DE3852813T2 - Infrarot-Strahlungsquelle und Verfahren zur Herstellung. - Google Patents
Infrarot-Strahlungsquelle und Verfahren zur Herstellung.Info
- Publication number
- DE3852813T2 DE3852813T2 DE3852813T DE3852813T DE3852813T2 DE 3852813 T2 DE3852813 T2 DE 3852813T2 DE 3852813 T DE3852813 T DE 3852813T DE 3852813 T DE3852813 T DE 3852813T DE 3852813 T2 DE3852813 T2 DE 3852813T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- chamber
- gas
- radiation
- radiation source
- source according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims description 98
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 44
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 238000010791 quenching Methods 0.000 claims description 16
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 claims description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims description 4
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 claims description 3
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 2
- 230000005283 ground state Effects 0.000 claims description 2
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 claims description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 64
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 6
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 3
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L barium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ba+2] OYLGJCQECKOTOL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001632 barium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000941 radioactive substance Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L sodium persulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000001117 sulphuric acid Substances 0.000 description 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/12—Selection of substances for gas fillings; Specified operating pressure or temperature
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/12—Selection of substances for gas fillings; Specified operating pressure or temperature
- H01J61/14—Selection of substances for gas fillings; Specified operating pressure or temperature having one or more carbon compounds as the principal constituents
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/30—Vessels; Containers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/30—Vessels; Containers
- H01J61/35—Vessels; Containers provided with coatings on the walls thereof; Selection of materials for the coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
- H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
- H01J9/245—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases specially adapted for gas discharge tubes or lamps
- H01J9/247—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases specially adapted for gas discharge tubes or lamps specially adapted for gas-discharge lamps
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Discharge Lamps And Accessories Thereof (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft abgeschlossene, unter Entladung von molekularem Gas arbeitende Quellen ohne innere Elektroden, die bei diskreten, nicht-kohärenten und spontanen Emissionsfrequenzen im infraroten (IR) Spektrum strahlen, und ein Verfahren zur Herstellung derartiger Strahlungsquellen.
- Abgeschlossene (das Gegenteil davon sind nicht abgeschlossene, bei kontinuierlicher Strömung arbeitende) IR-Strahlungsquellen, die unter Entladung eines molekularen Gases arbeiten, sind im Stand der Technik bekannt. Derartige Strahlungsquellen weisen jedoch aufgrund einer Dissoziation und/oder Erschöpfung des IR-Strahlung emittierenden Gases während des Betriebs im allgemeinen eine kurze Lebensdauer auf und sind aufgrund der nicht-strahlenden Relaxation der angeregten Moleküle schwach. Auch ist das Verhältnis der IR-Strahlungsabgabe zur zugeführten Energie bei diesen bekannten Strahlungsquellen niedrig. Um einige dieser Nachteile zu überwinden, wurden Lösungen vorgeschlagen, die ziemlich komplizierte Strukturen ein schließen, beispielsweise die Vorrichtung, die beschrieben ist in der Druckschrift US-A 3,984,727 (Robert A. Young), und die Vorrichtung, die beschrieben ist in der Druckschrift GB-A 1,591,709 (R.S. Webley).
- Aus der Druckschrift "Infrared Emission of CO&sub2;-N&sub2;- and CO&sub2;-N&sub2;-He Plasmas; T.K. McCubbin und Yu Hak Hahn: Journal of The Optical Society of America 57 (11)" ist auch eine Quelle für IR-Strahlung bekannt, die einen kontinuierlichen Strom einer IR-Strahlung emittierenden Gasmischung durch eine Kammer umfaßt, die durch Wandungen definiert ist, die wenigstens einen Teilbereich aufweisen, der für IR-Strahlung transparent ist.
- Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die Nachteile der Vorrichtungen des Standes der Technik zu verbessern und IR-Strahlungsquellen mit einfacher Struktur bereitzustellen, die in der Lage sind, Spektrallinien in einem schmalen Bereich bei diskreten Frequenzen einer spontanen Emission zu emittieren, die charakteristisch sind für die Bande des molekularen Rotations-Vibrations-Übergangs einer oder mehrerer Gasspezies.
- Es ist eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung, IR-Strahlungsquellen bereitzustellen, die kontinuierlich für wenigstens einige Monate arbeiten, und eine Energieabgabe bei ausgewahlten Frequenzen von wenigstens einigen Milliwatt und eine Energiewirksamkeit aufweisen, die derart ist, daß die spezielle IR-Abgabeenergie bei diesen Frequenzen in der Größenordnung von einigen Prozent oder sogar einigen 10 Prozent der Gesamtenergie liegt, die zum Betrieb dieser Strahlungsquellen benötigt wird.
