DE4206182A1 - Bauteil fuer die uebertragung von energiereichem licht und verwendung des bauteils - Google Patents

Bauteil fuer die uebertragung von energiereichem licht und verwendung des bauteils

Info

Publication number
DE4206182A1
DE4206182A1 DE4206182A DE4206182A DE4206182A1 DE 4206182 A1 DE4206182 A1 DE 4206182A1 DE 4206182 A DE4206182 A DE 4206182A DE 4206182 A DE4206182 A DE 4206182A DE 4206182 A1 DE4206182 A1 DE 4206182A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
light
component according
quartz glass
transmission
component
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE4206182A
Other languages
English (en)
Other versions
DE4206182C2 (de
Inventor
Heinz Fabian
Stephan Dr Thomas
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG
Original Assignee
Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG filed Critical Heraeus Quarzglas GmbH and Co KG
Priority to DE4206182A priority Critical patent/DE4206182C2/de
Priority to US07/898,439 priority patent/US5315685A/en
Priority to JP4202575A priority patent/JP2589432B2/ja
Priority to EP92120012A priority patent/EP0557587A1/de
Publication of DE4206182A1 publication Critical patent/DE4206182A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE4206182C2 publication Critical patent/DE4206182C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61BDIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B18/00Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
    • A61B18/18Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by applying electromagnetic radiation, e.g. microwaves
    • A61B18/20Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by applying electromagnetic radiation, e.g. microwaves using laser
    • A61B18/22Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by applying electromagnetic radiation, e.g. microwaves using laser the beam being directed along or through a flexible conduit, e.g. an optical fibre; Couplings or hand-pieces therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/06Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C4/00Compositions for glass with special properties
    • C03C4/0085Compositions for glass with special properties for UV-transmitting glass
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/4296Coupling light guides with opto-electronic elements coupling with sources of high radiant energy, e.g. high power lasers, high temperature light sources
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/07Impurity concentration specified
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/08Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
    • C03B2201/12Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/20Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
    • C03B2201/23Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with hydroxyl groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/36Fuel or oxidant details, e.g. flow rate, flow rate ratio, fuel additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00Glass compositions
    • C03C2201/06Doped silica-based glasses
    • C03C2201/20Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide
    • C03C2201/23Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide containing hydroxyl groups

