor.
co = Lichtgeschwindigkeit im Volumen
e = Elementarladung
Leff = effektive Resonatorlänge
Leff = -½ dΦeff/dβ
β = Wellenzahl
Vact = Volumen der aktiven Zone
gth = Schwellverstärkung
ε = Verstärkungskompressionsfaktor
Γ = Führungsfaktor.
Mit der Ausgestaltung des Wellenleitergitters wird
vorzugsweise der effektive Linienbreitefaktor
minimiert, um die Linienbreite und die
Emissionsfrequenzschwankungen zu reduzieren.
Tabelle 1 gibt Bereiche und diskrete Werte für Ort und
Betrag von Phasensprüngen im Wellenleitergitter an, bei
denen der Einfluß der Eigenschaften des
Wellenleitergitters zu einem verbesserten effektiven
Linienbreitefaktor führt.
Bei der Ausführungsform eines DFB-Lasers mit
minimiertem Linienbreitefaktor wird ein Phasensprung
durch Einbau einer Wellenleiterzone erzeugt. Fig. 3
zeigt schematisch einen vergrößerten Ausschnitt des
Wellenleitergitters mit einer Wellenleiterzone 9. Der
Betrag des Phasensprungs Φ wird durch die Länge der
Wellenleiterzone 1 im Verhältnis zur Gitterperiode A
des Wellenleitergitters vorgegeben gemäß
Φ = 1 · π/Λ
Durch die Phasensprünge wird ein zusätzlicher Betrag
zur Umlaufphase addiert, so daß die Nulldurchgänge der
Umlaufphase verschoben werden und eine Mode ausgewählt
wird, bei der der Laser mit der zuvor festgelegten
Emissionsfrequenz emittiert.
Zweckmäßig für einen solchen DFB-Laser ist eine MQW
(Multi-Quantum-Well)-Struktur. Die Ausführungsbeispiele
basieren auf einem InGaAs/InGaAsP/InP-Schichtsystem.
Die Länge dieser DFB-Laser ist 500 µm. Der
Material-Linienbreitefaktor α liegt bei 3,5, der
Verstärkungskompressionsfaktor ε = 3.10-17 cm-3,
der Kopplungskoeffizient = 30cm-1 und die
Braggwellenlänge liegt bei 1,55 µm. Mit einem
effektiven Brechungsindex von 3,188 ergibt sich für das
Wellenleitergitter eine Gitterperiode Λ von 243,1 nm.
Ein Wellenleitersegment dieser Länge bewirkt eine
Phasendrehung der im Resonator umlaufenden optischen
Wellen um Π. Die Laserendflächen sind beidseitig
entspiegelt.
Die Abb. 3 und 4 zeigen Ausführungsformen, bei
denen die Linienbreite und
Emissionsfrequenzschwankungen minimiert sind und
gleichzeitig eine hohe Seitenmodenunterdrückung bei
hoher Ausgangsleistung erzielt wird.
Abb. 4 zeigt eine Ausführungsform mit einem
Phasensprung bei z = 187,5 µm. Der Betrag des
Phasensprungs ist 3/41 Π. Das entspricht einer Länge
der Wellenleiterzone von 182,32 nm. Ein solcher
DFB-Laser weist als typische Werte einen effektiven
Linienbreitefaktor αeff = 1,97 und eine
Emissionsfrequenzschwankung auf.
Abb. 5 zeigt eine Ausführungsform mit zwei
Phasensprüngen bei z = 125 µm und z = 375 µm. Der
Betrag der Phasensprünge ist jeweils 1/8 Π,
entsprechend einer Länge der Wellenleiterzone von
30,38 nm. Typische Werte für den effektiven
Linienbreitefaktor und die Emissionsfrequenzschwankung
sind αeff = 1,53 und = 110 MHz/mA.
Zum Vergleich: Für einen gleichartigen DFB-Laser mit
einem/2 Phasensprung in Lasermitte, bei dem das
Wellenleitergitter keinen Einfluß auf den
Linienbreitefaktor hat, ist α = 3,5 und = 190 MHz/mA.