- Gemäß der Erfindung wird bereitgestellt, eine IR-Strahlungsquelle, die ein Gehäuse umfaßt, das zwischen seinen Wandungen eine abgeschlossene, elektrodenlose Kammer definiert, wobei die Wandungen wenigstens einen Teilbereich aufweisen, der für IR-Strahlung transparent ist, wobei die IR-Strahlungsquelle dadurch gekennzeichnet ist, daß die abgeschlossene, elektrodenlose Kammer eine Gasmischung wenigstens eines molekularen, im IR-Strahlungsbereich aktiven Gases, wenigstens eines Puffergases und wenigstens eines Edelgases enthält, wobei die IR-Strahlungsquelle diskrete, ausschließlich nicht-kohärente, spontane Emissionsfrequenzen im IR-Spektrum emittiert, die charakteristisch für den Zerfall des wenigstens einen molekularen, im IR-Strahlungsbereich aktiven Gases von seinem Rotations-Vibrations-Zustand in seinen Grundzustand sind.
- Die Erfindung stellt auch ein Verfahren zur Herstellung einer IR-Strahlungsquelle bereit, das die Schritte umfaßt, daß man
- (a) ein Gehäuse bereitstellt, das aus einem dielektrischen Material hergestellt ist und zwischen seinen Wandungen eine Kammer definiert:
- (b) die Kammer in einem Reinigungsmittel einweicht:
- (c) die Kammer sorgfältig mit destilliertem, entionisiertem Wasser spült:
- (d) die Kammer trocknet:
- (e) die Kammer bei einer Temperatur von etwa 200 bis 300 ºC ausheizt:
- (f) in die Kammer wenigstens ein Edelgas einläßt, eine Entladung in der Kammer für einen Zeitraum bewirkt und das Gas aus der Kammer abläßt:
- (g) die Kammer mit einer Gasmischung füllt, die wenigstens ein molekulares, im IR- Strahlungsbereich aktives Gas, wenigstens ein Puffergas und wenigstens ein Edelgas enthält:
- (h) eine Entladung für eine Zeitdauer in der Kammer, die die in Schritt (g) eingeführte Gasmischung enthält, bewirkt, die Gasmischung aus der Kammer ausleert und die Kammer mit einer frischen Gasmischung wie in Schritt (g) füllt; und
- (i) die Kammer hermetisch verschließt.
- Die Erfindung wird nun in Verbindung mit bestimmten bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die folgenden veranschaulichenden Figuren beschrieben, so daß sie noch vollständiger verstanden werden kann.
- Es wird nun speziell auf die Figuren im einzelnen Bezug genommen. Dabei ist zu betonen, daß die gezeigten Einzelheiten nur beispielhaft und zu Zwecken der veranschaulichenden Diskussion der bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung zu verstehen sind und mit dem Zweck präsentiert werden, die Fakten bereitzustellen, von denen angenommen wird, daß sie die am meisten nützliche und am einfachsten zu verstehende Beschreibung der Prinzipien und konzeptionellen Aspekte der Erfindung sind. In dieser Hinsicht wird kein Versuch unternommen, strukturelle Einzelheiten der Erfindung in noch detaillierteren Einzelheiten zu zeigen, als dies für das fundamentale Verstandnis der Erfindung nötig ist, wobei die Beschreibung, zusammengenommen mit den Figuren, Fachleuten in diesem Bereich offenbar macht, wie einige Formen der Erfindung in der Praxis ausgeführt werden können.
- In den Figuren zeigen
- Figur 1 eine schematische Wiedergabe, teilweise im Querschnitt, einer IR-Strahlungsquelle gemäß der vorliegenden Erfindung;
- Figur 2 eine Grafik, die ein diskretes Emissionsspektrum einer IR-Strahlungsquelle zeigt;
- Figur 3 eine schematische Wiedergabe einer Ausführungsform einer IR-Strahlungsquelle gemaß der Erfindung; und
- Figur 4 eine schematische Wiedergabe einer zwei Kammern umfassenden IR- Strahlungsquelle.