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surgery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Otolaryngology (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Heart & Thoracic Surgery (AREA)
  • Medical Informatics (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Bauteil für die Übertragung von Licht hoher Ener­ giedichte mit einer Wellenlänge zwischen 250 nm und 400 nm, aus synthetischem, hochreinem Quarzglas, mit einem, eine Lichteintrittsfläche aufweisenden Licht­ einkoppelbereich, einem, eine Lichtaustrittsfläche aufweisenden Lichtauskop­ pelbereich und einer zwischen Lichteinkoppelbereich und Lichtauskoppelbereich angeordneten Lichtübertragungsstrecke und die Verwendung des Bauteils.
Derartige Bauteile werden zur Übertragung von ultraviolettem Licht mit großer Energiedichte, insbesondere für die Übertragung des Lichtes von Excimer-La­ sern, beispielsweise zur Materialbearbeitung oder im medizinischen Bereich zur Behandlung von Gefäßerkrankungen oder in der Ophthalmologie, eingesetzt. Die Anwendung derartiger Bauteile für die Übertragung von Laserstrahlung im ultra­ violetten Spektralbereich wird jedoch durch die sogenannte "Photodegradation" eingeschränkt. Darunter wird die Abnahme der Transmission aufgrund der durch die energiereiche Strahlung induzierten Dämpfung verstanden. Dieser Effekt der "Photodegradation", der umso ausgeprägter ist, je größer die Energiedichte der zu übertragenen Lichtstrahlung ist, wurde unter anderem auch für die Excimer- Laserwellenlängen von 351 nm (XeF), 308 nm (XeCl) und 248 nm (KrF) beobachtet. Neben deutlich sichtbaren makroskopischen Defekten, wie Aufschmelzungen der Oberfläche, Abplatzungen oder Rissen, kann die Abnahme der Transmission durch mikroskopische Störungen der Glasstruktur hervorgerufen werden.
Aus der EP-A2 04 01 845 sind optische Bauteile zur Übertragung von ultravio­ lettem Licht mit einer Wellenlänge, die kürzer als 360 nm ist bekannt, wobei die Bauteile aus hochreinem, schlierenfreiem, synthetischem Quarzglas beste­ hen, das Hydroxylionen mit einem Gehalt von mindestens 50 ppm enthält und das mit Wasserstoff dotiert ist. Es wird darin erläutert, daß der Wasserstoff und der Hydroxylionengehalt des Glases einen positiven Einfluß auf die Beständig­ keit der Gläser gegenüber gepulsten Excimer-Laserstrahlen haben können. Gegen­ über Bauteilen aus reinem Quarzglas zeichnen sich die bekannten Bauteile durch eine verbesserte Strahlenbeständigkeit aus. Insbesondere sind mittels Bautei­ len aus derartigen Quarzgläsern höhere Energiedichten im Ultravioletten über­ tragbar, bevor eine merkliche Materialschädigung zu beobachten ist. Das heißt, die Photodegradations-Effekte der Wasserstoff- und Hydroxylionenhaltigen Quarzgläser treten gegenüber denjenigen von reinem Quarzglas erst bei höheren Energiedichten auf. Weiterhin ist aus dieser Schrift bekannt, daß metallische Verunreinigungen die Beständigkeit des Quarzglases gegen Laserstrahlen mit hohem Energiegehalt herabsetzen können.
Im Aufsatz von Rod S. Taylor et al., "Dependence of the damage and trans­ mission properties of fused silica fibers on the excimer laser wavelength", veröffentlicht in APPLIED OPTICS, Vol. 27, No. 15 (1988) wird die Strahlenbe­ ständigkeit von Bauteilen im Hinblick auf die Übertragung definierter Excimer-Laserstrahlung im Wellenlängenbereich von 193 nm bis 351 nm unter­ sucht. Bei den untersuchten Bauteilen handelt es sich um Fasern aus undotier­ tem, synthetischem Quarzglas mit einem Gehalt an Hydroxylionen zwischen 325 ppm und 1200 ppm. Es wird gezeigt, daß mit Ausnahme der 351 nm-Excimer-La­ serwellenlänge, die Transmission der Fasern mit zunehmender Betriebsdauer abnimmt, wobei jedoch einige Zeit nach der Bestrahlung mit dem energiereichen Laserlicht eine teilweise Erholung der Transmission zu beobachten ist. Weiter­ hin wurde in diesem Aufsatz in einem direkten Vergleich der Transmissionsände­ rung von Quarzglas-Fasern mit einem Hydroxylionengehalt von 400 ppm gegenüber solchen mit 1200 ppm gefunden, daß bei gleicher Wellenlänge und gleicher Ener­ gie der von den Fasern übertragenen Laserstrahlung, die Faser mit dem Hydro­ xylionengehalt von 400 ppm die geringere Transmissionsänderung erfährt.
Aus dem Artikel von C. Whitehurst, et al, "Ultraviolet pulse transmission in optical fibres", journal of modern optics, 1988, vol. 35, No. 3, 371-385, sind Bauteile bekannt, die aus Quarzglas bestehen, das bis zu 1500 ppm Hydroxylio­ nen enthält und das gegenüber reinem, "trockenem" Quarzglas eine zu höheren Energiedichten hin verschobene "Zerstörschwelle" aufweist. In diesem Artikel ist auch die Ausbildung von Bauteilen aus hydroxylionenhaltigem Quarzglas mit einem, eine Lichteintrittsfläche aufweisenden Lichteinkoppelbereich, einem, eine Lichtaustrittsfläche aufweisenden Lichtauskoppelbereich und einer zwi­ schen Lichteinkoppelbereich und Lichtauskoppelbereich angeordneten Lichtüber­ tragungsstrecke beschrieben, bei denen der Lichteinkoppelbereich in Form eines in Einstrahlrichtung sich verjüngenden Konus ausgebildet ist.
Anhand des Aufsatzes "Defects and Stress Phenomena in Optical Fibers" von H. Nishikawa et al., Proc OFC′1989, Paper THI1, sind Messungen des Absorp­ tionsverhaltens optischer Fasern bekannt geworden, wobei die Fasern durch ihren Gehalt an Sauerstoffionen, das Verfahren ihrer Herstellung, ihren Chlor­ ionengehalt und ihren Hydroxylionengehalt charakterisiert werden. An den Fa­ sern mit unterstöchiometrischem Gehalt an Sauerstoff konnte eine Absorptions­ bande bei 245 nm gemessen werden, wobei diese Absorptionsbande einer, aufgrund des unterstöchiometrischen Sauerstoffgehaltes, intrinsisch vorhandenen Defekt­ art der Glasstruktur, nämlich sogenannten "Sauerstofflücken" zugeordnet wird.
