DE3811068A1 - Verfahren zum einseitigen bearbeiten von flaechenhaft ausgedehnten koerpern, insbesondere von halbleiterscheiben und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens - Google Patents
Verfahren zum einseitigen bearbeiten von flaechenhaft ausgedehnten koerpern, insbesondere von halbleiterscheiben und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrensInfo
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- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/08—Apparatus, e.g. for photomechanical printing surfaces
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum einseitigen
Bearbeiten von flächenhaft ausgedehnten Körpern, insbe
sondere von Halbleiterscheiben, wonach der eine obere
und untere Seitenfläche aufweisende Körper in ein flüs
siges Medium getaucht ist sowie eine Vorrichtung zur
Durchführung des Verfahrens.
Die einseitige Bearbeitung von flächenhaft ausgedehnten
Körpern, insbesondere von Halbleiterscheiben, durch ein
flüssiges Medium erfordert aufwendige Maßnahmen, um die
nicht zu bearbeitende Seitenfläche des Körpers zu schüt
zen.
Beispielsweise ist zur einseitigen Naßätzung von Sili
zium-Halbleiterscheiben eine Maskierung der nicht zu
ätzenden Scheibenseite notwendig, indem dies in bekann
ter Weise durch einen aufgeschleuderten oder aufgesprüh
ten säurebeständigen Lack erzielt wird. Nach der Ätzung
der Halbleiterscheibe in einem Ätzbad muß diese Abdec
kung in einem weiteren Arbeitsgang entfernt werden.
Die Nachteile dieses Verfahrens bestehen nicht nur in
den zwei Arbeitsgängen des Maskierens und des Entfer
nens dieser Maskierung, sondern auch in der Verwendung
von umweltbelastenden zur Maskierung dienenden Lacken.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein
einfaches und kostengünstiges sowie umweltschonendes
Verfahren zum einseitigen Bearbeiten von ausgedehnten
Körpern, insbesondere von Halbleiterscheiben, durch ein
flüssiges Medium anzugeben sowie eine Vorrichtung zur
Durchführung dieses Verfahrens zu schaffen.
Diese Aufgabe wird bei einem Verfahren der eingangs
genannten Art dadurch gelöst, daß zur Verdrängung des
flüssigen Mediums von der nicht zu bearbeitenden oberen
Seitenfläche des Körpers ein gasförmiges Medium in ei
nen sich über der nicht zu bearbeitenden oberen Seiten
fläche des Körpers anschließenden engen Spalt derart
über diese Seitenfläche geführt wird, daß die Strömungs
richtung des gasförmigen Mediums in radialer Richtung
vom Zentrum des Körpers nach außen auf dessen Rand hin
erfolgt.
Durch dieses Verfahren wird in vorteilhafter Weise ein
einfaches und wirtschaftliches Verfahren zum einseiti
gen Bearbeiten von flächenhaft ausgedehnten Körpern
durch ein flüssiges Medium durchführbar.
Dieses Verfahren wird bevorzugt mit einer erfindungsge
mäßen Vorrichtung zum einseitigen Bearbeiten von flä
chenhaft ausgedehnten Körpern, insbesondere von Halblei
terscheiben, durch ein flüssiges Medium durchgeführt,
indem ein scheibenförmiger Trägerkörper, dessen Unter
seite kongruent zur nicht zu bearbeitenden Seitenfläche
des Körpers ist, mit einer durchgehenden Zentrumsbohrung
versehen ist, die auf der Unterseite des Trägerkörpers
von einem O-Ring zur Abstandsfixierung des Körpers zum
Trägerkörper derart umgeben ist, daß bei Anliegen des
Körpers am O-Ring der Körper mittels Erzeugen eines
Unterdrucks durch Absaugen der Luft aus dem durch den
O-Ring gebildeten Raum durch die Zentrumsbohrung unter
Ausbildung eines engen Spaltes zwischen dem Körper und
dem Trägerkörper fixiert ist, daß der Trägerkörper ein
Leitungssystem zur Einleitung des gasförmigen Mediums
in den Spalt aufweist, indem erste Austrittsöffnungen
und eine zweite Austrittsöffnung auf der Unterseite des
Trägerkörpers angeordnet sind, wobei die ersten Aus
trittsöffnungen kreisförmig um den O-Ring angeordnet
sind und die zweite Austrittsöffnung spaltförmig ausge
bildet ist und als vollständige Umrandung der Untersei
te des Trägerkörpers eng benachbart zu deren äußeren
Rand verläuft.
Zweckmäßige Ausgestaltungen und Weiterbildungen der
erfindungsgemäßen Vorrichtung sind den Unteransprüchen
entnehmbar.