- Es wird nun Bezug auf Figur 1 genommen. Darin wird eine IR-Strahlungsquelle 2 veranschaulicht, die aus einem Gehäuse 4 besteht, das zwischen seinen Wandungen eine abgeschlossene Kammer 6 definiert. Das Gehäuse 4 ist aus einem dielektrischen Material wie beispielsweise Pyrex , Glas oder Quarz hergestellt und weist wenigstens eine Wandung 8 auf, die für IR-Strahlung transparent ist. Diese Strahlung kann während des Betriebs aus der Kammer in Richtung der Pfeile A emittiert werden. Um Gasmoleküle, die in der Kammer 6 enthalten sind, anzuregen, kann das Gehäuse 4 jedoch an seiner Außenseite mit einem Paar Elektroden 10 und 12 ausgestattet sein, die über ein Kabel 14 mit einer RF- (Radiofrequenz-)Verstärkervorrichtung (driver) (nicht gezeigt) zur Versorgung der Quelle 2 mit Energie und zur Steuerung der Quelle 2 verbindbar sind.
- In Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung wird der Innenraum des Gehäuses 4 mit einer Gasmischung gefüllt, die enthält:
- a) wenigstens ein molekulares, im IR-Strahlungsbereich aktives Gas, das in der Lage ist, IR-Strahlung einer bekannten diskreten Strahlenverteilung zu emittieren, wenn es in geeigneter Weise angeregt wird;
- b) wenigstens ein Puffergas, das einen relativ langlebigen Zustand angeregter Energieniveaus aufweist und in der Lage ist, die absorbierte Anregungsenergie zu speichern, um die Anregungsrate und Emissionsrate des IR-aktiven Gases durch einen V-V- (Vibrations-Vibrations-)Kollisionsprozess zu erhöhen: und
- c) wenigstens ein Edelgas zur Unterstützung der Initiierung der Entladung der Gasmischung und zur Erhöhung der Konzentration freier Elektronen in der Kammer.
- Experimente, die mit derartigen Mischungen durchgeführt wurden, haben gezeigt, daß bei dem Ziel, zu erreichen, daß eine IR-Strahlungsquelle eine längere Lebensdauer, eine erhöhte Emission und/oder eine geeignete Modulation der emittierten IR-Strahlung zeigt, mehrere miteinander in Verbindung stehende Parameter in Betracht gezogen werden sollten:
- i) die Mischung der oben beschriebenen drei Gastypen;
- ii) der Druck der Mischung innerhalb der Kammer; und
- iii) die Konfiguration der Kammer.
- Es werden nun diese miteinander in Verbindung stehenden Parameter betrachtet. Es kann festgestellt werden, daß während der natürlichen Zerfallszeit der angeregten, im IR- Strahlungsbereich aktiven Moleküle, z.B. in der Größenordnung von einigen Millisekunden, die Moleküle eine Neigung dazu haben, durch drei unterschiedliche Prozesse abgefangen (gequenched) zu werden, nämlich Quenchen durch die Wandung, Quenchen durch Kollision miteinander und Selbstquenchen. Der Prozess des Quenchens an der Wandung wird hervorgerufen durch die Diffusion angeregter Moleküle aus einem Ort in der Masse des gasförmigen Mediums zu den Wandungen des Gehäuses. Dort wird das Molekül schnell gequencht, und die Anregung geht verloren. Die mittlere Diffusionszeit für eine mittlere Größe einer Strahlungsquellen die bei Gasdrücken arbeitet, die niedriger sind als die optimalen Drücke für hohe Leistungsabgabe ist einige Male schneller als die Strahlungs- Lebensdauer. Dies führt offensichtlich zu einer erheblichen Verringerung der IR- Strahlungsintensität der Umwandlungswirksamkeit der Entladungsenergie, verglichen mit der entsprechenden Situation in atomaren Quellen im sichtbaren oder UV-Bereich des Spektrums.
- Das Quenchen aufgrund von Kollisionen tritt auf zwischen den im IR-Strahlungsbereich aktiven Molekülen und anderen Bestandteilen der Mischung, einschließlich Verunreinigungen. Vorzeitiges Quenchen der angeregten Zustände durch Kollision angeregter Moleküle mit anderen Atomen oder Molekülen, die in der Gasmischung zugegen sind, führt zu einer Senkung der Intensität der IR-Strahlungsemission und der Effizienz der IR-Strahlungsquelle.
- Die Natur eines speziellen Abfangmittels (Quenching-Mittels) hängt ab von dem spezifischen emittierenden Molekül und von dem angeregten Zustand. Beispielsweise ist die 4,27- Emission des (001)-Zustands zum (000)-Zustand eines CO&sub2;-Moleküls besonders empfänglich für ein Quenchen durch Kollision mit Wasser oder Wasserstoffmolekülen.