Ähnliche Messungen wurden auch von R. Thomon et al. in dem Aufsatz "Correlation of the 5.0- and 7.6-eV absorption bands in SiO2 with oxygen vacancy", PHYSICAL REVIEW B, Vol. 39 (1989), No. 2, veröffentlicht. Aufgrund von Messungen und entsprechenden Berechnungen wird dargelegt, daß die bei verschiedenen, hochreinen Quarzgläsern beobachteten Absorptionsbanden bei 5.0 eV (245 nm) auf Sauerstofflücken und andere Sauerstoffdefizit-Defekte zurückzuführen sind. Die für die Messungen verwendeten Quarzgläser werden dabei ebenfalls durch die Art ihrer Herstellung sowie durch ihre Gehalte an Chlorionen und Hydroxylionen charakterisiert.
Gegenüber energiereicher Strahlung im Wellenlängenbereich zwischen 250 nm und 400 nm zeigen die bekannten Bauteile aus Quarzglas eine Abnahme der Transmission von Beginn der Bestrahlung an. Ausgehend von einem Anfangswert nimmt dabei die Transmission der Bauteile normalerweise bis zu einem "Plateau­ wert" ab, ab dem sie sich auch bei längerer Bestrahlung nur noch wenig verän­ dert. Es hat sich gezeigt, daß diese Änderungen der Transmission von ihrem Anfangswert bis zu dem "Plateauwert" mit wachsender Energiedichte der zu über­ tragenden Strahlung deutlich ansteigen. Für zahlreiche Anwendungen sind jedoch größere Transmissionsänderungen im Verlaufe des Einsatzes des Bauteils nicht tolerierbar. Da aber andererseits gerade die maximal transmittierbare Energie­ dichte für die meisten Anwendungen der entscheidende Parameter ist, wird der Einsatzbereich der bekannten Bauteile durch den Effekt dieser "Photodegrada­ tion" stark eingeschränkt.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Bauteil anzugeben, das eine möglichst geringe Transmissionsänderung bei der Übertragung von Licht hoher Energiedichte und einer Wellenlänge zwischen 250 nm und 400 nm aufweist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß, ausgehend von dem bekannten Bauteil, das Quarzglas einen Hydroxylionengehalt im Bereich zwischen 50 ppm und 1200 ppm und einen unterstöchiometrischen Gehalt an Sauerstoff aufweist. Durch die Übertragung ultravioletter Strahlung werden im Material des Bauteils zwangsläufig Defekte erzeugt. Die Art der Defekte, deren Konzen­ tration sowie deren Auswirkungen auf die Transmission hängen im wesentlichen von der Energiedichte und der Wellenlänge der zu übertragenden Strahlung ab. Dabei können unter anderem sogenannte "Sauerstoffüberschußdefekte" entstehen, die zur Bildung oder Verstärkung von Absorptionsbanden bei verschiedenen Wel­ lenlängen im UV-und IR-Spektrum führen können. Insbesondere hat es sich ge­ zeigt, daß eine Absorptionsbande mit einem Maximum bei 265 nm mit der Bildung derartiger "Sauerstoffüberschußdefekte" korrelierbar ist. Neben der Charak­ teristik des zu übertragenden Lichtes hängt die Bildungswahrscheinlichkeit für derartige Defekte auch von der Glasstruktur, insbesondere von der Stärke und der Art der atomaren Bindungen sowie von der Koordination der Siliciumatome bzw. der mittleren Häufigkeit der Sauerstoffionen in der Nachbarschaft des Siliciums ab.
Durch den unterstöchiometrischen Gehalt an Sauerstoff im Quarzglas wird ge­ währleistet, daß die Wahrscheinlichkeit der Ausbildung derartiger "Sauerstoff­ überschußdefekte" bei der Übertragung von energiereicher Strahlung mit einer Wellenlänge zwischen 250 nm und 400 nm verringert wird.
Andererseits würde jedoch auch eine allmähliche Anhäufung derartiger Defekte zu einer sich stetig verschlechternden Transmission des Bauteils führen. Durch den Hydroxylionengehalt des Quarzglases kann aber bekanntermaßen ein Ausheilen bereits entstandener Defekte erreicht werden. Im Verlaufe der Übertragung von energiereichem Licht bildet sich dann durch die miteinander konkurrierenden Effekte der Defekt-Bildung und der Defekt-Ausheilung ein annäherndes Defekt- Gleichgewicht im Bauteil aus, das den "Plateauwert" der Transmission; also deren Abnahme vom ursprünglichen Transmissionswert, bestimmt. Es hat sich nun überraschend gezeigt, daß die bei der Übertragung von ultraviolettem, energie­ reichem Licht mit einer Wellenlänge zwischen 250 nm bis 400 nm in "sauerstoff­ armem", hochreinem Quarzglas erzeugten Defekte derart sind, daß die im Quarz­ glas-Netzwerk vorhandenen Hydroxylionen, insbesondere der darin enthaltene Wasserstoff, eine besonders effektive Ausheilung dieser Defekte bewirken kön­ nen, so daß die Abnahme der Transmission vom ursprünglichen Wert bis auf den "Plateauwert" sehr gering ist.
Als "hochrein" wird dabei ein Quarzglas bezeichnet, dessen Gehalt an Alkali­ ionen insgesamt weniger als 150 ppb, an Erdalkaliionen insgesamt weniger als 100 ppb und an anderen metallischen Verunreinigungen wie Ti, Cr, Fe, und Ni insgesamt weniger als 50 ppb beträgt.