In Abwandlung zu den Ausführungsbeispielen ist
prinzipiell auch eine einseitige Entspiegelung, soweit
die Restreflektivität unter 2% liegt, ausreichend, um
anhand des jeweils vorliegenden Reflexionsverlaufs den
effektiven Linienbreitenfaktor zu minimieren.
Claims (12)
1. Halbleiterlaser mit verteilter Rückkopplung
(DFB-Laser) (1), dessen periodisches Wellenleitergitter
(4) mindestens einen Phasensprung (7) zur Modenauswahl
aufweist und der zwei Resonatorendflächen (5, 6)
aufweist, von denen mindestens eine weitgehend
entspiegelt ist,
dadurch gekennzeichnet,
daß Ort und Betrag des Phasensprungs so bemessen sind,
daß die emittierte Mode in einem Wellenlängenbereich
liegt, in dem die effektive Reflektivität im Resonator
mit größer werdender Emissionswellenlänge ansteigt.
2. Halbleiterlaser nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß ein Phasensprung (7) vorgesehen
ist, welcher von einem der Resonatorendflächen (5, 6)
einen Abstand zwischen Null und einem Viertel der
Resonatorlänge (L) hat und einen Betrag aufweist, der
größer als 0 und kleiner als Π/2 ist.
3. Halbleiterlaser nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß ein Phasensprung (7) vorgesehen
ist, welcher von einer der Resonatorendflächen (5, 6)
einen Abstand zwischen einem und drei Vierteln der
Resonatorlänge (L) hat und einen Betrag aufweist, der
größer als Π/2 und kleiner als Π ist.
4. Halbleiterlaser nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß zwei Phasensprünge symmetrisch zur
Lasermitte angeordnet sind, die jeweils einen Abstand
zwischen drei Zehnteln und der Hälfte der
Resonatorlänge (L) von den Resonatorendflächen haben
und deren Betrag jeweils gleich und größer als 3/4Π
und kleiner als Π ist.
5. Halbleiterlaser nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß zwei Phasensprünge symmetrisch zur
Lasermitte angeordnet sind, die jeweils einen Abstand
der größer als Null und kleiner oder gleich einem
Viertel der Resonatorlänge (L) von den
Resonatorendflächen haben und deren Betrag jeweils
größer als 0 und kleiner als Π/4 ist.
6. Halbleiterlaser nach Anspruch 3, dadurch
gekennzeichnet, daß sich der Phasensprung (7) in der
Lasermitte befindet und einen Betrag von 3/4Π
aufweist.
7. Halbleiterlaser nach Anspruch 3, dadurch
gekennzeichnet, daß der Phasensprung (7) von einer der
Resonatorendflächen einen Abstand von drei Achteln der
Resonatorlänge (L) hat und einen Betrag von 3/4Π
aufweist.
8. Halbleiterlaser nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß der Phasensprung (7) einer der
Resonatorendflächen einen Abstand von einem Achtel der
Resonatorlänge (L) hat und einen Betrag von 1/4Π
aufweist.
9. Halbleiterlaser nach Anspruch 4, dadurch
gekennzeichnet, daß die Phasensprünge jeweils einen
Abstand von drei Achteln der Resonatorlänge von den
Resonatorendflächen haben und einen Betrag von jeweils
7/8Π aufweisen.
10. Halbleiterlaser nach Anspruch 5, dadurch
gekennzeichnet, daß die Phasensprünge jeweils einen
Abstand von einem Viertel der Resonatorlänge zu den
Resonatorendflächen (5, 6) haben und einen Betrag von
jeweils Π/8 aufweisen.
11. Halbleiterlaser nach einem der Ansprüche 1 bis 10,
dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens eine der
Resonatorendflächen mit einer Antireflexbeschichtung
versehen ist.
