DE4015292A1 - Drucksieb fuer den siebdruck von elektrischen elementen und strukturen auf einer traegerplatte mit unebenheiten - Google Patents
Drucksieb fuer den siebdruck von elektrischen elementen und strukturen auf einer traegerplatte mit unebenheitenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Drucksieb für den Siebdruck von
elektrischen Elementen und Strukturen auf einer Trägerplatte
mit Unebenheiten nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Es ist allgemein bekannt, in der sogenannten Dickfilmtechnik
mit Hilfe des Siebdrucks Strukturen, wie Leiterbahnen und
Brücken sowie elektrische Elemente, wie Widerstände, auf Lei
terplatten als Trägerplatten aufzubringen. Allgemein besteht
in der Halbleitertechnologie die Forderung nach kleineren
Strukturgrößen in der Aufbau- und Verbindungstechnik und
damit in der Entwicklung feinerer Leiterbahnen und geringerer
Abstände.
Ein wesentliches Hindernis auf dem Weg zu feineren Strukturen
waren die Stützstrukturen der bisher verwendeten Drucksiebe
aus Stahl- oder Polyestergewebe.
Eine bekannte Verbesserung wird dadurch erreicht, daß das
Drucksieb als Metallmaske ausgebildet ist. Diese Metallmaske
hat eine bestimmte Materialstärke und enthält von unten her
gesehen Aussparungen in der Gestalt und Höhe der zu drucken
den Elemente und Strukturen. Zur Rakelseite hin sind durch
gehende Drucköffnungen vorgesehen bzw. Stege im oberen Be
reich der Materialstärke enthalten, so daß sich die Druck
paste über die Drucköffnungen in der Aussparung auch unter
halb der Stege zusammenhängend verteilen kann. Eine solche
Metallmaske weist somit eine glatte Oberfläche auf, wobei
eine regelmäßig durchgehende Siebstruktur fehlt und statt
dessen im Bereich der zu druckenden Strukturen die Druck
öffnungen mit den Stegen vorhanden sind. Damit werden gleich
mäßige Drucke hoher Genauigkeit mit gleichmäßigen Randausbil
dungen möglich, sofern die Trägerplatte eben ist und die Me
tallmaske entsprechend eben aufliegt.
Präzise reproduzierbare Dickschichtstrukturen werden jedoch
nicht mehr bei Unebenheiten auf der Trägerplatte erzielt, da
dann das Drucksieb bzw. die Metallmaske während des Drucks
von den Unebenheiten hochgehalten wird und nicht mehr flächig
in Kontakt mit der Trägerplatte, beispielsweise einem kerami
schen Substrat, kommt. Die Folge davon sind ungleichmäßige
Ränder und insbesondere ungleichmäßige Schichtstärken. Diese
ungleichmäßigen Stärken hängen zudem von der Struktur der Un
ebenheiten ab. Solche Unebenheiten sind durch bereits vorhan
dene, in wenigstens einem vorhergegangenen Druckprozeß aufge
brachte Dickschichtstrukturen, insbesondere Leiterbahnen und/oder
Isolationsglasschichten, gebildet. Diese ungleichmäßigen
Schichtstärken sind besonders ungünstig, wenn nach mehreren
Druckprozessen Widerstände mit einer Widerstandspaste ge
druckt werden, da dadurch nur ungenau definierte Widerstands
werte erreichbar sind. Die Stabilität und Trimmbarkeit dieser
Widerstandsschichten wird somit erheblich negativ beeinflußt.
Zusätzlich zu den Aussparungen in den Bereichen wo gedruckt
wird, sind in den Bereichen der Unebenheiten auf der Träger
platte ebenfalls von unten her Aussparungen in der Material
stärke des Drucksiebs vorgesehen, die jedoch keine durchgehen
den Drucköffnungen aufweisen und damit von der Rakelseite her
abgedeckt sind. Das Drucksieb wird somit an den Unebenheiten
nicht mehr hochgehalten, sondern liegt im wesentlichen eben
auf der Trägerplatte auf und ist damit auch an der Rakelseite
plan und eben. Damit sind konturgenauere Drucke mit gleich
mäßigeren Schichtdicken möglich, was insbesondere bei ge
druckten Widerständen vorteilhaft ist und zu besser reprodu
zierbaren Ergebnissen führt.
Die Unebenheiten auf der ursprünglich planen Trägerplatte,
insbesondere aus keramischem Substrat, werden durch Dick
schichtstrukturen, insbesondere Leiterbahnen und/oder Isolier
glasschichten gebildet, die in vorhergegangenen Druckprozes
sen aufgebracht wurden. Vorteilhaft werden diese Dickschicht
strukturen insgesamt in der Materialstärke von unten her aus
gespart. Durch die ebene Auflage sind schon in unmittelbarer
Nähe dieser Unebenheiten neue Drucke mit gleichmäßiger
Schichtstärke und gleichmäßigen Rändern herstellbar. Damit
sind insgesamt feinere und gleichmäßigere Strukturen möglich.
Vorteilhaft wird das Drucksieb aus Metallblech als Metall
schablone durch beidseitiges Ätzen hergestellt. Eine Verbesse
rung der Elastizität und der Standzeiten wird erreicht, wenn
eine solche Metallschablone auf ein Gewebe, insbesondere ein
Stahlgewebe oder Kunststoffgewebe eines Siebdruckrahmens, auf
geklebt wird.
Die Erfindung wird anhand der Zeichnung näher erläutert.
Es zeigen:
Fig. 1 einen Querschnitt durch ein auf eine Trägerplatte mit
bereits vorhandener Struktur aufgelegtes Drucksieb
beim Druck von Widerständen nach dem Stand der Tech
nik,
Fig. 2 eine perspektivische Ansicht eines erfindungsgemäßen
Drucksiebs als Metallschablone, aufgelegt auf eine Trä
gerplatte mit bereits vorhandener Struktur,
Fig. 3 einen Querschnitt durch eine andere Ausführungsform
eines Drucksiebs als geätzte Metallschablone und
Fig. 4 einen Querschnitt durch eine weitere Ausführungsform
eines erfindungsgemäßen Drucksiebs.
In Fig. 1 ist eine Trägerplatte 1 als keramisches Substrat
dargestellt, wobei im gezeichneten Querschnitt beispielsweise
als Unebenheit eine Isolierglasbahn 2, die in einem vorherge
gangenen Druckprozeß bereits fest aufgebracht wurde, ange
geben ist. Ein Drucksieb 3 ist von unten her mit einer Sieb
gewebebeschichtung 4 versehen, die an den zu druckenden Be
reichen von oben her durchgehende Drucköffnungen 5, 6 auf
weist; der übrige Bereich ist durch die Siebgewebebeschich
tung 4 abgedeckt. Im vorliegenden Fall werden Widerstände 7,
8 zu beiden Seiten der Isolierglasbahn 2 gedruckt.
Fig. 1 zeigt den Stand der Technik, wobei zu erkennen ist,
daß durch die Isolierglasbahn 2 als Unebenheit das elastische
Drucksieb 3 angehoben und im Bereich neben der Isolierglas
bahn 2 von der Trägerplatte 1 abgehalten wird und sich erst
allmählich in einem größeren Abstand wieder anlegt. Damit
wird ein im Querschnitt unbestimmter, keilförmiger Druckbe
reich hergestellt, wobei die Siebgewebebeschichtung als Druck
maske von der zu bedruckenden Trägerplatte abgehoben ist und
damit die Druckpaste ziemlich undefiniert die Siebgewebebe
schichtung unterwandern kann, wie dies in Fig. 1 an den
Widerständen 7, 8 dargestellt wurde. Die erforderlichen, ge
nauen Abmessungen, Schichtdicken und gleichmäßigen Randaus
bildungen werden damit in der Nähe von Unebenheiten 2 nur
unbefriedigend erhalten.
In Fig. 2 ist ein erfindungsgemäßes Drucksieb als Edelmetall
schablone 9 bzw. Metallmaske dargestellt. Auch hier sollen un
mittelbar zu beiden Seiten einer Isolierglasbahn 2 auf einer
Trägerplatte 1 in Bereichen 10, 11 Widerstandsbahnen gedruckt
werden.
Dazu sind in den Bereichen 10, 11 an sich bekannte Aussparun
gen 12, 13 mit Querstegen 14, 15 vorgesehen. Die Querstege
14, 15 liegen nur im oberen Bereich der Materialstärke, so
daß darunter eine durchgehende, tunnelartige Ausnehmung gebil
det ist.
