DE3783913T2 - Strahlungsempfindliche acrylharzzusammensetzung. - Google Patents
Strahlungsempfindliche acrylharzzusammensetzung.Info
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- DE3783913T2 DE3783913T2 DE8787307284T DE3783913T DE3783913T2 DE 3783913 T2 DE3783913 T2 DE 3783913T2 DE 8787307284 T DE8787307284 T DE 8787307284T DE 3783913 T DE3783913 T DE 3783913T DE 3783913 T2 DE3783913 T2 DE 3783913T2
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 44
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 title description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 title description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 31
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 12
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 7
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 claims description 6
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ZRKLEAHGBNDKHM-UHFFFAOYSA-N N,n'-diallyl-2,3-dihydroxysuccinamide Chemical compound C=CCNC(=O)C(O)C(O)C(=O)NCC=C ZRKLEAHGBNDKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- -1 acrylic ester Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical group OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 4
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 claims description 4
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- GRMNJXQBRPJVQV-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxybutanediamide Chemical compound NC(=O)C(O)C(O)C(N)=O GRMNJXQBRPJVQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- CURRJRVNHCZZST-UHFFFAOYSA-N n,n'-bis(2-methylphenyl)oxamide Chemical compound CC1=CC=CC=C1NC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1C CURRJRVNHCZZST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KICDIMSDVSXCPV-UHFFFAOYSA-N n,n'-dihexyloxamide Chemical compound CCCCCCNC(=O)C(=O)NCCCCCC KICDIMSDVSXCPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920013683 Celanese Polymers 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLXMOAALOJOTIY-FPTXNFDTSA-N Aesculin Natural products OC[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H]1Oc2cc3C=CC(=O)Oc3cc2O PLXMOAALOJOTIY-FPTXNFDTSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- RZTXNSJRJVCZEM-UHFFFAOYSA-N n,n'-di(propan-2-yl)oxamide Chemical compound CC(C)NC(=O)C(=O)NC(C)C RZTXNSJRJVCZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOIKOYRULAZZLJ-UHFFFAOYSA-N n,n'-dibenzyloxamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1CNC(=O)C(=O)NCC1=CC=CC=C1 AOIKOYRULAZZLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YUUVWMFUVGZOHK-UHFFFAOYSA-N n,n'-dibutyloxamide Chemical compound CCCCNC(=O)C(=O)NCCCC YUUVWMFUVGZOHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BFCPRIFFJUHFAD-UHFFFAOYSA-N n,n'-dicyclohexyloxamide Chemical compound C1CCCCC1NC(=O)C(=O)NC1CCCCC1 BFCPRIFFJUHFAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHQSLMYNWIIFHX-UHFFFAOYSA-N n,n'-didodecyloxamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCNC(=O)C(=O)NCCCCCCCCCCCC WHQSLMYNWIIFHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FRZWXXLIRIYHFT-UHFFFAOYSA-N n,n'-dipropyloxamide Chemical compound CCCNC(=O)C(=O)NCCC FRZWXXLIRIYHFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- GRMNJXQBRPJVQV-JCYAYHJZSA-N (2r,3r)-2,3-dihydroxybutanediamide Chemical compound NC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(N)=O GRMNJXQBRPJVQV-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(prop-2-enyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound C=CCN1C(=O)N(CC=C)C(=O)N(CC=C)C1=O KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRWVOJLTHSRPOA-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(prop-2-enyl)urea Chemical compound C=CCNC(=O)NCC=C QRWVOJLTHSRPOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NACPTFCBIGBTSJ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-phenyl-1-(2-propan-2-ylphenyl)ethanone Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 NACPTFCBIGBTSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Natural products OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000003857 carboxamides Chemical class 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000010960 commercial process Methods 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- PVRATXCXJDHJJN-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2,3-dihydroxybutanedioate Chemical compound COC(=O)C(O)C(O)C(=O)OC PVRATXCXJDHJJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQOKIYDTHHZSCJ-UHFFFAOYSA-M dimethyl-bis(prop-2-enyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=CC[N+](C)(C)CC=C GQOKIYDTHHZSCJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002457 flexible plastic Polymers 0.000 description 1
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- TYQCGQRIZGCHNB-JLAZNSOCSA-N l-ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(O)=C(O)C1=O TYQCGQRIZGCHNB-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- QRNYPGXNCMAPJG-UHFFFAOYSA-N n,n,n',n'-tetrakis(prop-2-enyl)methanediamine Chemical compound C=CCN(CC=C)CN(CC=C)CC=C QRNYPGXNCMAPJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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- Y10S522/902—Air inhibition
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Description
- Diese Anmeldung betrifft strahlungsempfindliche Zusammensetzungen, und insbesondere solche Zusammensetzungen, die acrylierte Ester umfassen.