Im folgenden werden anhand der zugehörigen Zeichnungen
bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung näher
erläutert. Hierbei zeigt
Fig. 1 eine schematische Darstellung des erfindungs
gemäßen Verfahrens,
Fig. 2 eine Druckverteilung in dem Spaltzwischenraum
der Vorrichtung gemäß Fig. 1 in Abhängigkeit
des Ortes,
Fig. 3 eine Schnittdarstellung der erfindungsgemäßen
Vorrichtung,
Fig. 4 eine Druckverteilung in dem Spaltzwischenraum
der Vorrichtung gemäß Fig. 3 in Abhängigkeit
des Ortes,
Fig. 5 eine perspektivische Darstellung des Träger
körpers der erfindungsgemäßen Vorrichtung
gemäß Fig. 3 und 4, und
Fig. 6 eine Schnittdarstellung einer vorteilhaften
Variante der erfindungsgemäßen Vorrichtung
gemäß Fig. 3 und 4.
In den Figuren sind jeweils die entsprechenden Teile
bzw. Größen mit den gleichen Bezugszeichen versehen.
Die Fig. 1 zeigt schematisch eine Schnittansicht eines
Ausführungsbeispieles einer Vorrichtung zur Darstellung
des erfindungsgemäßen Verfahrens. Diese Vorrichtung be
steht aus einem Trägerkörper 8, der den einseitig zu
bearbeitenden Körper 1, beispielsweise eine Halbleiter
scheibe, so aufnimmt und fixiert, daß sich zwischen der
nicht zu bearbeitenden oberen Seitenfläche 2 des Kör
pers 1 und der Unterseite 9 des Trägerkörpers 8 ein
enger Spalt 6 ausbildet. Durch eine im Zentrum des Trä
gerkörpers 8 angebrachte Bohrung 16 wird ein gasförmi
ges Medium 5, beispielsweise Stickstoff, in den Spalt 6
eingeleitet. Diese Anordnung, bestehend aus dem Träger
körper 8 mit dem Körper 1, ist zur Bearbeitung der unte
ren Seitenfläche 3 des Körpers 1 nahezu vollständig in
ein flüssiges Medium 4, beispielsweise eine Ätzflüs
sigkeit, eingetaucht, das sich in einem Becken 7 befin
det. Im eingetauchten Zustand wird nun die Zufuhr des
gasförmigen Mediums 5 derart gesteuert, daß das flüs
sige Medium von der nicht zu bearbeitenden Seitenfläche
2 des Körpers 1 verdrängt wird, daß sich also in den
Spalt 6, zwischen der Unterseite 9 des Trägerkörpers 8
und der Oberseite des Körpers 1, ein Gaspolster ausbil
det. Hierbei muß sich in diesem Spalt 6 eine solche
Druckverteilung ausbilden, daß die Strömungsrichtung
des gasförmigen Mediums 5 in radialer Richtung vom Zen
trum des Körpers 1 nach außen auf dessen Rand hin er
folgt. Ein entsprechendes Diagramm zur Druckverteilung
in dem Spalt 6 ist in der Fig. 2 dargestellt, wonach
der statische Druck innerhalb des Spaltes 6 in Abhängig
keit des Durchmessers D aufgetragen ist. Der Nullpunkt
des Koordinatensystems stimmt hierbei mit dem Mittel
punkt des Körpers 1 überein. Die Druckverteilung über
den Durchmesser D des Körpers 1 zeigt einen parabelför
migen Verlauf, wobei der Druck im Mittelpunkt am größten
ist und beidseitig bis zum jeweiligen Rand D/2 bzw.
-D/2 auf einen Wert abnimmt, der größer als der hydro
statische Druck P h an dieser Stelle sein muß, um ein
Eindringen der Flüssigkeit 4 in den Spaltzwischenraum 6
zu verhindern. Das Gas 5 steigt nach Passieren des
Spaltrandes unter Blasenbildung zur Oberfläche des flüs
sigen Mediums 4 auf. Da dieses Verfahren ein Eindringen
der Flüssigkeit 4 in den Spaltzwischenraum 6 verhindert,
wird nur die Unterseite 3 des Körpers 1 durch das flüs
sige Medium 4 bearbeitet. Falls dieses flüssige Medium
eine Ätzflüssigkeit ist, wird somit nur eine Seite,
beispielsweise einer Halbleiterscheibe, geätzt.