Als besonders vorteilhaft hat sich ein Bauteil erwiesen, bei dem das Quarzglas einen Hydroxylionengehalt von weniger als 600 ppm aufweist und der unterstö­ chiometrische Gehalt an Sauerstoff derart ist, daß das Quarzglas eine Absorp­ tionsbande mit einem Maximum im Wellenlängenbereich von 240 nm bis 250 nm mit einer Intensität von mehr als 0,1 dB/m aufweist. Als Intensität der Absorp­ tionsbande ist hierbei der Dämpfungswert in dB/m gemeint, der der Höhe des Maximums der Absorptionsbande über der Grundlinie der Absorptionsbande ent­ spricht. Dadurch, daß der unterstöchiometrische Gehalt an Sauerstoff minde­ stens so groß ist, daß er im Quarzglas eine Absorptionsbande mit einer Inten­ sität von mindestens 0,1 dB/m im Maximum erzeugt, wird gewährleistet, daß so wenig "Sauerstoffüberschußdefekte" entstehen, daß die durch sie erzeugbare Absorption bei 265 nm nicht oder kaum merklich auftritt und daß gleichzeitig die durch die energiereiche Strahlung mit Wellenlängen zwischen 250 nm und 400 nm in dem derartig sauerstoffarmen Quarzglas erzeugten Defekte derart sind, daß sie entweder von relativ geringen Hydroxylionenkonzentrationen von 50 ppm bis 600 ppm sehr effektiv ausgeheilt werden können oder zumindest im Wellenlängenbereich um 250 nm bis ca. 400 nm keine oder wenig Absorption erzeugen und daher die Übertragung energiereicher Strahlung in diesem Wellenlängenbereich nicht oder kaum behindern. Dabei wirkt sich der relativ geringe Hydroxylionengehalt des Quarzglases von weniger als 600 ppm auf das Transmissionsverhalten des Quarzglases vorteilhaft aus. Es hat sich nämlich gezeigt, daß hohe Hydroxylionengehalte in Quarzgläsern ebenfalls zu einer Defektbildung bei der Übertragung energiereicher Strahlung beitragen können. Ein Hydroxylionengehalt von mindestens 200 ppm hat sich aber als günstig erwiesen.
Insbesondere hinsichtlich einer möglichst ungestörten Übertragung von Licht hoher Energiedichte über einen großen Wellenlängenbereich hat es sich als vorteilhaft erwiesen, daß das Bauteil Quarzglas aufweist, das im Wellenlängen­ bereich zwischen 200 nm und 350 nm nur eine einzige Absorptionsbande aufweist.
Für die Übertragung von energiereichem Licht über eine längere Strecke hat es sich bewährt, den Lichtübertragungsbereich in Form einer Faser oder in Form eines Stabes auszubilden. Dabei ist es besonders günstig, den Lichteinkoppel­ bereich und/oder den Lichtauskoppelbereich in Form eines in Richtung auf den Lichtübertragungsbereich sich verjüngenden Konus auszubilden. Da die Zerstör­ schwelle der Oberfläche eines Bauteils gegenüber derjenigen des Vollmaterials herabgesetzt ist, können bei der Einkopplung bzw. auch bei der Auskopplung von Strahlung bereits bei Leistungsdichten, die im Vollmaterial des Bauteils selbst übertragen werden könnten, Schädigungen oder Zerstörungen der Einkop­ pel- bzw. der Auskoppelfläche auftreten. Durch eine Vergrößerung dieser Ein­ koppel- bzw. Auskoppelflächen gegenüber dem Querschnitt der eigentlichen Lichtübertragungsstrecke und eine damit einhergehende mögliche Aufweitung des einzukoppelnden bzw. des auszukoppelnden Lichtstrahles, wird die optische Belastung pro Flächeneinheit der jeweiligen Fläche verringert.
Dies ermöglicht die Übertragung energiereicher Strahlung, die andernfalls aufgrund ihrer hohen optischen Leistungsdichten die Oberflächen des Bauteils beim Ein- bzw. beim Auskoppeln zerstören würden.
Zur Kompensation spezieller Strahlcharakteristiken des einzukoppelnden bzw. des auszukoppelnden Lichtes hat es sich auch als vorteilhaft erwiesen, die Lichteintrittsfläche und/oder die Lichtaustrittsfläche gekrümmt auszubilden.
Insbesondere für die Führung von energiereicher Strahlung über längere Strec­ ken oder Biegungen hat es sich als günstig erwiesen, mindestens die Lichtüber­ tragungsstrecke des Bauteils mit einem Mantelmaterial zu umhüllen, dessen Brechungsindex kleiner als 1,4589 ist. Als Mantelmaterial haben sich insbeson­ dere Fluor und/oder Bor dotiertes Quarzglas oder gegen ultraviolette Strahlen beständiger Kunststoff bewährt.
Als besonders vorteilhaft hat sich der Einsatz des erfindungsgemäßen Bauteils für die Übertragung von energiereichem Licht im Wellenlängenbereich zwischen 300 nm und 320 nm, insbesondere mit einer Wellenlänge um 310 nm erwiesen. Die aufgrund der Strahlung in diesem Wellenlängenbereich erzeugten Defekte werden entweder besonders leicht in dem erfindungsgemäßen Bauteil ausgeheilt oder sie erzeugen lediglich solche Absorptionsbanden, die für die Übertragung von Licht in diesem Wellenlängenbereich nicht störend sind.
In einer Ausführungsform, bei der der Lichtübertragungsbereich in Form einer Faser oder in Form eines Stabes ausgebildet ist, hat sich das erfindungsgemäße Bauteil auch zur Verwendung als Einzelelement in einer flexiblen Anordnung mehrerer, mit ihren Längsachsen parallel oder im wesentlichen parallel zuei­ nander verlaufender, gleicher oder geometrisch ähnlicher Einzelelemente für die Übertragung von ultraviolettem Licht mit hohen Energiedichten zur Mate­ rialbehandlung bewährt. Dabei können die Bauteile beispielsweise in einem aushärtbaren Material eingebettet und/oder gegeneinander verdrillt sein.