- Der in dieser Beschreibung verwendete Ausdruck "acrylierte Ester" bezieht sich entweder auf Acryl- oder Methacrylsäureharze. In dem U.S. Patent Nr. 4 171 974 werden lichtempfindliche Harze beschrieben, die Styrol-Lösungen vom Methacrylatestern von Epoxyharzen sind und als Epocryl®- Harze 321 und 322 bei der Shell Chemical Corporation erhältlich sind. Es werden auch Diacrylatester von flüssigen Bisphenol A-Epoxyharzen offenbart, die als Epocryl DRH-302 und 303 erhältlich sind. Andere geeignete Acrylatester werden aus Polyepoxy-Verbindungen, die von Phenol-Formaldehyd-Novolakharzen mit ungesättigter Funktionalität bis 3,3 abgeleitet sind, hergestellt.
- In dem U.S. Patent Nr. 4 174 307 werden strahlungsempfindliche Zusammensetzungen beschrieben, die auf diacrylierten Oligourethanen basieren. Ein jetzt erhältliches UV-härtbares Harz ist ein nicht flüchtiges acryliertes Urethan auf der Basis von aliphatischem Isocyanat, das als CMD 8800 UV/ES-Curable Resin von der Celanese Corporation vertrieben wird.
- Solche acrylierten Harze werden insbesondere beim Härten von UV-härtbaren Beschichtungen verwendet. Für diese Beschichtungen gibt es viele Einsatzmöglichkeiten, wie z. B. als Holzdeckanstriche, Beschichtungen für steife und flexible Kunststoffe, Bodenfliesenbeschichtungen, Siebdruckfarbenbeschichtungen und durchsichtige Beschichtungen, sowie Beschichtungen für Magnetbänder und -platten. Ein wichtiges mögliches Einsatzgebiet ist ihre Verwendung als lichtempfindliche Beschichtung auf Flachdruckplatten.
- Ein großer Nachteil bei der Verwendung dieser strahlungsempfindlichen acrylierten Ester war bisher die Inhibition der UV-Härtung in Anwesenheit von Sauerstoff, z. B., wenn die Härtung in Anwesenheit von Luft durchgeführt wurde. Es leuchtet daher ein, daß aufgrund des nachteiligen Einflusses, den Sauerstoff auf die UV-Härtung hat, in der Praxis bestimmte Beschränkungen auftreten.
- Gemäß der vorliegenden Erfindung wurde nun festgestellt, daß man eine erhebliche Verringerung der Sauerstoffinhibition von Licht-härtbaren strahlungsempfindlichen Zusammensetzungen, umfassend ungesättigte Oligomere und Polymere, erreichen kann, indem man geringere Mengen von N,N'-Diorganodicarboxamiden, wie z. B. N,N'-Dialkyltartardiamid, N,N'-Dioctyltartardiamid, N,N'-Dihexylmalondiamid und N,N'-Dipropylsuccindiamid, einbringt.
