DE3825871A1 - Einrichtung fuer die anregung des gases eines gaslasers - Google Patents

Einrichtung fuer die anregung des gases eines gaslasers

Info

Publication number
DE3825871A1
DE3825871A1 DE3825871A DE3825871A DE3825871A1 DE 3825871 A1 DE3825871 A1 DE 3825871A1 DE 3825871 A DE3825871 A DE 3825871A DE 3825871 A DE3825871 A DE 3825871A DE 3825871 A1 DE3825871 A1 DE 3825871A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
gas
electrodes
container
tube
excitation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE3825871A
Other languages
English (en)
Inventor
Friedrich-Werner Dr Ing Thomas
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Original Assignee
Leybold AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leybold AG filed Critical Leybold AG
Priority to DE3825871A priority Critical patent/DE3825871A1/de
Publication of DE3825871A1 publication Critical patent/DE3825871A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/0975Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft eine Einrichtung für die Anregung des Gases in einem Gaslaser.
Laser sind Lichtquellen, die Licht durch induzierte Emission verstärken. Es hat sich eingebürgert, daß die zahlreichen Laser-Systeme, die seit der Ent­ wicklung des ersten Lasers um 1960 vorgeschlagen wurden, nach der Art des aktiven Mediums unterschieden werden. Eine Einteilung nach dem Aufbau, der Art der Anregung, der Wellenlänge, der Betriebsart oder der Ausgangs­ leistung, die gründsätzlich ebenfalls möglich wäre, ist weniger gebräuchlich. Man spricht deshalb in erster Linie von Gas-, Farbstoff-, Halbleiter- und Festkörperlasern. Bei den Gaslesern dienen als aktives Medium Edelgase, Molekülgase und Metalldämpfe. Hinsichtlich ihrer Anregung unterscheiden sich Gaslaser erheblich von anderen Laserarten. Während Farbstofflaser mit Blitz- oder Pumplicht, Halbleiterlaser mittels elektrischem Strom und Fest­ körperlaser mittels Blitzlicht- oder kontinuierlichen Gasentladungslampen angeregt werden, werden Gaslaser meistens durch eine Gasentladung oder durch eine chemische Reaktion angeregt.
Wird die Anregung über eine Gasentladung durchgeführt, so emittiert das sich entladende Gas zunächst Licht spontan in alle Raumrichtungen. Einige der spontan emittierten Photonen bewegen sich zufällig senkrecht oder nahezu senkrecht auf Spiegel zu, die sich an den beiden Enden des Ent­ ladungsstrecke befinden, werden von diesen reflektiert und laufen durch einen optischen Verstärker, werden dort verstärkt, wieder reflektiert und nochmals verstärkt usw. Ist die Verstärkung für einen Durchgang größer als die Reflexionsverluste und die sonstigen Verluste, d. h. ist die Bedingung für die Selbsterregung erfüllt, so baut sich aus der spontanen Emission eine sehr intensive Strahlungsdichte zwischen den beiden Spiegeln auf.