- Letztendlich werden Moleküle im angeregten Zustand, die charakteristische IR-Strahlung emittieren, oft durch Kollision mit nicht angeregten Molekülen derselben Spezies gequencht. Dieser Vorgang wird "Selbstquenchen" genannt, und er begrenzt drastisch den Gesamtdruck der aktiven Spezies, der in der IR-Strahlung emiuierenden Strahlungsquelle zulässig ist. Daraus folgt, daß die im IR-Strahlungsbereich aktive Molekülspezies in der Strahlungsquelle sowie atomare oder molekulare Pufferspezies bei streng gebundenen Drücken gehalten werden sollten, die vorbestimmte Werte nicht übersteigen. Da eine Diffusion zu den Wandungen des Gehäuses schneller bei vermindertem Druck erfolgt, sind Wandungsquenchen und Quenchen durch Kollision voneinander abhängig. Daher können nur Strahlungsquellen mit relativ großer Größe hohe Emissionsintensitäten bei beträchtlicher Effizienz der Energieumwandlung aufrechterhalten.
- Beispiele von IR-Strahlungsquellen, die in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung gebaut und betrieben werden, sind die folgenden: Beispiel Nr. Gasmischung relative Drücke
- Der Gesamtdruck in der Kammer kann von 1,33 10² Pa bis 133 10² Pa (1 bis 100 Torr) schwanken.
- Figur 2 veranschaulicht die Emissionsintensität einer IR-Strahlungsquelle, die CO&sub2;, N&sub2;, Xe und He umfaßt, die relative Partialdrücke von 1,2,3,3 und ein Gesamtdruck im Bereich von 8,0 10² Pa bis 3,3 10³ Pa (6 bis 25 Torr) aufweisen. Die Quelle wurde angeregt mit einem Radiofrequenz-(RF)-Oszillator, der in einem Frequenzbereich von 4 bis 7 MHz bei einer mittleren Ausgangsleistung von Hunderten von Milliwatt arbeitete. Die Energieabgabe von der Strahlungsquelle liegt in der Größenordnung von mehreren zehn Milliwatt.
- Es wird nun auf die Figuren 3 und 4 Bezug genommen. Unter Bezugnahme auf den Aspekt der Konfiguration der IR-Strahlungsquellen ist festzustellen, daß dieser Begriff, wie er in der vorliegenden Beschreibung verwendet wird, so verstanden wird, daß er beides einschließt, nämlich die Gesamtgröße und -form eines Gehäuses, das eine Kammer 6 definiert, die die Mischung des Gases enthält.
- In einer Gasmischung von Beispiel Nr. 2 beträgt beispielsweise die Lebensdauer im (001)- Vibrationszustand eines Kohlendioxid-(CO&sub2;)-Moleküls, der die 4,27 u-Emission erzeugt, etwa 5 Millisekunden. Daraus folgt, daß zur Maximierung der IR-Ausstoßleistung die Dimensionen der Kammer im Bereich der Entladung und die gesamte Gasmischung und die Partialdrücke so gewählt werden sollten, daß die Möglichkeit vermieden wird, daß eine Diffusion zur Wandung viel weniger Zeit in Anspruch nehmen könnte als diese Zeit, und daß die verschiedenen Kollisions-Relaxations-Schritte mit einer höheren Geschwindigkeit als 1/5 Millisekunden = 200 s&supmin;¹ eintreten. Wenn es jedoch erwünscht ist, schnellere Modulationsraten der emittierten IR-Strahlung zu erhalten, sollte die Größe der Kammer klein genug sein, so daß die Diffusion der Moleküle zu den Wandungen der Kammer weniger Zeit in Anspruch nimmt als die Zerfallszeit des Moleküls. Für das CO&sub2;-Molekül beträgt die Zerfallszeit etwa 5 Millisekunden: die Zerfallszeit für CO (siehe Beispiel Nr. 4) beträgt etwa 30 Millisekunden.
- Wie in Figur 3 zu sehen ist, ist das Gehäuse 4 aus zwei Bereichen aufgebaut, nämlich einem ersten Bereich mit einem größeren Durchmesser D (etwa 40 mm) und einer Länge L (etwa 50 mm), der das Reservoir genannt wird, und einem zweiten Bereich mit einem geringeren Durchmesser d (etwa 15 mm) und einer Länge 1 (etwa 30 mm), genannt der Entladungsbereich oder die Entladungszone. Die beiden Elektroden 10 und 12 werden mit der Entladungszone gekoppelt. Bei Anregung tritt die gewünschte Gasemission aus der Kammer in Richtung des Pfeils A aus. Wie ersichtlich ist, wird also das größere Volumen der Kammer 6 als Reservoir zur konstanten Nachlieferung von Gas in die Entladungszone mit der selben Mischung von Gasmolekülen benutzt. Dieser Typ der Konfiguration der Strahlungsquelle erhöht die Lebensdauer und Stabilität der Ausstoßleistung einer Strahlungsquelle.