- Eine neue erfindungsgemäße strahlungsempfindliche Zusammensetzung umfaßt einen Acryl- oder Methacrylsäureester und mindestens 1 Gewichtsprozent eines N,N'-Diorganodicarboxamids der Formel
- worin R&sub1; und R&sub2; gleich oder unterschiedlich 2 bis 20 Kohlenstoffatome enthalten und Alkyl-, Allyl-, Cycloalkyl-, Aryl- oder Aralkylgruppen sind, die Hydroxy-, Cyano- oder Halogensubstituenten enthalten können, und worin X ein Hydroxycarbonsäurerest oder ein von Oxalsäure abgeleiteter Rest oder
- ist, worin R&sub3; eine Alkylgruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 12 Kohlenstoffatomen ist, welche Alkyl- und Arylgruppen substituiert sein können.
- In einem weiteren Aspekt der Erfindung wird ,ein Verfahren zur Verringerung der Sauerstoffinhibition von UV-härtbaren Acrylester-Zusammensetzungen bereitgestellt welches die Zugabe einer geringeren Menge eines wie oben definierten N,N-Diorganocarboxamids zu der Zusammen-Setzung umfaßt.
- Ebenfalls wird ein Verfahren bereitgestellt bei dem die neue Zusammensetzung gehärtet wird, indem man sie mit einer härtenden Strahlung belichtet. Eine Schicht der Zusammensetzung auf einem Substrat wird geeigneterweise gehärtet, um z. B. eine Flachdruckplatte herzustellen.
- Die zum Härten der erfindungsgemäßen Zusammensetzungen verwendete Strahlung ist gewöhnlich UV-Strahlung, es kann sich aber auch um Elektronenstrahlen oder eine andere Strahlungsart handeln.
- Die strahlungsempfindliche Zusammensetzung enthält im allgemeinen ein oder mehrere Lösungsmittel, einen oder mehrere herkömmliche Zusätze, wie z. B. Photoinitiatoren, Photoaktivatoren, Färbemittel, Polymere, Weichmacher und ungesättigte Monomere, Oligomere und Polymere.
- Die erfindungsgemäßen strahlungsempfindlichen Zusammensetzungen umfassen als wesentliche Bestandteile ungesättigte Oligomere und/oder Polymere (Acryl- oder Methacrylsäureester) und für beide Bestandteile eine geringere Menge an N,N'-Diorganodicarboxamiden gelöst in einem Lösungsmittel für beide Komponenten und, wie bereits erwähnt, herkömmliche Zusätze, wie z. B. Photoinitiatoren, Photoaktivatoren und dergleichen, ebenfalls in geringeren Mengen. Andere Zusätze, wie z. B. Färbemittel, polymere Harze und Weichmacher können je nach Verwendungszweck der strahlungsempfindlichen Zusammensetzung eingesetzt werden.
- Im allgemeinen liegt die Menge des Acrylharzes in der endgültigen Zusammensetzung im Bereich von etwa 2 bis 95 Gewichtsprozent, vorzugsweise von 10 bis 75%, der nicht flüchtigen Bestandteile.
- Bei kommerziellen Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten werden die Platten mit einer Zusammensetzung beschichtet, die die erfindungsgemäßen strahlungsempfindlichen Bestandteile und herkömmliche filmbildende Harze oder Polymere, wie die bekannten Cellulosen, Epoxyharze, Phenolharze, Acrylate und dergleichen, umfaßt. Man verwendet typische Mengen der zwei Hauptbestandteile und es versteht sich von selbst, daß weder das spezielle filmbildende Material noch die Mengen der Bestandteile kritische Merkmale dieser Erfindung sind.
- Die zur Verringerung der Sauerstoffinhibition der UV- strahlungsempfindlichen Acrylatverbindungen geeigneten N,N'-Diorganodicarboxamide besitzen die folgende Strukturformel:
- worin R&sub1; und R&sub2; gleich oder unterschiedlich 2 bis 20 Kohlenstoffatome enthalten und Alkyl-, Allyl-, Cycloalkyl-, Aryl- oder Aralkylgruppen sind. Diese Gruppen können Substituenten, wie z. B. Hydroxy, Cyano und Halogen, aufweisen.