Die Fig. 3 und 5 zeigen eine Ausführung der Vorrich
tung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens,
wonach im Trägerkörper 8 sowohl ein Mittel zur Fixie
rung des zu bearbeitenden Körpers 1 und zur Ausbildung
des engen Spaltes 6 zwischen der nicht zu bearbeitenden
oberen Seitenfläche 2 des Körpers 1 und der Unterseite
9 des Trägerkörpers 8 als auch ein Leitungssystem 12
zur Einleitung des gasförmigen Mediums 5 in den Spalt 6
vorgesehen ist. Das Mittel besteht in einem O-Ring 11,
der besonders gut in der Fig. 3 sichtbar ist und des
sen Mittelpunkt mit der durch den Trägerkörper 8 durch
gehenden Zentrumsbohrung 10 zusammenfällt. Bei sattem
Anliegen des Körpers 1 an diesem O-Ring 11 wird durch
Absaugen der Luft aus der Zentrumsbohrung 10 ein Unter
druck in dem durch den O-Ring gebildeten und abgedich
teten Raum 15 erzeugt, wodurch der Körper 1 angesaugt
wird und somit fest mit dem Trägerkörper 8 verbunden
ist. Der O-Ring 11 weist ferner eine solche Dicke auf,
daß hierdurch ein Spalt 6 mit einer Breite 1 2 von ca.
0,1 mm gebildet wird. Das Leitungssystem 12 ist so aus
gebildet, daß die auf der Unterseite 9 des Trägerkör
pers 8 angeordneten Austrittsöffnungen 13 und 14 - sie
he insbesondere Fig. 5 - in einem horizontalen Lei
tungssystem münden, das an einer Stelle eine Leitung
zur Oberseite des Trägerkörpers 8 aufweist, der als
Gaseinlaß 16 zur Zuführung des gasförmigen Mediums 5
Verwendung findet. Die Austrittsöffnungen 13 sind mit
einem Durchmesser von ca. 1,5 mm ausgeführt und zu meh
reren kreisförmig um den O-Ring 11 angeordnet, wie aus
der Fig. 3 zu ersehen ist. Eine spaltförmige Austritts
öffnung 14 umrundet die Unterseite 9 des Trägerkörpers
8 mit einem Abstand 1 1 von ca. 2 mm deren äußeren Rand,
wobei die Spaltbreite dieser Austrittöffnung 14 in ei
nem Bereich zwischen 0,1 bis 0,2 mm liegt. Das mit ei
nem Druck von ca. 1,5 bar in den Spalt 6 durch die Aus
trittsöffnungen 13 und 14 eingeleitete gasförmige Me
dium 5 verhindert - insbesondere auch durch die vorhang
artig wirkende Austrittsöffnung 14 - in hervorragender
Weise das Eindringen des flüssigen Mediums 4 in diesen
Spalt 6, wobei die Druckverteilung durch das Diagramm
der Fig. 4 beschrieben wird. Im Bereich des O-Ringes
11, also zwischen dem Bereich d/2 und -d/2 besteht na
türlich gegenüber dem Luftdruck P o ein Unterdruck P u
von ca. 1 bar, während der Druck zwischen d/2 und D/2
bzw. -d/2 und -D/2 aufgrund der Austrittsöffnungen 13
und 14 auf einem nahezu konstanten Wert von ca. 1,5 bar
gehalten wird, der größer ist als der bei einer in ein
flüssiges Medium 4 gemäß Fig. 1 eingetauchten Vorrich
tung sich aufbauende hydrostatische Druck P h . Der Trä
gerkörper 8 besteht beispielsweise aus Teflon und weist
eine Dicke von ca. 12 mm auf, wobei die Stirnseiten 17
keilförmig ausgebildet sind. Dies wirkt dann vorteil
haft, wenn diese Vorrichtung zum einseitigen Ätzen von
Halbleiterscheiben in einer Ätzflüssigkeit verwendet
wird, wodurch an den Rändern des Trägerkörpers 8 ent
stehende Ätzspritzer vermieden werden. In diesem Anwen
dungsfall besteht der O-Ring 11 aus einem säurebestän
digen Material.
Die gemäß der Fig. 5 dargestellte Austrittsöffnung 14
steht senkrecht auf der Unterseite 9 des Trägerkörpers
8. Diese Austrittsöffnung 14 kann auch so ausgeführt
sein, daß gemäß der Fig. 6 der in dieser Öffnung flie
ßende Gasstrom einen spitzen Winkel zur Unterseite 9
bildet, um hierdurch eine laminare Strömung nach außen
auf den Rand hin zu fördern.
Wie schon oben erwähnt wurde, kann diese erfindungsge
mäße Vorrichtung mit Vorteil zum einseitigen Ätzen von
Halbleiterscheiben eingesetzt werden, in dem die Anord
nung gemäß Fig. 1 in ein Ätzflüssigkeit enthaltendes
Becken eingetaucht wird. Auch sind weitere Anwendungen
naheliegend, wie beispielsweise einseitiges Galvanisie
ren oder Beschichten von scheibenförmigen Werkstücken.