Für spezielle Anwendungen hat sich ein Bauteil bewährt, bei dem der Lichtüber­ tragungsbereich in Form eines dickwandigen Hohlzylinders oder in Form einer Lochscheibe ausgebildet ist. Diese Ausführungsform des erfindungsgemäßen Bau­ teils ist insbesondere bei der Übertragung von ultraviolettem Licht als Strahlaufweiter und/oder zur Homogenisierung der von einzelnen Lichtstrahlen eines Strahlerbündels ausgehenden Lichtenergien in einer Ebene senkrecht zur Licht-Ausbreitungsrichtung geeignet. Es hat sich gezeigt, daß energiereiche Strahlung aus dem Wellenlängenbereich zwischen 250 nm und 400 nm, die bei­ spielsweise von einzelnen, zu einem Bündel zusammengefaßten Lichtwellenleitern ausgeht, vorteilhaft in ein derartiges Bauteil eingekoppelt werden kann, wobei die von den einzelnen Lichtwellenleitern ausgehenden Lichtmoden sich im Ver­ laufe ihrer Übertragung über die Länge der Lichtübertragungsstrecke des Bau­ teils miteinander vermischen. Hierzu wird die Länge der Lichtübertragungs­ strecke vorteilhafterweise so gewählt, daß an der dem Lichtwellenleiter-Bündel abgewandten Seite des Bauteils, die Lichtenergien der einzelnen Lichtstrahlen aufgrund ihrer Divergenz zumindest teilweise überlappen. Ein zu behandelndes oder abzutragendes Material oder Gewebe kann dadurch gleichmäßig über eine größere Fläche mit hoher Energie beaufschlagt werden. Der Kanal in dem Hohlzy­ linder kann dabei der Zufuhr von gasförmigen oder flüssigen Medien sowie zur Durchführung von Führungsdrähten dienen. Dies ist beispielsweise bei der abla­ tiven Behandlung von Ablagerungen in Blutgefäßen mittels eines medizinischen Katheters, der aus einzelnen, mit ihren Längsachsen parallel zueinander ver­ laufenden Einzelfasern aufgebaut ist, über welche das Arbeitslicht übertragen wird, von Bedeutung.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und wird nachstehend näher erläutert. In der Zeichnung zeigt
Fig. 1 eine Messung der Dämpfung von verschiedenen Lichtwellenleitern und
Fig. 2 eine Messung des Photodegradations-Verhaltens eines erfindungsgemäßen Bauteils bei der Übertragung von Licht hoher Energiedichte mit hohen Pulszahlen, im Vergleich zu dem Photodegradations-Verhaltens eines Bauteils gemäß dem Stand der Technik.
Die in der Fig. 1 dargestellten Kurven 1, 2 und 3 stellen den Verlauf der Dämpfung von Lichtwellenleitern dar, die nach jeweils dem gleichen Verfahren aus undotiertem, hochreinem, synthetischem Quarzglas hergestellt worden sind. Das Material der Lichtwellenleiter unterscheidet sich lediglich aufgrund des unterschiedlichen Sauerstoffangebotes während der Materialherstellung. Die Lichtwellenleiter 1, 2, 3 wurden aus Vorformen gezogen, deren Hydroxylionen­ gehalt jeweils 600 ppm betrug.
Das Quarzglas für den Lichtwellenleiter 1 wurde mit einem Sauerstoffangebot hergestellt, das der Menge entspricht, die zur Herstellung eines Quarzglases mit korrekter Materialstöchiometrie (Silicium : Sauerstoff = 1 : 2) notwendig ist. Bei der Herstellung des Materials für den Lichtwellenleiter 2 wurde das Sauerstoffangebot im Vergleich dazu deutlich verringert, während bei der Her­ stellung des Quarzglases für den Lichtwellenleiter 3 ein Sauerstoffüberangebot gewählt wurde.
Mit Hilfe eines Plasma-Außenbeschichtungsverfahrens wurden auf die so herge­ stellten Quarzglaszylinder fluordotierte Quarzglas-Mantelschichten aufge­ bracht, wobei das Verhältnis zwischen dem Außendurchmesser des Mantels und dem Kerndurchmesser 1,1 betrug. Aus den so hergestellten Vorformen wurden dann die Lichtwellenleiter 1, 2 und 3 mit jeweils einem Faserdurchmesser von 220 µm gezogen.
Der Verlauf der Grunddämpfung der Lichtwellenleiter 1, 2, 3 im Spektralbereich zwischen 200 nm und 350 nm weist signifikante Unterschiede auf, die allein auf das unterschiedliche Sauerstoffangebot bei der Quarzglasherstellung zurückzu­ führen sind. Der Lichtwellenleiter 1 zeigt einen Kurvenverlauf, der durch den Anstieg der Streuung zu kürzeren Wellenlängen hin bestimmt wird. Der Lichtwel­ lenleiter 3, dessen Kern aus einem Quarzglas mit überstöchiometrischem Sauer­ stoffgehalt besteht, weist eine breite Absorptionsbande 4 mit einem Maximum bei ca. 265 nm auf, die die Kurvencharakteristik im untersuchten Spektralbe­ reich bestimmt. Aus dieser Absorptionsbande 4 kann auf das Vorhandensein von sog. "Sauerstoffüberschußdefekten" geschlossen werden.
Die Grunddämpfung des Lichtwellenleiters 2, dessen Kern aus einem Quarzglas mit unterstöchiometrischem Sauerstoffgehalt besteht, weist dagegen eine relativ schwach ausgeprägte, schmalbandige Absorption 5 mit einem Maximum bei ca. 245 nm auf. Diese Bande 5, deren Intensität ca. 0,2 dB/m beträgt, läßt auf das Vorhandensein sog. "Sauerstofflücken" oder andere Sauerstoff-Defekte schließen.
Durch Teilstücke der Lichtwellenleiter 1 und 2 wurde anschließend energie­ reiches XeCl-Excimer-Laserlicht übertragen und das Photodegradations-Verhalten gemessen. Die Wellenlänge des Excimer-Laserlichtes betrug dabei 308 nm, die Pulsdauer 28 ns, die Energiedichte 15 J/cm2 und die Impulsfrequenz 30 Hz. Bei den gemessenen Lichtwellenleitern 1a; 2a (Fig. 2) handelte es sich um 2 m lange Probenstücke. Die Ergebnisse dieser Messungen sind in der Fig. 2 dargestellt und zeigen den starken Einfluß des Sauerstoffangebotes bei der Kernmaterialherstellung auf die Photodegradationseigenschaften der daraus hergestellten Lichtwellenleiter.
Der mit der Bezugsziffer 1a bezeichnete Lichtwellenleiter, der dem Stand der Technik entspricht, zeigt einen raschen Abfall der ursprünglichen Transmission auf einen "Plateauwert" und nach ca. 20000 Laserpulsen eine Transmission von ca. 70% gegenüber dem Wert bei Bestrahlungsbeginn. Der mit der Bezugs­ ziffer 2a bezeichnete Lichtwellenleiter dessen Kern aus sauerstoffarmem Quarz­ glas besteht, zeigt hingegen ein besseres Photodegradationsverhalten. Nach 20000 Laserpulsen liegt die Transmission bei diesem Lichtwellenleiter 2a noch oberhalb von 90% ihres ursprünglichen Wertes. Die Transmission des Licht­ wellenleiters 2a betrug selbst nach 100 000 Laserpulsen immer noch 90% des ursprünglichen Wertes.