- X ist ein Hydroxycarbonsäurerest oder ein von Oxalsäure abgeleiteter Rest oder
- worin R&sub3; eine Alkylgruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 12 Kohlenstoffatomen ist. Die Alkyl- und Arylgruppen können z. B. durch Hydroxylgruppen substituiert sein.
- Typische Beispiele für N,N'-Diorganocarboxamide sind:
- N,N'-Diethyltartardiamid
- N,N'-Dipropyltartardiamid
- N,N'-Dibutyltartardiamid
- N,N'-Dioctyltartardiamid
- N,N'-Diisopropyltartardiamid
- N,N'-Diisobutyltartardiamid
- N,N'-Neopentyltartardiamid
- N,N'-Diisoamyltartardiamid
- N,N'-Dicyclopropyltartardiamid
- N,N'-Dicyclopentyltartardiamid
- N,N'-Dicyclohexyltartardiamid
- N,N'-Di(6-hydroxyhexyl)tartardiamid
- N,N'-Di(6-cyanohexyl)tartardiamid
- N,N'-Diphenyltartardiamid
- N,N'-Diallyltartardiamid
- N,N'-Di(2 ,2,2-trifluorethyl)tartardiamid
- N,N'-Dibenzyltartardiamid
- N,N'-Diphenethyltartardiamid
- N,N'-Di(4-methoxybenzyl)tartardiamid
- N,N'-Dipropyloxalyldiamid
- N,N'-Dibutyloxalyldiamid
- N,N'-Dihexyloxalyldiamid
- N,N'-Didodecyloxalyldia mid
- N,N'-Diisopropyloxalyldiamid
- N,N'-Dicyclohexyloxalyldiamid
- N,N'-Dibenzyloxalyldiamid
- N,N'-Di(2-methylphenyl)oxalyldiamid
- N,N'-Dipropylmalondiamid
- N,N'-Dibutylmalondiamid
- N,N'-Dihexylmalondiamid
- N,N'-Dipropylsuccindia mid
- N,N'-Dibutylsuccindiamid
- N,N'-Dipropylmaldiamid
- N,N'-Dipropylterephthalyldiamid.
- Im allgemeinen beträgt die Menge des verwendeten N,N'- Dicarboxamids mindestens 1 Gewichtsprozent des Gesamtgewichts des nicht flüchtigen Teils der Gesamtzusammensetzung. Meistens reicht eine Menge im Bereich von etwa 1 bis 10 Gewichtsprozent, vorzugsweise von 3 bis 6 Gewichtsprozent, aus, um die erwünschten Ergebnisse zu erhalten.
- Man stellte fest, daß Verbindungen wie Weinsäure, Weinsäurediamid, 2,3-Dibenzoylweinsäure, Weinsäuredimethylester, N,N'-Diallylacrylamid, Diallylharnstoff, Triallylisocyanurat, N,N'-Diallylethanolamin, Bis(diallylamino)methan, Dimethyldiallylammoniumchlorid, Citronensäure und Ascorbinsäure nicht dazu geeignet waren, die Sauerstoffinhibition wesentlich zu verringern.
- Lösungsmittel, die bei der Formulierung der strahlungsempfindlichen Zusammensetzungen verwendet werden können, umfassen Methylcellosolve, Alkohole, wie z. B. Methanol und Isopropanol, Ketone, wie z. B. Methylethylketon und Cyclohexanon, aromatische Substanzen, wie z. B. Toluol, Dimethylformamid, Tetrahydrofuran, Methylenchlorid, und dergleichen.
- Die anderen Zusätze können in geringeren Mengen verwendete Photoinitiatoren und Photoaktivatoren umfassen, wie z. B. Michlers Keton, Isopropylthioxanthon, 2-Methyl-1-[4- (methylthio)-phenyl]-2-morpholino-propan-1-on, Benzildimethylketal, Iso-propylbenzoinether, Ethyl-4- dimethylaminobenzoat und Acetophenonderivate.