Ferner ist auch die Bearbeitung von Gläsern mit dieser
Vorrichtung denkbar.
Um große Stückzahlen von Körpern, insbesondere Halblei
terscheiben, einseitig bearbeiten zu können, wird eine
entsprechende Anzahl solcher Vorrichtungen, bestehend
aus einem Trägerkörper mit dem zu bearbeitenden Körper,
in einem mit Flüssigkeit gefüllten Becken übereinander
angeordnet, wobei je nach hydrostatischem Druck, der
abhängig ist von der über dem zu bearbeitenden Körper
stehenden Flüssigkeitssäule, gesonderte Gaszuführungen
zu den Trägerkörpern hergestellt werden müssen, die mit
unterschiedlichen Gasdrücken beaufschlagt sind.
Claims (10)
1. Verfahren zum einseitigen Bearbeiten von flächenhaft
ausgedehnten Körpern (1), insbesondere von Halbleiter
scheiben, wonach der eine obere und untere Seitenfläche
(2, 3) aufweisende Körper (1) in ein flüssiges Medium
(4) getaucht ist, dadurch gekennzeichnet, daß zur Ver
drängung des flüssigen Mediums (4) von der nicht zu
bearbeitenden oberen Seitenfläche (2) des Körpers (1)
ein gasförmiges Medium (5) in einen sich über der nicht
zu bearbeitenden oberen Seitenfläche (2) des Körpers
(1) anschließenden engen Spalt (6) derart über diese
Seitenfläche (2) geführt wird, daß die Strömungsrich
tung des gasförmigen Mediums (5) in radialer Richtung
vom Zentrum des Körpers (1) nach außen auf dessen Rand
hin erfolgt.
2. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach
Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein scheiben
förmiger Trägerkörper (8), dessen Unterseite (9) kon
gruent zur nicht zu bearbeitenden Seitenfläche (2) des
Körpers (1) ist, mit einer durchgehenden Zentrumsboh
rung (10) versehen ist, die auf der Unterseite (9) des
Trägerkörpers (8) von einem O-Ring (11) zur Abstands
fixierung des Körpers (1) zum Trägerkörper (8) derartig
umgeben ist, daß bei Anliegen des Körpers (1) am O-Ring
(11) der Körper (1) mittels Erzeugen eines Unterdrucks
durch Absaugen der Luft aus dem durch den O-Ring (11)
gebildeten Raum (15) durch die Zentrumsbohrung (10)
unter Ausbildung eines engen Spaltes (6) zwischen dem
Körper (1) und dem Trägerkörper (8) fixiert ist, daß
der Trägerkörper (8) ein Leitungssystem (12) zur Einlei
tung des gasförmigen Mediums (5) in den Spalt (6) auf
weist, indem erste Austrittsöffnungen (13) und eine
zweite Austrittsöffnung (14) auf der Unterseite (9) des
Trägerkörpers (8) angeordnet sind, wobei die ersten
Austrittsöffnungen (13) kreisförmig um den O-Ring (11)
angeordnet sind und die zweite Austrittsöffnung (14)
spaltförmig ausgebildet ist und als vollständige Umran
dung der Unterseite (9) des Trägerkörpers (8) eng be
nachbart zu deren äußeren Rand verläuft.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die ersten Austrittsöffnungen (13) kreisförmig aus
gebildet sind.
4. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekenn
zeichnet, daß die ersten Austrittsöffnungen (13) einen
Durchmesser von ca. 1,5 mm aufweisen.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, da
durch gekennzeichnet, daß die spaltförmige zweite Aus
trittsöffnung eine Breite von ca. 0,1-0,2 mm aufweist.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 5, da
durch gekennzeichnet, daß die zweite Austrittsöffnung
(14) in einem Abstand von ca. 2 mm vom äußeren Rand der
Unterseite (9) des Trägerkörpers (8) verläuft.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 6, da
durch gekennzeichnet, daß der Körper (1) in einem Ab
stand von ca. 0,1 mm von der Unterseite (9) des Träger
körpers (8) fixiert ist.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 7, da
durch gekennzeichnet, daß das gasförmige Medium (5) mit
einem Druck von ca. 1,5 bar in das Leitungssystem (12)
des Trägerkörpers (8) eingeleitet wird.
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 8, da
durch gekennzeichnet, daß in dem durch den O-Ring (11)
gebildeten Raum (15) ein Unterdruck von ca. 0,5 bar
erzeugt wird.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 9, da
durch gekennzeichnet, daß die Stirnseiten (17) des Trä
gerkörpers (8) keilförmig ausgebildet sind.
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DE19883811068 DE3811068C2 (de) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | Vorrichtung zum einseitigen Bearbeiten von flächenhaft ausgedehnten Körpern, insbesondere von Halbleiterscheiben |
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