- Experimente, die mit einer IR-Strahlungsquelle mit einer Konfiguration gemaß Figur 3, die mit einer Gasmischung gemäß dem obigen Beispiel 2 gefüllt war, durchgeführt wurden, haben gezeigt, daß eine Zeit der Lebensdauer erreicht werden kann, die über 10.000 Stunden eines kontinuierlichen Betriebs übersteigt. Experimente, die mit einer Strahlungsquelle durchgeführt wurden, die eine Gasmischung gemaß Beispiel 4 enthielt, führten zu einem kontinuierlichen Betrieb über eine Zeit, die 5.000 Stunden überschritt.
- Weitere Ergebnisse von Experimenten, die durchgeführt wurden, sind in den folgenden Tabellen zusammengefaßt: Tabelle I Abhängigkeit der IR-Strahlungszerfallszeit vom Druck Konfiguration der Strahlungsquelle gemäß Figur 1; D = 15 mm: Gasmischung von Beispiel 3 Gesamtdruck in der Kammer Zerfallszeit (ms) Vergleichs-IR-Strahlungsausstoß Tabelle II Abhängigkeit der IR-Strahlungszerfallszeit von der Gasmischung Konfiguration der Strahlungsqueile gemaß Figur 1; D = 15 mm; Gesamtdruck: 13,3 10² Pa (10 Torr) Gasmischung Zerfallszeit (ms) Vergleichs-IR-Strahlungsaustoß Tabelle III Abhängigkeit der IR-Strahlungszerfallszeit von der Konfiguration der Gaskammer Gasmischung von Beispiel Nr. 3: Gesamtdruck: 13,3 10² Pa (10 Torr) Durchmesser der Gaskammer (mm) Zerfallszeit (ms) Vergleichs-IR-Strahlungsausstoß
- Es wird nun auf Figur 4 Bezug genommen. Darin ist eine modifizierte Strahlungsquelle 2 veranschaulicht, die zwei Kammern 14 und 16 aufweist. In die Kammer 14 wird eine Gasmischung gemäß der Erfindung eingelassen, die ein bestimmtes aktives Gas aufweist, z.B. CO&sub2;. In der Kammer 16 ist jedoch eine Gasmischung mit einem weiteren aktiven Gas, z.B. N&sub2;O oder irgendein anderes Molekül, das eine Dissoziationstendenz ähnlich N&sub2;O aufweist, eingeschlossen. Wenn in der Kammer 14 eine Entladung stattfindet, tritt Strahlung in Richtung A aus dem Molekül des bestimmten aktiven Gases in die Kammer 16 mit dem weiteren aktiven Gas ein. In der zweiten Kammer 16 absorbiert das erste aktive Molekül die charakteristische Strahlung, die von der Kammer 14 stammt, durch einen Kollisions-V-V- Prozess, was das zweite aktive Molekül in seinen Vibrationszustand anregt. Folglich wird eine Strahlung des zweiten aktiven Gases in Richtung B aus der Kammer 16 emittiert, ohne daß in dieser eine Gasentladung induziert wird.
- Wie vorstehend beschrieben wurde, ist ein essentielles Merkmal der vorliegenden Erfindung die IR-Strahlungsquelle mit Selbststeuerung und einer über eine lange Lebensdauer erfolgenden kontinuierlichen Emission. Dies wird unter anderem erreicht, indem man soweit wie möglich verschiedene Abfangprozesse (Quenchingprozesse) und andere Gründe vermeidet, die das im IR-Strahlungsbereich aktive Gas in der Mischung erschöpfen. In diesem Bemühen wird vorgeschlagen, das Innere des Gehäuses 4 vor dem Einlassen der Gasmischung in das Gehäuse wie folgt vorzubehandeln:
- a) Einweichen der Gaskammer 6 in Chemikalien, beispielsweise Einweichen über Nacht in 30 %-iger Salpetersäure in Wasser oder Schwefelsäure + 1 % Natriumpersulfat oder Chromschwefelsäure oder anderen ähnlichen Reinigungsmitteln wie beispielsweise Alconox , Micro oder Nochromix ;
- b) sorgfältiges Spülen mit doppelt destilliertem, entionisiertem Wasser,
- c) Trocknen der Kammer, z.B. mit Ethanol;
- d) Ausheizen bei 280 ºC in einem Vakuumofen;
- e) Einlassen eines Edelgases; z.B. Xe, in die Kammer, Bewirken einer Entladung in der Kammer für einen kurzen Zeitraum und Ausleeren des Gases; und
- f) Einlassen einer Gasmischung in die Kammer, die im wesentlichen gleich ist der Gasmischung, die in der Kammer verwendet wird, Bewirken einer Entladung für einen kurzen Zeitraum, z.B. einige Minuten, und Ausleeren des Gases.