12. Halbleiterlaser nach einem der Ansprüche 1 bis 11,
dadurch gekennzeichnet, daß die Phasensprünge durch
Wellenleiterzonen ohne Wellenleitergitter (8) gebildet
werden.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4212153A DE4212153A1 (de) | 1992-04-10 | 1992-04-10 | Halbleiterlaser mit verteilter Rückkopplung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4212153A DE4212153A1 (de) | 1992-04-10 | 1992-04-10 | Halbleiterlaser mit verteilter Rückkopplung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4212153A1 true DE4212153A1 (de) | 1993-10-14 |
Family
ID=6456597
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4212153A Withdrawn DE4212153A1 (de) | 1992-04-10 | 1992-04-10 | Halbleiterlaser mit verteilter Rückkopplung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4212153A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10007823A1 (de) * | 2000-02-21 | 2001-08-23 | Abb Power Automation Ag Baden | Verfahren zur Datenübertragung |
US6920160B2 (en) | 2000-06-15 | 2005-07-19 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. | Laser resonators comprising mode-selective phase structures |
-
1992
- 1992-04-10 DE DE4212153A patent/DE4212153A1/de not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10007823A1 (de) * | 2000-02-21 | 2001-08-23 | Abb Power Automation Ag Baden | Verfahren zur Datenübertragung |
US6920160B2 (en) | 2000-06-15 | 2005-07-19 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. | Laser resonators comprising mode-selective phase structures |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69104429T2 (de) | Optisches Halbleiterbauelement. | |
DE69505064T2 (de) | Wellenlängenabstimmbarer Halbleiterlaser | |
DE3445725C2 (de) | ||
DE3851874T2 (de) | Über ein Gitter gekoppelter, aus seiner Oberfläche strahlender Laser und Verfahren zu seiner Modulation. | |
DE69521157T2 (de) | Polarisationsselektiver Halbleiterlaser, Lichtsender und optisches Kommunikationssystem unter Verwendung dieses Lasers | |
EP0418705B1 (de) | Interferometrischer Halbleiterlaser | |
DE69209016T2 (de) | Gegenstand der einen DFB-Halbleiterlaser enthält | |
DE69607493T2 (de) | Polarisationsmodenselektiver Halbleiterlaser, Modulationsverfahren und optisches Kommunikationssystem unter Verwendung dieses Lasers | |
DE69936615T2 (de) | Vorrichtung mit einer optischen Funktion, Herstellungsverfahren und optisches Kommunikationssystem | |
DE102009019996B4 (de) | DFB Laserdiode mit lateraler Kopplung für große Ausgangsleistungen | |
DE69614602T2 (de) | Optische Halbleitervorrichtung, Verfahren zu ihrer Ansteuerung, Verwendung der Vorrichtung als Lichtquelle und optisches Kommunikationssystemes mit einer derartigen Lichtquelle | |
DE4328777B4 (de) | Optische Filtervorrichtung | |
DE69111197T2 (de) | Abstimmbarer Halbleiterlaser mit verteilter Rückkopplung. | |
DE3873689T2 (de) | Halbleiterlaser. | |
DE19519608A1 (de) | Wellenlängenabstimmbare Halbleiter-Laservorrichtung | |
DE68913934T2 (de) | Verstimmbarer Halbleiterdiodenlaser mit verteilter Reflexion und Verfahren zum Herstellen eines derartigen Halbleiterdiodenlasers. | |
DE69011921T2 (de) | Halbleiterlaser mit veränderbarer Emissionswellenlänge und selektives Wellenlängenfitter und Verfahren zum Betrieb derselben. | |
DE19633373A1 (de) | Aufbau eines in der Wellenlänge abstimmbaren Lasers | |
DE3884503T2 (de) | Halbleiterlaser. | |
DE69029207T2 (de) | Optische Halbleitervorrichtung | |
DE69101693T2 (de) | Halbleiter-Wellenlängenwandler. | |
DE69411696T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines integrierten, optischen Halbleiterschaltkreises | |
DE69507347T2 (de) | Polarisationsselektiver Halbleiterlaser, Lichtsender, und optisches Kommunikationssystem unter Verwendung dieses Lasers | |
DE69521556T2 (de) | Herstellungsverfahren für eine optische Halbleitervorrichtung | |
DE68910492T2 (de) | Halbleiterlaservorrichtung. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8141 | Disposal/no request for examination |