DE4136089A1 - Verfahren zum bestimmen der kristallorientierung in einem wafer - Google Patents
Verfahren zum bestimmen der kristallorientierung in einem waferInfo
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| DE4136089A DE4136089A1 (de) | 1991-10-30 | 1991-10-30 | Verfahren zum bestimmen der kristallorientierung in einem wafer |
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Cited By (4)
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|---|---|---|---|---|
| DE4334666C1 (de) * | 1993-10-12 | 1994-12-15 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zum anisotropen Ätzen monokristalliner Materialien |
| WO1997032341A1 (de) * | 1996-03-01 | 1997-09-04 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zum bestimmen der kristallorientierung in einem wafer |
| JP2018189460A (ja) * | 2017-05-01 | 2018-11-29 | セイコーエプソン株式会社 | エンコーダースケール、エンコーダースケールの製造方法、エンコーダー、ロボットおよびプリンター |
| CN112563149A (zh) * | 2020-12-11 | 2021-03-26 | 苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司 | 精准测量钻刻大小的方法及剥离工艺 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4022904A1 (de) * | 1990-07-16 | 1992-01-23 | Siemens Ag | Verfahren zum anbringen einer die orientierung des kristallgitters einer kristallscheibe angebenden markierung |
-
1991
- 1991-10-30 DE DE4136089A patent/DE4136089A1/de active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4022904A1 (de) * | 1990-07-16 | 1992-01-23 | Siemens Ag | Verfahren zum anbringen einer die orientierung des kristallgitters einer kristallscheibe angebenden markierung |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| BENEKING, H., Halbleiter-Technologie, B.G. Teubner Stuttgart 1991, S. 69, 70 * |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4334666C1 (de) * | 1993-10-12 | 1994-12-15 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zum anisotropen Ätzen monokristalliner Materialien |
| WO1997032341A1 (de) * | 1996-03-01 | 1997-09-04 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zum bestimmen der kristallorientierung in einem wafer |
| DE19609399A1 (de) * | 1996-03-01 | 1997-09-04 | Siemens Ag | Verfahren zum Bestimmen der Kristallorientierung in einem Wafer |
| US6177285B1 (en) | 1996-03-01 | 2001-01-23 | Siemens Aktiengesellschaft | Process for determining the crystal orientation in a wafer |
| DE19609399C2 (de) * | 1996-03-01 | 2002-05-29 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum Bestimmen der Kristallorientierung in einem Wafer |
| JP2018189460A (ja) * | 2017-05-01 | 2018-11-29 | セイコーエプソン株式会社 | エンコーダースケール、エンコーダースケールの製造方法、エンコーダー、ロボットおよびプリンター |
| CN112563149A (zh) * | 2020-12-11 | 2021-03-26 | 苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司 | 精准测量钻刻大小的方法及剥离工艺 |
| CN112563149B (zh) * | 2020-12-11 | 2023-12-01 | 苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司 | 精准测量钻刻大小的方法及剥离工艺 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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