- Nachdem die Kammer ausgeheizt und evakuiert wurde und nachdem Entladungen mit Gasen der verwendeten Endgasmischung bewirkt wurden, werden die ausgewahlten Gase, wie sie vorstehend beschrieben wurden, in die Kammer bei den berechneten Verhältnissen und Drücken eingelassen und die Kammer wird dann hermetisch verschlossen.
- Gegebenenfalls können die Materialien des Gehäuses, die normalerweise eine hohe Relaxationstendenz gegenüber Molekülen aufweisen, die im IR-Strahlungsbereich aktiv sind, mit Substanzen überzogen sein, die diese Tendenz reduzieren, beispielsweise Bariumfluorid oder Saphir.
- Alternativ dazu wird vorgeschlagen, das Wandungsmaterial des Gehäuses mit einer radioaktiven Substanz herzustellen, das bei Abstrahlen in die Kammer einer Vorkonditionierung der Gasmischung innerhalb des Gehäuses für einen leichten Start der Entladung (Zündung) Unterstützung bietet. Dieselbe Wirkung kann erreicht werden, indem man Spuren eines radioaktiven Gases wie beispielsweise &sup8;&sup5;Kr zusetzt.
- Es wird auch mit dem Ziel, eine bevorzugte Konzentration an im IR-Bereich aktiven Gasmolekülen aufrechtzuerhalten, in einigen Fällen vorgeschlagen, der Mischung Gasmoleküle zuzusetzen, die die Konzentration der im IR-Bereich aktiven Gasmoleküle auf einem bestimmten Konzentrationsniveau halten. Eine solche Zugabe kann bewirkt werden beispielsweise durch H&sub2;-Moleküle, wenn die im IR-Bereich aktiven Moleküle CH&sub4;-Moleküle sind.
- Zwar wurden in der obigen Beschreibung begrenzte Beispiele von im IR-Strahlungsbereich aktiven Molekülen angegeben, Experimente haben jedoch gezeigt, daß viele andere im IR-Strahlungsbereich aktive Moleküle ebenfalls sehr nützlich sind. Von diesen sollten die folgenden Gasmoleküle genannt werden, die auch seltene Isotope einschließen:
Claims (14)
1. IR-Strahlungsquelle, welche umfaßt: ein Gehäuse (4), das zwischen seinen Wandungen
eine abgeschlossene, elektrodenlose Kammer (6; 14, 16) definiert, wobei die Wandungen
wenigstens einen Teilbereich aufweisen, der für IR-Strahlung transparent ist, dadurch
gekennzeichnet, daß die abgeschlossene, elektrodenlose Kammer (6; 14, 16) eine
Gasmischung aus wenigstens einem molekularen, im IR-Strahlungsbereich aktiven Gas,
wenigstens einem Puffergas und wenigstens einem Edelgas enthält, wobei die IR-
Strahlungsquelle diskrete, ausschließlich nicht-kohärente, spontane Emissionsfrequenzen im
IR-Spektrum emittiert, die charakteristisch für den Zerfall wenigstens eines molekularen, im
IR-Strahlungsbereich aktiven Gases von seinem Rotations-Vibrations-Zustand zu seinem
Grundzustand sind.
2. Strahlungsquelle nach Anspruch 1, worin das im IR-Strahlungsbereich aktive Gas CO&sub2;
oder CO ist.
3. Strahlungsquelle nach Anspruch 1, worin das im IR-Strahlungsbereich aktive Gasmolekül
wenigstens ein seltenes Isotop enthält.
4. Strahlungsquelle nach einem der Ansprüche 1 bis 3, worin das Puffergas N&sub2;, CO oder
eine Mischung daraus ist.
5. Strahlungsquelle nach einem der vorangehenden Ansprüche, worin das Edelgas He oder
Xe ist.
6. Strahlungsquelle nach einem der vorangehenden Ansprüche, worin die Gasmischung
innerhalb eines gegebenen Volumens und einer gegebenen Konfiguration der Kammer (6;
14, 16) einen Gesamtdruck liefert, bei dem die mittlere Zeit des zufälligen Vorrückens von
Gaspartikelchen auf eine Wandung der Kammer etwa 5 Millisekunden übersteigt, um die
Strahlungsausstoß-Leistung zu maximieren.