- Die folgenden erläuternden Ausführungsbeispiele dienen dem besseren Verständnis der Erfindung. Bei diesen Tests wurde die strahlungshärtbare Zusammensetzung auf eine gekörnte, anodisierte und mit Kieselsäure behandelte Aluminiumplatte aufgetragen. Zur Bestimmung der Härtungsgeschwindigkeit wurde ein 21-stufiges Fogra Grauskalen-Negativ verwendet (beschrieben im Fogra Praxisbericht Nr. 24, Deutsche Forschungsgesellschaft für Druck und Reproduktionstechnik e.V.); der Einfluß von O&sub2; wurde geprüft, indem man die Veränderungen der Grauskala bestimmte, die auftraten, wenn man sie 10 Sekunden lang mit einer 5 kW Berkey UV-Lichtquelle in einem Vakuum von 27 und 7 Zoll belichtete. Nach der Belichtung wurde die Beschichtung 10 Sekunden lang in einem Polychrome-972-Entwickler entwickelt, gespült und mit Druckfarbe versehen. Das mit Druckfarbe versehene Ende der Grauskala wurde als Maß für die Härtungsgeschwindigkeit aufgezeichnet. Insbesondere bei schwachem Vakuum wurde bei der Zugabe von Carboxamid eine erhebliche Zunahme der Härtungsgeschwindigkeit festgestellt.
- (A) 5,6 g acryliertes Urethan, das unter dem Warenzeichen Celrad 3071 von der Celanese Corporation vertrieben wird, wurden in 300 ml Methylcellosolve gelöst. Der erhaltenen Lösung wurden 0,2 g Benzophenon und 0,2 g Michlers Keton zugegeben. Die erhaltene strahlungsempfindliche Zusammensetzung wurde auf eine gekörnte, anodisierte und mit Kieselsäure behandelte Aluminium-Flachdruckplatte aufgetragen. Nachdem man die beschichtete Platte mit Druckfarbe versehen und bei einem Vakuum von 1,86 · 10&sup5; Pa und 0,48 · 10&sup5; Pa (27 und 7 psi) mit Hilfe einer 5 kW Berkey-Lampe belichtet, entwickelt und mit Druckfarbe versehen hatte, erhielt man ein Fogra Grauskalen- Negativende von 14 zu 5.
- (B) Nachdem man Versuch A mit der Ausnahme, daß 0,27 g N,N'-Diallyltartardiamid als zusätzlicher Bestandteil bei der Formulierung der strahlungsempfindlicher Zusammensetzung verwendet wurde, wiederholt hatte, erhielt man unter denselben Testbedingungen ein Grauskalenende von 15 zu 8.
- Eine Reihe von strahlungsempfindlichen Zusammensetzungen wurden unter Verwendung der folgenden Bestandteile formuliert:
- Menge
- DV-530 (ein acryliertes Urethanoligomer, vertrieben von der Polychrome Corp.)
- US-PS 4 233 390 0,85 g
- Benzophenon 0,033 g
- Michlers Keton 0,033 g
- Diorganodicarboxamid-Zusatz (außer in der Bezugszusammensetzung) 0,05 g
- Methylcellosolve 50 ml
- Wie in Beispiel I (Versuch A) wurde jede der resultierenden strahlungsempfindlichen Zusammensetzungen auf gekörnte, anodisierte und mit Kieselsäure behandelte Aluminium- Flachdruckplatten aufgetragen, entwickelt, mit Druckfarbe versehen und auf identische Weise bei einem Vakuum von 7 psi und 27 psi belichtet, wobei man das mit Druckfarbe versehene Graustufenende beobachtete.