Für bestimmte Frequenzen, die sogenannten Resonanz- oder Eigenfrequenzen, nimmt die gespeicherte Energie ein Maximum an. Um einen Dauerbetrieb des Lasers zu erreichen, müssen die Resonanzverluste ausgeglichen werden, d. h. der Laser muß fortwährend von außen eine Energiezuführung erhalten. Die Ausgengsleistung eines kontinuierlich betriebenen Geslasers liegt zwischen einigen Milliwatt beim Helium-Neon-Laser und einigen Kilowatt beim Neodym- oder CO2-Laser. Im Pulsbetrieb ist es jedoch möglich, die Ausgangsleistungen kurzzeitig um viele Größenordnungen zu steigern. Die einfachste Möglichkeit, kurze und intensive Lichtimpulse zu erzeugen, besteht darin, die Anregungsleistung des Lasers, also z. B. das Pumplicht zu pulsen. Dies bringt den Vorteil, daß die Anregungsleistung im Pulsbetrieb gegenüber dem stationären Wert um Größenordnungen erhöht werden kenn. So können z. B. in einer Xenon-Blitzlichtlampe kurzzeitig 106 Watt elektrische Leistung umgesetzt werden, im stationären Betrieb dagegen nur 103 Watt. Ent­ sprechend steigt die Laserleistung an.
Die Anregungsleistung beim Gas-Laser wird, wie bereits erwähnt, in der Regel durch Gasentladungsvorgänge eingebracht. Beispielsweise wird beim He-Ne-Laser die anfängliche Anregung dadurch erreicht, daß man ein elektrisches Feld quer durch das Gas anlegt, das eine Glimmentladung ver­ ursacht (Portis, Young: Physik und Experiment, 2. Auflage, 1980, S. 198, Vieweg-Verlag). Nachteilig ist hierbei indessen, daß sich bei einem Gas­ laser von großer Länge keine gleichmäßigen Anregungen über die gesamte Strecke erzielen lassen.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, des Ges eines Gaslasers, das sich in einem rohrförmigen Behälter befindet, von außen so anzuregen, daß sich über die gesamte Länge des Behälters eine annähernd gleichmäßige Anregung ergibt.
Diese Aufgabe wird gemäß den Merkmalen des Patentanspruchs 1 gelöst.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden im folgenden näher beschrieben. Es zeigt
Fig. 1 einen Querschnitt durch eine Geslaser-Röhre mit elektrischer Anregung;
Fig. 2 eine Seitenansicht des in der Fig. 1 dargestellten Gaslasers;
Fig. 3 das Prinzip einer Regelschaltung für die elektrische Anregung des Gaslasers;
Fig. 4 eine Gesamt-Schaltungsanordnung für einen Gaslaser.
In der Fig. 1 ist der Querschnitt eines Glasrohrs 1 dargestellt, das auf seiner Außenseite zwei Elektroden 2, 3 aufweist, die über ein Anpassungs­ netzwerk 4 mit einer hochfrequenten Stromversorgung 5 verbunden sind. Im lnnern des Glasrohrs 1 befindet sich ein Gas 6, das durch das Wechsel­ feld, welches zwischen den beiden Elektroden 2, 3 verläuft, angeregt wird und Licht aussendet. Bei einem praktischen Ausführungsbeispiel hat das Glasrohr 1 eine Länge von 2 m und einen Durchmesser von 5 cm. Wird als Gas 6 CO2 verwendet, so lassen sich bei den genannten Abmessungen im Dauerbetrieb etwa 5 KW Lichtleistung erzeugen. Die hierfür notwendige elektrische Energie, die zugeführt werden muß, beträgt etwa 40 KW.