Claims (14)

1. Bauteil für die Übertragung von Licht hoher Energiedichte mit einer Wel­ lenlänge zwischen 250 nm und 400 nm, aus synthetischem, hochreinem Quarz­ glas, mit einem, eine Lichteintrittsfläche aufweisenden Lichteinkoppelbe­ reich, einem, eine Lichtaustrittsfläche aufweisenden Lichtauskoppelbereich und einer zwischen Lichteinkoppelbereich und Lichtauskoppelbereich ange­ ordneten Lichtübertragungsstrecke, dadurch gekennzeichnet, daß das Quarz­ glas einen Hydroxylionengehalt im Bereich zwischen 50 ppm und 1200 ppm und einen unterstöchiometrischen Gehalt an Sauerstoff aufweist.
2. Bauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Quarzglas einen Hydroxylionengehalt von weniger als 600 ppm aufweist und der unterstöchio­ metrische Gehalt an Sauerstoff derart ist, daß das Quarzglas eine Absorp­ tionsbande (5) mit einem Maximum im Wellenlängenbereich von 240 nm bis 250 nm mit einer Intensität von mehr als 0,1 dB/m aufweist.
3. Bauteil nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Quarzglas einen Hydroxylionengehalt von mindestens 200 ppm aufweist.
4. Bauteil nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Quarzglas im Wellenlängenbereich zwischen 200 nm und 350 nm nur eine ein­ zige Absorptionsbande (5) aufweist.
5. Bauteil nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Lichtübertragungsbereich in Form einer Faser oder in Form eines Stabes ausgebildet ist.
6. Bauteil nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Lichteinkoppelbe­ reich und/oder der Lichtauskoppelbereich in Form eines sich in Richtung auf die Lichtübertragungsstrecke verjüngenden Konus ausgebildet ist.
7. Bauteil nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Lichteintrittsfläche und/oder die Lichtaustrittsfläche gekrümmt ist.
8. Bauteil nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekenn­ zeichnet, daß mindestens die Lichtübertragungsstrecke von einem Mantelma­ terial umhüllt ist, das einen Brechungsindex von weniger als 1,4589 auf­ weist.
9. Bauteil nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Mantelmaterial mit Fluor und/oder Bor dotiertes Quarzglas enthält.
10. Bauteil nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Mantelmaterial einen gegen ultraviolette Strahlen beständigen Kunststoff enthält.
11. Bauteil nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4 oder 6 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtübertragungsstrecke in Form eines dickwandigen Hohlzylinders oder einer Lochscheibe ausgebildet ist.
12. Verwendung eines Bauteils nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 11 für die Übertragung von Licht hoher Energiedichte mit einer Wellenlänge im Bereich zwischen 300 nm und 320 nm, insbesondere mit einer Wellenlänge von 308 nm.
13. Verwendung eines Bauteils nach Anspruch 5 und einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4 und 6 bis 10 als Einzelelement in einer flexiblen Anord­ nung mehrerer, mit ihren Längsachsen im wesentlichen parallel zueinander verlaufender, gleicher oder geometrisch ähnlicher Einzelelemente für die Übertragung von ultraviolettem Licht mit hohen Energiedichten zur Materialbehandlung.
14. Verwendung eines Bauteils nach Anspruch 11 bei der Übertragung von ultra­ violettem Licht als Strahlaufweiter und/oder zur Homogenisierung der von einzelnen Lichtstrahlen eines Strahlerbündels ausgehenden Lichtenergien in einer Ebene senkrecht zur Licht-Ausbreitungsrichtung.
DE4206182A 1992-02-28 1992-02-28 Bauteil für die Übertragung von energiereichem Licht und Verwendung des Bauteils Expired - Fee Related DE4206182C2 (de)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4206182A DE4206182C2 (de) 1992-02-28 1992-02-28 Bauteil für die Übertragung von energiereichem Licht und Verwendung des Bauteils
US07/898,439 US5315685A (en) 1992-02-28 1992-06-15 Component for the transmission of high-energy light, and the application of the component
JP4202575A JP2589432B2 (ja) 1992-02-28 1992-07-29 高エネルギー光線を透過する為の素子及び同素子の使用
EP92120012A EP0557587A1 (de) 1992-02-28 1992-11-25 Bauteil für die Übertragung von energiereichem Licht und Verwendung des Bauteils