- Die Ergebnisse sind in der Tabelle unten zusammengefaßt: TABELLE A Zusatz Grauskala mit Druckfarbe Vakuum, psi 1) Bezugszusammensetzung (kein Zusatz) 2) N,N'-Diethyltartardiamid 3) N,N'-Dipropyltartardiamid 4) N,N'-Dibutyltartardiamid 5) N,N'-Dioctyltartardiamid 6) N,N'-Diisopropyltartardiamid 7) N,N'-Diisobutyltartardiamid 8) N,N'-Neopentyltartardiamid 9) N,N'-Diisoamyltartardiamid 10) N,N'-Dicyclopropyltartardiamid 11) N,N'-Dicyclopentyltartardiamid 12) N,N'-Dicyclohexyltartardiamid 13) N,N'-Di(6-hydroxyhexyl)tartardiamid 14) N,N'-Di(6-cyanohexyl)tartardiamid 15) N,N'-Diallyltartardiamid 16) N,N'-Dibenzyltartardiamid 17) N,N'-Diphenethyltartardiamid 18) N,N'-Di(4-methoxybenzyl)tartardiamid 19) N,N'-Dipropyloxalyldiamid 20) N,N'-Dibutyloxalyldiamid 21) N,N'-Dihexyloxalyldiamid 22) N,N'-Didodecyloxalyldiamid 23) N,N'-Diisopropyloxalyldiamid 24) N,N'-Dicyclohexyloxalyldiamid 25) N,N'-Dibenzyloxalyldiamid 26) N,N'-Di(2-methylphenyl)oxalyldiamid 27) N,N'-Dipropylmalondiamid 28) N,N'-Dibutylmalondiamid 29) N,N'-Dihexylmalondiamid 30) N,N'-Dipropylsuccindiamid TABELLE A (Fortsetzung) 31) N,N'-Dibutylsuccindiamid 32) N,N'-Diphenyltartardiamid 33) N,N'-Dipropyldimalamid 34) N,N'-Dipropylterephthalyldiamid
- Mit Hilfe der Verfahren von Beispiel I wurden die folgenden strahlungsempfindlichen Zusammensetzungen formuliert und hinsichtlich ihrer Grauskalenenden geprüft, nachdem man sie auf gekörnte, anodisierte und mit Kieselsäure behandelte Aluminium-Flachdruckplatten aufgetragen, daraufhin entwickelt und anschließend mit Druckfarbe versehen hatte:
- Menge
- Celrad CMD 8800 (ein nicht flüchtiges acryliertes Urethan auf der Basis eines aliphatischen Isocyanats) vertrieben von der Celanese Corp. 0,85 g
- Benzophenon 0,033 g
- Michlers Keton 0,033 g
- Zusatz (außer in der Bezugszusammensetzung) 0,05 g
- Methylcellosolve 50 ml
- Die Ergebnisse sind im folgenden angegeben: TABELLE B Zusatz Vakuum, psi 35) Bezugszusammensetzung (kein Zusatz) 36) N,N'-Dipropyltartardiamid 37) N,N'-Dioctyltartardiamid 38) N,N'-Dicyclopentyltartardiamid 39) N,N'-Diallyltartardiamid 40) N,N'-Dibenzyltartardiamid 41) N,N'-Dihexyloxalyldiamid 42) N,N'-Di(2-methylphenyl)oxalyldiamid 43) N,N'-Dihexylmalondiamid 44) N,N'-Dipropylsuccindiamid
- Eine weitere Reihe von strahlungsempfindlichen Zusammensetzungen wurde unter Verwendung der folgenden Bestandteile formuliert:
- DV-530 0,85 g
- Irgacure 907 (2-Methyl-1-[4-methylthio)phenyl]-2-morpholino-propan-1-on 0, 033 g
- Quantacure ITX (Isopropylthioxanthon) 0,004 g
- Zusatz (außer in der Bezugszusammensetzung) 0,05 g
- Methylcellosolve 50 ml
- Wie in den vorangegangenen Beispielen wurde jede der resultierenden strahlungsempfindlichen Zusammensetzungen auf gekörnte, anodisierte und mit Kieselsäure behandelte Aluminium-Flachdruckplatten aufgetragen, mit Druckfarbe versehen und der Grauskalen-Prüfung unterzogen. TABELLE C Zusatz Vakuum, psi 45) Bezugszusammensetzung (kein Zusatz) 46) N,N'-Diethyltartardiamid 47) N,N'-Dioctyltartardiamid 48) N,N'-Dicyclopentyltartardiamid 49) N,N'-Di(6-hydroxyhexyl)tartardiamid 50) N,N'-Diallyltartardiamid 51) N,N'-Dibenzyltartardiamid 52) N,N'-Dihexyloxalyldiamid 53) N,N'-Di(2-methylphenyl)oxalyldiamid 54) N,N'-Dihexylmalondiamid 55) N,N'-Dipropylsuccindiamid