ln der Fig. 2 ist das Glasrohr 1 in einer Seitenansicht dargestellt. Man er­ kennt hierbei, daß entlang der Längsachse dieses Glasrohrs 1 mehrere Elektrodenpaare angeordnet sind, von denen jeweils nur eine Elektrode 2, 7, 8, 9 sichtbar ist. Jedes der Elektrodenpaare ist über eln Anpassungswerk 4, 10, 11, 12 mit einer eigenen hochfrequenten Energieversorgung 5, 13, 14, 15 verbunden. Zur Optimierung der Anregung kann nun jeweils elektroden­ paarweise sowohl die Amplitude als auch die Phasenlage der Stromver­ sorgungen 5, 13, 14, 15 untereinander eingestellt werden. Damit ist es also möglich, ein Energieeinbringungsprofil längs des Glasrohrs 1 in beliebiger Weise einzustellen. Hinzu kommt die Verwendungsmöglichkeit vieler kleiner Stromversorgungen auf Halbleiterbasis mit gutem Wirkungsgrad.
In der Fig. 3 ist anhand eines einzelnen Elektronenpaares, von dem nur die Elektrode 2 sichtbar ist, dargestellt, wie das Energieeinbringungsprofil und damit die Anregung des Gases automatisch geregelt werden kenn. Hierbei ist pro Elektrodenpaar wenigstens ein lichtempfindlicher Sensor 16 vorge­ sehen, der die Intensität des von dem angeregten Gas abgestrahlten Lichts erfaßt, in ein entsprechendes elektronisches Signel umwandelt und über einen Soll-Istwertvergleicher 17 einer Regelschaltung 18 zuführt. Das Glasrohr 1 ist an seinem einen Ende mit einem Spiegel 19 abgeschlossen. Ein solcher Spiegel ist auch am anderen Ende des Glasrohrs 1 vorgesehen, das in der Fig. 3 nicht dargestellt ist. Der Spiegel 19 ist auf seiner Innenfläche 20 verspiegelt und bildet mit dem gegenüberliegenden Spiegel einen Fabry- Perot-Resonator. Damit sich eine Resonanz ausbildet, muß sich zwischen den Spiegeln eine stehende Welle ausbilden, d. h. der Spiegelabstand muß ein ganzes Vielfaches der halben Wellenlänge des von dem Gas emittierten Lichts betragen.
In der Fig. 4 ist eine Scheltungsanordnung dargestellt, welche für den Betrieb eines erfindungsgemäßen Gaslasers, und zwar insbesondere eines Helium-Neon-Lasers, erforderlich ist. Der Behälter 1 bildet, zusammen mit einem seltlichen Kathodenrohr 21, das mit dem Behälter 1 in Verbindung steht, die sogenannte lnnenspiegel-Kaltkathode-Laserröhre, die eine Alu­ miniumkathode 22 hat und z. B. mit Helium-Neon-Gas gefüllt ist. An den Stirnseiten von Erweiterungen 23, 24 der Kapillaren 25 des Behälters 1 sind Spiegel 19, 26 justiert, von denen der Spiegel 26 teildurchlässig ist. Die Gasentladung in der Röhre 1 wird durch en die Elektroden 2, 3, 7 bis 9, 27 bis 34, 43 gelegten Spannungen gezündet und dann mit einer Gleichspannung von etwa 1100 Volt, die zwischen der Kathode 22 und einer Anode 35 anliegt, bei einer Entladestromstärke von rund 7 mA betrieben. Diese Gleich­ spannung wird einer Hochspannungsversorgung 36 entnommen, die über einen Transformator 37 und zwei Schalter 38, 39 mit Netzanschlüssen 40, 41 verbunden ist. Die Anode 35 ist in einer seitlichen Ausbuchtung 42 der Erweiterung 23 der Kapillaren 25 angeordnet.
Die Anwendung der Erfindung ist nicht auf bestimmte Gaslaser beschränkt, sondern umfaßt alle bekannten Gaslaser (vgl. z. B. W. Brunner, K. Junge: Lasertechnik, 3. Auflege, 1987, S. 82 bis 122). Es sind darüber hinaus auch Anwendungen bei anderen Laserarten möglich.