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4206182A DE4206182C2 (de) 1992-02-28 1992-02-28 Bauteil für die Übertragung von energiereichem Licht und Verwendung des Bauteils

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE4206182A1 true DE4206182A1 (de) 1993-09-02
DE4206182C2 DE4206182C2 (de) 1996-02-08

Family

ID=6452815

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE4206182A Expired - Fee Related DE4206182C2 (de) 1992-02-28 1992-02-28 Bauteil für die Übertragung von energiereichem Licht und Verwendung des Bauteils

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5315685A (de)
EP (1) EP0557587A1 (de)
JP (1) JP2589432B2 (de)
DE (1) DE4206182C2 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113225864A (zh) * 2021-05-24 2021-08-06 上海大学 一种紫外线发光二极管灯具及其制造方法

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6087283A (en) * 1995-01-06 2000-07-11 Nikon Corporation Silica glass for photolithography
US6518210B1 (en) * 1995-01-06 2003-02-11 Nikon Corporation Exposure apparatus including silica glass and method for producing silica glass
JP3203178B2 (ja) * 1996-02-27 2001-08-27 日立電線株式会社 光導波路、光モジュール及び光システム
EP2835360A1 (de) * 2013-08-06 2015-02-11 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Verfahren zur Herstellung eines SiO2-Sootkörpers in Gegenwart von Kohlenstoffmonoxid
JP7270620B2 (ja) * 2017-10-24 2023-05-10 コーニング インコーポレイテッド 紫外光をガイドして散乱させるための光拡散性光ファイバ
WO2020131420A1 (en) 2018-12-21 2020-06-25 Corning Incorporated Light diffusing multi-fiber design configured for use with uv leds