Claims (10)
1. Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, umfassend
einen Acryl- oder Methacrylsäureester, gekennzeichnet
durch einen Gehalt an mindestens 1 Gewichtsprozent
eines N,N'-Diorganodicarboxamids der Formel
worin R&sub1; und R&sub2; gleich oder unterschiedlich 2 bis 20
Kohlenstoffatome enthalten und Alkyl-, Allyl-,
Cycloalkyl-, Aryl- oder Aralkylgruppen sind, die Hydroxy-
Cyano- oder Halogensubstituenten enthalten können, und
worin X ein Hydroxycarbonsäurerest oder ein von
Oxalsäure abgeleiteter Rest oder
ist, worin R&sub3; eine Alkylgruppe mit 1 bis 8
Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 12
Kohlenstoffatomen ist, welche Alkyl- und Arylgruppen
substituiert sein können.
2. Strahlungsempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch
1, welche UV-Licht-härtbar ist.
3. Strahlungsempfindliche Zusammensetzung nach einem der
vorangehenden Ansprüche, worin der Acryl- oder
Methacrylsäureester acryliertes Urethan ist.
4. Strahlungsempfindliche Zusammensetzung nach einem der
vorangehenden Ansprüche, worin die Menge des N,N'-
Diorganocarboxamids 1 bis 10 Gewichtsprozent,
vorzugsweise 3 bis 6%, beträgt.
5. Strahlungsempfindliche Zusammensetzung nach einem der
vorangehenden Ansprüche, worin das N,N'-
Diorganodicarboxamid ein N,N'-Diallyldicarboxamid,
vorzugsweise N,N'-Diallyltartardiamid, umfaßt.
6. Strahlungsempfindliche Zusammensetzung nach einem der
vorangehenden Ansprüche, worin das N,N'-
Diorganodicarboxamid ein N,N'-Dialkyldicarboxamid,
vorzugsweise ausgewählt aus N,N'-Dibutyltartardiamid,
N,N'-Dioctyltartardiamid, N,N'-Dihexyltartardiamid,
N,N'-Diisoamyltartardiamid, N,N'-Dibutylsuccindiamid
und N,N'-Dihexylmalondiamid, umfaßt.
7. Strahlungsempfindliche Zusammensetzung nach einem der
vorangehenden Ansprüche, worin das N,N'-
Diorganodicarboxamid N,N'-Dicycloalkyldicarboxamid,
vorzugsweise Dicyclopropyltartardiamid, umfaßt.
8. Strahlungsempfindliche Zusammensetzung nach einem der
vorangehenden Ansprüche, worin das N,N'-
Diorganodicarboxamid N,N'-Dibenzyltartardiamid umfaßt.
9. Methode zur Verringerung der Sauerstoffinhibition von
UV-härtbaren Acrylester-Zusammensetzungen, welche
umfaßt die Zugabe zu der Zusammensetzung einer
geringeren Menge eines N,N'-Diorganodicarboxamids der
Formel
worin R&sub1; und R&sub2; gleich oder unterschiedlich 2 bis 20
Kohlenstoffatome enthalten und Alkyl-, Allyl-,
Cycloalkyl-, Aryl- oder Aralkylgruppen sind, die Hydroxy-
Cyano- oder Halogensubstituenten enthalten können, und
worin X ein Hydroxycarbonsäurerest oder ein von
Oxalsäure abgeleiteter Rest oder
ist, worin R&sub3; eine Alkylgruppe mit 1 bis 8
Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 12
Kohlenstoffatomen ist, welche Alkyl- und Arylgruppen
substituiert sein können.