Claims (10)

1. Einrichtung für die Anregung des Gases eines Gaslasers mittels hoch­ frequenten elektromagnetischen Feldern, wobei sich dieses Ges in einem für elektromagnetische Felder durchlässigen Behälter befindet, an dessen Außen­ wand wenigstens zwei Elektroden vorgesehen sind, zwischen denen sich wenigstens ein Teil des Gases befindet, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Paare von Elektroden (2, 3; 7, 43) hintereinander auf der Außenseite des Behälters (1) angeordnet sind und daß jeweils zwei einander gegenüber­ liegende Elektroden (2, 3; 7, 43) an eine gemeinsame hochfrequente Energie­ quelle (5, 13, 14, 15) angeschlossen sind, deren Ausgangssignal bezüglich Amplitude und Phasenlage regelbar ist.
2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Energie­ quellen (5, 13, 14, 15) regelungstechnisch untereinander verkoppelt sind, so daß sich innerhalb des Gases ein vorgegebener Feldverlauf einstellen läßt.
3. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Behälter ein Rohr (1) ist, dessen Länge wesentlich größer als sein Durchmesser ist, wobei jeweils zwei Elektroden auf einer das Rohr halbierenden Geraden liegen, die senkrecht auf der Längsachse des Rohrs (1) steht.
4. Einrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Rohr (1) aus Glas besteht und einen kreisringförmigen Querschnitt hat.
5. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Gas CO2 ist und die Frequenz der anregenden elektromagnetischen Energie im Mega­ hertz-Bereich liegt.
6. Einrichtung nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, daß in der Nähe des Gefäßes Strahlungsdetektoren (16) vorgesehen sind welche die von dem Gas ausgehende Strahlung als Maß für die Anregung des Gases erfassen und aufgrund der erfaßten Strehlenwerte mittels einer Regeleinrichtung die Amplituden und/oder Phasenlagen der einzelnen hochfrequenten Energie­ quellen (5, 13, 14, 15) entsprechend einstellen.
7. Einrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß jedem Elek­ trodenpaar (2, 3) wenigstens ein Strahlungsdetektor (16) zugeordnet ist.
8. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß anstelle des Strahlungsdetektors (16) für jedes Elektrodenpaar (2, 3) eine Plasmaimpedanz­ messung als Maß für die Anregung des Gases vorgenommen wird und auf­ grund der sich ergebenden Plasmaimpedanz bezogen auf jedes Elektroden­ paar mittels einer Regeleinrichtung die Amplituden und/oder die Phasenlagen der einzelnen hochfrequenten Energiequellen (5, 13, 14, 15) entsprechend eingestellt werden.
9. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sowohl bei Amplitudenverstellung als auch bei Puls-Breiten-Modulation (Pulsbetrieb) je­ des Elektrodenpaar je nach Bedarf die entsprechende Energie aus der ihm zugeordneten Stromversorgung erhält.
10. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf der Länge des Behälters insgesamt n Elektrodenpaare vorgesehen sind, wobei n = 1/a (1 = Länge des Behälters, e = Abstand der Elektroden in Längsrichtung von­ einander).
DE3825871A 1988-07-29 1988-07-29 Einrichtung fuer die anregung des gases eines gaslasers Withdrawn DE3825871A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3825871A DE3825871A1 (de) 1988-07-29 1988-07-29 Einrichtung fuer die anregung des gases eines gaslasers

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3825871A DE3825871A1 (de) 1988-07-29 1988-07-29 Einrichtung fuer die anregung des gases eines gaslasers

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3825871A1 true DE3825871A1 (de) 1990-02-01

Family

ID=6359885

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE3825871A Withdrawn DE3825871A1 (de) 1988-07-29 1988-07-29 Einrichtung fuer die anregung des gases eines gaslasers

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE3825871A1 (de)

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1433898A (fr) * 1965-05-17 1966-04-01 Shimadzu Corp Procédé et dispositif d'excitation d'un laser à gaz
DE2224989A1 (de) * 1971-05-26 1972-12-07 Atomic Energy Commission Chemisches Lasersystem hoher Energie
EP0043454B1 (de) * 1980-07-03 1985-02-06 Hughes Aircraft Company Mit Hochfrequenz gepumpter Wellenleiterlaser mit Induktivitäten zur Vergleichmässigung der Entladung
GB2145275A (en) * 1983-08-09 1985-03-20 Mitsubishi Electric Corp A coaxial type laser oscillator for excitation by silent discharge
US4618961A (en) * 1982-12-16 1986-10-21 Sutter Jr Leroy V Configuration of electrodes for transversely excited gas lasers
ATE24635T1 (de) * 1982-05-03 1987-01-15 Hughes Aircraft Co Rf laser-stromversorgungsgeraet.
DE3546118A1 (de) * 1985-12-24 1987-06-25 Peter Dipl Phys Hoffmann Vorrichtung zur einkopplung von hochfrequenzenergie in die entladung eines gaslasers
GB2187593A (en) * 1986-03-05 1987-09-09 Pulse Systems Inc Uniform ionisation of high-pressure gases
EP0235788A2 (de) * 1986-03-05 1987-09-09 Kabushiki Kaisha Toshiba C02-Gaslaservorrichtung
US4710938A (en) * 1985-06-07 1987-12-01 Koito Seisakusho Co., Ltd. Metal ion laser protected against the deposition of metal vapor on brewster windows
WO1988000764A1 (en) * 1986-07-18 1988-01-28 Fanuc Ltd Gas laser device
WO1988002939A1 (en) * 1986-10-14 1988-04-21 Fanuc Ltd Laser device
WO1988002936A1 (en) * 1986-10-14 1988-04-21 Fanuc Ltd Laser device excited by rf discharge