7. Strahlungsquelle nach einem der vorangehenden Ansprüche, worin für ein gegebenes
Volumen und eine gegebene Konfiguration der Kammer (6; 14, 16) der Partialdruck der
abfangenden (quenchenden) Gasteilchen innerhalb der Kammer (6; 14, 16) derart ist, daß
die durch Kollision bedingte Abfangrate (Quenchingrate) der Gasteilchen nicht etwa 200 s&supmin;¹
übersteigt, um die Strahlungsausstoß-Leistung zu maximieren.
8. Strahlungsquelle nach einem der Ansprüche 1 bis 5, worin die Gasmischung innerhalb
eines gegebenen Volumens und einer gegebenen Konfiguration der Kammer (6; 14, 16)
einen Gesamtdruck liefert, bei der die mittlere Zeit des zufälligen Vorrückens von
Gasteilchen auf eine Wandung der Kammer (6; 14, 16) geringer ist als etwa 5
Millisekunden, um eine schnellere Strahlungsmodulationsrate zu erhalten.
9. Strahlungsquelle nach einem der Ansprüche 1 bis 5, worin für ein gegebenes Volumen
und eine gegebene Konfiguration der Kammer (6; 14,16) der Partialdruck der abfangenden
(quenchenden) Gasteilchen innerhalb der Kammer (6; 14, 16) derart ist, daß die Kollisions-
Abfangrate der Gasteilchen etwa 200 s&supmin;¹ übersteigt, um eine schnellere Strahlungsausstoß-
Modulationsrate zu erhalten.
10. Strahlungsquelle nach einem der vorangehenden Ansprüche, worin das Gehäuse (4) mit
zwei Teilabschnitten (Figur 3) versehen ist, von denen ein erster größerer Teilabschnitt ein
Reservoir definiert, und ein zweiter Teilabschnitt kleinerer Größe eine Entladungszone
definiert.
11. Strahlungsquelle nach einem der Ansprüche 1 bis 9, worin das Gehäuse (4) durch eine
Unterteilung in zwei Kammern (14, 16) geteilt ist, wobei die Unterteilung für IR-Strahlung
transparent ist.
12. Strahlungsquelle nach Anspruch 11, worin eine erste (14) der beiden Kammern mit der
Gasmischung gefüllt ist und die zweite Kammer (16) mit der Gasmischung und einem
weiteren aktiven Gasmolekül mit einer Tendenz zur Dissoziation gefüllt ist.
13. Strahlungsquelle nach einem der vorangehenden Ansprüche, worin die Wandungen der
Kammer (6; 14, 16) mit einem Material überzogen sind, das die Tendenz einer Relaxation
kollidierender angeregter, im IR-Strahlungsbereich aktiver Moleküle verringert.
14. Verfahren zur Herstellung einer IR-Strahlungsquelle, das die Schritte umfaßt, daß man
a) ein Gehäuse (4) bereitstellt, das aus einem dielektrischen Material hergestellt ist und
zwischen seinen Wandungen eine Kammer (6; 14, 16) definiert;
b) die Kammer (6; 14, 16) in einem Reinigungsmittel einweicht;
c) die Kammer (6; 14, 16) sorgfältig mit destilliertem, entionisiertem Wasser spült;
d) die Kammer (6; 14, 16) trocknet;
e) die Kammer (6; 14, 16) bei einer Temperatur von etwa 200 bis 300 ºC ausheizt;
f) in die Kammer (6; 14, 16) wenigstens ein Edelgas einlaßt, eine Entladung in der
Kammer (6; 14, 16) für einen Zeitraum bewirkt und das Gas aus der Kammer (6;
14,16) ausleert;
g) die Kammer (6; 14, 16) mit einer Gasmischung befüllt, die wenigstens ein
molekulares, im IR-Strahlungsbereich aktives Gas, wenigstens ein Puffergas und
wenigstens ein Edelgas enthält;
h) eine Entladung für eine Zeitdauer in der Kammer (6; 14, 16), die die in Schritt (g)
eingelassene Gasmischung enthält, bewirkt, die Gasmischung aus der Kammer (6;
14, 16) abläßt und die Kammer (6; 14, 16) mit einer frischen Gasmischung wie in
Schritt (g) befüllt; und
i) die Kammer (6; 14, 16) hermetisch abschließt.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IL84463A IL84463A (en) | 1987-11-12 | 1987-11-12 | Ir-radiation source and method for producing same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3852813D1 DE3852813D1 (de) | 1995-03-02 |
DE3852813T2 true DE3852813T2 (de) | 1995-08-31 |
Family
ID=11058319
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3852813T Expired - Lifetime DE3852813T2 (de) | 1987-11-12 | 1988-11-11 | Infrarot-Strahlungsquelle und Verfahren zur Herstellung. |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0316189B1 (de) |