Zusätzlich ist im Bereich der Isolierglasbahn 2 in der Edel
metallschablone 9 von unten her eine weitere Aussparung 16
enthalten, die in der Form und Höhe der Isolierglasbahn 2 ent
spricht, jedoch nach oben zur Rakelseite hin keine durchgehen
de Öffnung aufweist und somit die Isolierglasbahn 2 nur über
greift und abdeckt.
Wie aus Fig. 2 zu ersehen, wird dadurch eine für den Druckvor
gang plane und ebene Oberfläche des Drucksiebs bzw. der Edel
metallschablone 9 geschaffen, wobei in den Druckbereichen 10,
11 die Schablone mit den Druckbereich begrenzenden Rändern
auf der Trägerplatte 1 aufliegt. Damit werden beim Druckvor
gang präzise Ränder und vorbestimmte Schichtdicken, insbeson
dere für Widerstände, erhalten.
In Fig. 3 ist eine andere Ausführung eines Drucksiebs als Me
tallschablone 17 dargestellt. Auf der Trägerplatte 1 sind aus
vorhergehenden Druckprozessen bereits Leiterbahnen 18, 19,
20, eine Isolierglasabdeckung 21 über der Leiterbahn 18 und
eine Brücke 22 von der Leiterbahn 19 über die Isolierglasab
deckung 21 aufgebracht. In der dargestellten Anordnung wird
ein Widerstand 23 zwischen den Leiterbahnen 19, 20 mit Hilfe
der Metallschablone 17 gedruckt.
Die Metallschablone 17 hat dazu wieder von unten her eine Aus
sparung 24, die die Unebenheit aus der Isolierglasabdeckung
21 und der Brücke 22 aufnimmt. Die weitere Aussparung 25 hat
zur Rakelseite durchgehende Drucköffnungen 26 in der Form
eines Rasters und bestimmt die Lage und Größe des Widerstan
des 23. Beim Druckvorgang wird mit Hilfe der Rakel die Wider
standspaste durch die Drucköffnungen 26 in die Aussparung 25
gepreßt. Auch hier sind die Druckbereiche in der Größe und
Form klar definiert, so daß gleichmäßige, reproduzierbare For
men und Schichtdicken erhalten werden.
Die Metallschablone 17 wird aus einem Metallblech als Metall
schablone hergestellt. Die Schichtdicke ist dabei je nach den
abzudeckenden und in der Schichtdicke aufzunehmenden Uneben
heiten und der gewünschten Schichtdicke für die zu druckenden
Elemente zu wählen. Zweckmäßig wird rostfreier Stahl (Ni-,
Cr-, Co-, Mo-Legierungen) verwendet. Eine solche Metallfolie
wird im Tauchlackierverfahren mit flüssigen Fotoresists oder
mit Trockenresists im Laminierverfahren auf beiden Seiten mit
handelsüblichen Laminatoren beschichtet, wie sie beim Herstel
len gedruckter Schaltungen üblich sind. Die Größe der Metall
folie wird dabei zweckmäßig so gewählt, daß sie auf allen
vier Seiten etwa 30 bis 50 mm über die zu bedruckende Träger
platte in der Größe hinausragt. Kopiert wird in an sich be
kannten Taschen, wobei je nach Art des verwendeten Resists
entweder negative oder positive Taschen eingesetzt werden.
Auf der einen Seite befindet sich dann das zu ätzende Raster
des Siebs bzw. der Drucköffnungen 26 und auf der anderen Sei
te das zu druckende Motiv in Form der Struktur der Aussparun
gen 24 und 25. Nach erfolgter Kopie und Entwicklung wird dann
der Ätzprozeß in einer doppelseitig arbeitenden Ätzmaschine
von beiden Seiten her durchgeführt. Von der Rakelseite her
entsteht somit das "Sieb" in Form der Drucköffnungen 26, wäh
rend von der Unterseite her die Druckschablone mit den Ausspa
rungen 24 und 25 entsteht, wodurch die Metallschablone eine
Doppelfunktion als Sieb und zugleich einer Abdeck- und Druck
schablone aufweist.