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1433898A (fr) * 1965-05-17 1966-04-01 Shimadzu Corp Procédé et dispositif d'excitation d'un laser à gaz
DE2224989A1 (de) * 1971-05-26 1972-12-07 Atomic Energy Commission Chemisches Lasersystem hoher Energie
EP0043454B1 (de) * 1980-07-03 1985-02-06 Hughes Aircraft Company Mit Hochfrequenz gepumpter Wellenleiterlaser mit Induktivitäten zur Vergleichmässigung der Entladung
ATE24635T1 (de) * 1982-05-03 1987-01-15 Hughes Aircraft Co Rf laser-stromversorgungsgeraet.
US4618961A (en) * 1982-12-16 1986-10-21 Sutter Jr Leroy V Configuration of electrodes for transversely excited gas lasers
GB2145275A (en) * 1983-08-09 1985-03-20 Mitsubishi Electric Corp A coaxial type laser oscillator for excitation by silent discharge
US4710938A (en) * 1985-06-07 1987-12-01 Koito Seisakusho Co., Ltd. Metal ion laser protected against the deposition of metal vapor on brewster windows
DE3546118A1 (de) * 1985-12-24 1987-06-25 Peter Dipl Phys Hoffmann Vorrichtung zur einkopplung von hochfrequenzenergie in die entladung eines gaslasers
GB2187593A (en) * 1986-03-05 1987-09-09 Pulse Systems Inc Uniform ionisation of high-pressure gases
EP0235788A2 (de) * 1986-03-05 1987-09-09 Kabushiki Kaisha Toshiba C02-Gaslaservorrichtung
WO1988000764A1 (en) * 1986-07-18 1988-01-28 Fanuc Ltd Gas laser device
WO1988002939A1 (en) * 1986-10-14 1988-04-21 Fanuc Ltd Laser device
WO1988002936A1 (en) * 1986-10-14 1988-04-21 Fanuc Ltd Laser device excited by rf discharge

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CH-Z: ROSENBERGER, D.: Hochleistungs-Gaslaser. In: Bulletin des Schweizerischen Elektrotechni- schen Vereins , Bd.59, 1968, 10,11 Mai, S.459-463 *
US-Z: KAWAMURA, Mitsuo, et. al.: A Capacitively Coupled RF-Excited CW-HCN Laser. In: IEEE Journal of Quantum Electronics, Vol. QE-21, No. 11, November 1985, S. 1833-1837 *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE4108474C2 (de)
DE69306424T2 (de) Laser-Apparat
EP0003280A1 (de) Wellenleitergaslaser mit einer Queranregungsentladung
DE3486133T2 (de) Vorionisierung eines Gaslasers mittels Koronaentladung.
DE2406290C2 (de) Gas-Laser vom Wellenleitertyp
DE3327257A1 (de) Langgestreckte kammer fuer einen gaslaser mit queranregung
DE69109479T2 (de) Mit transversaler entladung gepumpter pulslaser.
EP0468986A1 (de) Gas-laser, insbesondere co2 - laser
DE3544862A1 (de) Integrierte laservorrichtung fuer impulsgaslaser
DE4232843A1 (de) Diffusionsgekühlter CO¶2¶-Bandleiterlaser mit reduzierter Zündspannung
DE69308078T2 (de) Laser-System
DE3032026A1 (de) Doppel-gaslaser
DE69624447T2 (de) Gaslaser mit rechteckigem Entladungsraum
DE3825871A1 (de) Einrichtung fuer die anregung des gases eines gaslasers
DE69527109T2 (de) Gaslaser mit Mikrowellenanregung
DE3426658A1 (de) Laservorrichtung der koaxial-bauart
DE1564977A1 (de) Steuervorrichtung fuer Gaslaser
DE69410278T2 (de) Gepulster Gaslaser
DE3750578T2 (de) Hf-entladungsangeregte laservorrichtung.
DE112011105360B4 (de) Gaslaser-vorrichtung
US4345331A (en) Apparatus for generating an electric field
DE3933619A1 (de) Vorrichtung zur elektrischen anregung eines gases mit mikrowellen
DE3035702C2 (de)
DE2633550A1 (de) Blitzlampe
DE3643735C2 (de)

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8139 Disposal/non-payment of the annual fee