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0401845A2 (de) * 1989-06-09 1990-12-12 Heraeus Quarzglas GmbH Optische Teile und Rohlinge aus synthetischem Siliziumdioxidglas und Verfahren zu ihrer Herstellung

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4504114A (en) * 1982-05-10 1985-03-12 Raychem Corporation Method of transmitting UV light through optical fibers
EP0094236A1 (de) * 1982-05-10 1983-11-16 RAYCHEM CORPORATION (a California corporation) Verfahren zur Übertragung von UV-Licht
JPH0825773B2 (ja) * 1988-02-02 1996-03-13 信越石英株式会社 レーザー光学系の製造素体
DE3803413C1 (de) * 1988-02-05 1989-03-30 Heraeus Quarzschmelze Gmbh, 6450 Hanau, De
JPH0684254B2 (ja) * 1988-06-29 1994-10-26 三菱電線工業株式会社 耐放射線性マルチプルファイバ
JPH0624997B2 (ja) * 1989-09-11 1994-04-06 信越石英株式会社 レーザ光用光学系部材
DE4034059C1 (de) * 1990-10-26 1992-05-14 Heraeus Quarzglas Gmbh, 6450 Hanau, De
US5410428A (en) * 1990-10-30 1995-04-25 Shin-Etsu Quartz Products Co. Ltd. Optical member made of high-purity and transparent synthetic silica glass and method for production thereof or blank thereof

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0401845A2 (de) * 1989-06-09 1990-12-12 Heraeus Quarzglas GmbH Optische Teile und Rohlinge aus synthetischem Siliziumdioxidglas und Verfahren zu ihrer Herstellung

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113225864A (zh) * 2021-05-24 2021-08-06 上海大学 一种紫外线发光二极管灯具及其制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0557587A1 (de) 1993-09-01
JPH05330848A (ja) 1993-12-14
DE4206182C2 (de) 1996-02-08
US5315685A (en) 1994-05-24
JP2589432B2 (ja) 1997-03-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1770417B1 (de) Optische Faser und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE2824478C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Kopplungselementes
DE2723972C2 (de) Optisches Kopplungselement sowie Positioniervorrichtungen für derartige Elemente
DE2906071A1 (de) Verfahren zum ziehen von faeden aus thermoplastischem material
DE2122895A1 (de) Verfahren zur Herstellung optischer Fasern
DE2313203A1 (de) Lichtfokussierende optische faser
DE3106451A1 (de) Herstellungsverfahren fuer eine optische faser mit einem durch uv-strahlung gehaerteten ueberzug
DE2349906B2 (de) Glasfaser-Übertragungsleitung
DE1955119A1 (de) Verfahren zum Erhalt von Oberflaechen-Brechungsindexaenderungen bei einem Glaslichtleit-Bauelement
EP0780707A1 (de) Bauteil für die Übertragung energiereicher UV-Strahlung und Verfahren zur Herstellung eines solchen Bauteils und seine Verwendung
DE1295737B (de) Optischer Sender oder Verstaerker fuer kohaerentes Licht mit einem stimulierbaren Festkoerpermedium (Laser)
DE19505929C1 (de) Optisches Bauteil
DE2907650C3 (de) Multimode-Lichtleiter
DE4206182C2 (de) Bauteil für die Übertragung von energiereichem Licht und Verwendung des Bauteils
DE4034059C1 (de)
DE10112928C1 (de) Kapillaroptisches Element bestehend aus Kanäle bildenden Kapillaren und Verfahren zu dessen Herstellung
WO1998040319A1 (de) Vorform aus synthetischem kieselglas und vorrichtung zu ihrer herstellung
EP0977714B1 (de) Glas mit künstlicher isotopenverteilung für lichtwellenleiter
DE19928971A1 (de) Mehrfachmantellichtleiter, dort eingeschriebenes Langperiodenlichtleitergitter, und zugehöriges Einschreibeverfahren
DE2004955C3 (de) Verfahren zur Herstellung einer Lichtleitfaser
DE1949029C3 (de) Lichtleiter-Glaskörper
DE1949275C3 (de) Verfahren zur Herstellung einer optischen Gradientenfaser aus Glas
DE3803413C1 (de)
DE10392596T5 (de) Lichtleitfaserbündel und Verfahren zu dessen Herstellung
DE3232888A1 (de) Verfahren zur herstellung eines lichtwellenleiters

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG, 63450 HANAU, DE

8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: HERAEUS TENEVO AG, 63450 HANAU, DE

8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: HERAEUS TENEVO GMBH, 63450 HANAU, DE

8339 Ceased/non-payment of the annual fee