In Fig. 4 sind wieder die Trägerplatte 1, Leiterbahnen 18,
19, 20, eine Isolierglasabdeckung 21, eine Brücke 22 und der
gerade gedruckte Widerstand 23 entsprechend der Anordnung
nach Fig. 3 sowie eine weitere Ausführungsform eines Druck
siebs 27 zu erkennen. Auch hier ist eine geätzte Metallfolie
28 in Verbindung mit einem geflochtenen Metallsieb 29 ver
wendet. Im Bereich des Widerstands 23 ist das Metallsieb 29
von oben her offen und durchlässig. In den anderen Bereichen
ist das Metallsieb 29 dagegen durch Fotoresists 30 geschlos
sen und die darunterliegenden Teile sind abgedeckt.
Die geätzte Metallfolie kann durch Verbindung mit einem Stahl
gewebe 29 oder einem Kunststoffgewebe hochelastisch gestaltet
werden, so daß sie ohne Beeinträchtigung oder Zerstörung für
hohe Auflagen eingesetzt werden kann.
Claims (6)
1. Drucksieb für den Siebdruck von elektrischen Elementen und
Strukturen auf einer Trägerplatte mit Unebenheiten, wobei das
Drucksieb eine bestimmte Materialstärke aufweist und im ge
wünschten Druckbereich von unten her in der Materialstärke
Aussparungen in der Gestalt und Höhe der zu druckenden Elemen
te und Strukturen mit zur Rakelseite durchgehenden Drucköff
nungen enthalten sind, dadurch gekennzeichnet, daß der Be
reich der auf der Trägerplatte (1) vorliegenden Unebenheiten
(2; 18 bis 22) in der Materialstärke des Drucksiebs (9; 17;
27) von unten her wenigstens in der Höhe der Unebenheiten (2;
18 bis 22) mit Aussparungen (16; 24) ausgenommen ist, die Aus
sparungen (16; 24) jedoch von der Rakelseite her nicht durch
gehend und damit abgedeckt sind, so daß das Drucksieb (9; 17;
27) im wesentlichen eben auf der Trägerplatte (1) aufliegt.
2. Drucksieb nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Unebenheiten (2; 18 bis 22) auf der Trägerplatte (1) durch be
reits vorliegende, in wenigstens einem vorhergegangenen Druck
prozeß aufgebrachte Dickschichtstrukturen, insbesondere Lei
terbahnen (18, 19, 20, 22) und/oder Isolationsglasschichten
(2; 21) gebildet sind und entsprechende Aussparungen (16; 24)
im Drucksieb (9; 17; 27) enthalten sind, die nahe an neuen
Druckbereichen (10, 11) liegen, wobei insbesondere elektri
sche Widerstände (23) mit gleichmäßiger Schichtstärke und
geraden, gleichmäßigen Rändern herstellbar sind.
3. Drucksieb nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Trägerplatte (1) aus einem Substrat, insbesondere
einem keramischen Substrat oder einer Leiterplatte, besteht.
4. Drucksieb nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Drucksieb (9; 17; 27) aus Metallblech, ins
besondere aus einer Edelstahlfolie als Metallschablone herge
stellt ist.
5. Drucksieb nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Drucksieb bzw. die Metallschablone durch
beidseitiges Ätzen hergestellt ist, wobei von der einen Seite
(Rakelseite) her ein Raster mit den durchgehenden Drucköffnun
gen (26) und von der anderen Seite her die Aussparungen (16;
24) für die abzudeckenden Unebenheiten (2; 18 bis 22) und die
Aussparungen (12, 13; 25) für die zu druckenden Bereiche ge
ätzt sind.
6. Drucksieb nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Drucksieb bzw. die Metallschablone auf ein
Gewebe, insbesondere ein Stahlgewebe (29) oder Kunststoffge
webe eines Siebdruckrahmens aufgeklebt ist.
Priority Applications (1)
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DE19904015292 DE4015292A1 (de) | 1990-05-12 | 1990-05-12 | Drucksieb fuer den siebdruck von elektrischen elementen und strukturen auf einer traegerplatte mit unebenheiten |
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DE4015292A1 true DE4015292A1 (de) | 1991-11-14 |
Family
ID=6406264
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DE19904015292 Ceased DE4015292A1 (de) | 1990-05-12 | 1990-05-12 | Drucksieb fuer den siebdruck von elektrischen elementen und strukturen auf einer traegerplatte mit unebenheiten |
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---|---|
DE (1) | DE4015292A1 (de) |
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