10. Verfahren, bei dem eine Zusammensetzung nach einem der
Ansprüche 1 bis 8 durch Belichten mit härtender
Strahlung gehärtet wird, vorzugsweise unter Bildung
einer Flachdruckplatte.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US86570286A | 1986-05-22 | 1986-05-22 | |
EP87307284A EP0309619B1 (de) | 1986-05-22 | 1987-08-18 | Strahlungsempfindliche Acrylharzzusammensetzung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3783913D1 DE3783913D1 (de) | 1993-03-11 |
DE3783913T2 true DE3783913T2 (de) | 1993-08-12 |
Family
ID=25346056
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE8787307284T Expired - Fee Related DE3783913T2 (de) | 1986-05-22 | 1987-08-18 | Strahlungsempfindliche acrylharzzusammensetzung. |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4782005A (de) |
EP (1) | EP0309619B1 (de) |
JP (1) | JPS6451412A (de) |
AU (1) | AU601459B2 (de) |
DE (1) | DE3783913T2 (de) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU705734B2 (en) * | 1992-03-23 | 1999-06-03 | Steel Storage Holdings Pty Ltd | A building system |
US6399543B1 (en) | 2001-03-29 | 2002-06-04 | Air Products And Chemicals, Inc. | Low foam N,N′-dialkyltartaramide wetting agents |
US8377630B2 (en) | 2005-07-29 | 2013-02-19 | Anocoil Corporation | On-press plate development without contamination of fountain fluid |
EP1910897A4 (de) * | 2005-07-29 | 2010-12-22 | Anocoil Corp | Abbildbare druckplatte für entwicklung auf der druckpresse |
US8133658B2 (en) | 2005-07-29 | 2012-03-13 | Anocoil Corporation | Non-chemical development of printing plates |
US8137897B2 (en) | 2005-07-29 | 2012-03-20 | Anocoil Corporation | Processless development of printing plate |
EP3008518A1 (de) | 2013-06-14 | 2016-04-20 | Agfa Graphics NV | Lithografiedruckplattenvorläufer |
EP3008517A1 (de) * | 2013-06-14 | 2016-04-20 | Agfa Graphics N.V. | Flachdruckplattenvorläufer |
EP2883699B1 (de) | 2013-12-11 | 2017-05-03 | Agfa Graphics Nv | Lithographiedruckplattenvorläufer und Monomer |
EP3650938A1 (de) * | 2018-11-09 | 2020-05-13 | Agfa Nv | Lithographiedruckplattenvorläufer |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3754031A (en) * | 1971-03-18 | 1973-08-21 | Ciba Geigy Corp | N,n'-bis(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) adipamide |
US4425208A (en) * | 1981-08-06 | 1984-01-10 | The Upjohn Company | Compositions and process |
JPS60192765A (ja) * | 1984-03-15 | 1985-10-01 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | 成形性の改良された熱可塑性樹脂組成物 |
-
1987
- 1987-08-04 AU AU76569/87A patent/AU601459B2/en not_active Ceased
- 1987-08-08 JP JP62198978A patent/JPS6451412A/ja active Pending
- 1987-08-18 DE DE8787307284T patent/DE3783913T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-08-18 EP EP87307284A patent/EP0309619B1/de not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-02-18 US US07/157,001 patent/US4782005A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0309619A1 (de) | 1989-04-05 |
US4782005A (en) | 1988-11-01 |
DE3783913D1 (de) | 1993-03-11 |
EP0309619B1 (de) | 1993-01-27 |
AU7656987A (en) | 1989-02-09 |
JPS6451412A (en) | 1989-02-27 |
AU601459B2 (en) | 1990-09-13 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
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