JP (1) | JPH01161661A (de) |
AT (1) | ATE117462T1 (de) |
CA (1) | CA1312114C (de) |
DE (1) | DE3852813T2 (de) |
IL (1) | IL84463A (de) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8914722D0 (en) * | 1989-06-27 | 1989-08-16 | Emi Plc Thorn | A discharge tube arrangement |
GB8920051D0 (en) * | 1989-09-05 | 1989-10-18 | Emi Plc Thorn | A discharge tube arrangement |
GB8922862D0 (en) * | 1989-10-11 | 1989-11-29 | Emi Plc Thorn | A discharge tube arrangement |
DE4120730C2 (de) * | 1991-06-24 | 1995-11-23 | Heraeus Noblelight Gmbh | Elektrodenlose Niederdruck-Entladungslampe |
DE10128915A1 (de) * | 2001-06-15 | 2002-12-19 | Philips Corp Intellectual Pty | Niederdruckgasentladungslampe mit quecksilberfreier Gasfüllung |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3617110A1 (de) * | 1986-05-21 | 1987-11-26 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Lampe fuer die erzeugung von gas-resonanzstrahlungen |
-
1987
- 1987-11-12 IL IL84463A patent/IL84463A/xx not_active IP Right Cessation
-
1988
- 1988-11-10 CA CA000582820A patent/CA1312114C/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-11 JP JP63286619A patent/JPH01161661A/ja active Pending
- 1988-11-11 DE DE3852813T patent/DE3852813T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-11 AT AT88310636T patent/ATE117462T1/de not_active IP Right Cessation
- 1988-11-11 EP EP88310636A patent/EP0316189B1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0316189B1 (de) | 1995-01-18 |
JPH01161661A (ja) | 1989-06-26 |
IL84463A (en) | 1992-06-21 |
EP0316189A3 (en) | 1990-08-22 |
CA1312114C (en) | 1992-12-29 |
DE3852813D1 (de) | 1995-03-02 |
ATE117462T1 (de) | 1995-02-15 |
IL84463A0 (en) | 1988-04-29 |
EP0316189A2 (de) | 1989-05-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2952046C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung einer elektrischen Entladung in einem mit Überschallgeschwindigkeit strömenden Gas | |
EP1048620B1 (de) | Vorrichtung zur Desinfektion von Wasser mit einer UV-C-Gasentladungslampe | |
DE4302555C2 (de) | Elektrodenlose Entladungslampe | |
DE2458563A1 (de) | Verfahren zur isotopentrennung mittels laser | |
DE69233269T2 (de) | Gas-sterilisierung | |
DE69409677T3 (de) | Entladungslampe mit dielektrischer Sperrschicht | |
CH670171A5 (de) | ||
DE60310947T2 (de) | Vorrichtung zur erzeugung von strahlung | |
DE3852813T2 (de) | Infrarot-Strahlungsquelle und Verfahren zur Herstellung. | |
DE3002901A1 (de) | Elektrodenlose lichtquelle | |
DE4302465C1 (de) | Vorrichtung zum Erzeugen einer dielektrisch behinderten Entladung | |
DE60220086T2 (de) | Methode und apparat um sichtbares licht im uv und ir bereich mit einer elektrodenlosen lampe zu erzeugen | |
US5300859A (en) | IR-radiation source and method for producing same | |
DE69610561T2 (de) | Verfahren zur erzeugung einer optischen strahlung und dafür geeignete entladungslampe | |
EP0429814B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Auslösen und/oder Fördern chemischer Prozesse | |
DE4102112A1 (de) | Beseitigung von stickoxyden aus abfallgasen | |
DE2517828A1 (de) | Verfahren zur trennung bzw. anreicherung von isotopen | |
DE4235743A1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
DE1169586B (de) | Optischer Sender oder Verstaerker mit einem Gemisch gasfoermiger Medien | |
DE3632431C2 (de) | Metalldampf-Entladungslampe | |
DE4438407C2 (de) | VUV-Lampe | |
DE2354341A1 (de) | Gaslaser | |
DE590906C (de) | Elektrische Glimmentladungsroehre mit positiver Saeule, einem fuer ultraviolette Strahlen durchlaessigen Glasgefaess und einer Fuellung aus verduennten Gasen fuer Bestrahlungszwecke | |
DE69401900T2 (de) | Plasma Lichtquelle | |
DE1589070C3 (de) | Optischer Sender oder Verstarker |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition |