DE3708967A1 - Vorrichtung zur erzeugung eines gasgemisches nach dem saettigungsverfahren - Google Patents

Vorrichtung zur erzeugung eines gasgemisches nach dem saettigungsverfahren

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Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung eines Gasgemisches nach dem Sättigungsverfahren, mit einem Vorratsbehälter für die Flüssigkeit und mit einem Tauchrohr zur Einleitung eines Trägergases in die Flüssigkeit.
Derartige Vorrichtungen dienen dazu, einen kontinuierlichen Volumenstrom eines definierten Gemisches aus einem Trägergas und einer Beimengung zu erzeugen. Das hierbei angewandte Sättigungsverfahren (VDI- Richtlinie 3490, Bl. 13) besteht darin, daß das Trägergas durch die auf einer bestimmten Temperatur gehaltene Flüssigkeit (kondensierte Phase der Beimengung) geleitet und dabei gesättigt wird. Der Volumengehalt der Beimengung wird durch den Partialdruck der Beimengung bestimmt, bezogen auf den Gesamtdruck des Gasgemisches bei der jeweiligen Temperatur.
Diese Vorrichtungen werden insbesondere als Quellen für Stoffe für spezielle Prozesse der Halbleiterfertigung eingesetzt, wie beispielsweise für CVD-, Dotier- und Diffusionsprozesse, daneben aber auch für Abscheidungsprozesse zur Herstellung von optischen Fasern.
Die besonderen Schwierigkeiten dieser Verfahren liegen vor allem darin, eine genau gleichbleibende Konzentration der Beimengung im Gasgemisch einzuhalten. Bei der Herstellung von optischen Gradientenfasern ist es sogar erforderlich, ein genau vorgegebenes Konzentrationsprofil zu fahren.
Allen bekannten Vorrichtungen der eingangs genannten Gattung ist gemeinsam, daß die Sättigung des Trägergases in dem die Flüssigkeit enthaltenden Vorratsbehälter erfolgt. Das Trägergas wird durch ein Tauchrohr in die Flüssigkeit eingeleitet und perlt nach oben, wobei es mit der Beimengung aus der Flüssigkeitsphase gesättigt wird. Der erzielte Sättigungsgrad hängt von der Länge des Weges ab, den die Gasblasen durch die Flüssigkeit zurücklegen, und ändert sich deshalb, wenn der Füllstand im Vorratsbehälter abnimmt.
Um Temperatureinflüsse auszuschließen, muß der gesamte Vorratsbehälter durch eine Temperaturregeleinrichtung auf der gewünschten Temperatur gehalten werden. Deshalb ist die Vorrichtung nach einem Austauschen des auch als Vorlage bezeichneten Vorratsbehälters erst nach längerer Zeit wieder betriebsbereit, wenn der gesamte Flüssigkeitsvorrat die vorgegebene Temperatur erreicht hat. Eine gewünschte Änderung der Flüssigkeitstemperatur kann daher üblicherweise erst nach mehreren Stunden eingestellt werden.
Diese bekannten Vorrichtungen zur Erzeugung eines Gasgemisches nach dem Sättigungsverfahren werden wegen der aus dem Tauchrohr oder Frittenrohr aufsteigenden Gasblasen auch als "Bubbler" bezeichnet; der Volumenstrom wird durch eine Regelung des Massenflusses des Trägergases geregelt.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Vorrichtung der eingangs genannten Gattung zu schaffen, die unter allen Betriebsbedingungen eine genaue Konstanthaltung der beigemengten Stoffmenge und damit des Sättigungsgrades des erzeugten Gasgemisches ermöglicht und mit der auch eine verhältnismäßig rasche und gesteuerte Konzentrationsänderung erreicht werden kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß der Vorratsbehälter über eine Flüssigkeitsleitung mit einem gesonderten Reaktionsgefäß verbunden ist, dem das Trägergas über das Tauchrohr zugeführt wird, daß das Volumen des Reaktionsgefäßes wesentlich geringer als das Volumen des Vorratsbehälters ist, daß das Reaktionsgefäß einen berührungslosen Füllstandsgeber aufweist, der eine Mengendosiereinrichtung in der zum Reaktionsgefäß führenden Flüssigkeitsleitung steuert, und daß das Reaktionsgefäß eine Temperaturregeleinrichtung aufweist.
Im Gegensatz zu den bekannten Vorrichtungen erfolgt gemäß der Erfindung die Trägergassättigung in einem gesonderten Reaktionsgefäß und nicht in dem Vorratsbehälter. Das Reaktionsgefäß kann deshalb ein wesentlich geringeres Volumen als der Vorratsbehälter aufweisen, so daß ein erheblich besseres regelungstechnisches Zeitverhalten erreicht wird. Auch nach einem Auswechseln des Vorratsbehälters bleibt das Reaktionsgefäß auf seiner vorgegebenen Betriebstemperatur und ist deshalb sofort betriebsbereit. Das geringe Volumen des Reaktionsgefäßes ermöglicht eine rasche Temperaturänderung, wenn diese beispielsweise zur Erzeugung eines Konzentrations- Gradienten erforderlich ist. Diese Temperaturänderung des Reaktionsgefäßes wird innerhalb von wenigen Minuten erreicht, während bei bekannten Vorrichtungen hierfür mehrere Stunden erforderlich waren.
Die in dem Vorratsbehälter vorhandene Flüssigkeitsmenge kann ohne Beeinträchtigung des Sättigungsvorgangs, der im gesonderten Reaktionsgefäß erfolgt, bis zu einem sehr kleinen Rest ausgeschöpft werden. Im Vergleich dazu mußte bei herkömmlichen Vorrichtungen ein Rest von etwa 20% der ursprünglichen Flüssigkeitsmenge im Bubbler-Behälter verbleiben, da anderenfalls keine ausreichende Sättigung des aus dem Tauchrohr austretenden Trägergases erreicht werden konnte.
Da der Flüssigkeitsstand im gesonderten Reaktionsgefäß unabhängig von der jeweils im Vorratsbehälter vorhandenen Flüssigkeitsmenge durch den Füllstandsgeber und die Mengendosiereinrichtung konstant gehalten wird, kann auch die Trägergassättigung und damit - bei massenflußgeregeltem Trägergasstrom - der Volumengehalt der Beimengung im Trägergas mit hoher Genauigkeit kontant gehalten werden. Dies ist beispielsweise von besonderer Bedeutung, wenn es sich bei der Beimengung um einen Dotierstoff für einen Dotiervorgang in der Halbleiterfertigung handelt.
Um die Möglichkeit einer Kontamination der Beimengung, beispielsweise eines Dotierstoffes, durch eine chemische Reaktion der Gefäßwand mit Hydrolyseprodukten, die durch Wasserspuren im Trägergas verursacht werden, auszuschließen, genügt es, das Reaktionsgefäß aus Quarz herzustellen; dagegen kann der Vorratsbehälter aus Glas bestehen, da im Vorratsbehälter kein Trägergas durch die Flüssigkeit strömt. Es ist nicht erforderlich, am Vorratsbehälter eine Temperaturmeßtasche vorzusehen, bei der eine Bruchgefahr nicht ausreichend ausgeschlossen werden kann.
Der Vorratsbehälter wird praktisch drucklos betrieben, so daß eine erhöhte Arbeitssicherheit gewährleistet ist. Das Glasgefäß des Vorratsbehälter kann kunststoffummantelt sein, da keine Temperierung des Vorratsbehälter nötig ist. Auf diese Weise wird erreicht, daß sogar bei einem Glasbruch das Austreten von aggressiver Flüssigkeit verhindert wird.
Vorzugsweise ist das aus Quarz bestehende Reaktionsgefäß in einem mit der Temperaturregeleinrichtung verbundenen Metallblock angeordnet, um eine gleichmäßige Temperaturverteilung zu gewährleisten. Um die vom nichttemperierten Vorratsbehälter kommende Flüssigkeitsmenge auf die eingestellte Temperatur des Reaktionsgefäßes zu bringen, wird die Flüssigkeitsleitung vorzugsweise durch eine oder mehrere Bohrungen im Metallblock zum Reaktionsgefäß geführt.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen des Erfindungsgedankens sind Gegenstand weiterer Unteransprüche.
Die Erfindung wird nachfolgend an Ausführungsbeispielen näher erläutert, die in der Zeichnung dargestellt sind. Es zeigt:
Fig. 1 in stark vereinfachter Darstellungsweise eine Vorrichtung zur Erzeugung eines Gasgemisches nach dem Sättigungsverfahren mit einem Vorratsbehälter und einem gesonderten Reaktionsgefäß und
Fig. 2 ein gegenüber der Ausführung nach Fig. 1 abgewandeltes Reaktionsgefäß ebenfalls in vereinfachter Darstellungsweise im senkrechten Schnitt.
Ein Trägergas, beispielsweise Stickstoff, wird durch eine Gaszuleitung 1 einem Vorratsbehälter 2 zugeführt. Der Vorratsbehälter 2 besteht aus Glas und enthält eine Flüssigkeit 3, die in gasförmiger Phase dem Trägergas beigemengt werden soll. Das Trägergas beaufschlagt den über der Flüssigkeit befindlichen Raum des Vorratsbehälters 2 und drückt die Flüssigkeit durch eine Steigleitung 4 in eine Flüssigkeitsleitung 5, die zu einem Reaktionsgefäß 6 führt.
Das Reaktionsgefäß 6 besteht aus Quarz und ist von einem Metallblock 7 umgeben. Am Reaktionsgefäß 6 ist ein berührungsloser Füllstandsgeber 8 angeordnet, beispielsweise eine Lichtschranke oder ein kapazitiver Initiator, der über eine in Fig. 1 mit gestrichelter Linie dargestellte Steuerleitung 9 mit einem Ventil 10 als Stellglied in der Flüssigkeitsleitung 5 verbunden ist. Der Füllstandsgeber 8 bildet mit dem Ventil 10 einen einfachen Zweipunktregler, der dazu dient, im Reaktionsgefäß 6 einen vorgegebenen Füllstand aufrechtzuerhalten. Anstelle der dargestellten Ausführung kann das Ventil 10 auch in der zum Vorratsbehälter 2 führenden Trägergasleitung 1 angeordnet sein.
Zur Konstanthaltung bzw. gezielten Beeinflussung der Temperatur des Reaktionsgefäßes 6 ist eine Temperaturregeleinrichtung vorgesehen, die bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel Peltierelemente 11 an der Außenseite des Metallblocks 7 aufweist.
Um die aus dem Vorratsbehälter 2 dem Reaktionsgefäß 6 zugeführte Flüssigkeit auf die gewünschte Temperatur zu bringen, ist vorgesehen, daß die Flüssigkeitsleitung 5 an eine oder mehrere in der Zeichnung nur schematisch dargestellte Bohrungen 12 im Metallblock 7 angeschlossen ist, die mit dem Zulauf zum Reaktionsgefäß 6 verbunden ist bzw. sind.
Durch eine von der Trägergasleitung 1 abgezweigte Gasleitung 13 wird ein vorgegebener Volumenstrom von Trägergas über eine in Fig. 1 nur angedeutete Volumenstrom-Regeleinrichtung 14, beispielsweise einen thermischen Massenflußregler, und eine Leitung 15 einem Tauchrohr oder Frittenrohr 16 zugeführt, das im unteren Bereich des Reaktionsgefäßes 6 mündet. Von dort steigen die Blasen des Trägergases durch die im Reaktionsgefäß 6 enthaltene Flüssigkeitsmenge auf und werden dabei gesättigt. Durch eine Gemischleitung 17 tritt das Gasgemisch aus dem Reaktionsgefäß 6 aus.
Das Volumen des Reaktionsgefäßes 6 wird so klein wie möglich gewählt; es nimmt aber mindestens das 1,5- bis 2­ fache des Flüssigkeitsvolumens auf, das für jeweils eine einzelne Prozeßcharge benötigt wird. Beispielsweise beträgt das Volumen des Reaktionsgefäßes 10-20 ml.
Das Verhältnis der Höhe zum Durchmesser des Reaktionsgefäßes 6 liegt angenähert im Bereich 4:1 bis 8:1.
Die in Fig. 2 gezeigte Ausführungsform des Reaktionsgefäßes 6′ unterscheidet sich von der Ausführungsform nach Fig. 1 nur dadurch, daß das Reaktionsgefäß 6′ in seinem oberen Teil 6 a im Bereich des Füllstandsgebers 8 mit wesentlich größerem Durchmesser ausgeführt ist als in seinem unteren Teil 6 b. Dadurch wird erreicht, daß die auftretenden Füllstandsänderungen bei Änderungen des Flüssigkeitsvolumens im Reaktionsgefäß 6′ nur sehr gering sind.

Claims (6)

1. Vorrichtung zur Erzeugung eines Gasgemisches nach dem Sättigungsverfahren, mit einem Vorratsbehälter für die Flüssigkeit und mit einem Tauchrohr zur Einleitung eines Trägergases in die Flüssigkeit, dadurch gekennzeichnet, daß der Vorratsbehälter (2) über eine Flüssigkeitsleitung (5) mit einem gesonderten Reaktionsgefäß (6) verbunden ist, dem das Trägergas über das Tauchrohr (16) zugeführt wird, daß das Volumen des Reaktionsgefäßes (6) wesentlich geringer als das Volumen des Vorratsbehälters (2) ist, daß das Reaktionsgefäß (6) einen berührungslosen Füllstandsgeber (8) aufweist, der eine Mengendosiereinrichtung (10) in der zum Reaktionsgefäß (6) führenden Flüssigkeitsleitung (5) steuert, und daß das Reaktionsgefäß (6) eine Temperaturregeleinrichtung (11) aufweist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Reaktionsgefäß (6) aus Quarz besteht und in einem mit der Temperaturregeleinrichtung (11) verbundenen Metallblock (7) angeordnet ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die von der Mengendosiereinrichtung (10) kommende Flüssigkeitsleitung (5) durch eine oder mehrere Bohrungen (12) im Metallblock (7) zum Tauchrohr (16) geführt ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis der Höhe zum Durchmesser des Reaktionsgefäßes (6) angenähert im Bereich von 4:1 bis 8:1 liegt.
5. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Mengendosiereinrichtung als Zweipunktregler mit einem zwischen einer geschlossenen und einer geöffneten Stellung umschaltbaren Ventil (10) in der Flüssigkeitsleitung (5) ausgeführt ist.
6. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Reaktionsgefäß (6′) in seinem oberen Teil (6 a) im Bereich des Füllstandsgebers (8) mit wesentlich größerem Durchmesser ausgeführt ist als in seinem unteren Teil (6 b).
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EP88103857A EP0283874B1 (de) 1987-03-19 1988-03-11 Vorrichtung zur Erzeugung eines Gasgemisches nach dem Sättigungsverfahren
US07/170,222 US4861524A (en) 1987-03-19 1988-03-18 Apparatus for producing a gas mixture by the saturation method

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012021527A1 (de) 2012-10-31 2014-04-30 Dockweiler Ag Vorrichtung zur Erzeugung eines Gasgemisches
US10141209B2 (en) * 2014-02-28 2018-11-27 Tokyo Electron Limited Processing gas generating apparatus, processing gas generating method, substrate processing method, and storage medium

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0420596B1 (de) * 1989-09-26 1996-06-19 Canon Kabushiki Kaisha Gasversorgungsvorrichtung und ihre Verwendung für eine Filmabscheidungsanlage
US5078922A (en) * 1990-10-22 1992-01-07 Watkins-Johnson Company Liquid source bubbler
DE4113358A1 (de) * 1991-04-24 1992-10-29 Siemens Ag Vorrichtung zur mischung eines traegergases mit einem nutzgas
EP0555614A1 (de) * 1992-02-13 1993-08-18 International Business Machines Corporation Organo-Metall-Gas Quelle für MOVPE- und MOMBE-Verfahren
IT1255296B (it) * 1992-05-26 1995-10-26 Getters Spa Apparecchiatura per introdurre in modo controllato quantita' minime di umidita' in un flusso di gas secco
JP2000252269A (ja) * 1992-09-21 2000-09-14 Mitsubishi Electric Corp 液体気化装置及び液体気化方法
JPH06196419A (ja) * 1992-12-24 1994-07-15 Canon Inc 化学気相堆積装置及びそれによる半導体装置の製造方法
US6135433A (en) * 1998-02-27 2000-10-24 Air Liquide America Corporation Continuous gas saturation system and method
US6311959B1 (en) * 1999-04-22 2001-11-06 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for generating controlled mixture of organic vapor and inert gas
US6322057B1 (en) * 2000-05-22 2001-11-27 United Microelectronics Corp. Auxiliary gasline-heating unit in chemical vapor deposition
TW200300701A (en) * 2001-11-30 2003-06-16 Asml Us Inc High flow rate bubbler system and method
US7011299B2 (en) * 2002-09-16 2006-03-14 Matheson Tri-Gas, Inc. Liquid vapor delivery system and method of maintaining a constant level of fluid therein
KR20050004379A (ko) * 2003-07-02 2005-01-12 삼성전자주식회사 원자층 증착용 가스 공급 장치
DE102004007727A1 (de) * 2004-02-16 2005-09-01 Margret Spiegel Herkömmliche Karbonatorsysteme oder Imprägniersysteme zusätzlich mindestens ein Hohlkörper-Inlineimprägnierer befüllt mit Schüttgut um schon karbonisierte oder imprägnierte Flüssigkeiten nachzukarbonisieren oder imprägnieren
TW200602591A (en) * 2004-07-08 2006-01-16 hong-yang Chen Gas supply device by gasifying burnable liquid
US20100200500A1 (en) * 2004-12-10 2010-08-12 Babak Rezania Bubble-Less Gas Delivery Into Liquid Systems
US8708320B2 (en) * 2006-12-15 2014-04-29 Air Products And Chemicals, Inc. Splashguard and inlet diffuser for high vacuum, high flow bubbler vessel
US20090032982A1 (en) * 2007-07-31 2009-02-05 Air Liquide System and method for providing a gas mixture
WO2009064427A2 (en) * 2007-11-13 2009-05-22 Mckinley James J Variable concentration dynamic headspace vapor source generator
US8555809B2 (en) * 2010-01-14 2013-10-15 Rohm And Haas Electronic Materials, Llc Method for constant concentration evaporation and a device using the same
EP2777067A4 (de) * 2011-11-10 2016-03-30 Saint Gobain Cristaux Et Detecteurs System zur verwendung bei der erzeugung von halbleiterkristallmaterialien
US9533903B2 (en) 2011-12-21 2017-01-03 Anaergia Inc. Organics and nutrient recovery from anaerobic digester residues
NL1040442C2 (nl) 2013-10-13 2015-04-14 Technologies Holding B V D Inrichting en werkwijze voor het persen van organisch materiaal uit afval.
US9957612B2 (en) * 2014-01-17 2018-05-01 Ceres Technologies, Inc. Delivery device, methods of manufacture thereof and articles comprising the same
US20170334739A1 (en) * 2014-11-07 2017-11-23 Anaergia Inc. Ammonia Stripper
US10480070B2 (en) * 2016-05-12 2019-11-19 Versum Materials Us, Llc Delivery container with flow distributor

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3049244A1 (de) * 1980-12-27 1982-07-29 Heitland Medical Instruments GmbH, 3100 Celle Vorrichtung zur erzeugung von fluessigkeitsnebel mittels ultraschall
GB2097272A (en) * 1981-04-29 1982-11-03 Draegerwerk Ag Apparatus for mixing respiratory gas and a liquid
DE3447060A1 (de) * 1984-12-22 1986-07-03 Anton Brunn Verfahren zum ueberfuehren von wasser oder dergleichen fluid aus der fluessigphase in die gasfoermige phase und vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrens

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2650808A (en) * 1950-11-09 1953-09-01 Abraham J Cohen Carbonator cooler
US3074700A (en) * 1959-12-07 1963-01-22 Jr William C Buttner Carbonating apparatus
US3360003A (en) * 1965-05-14 1967-12-26 Gen Motors Corp Carburetor float valve
AT295309B (de) * 1969-02-21 1971-12-27 Imd Vorrichtung zur Herstellung von kohlensäurehältigen Getränken
JPS4985426A (de) * 1972-12-20 1974-08-16
US4072243A (en) * 1975-04-21 1978-02-07 Intertec Associates, Inc. Metal coated brittle containers, conduits and other objects for laboratory and industry
US4276243A (en) * 1978-12-08 1981-06-30 Western Electric Company, Inc. Vapor delivery control system and method
JPS5677634U (de) * 1979-11-22 1981-06-24
DE3044892A1 (de) * 1980-11-28 1982-07-01 Gebr. Liebisch, 4800 Bielefeld "metallblock fuer laborthermostate
JPS60122735A (ja) * 1983-12-02 1985-07-01 Sumitomo Electric Ind Ltd 原料ガス供給装置
AU563417B2 (en) * 1984-02-07 1987-07-09 Nippon Telegraph & Telephone Public Corporation Optical fibre manufacture
US4582480A (en) * 1984-08-02 1986-04-15 At&T Technologies, Inc. Methods of and apparatus for vapor delivery control in optical preform manufacture

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3049244A1 (de) * 1980-12-27 1982-07-29 Heitland Medical Instruments GmbH, 3100 Celle Vorrichtung zur erzeugung von fluessigkeitsnebel mittels ultraschall
GB2097272A (en) * 1981-04-29 1982-11-03 Draegerwerk Ag Apparatus for mixing respiratory gas and a liquid
DE3447060A1 (de) * 1984-12-22 1986-07-03 Anton Brunn Verfahren zum ueberfuehren von wasser oder dergleichen fluid aus der fluessigphase in die gasfoermige phase und vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrens

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012021527A1 (de) 2012-10-31 2014-04-30 Dockweiler Ag Vorrichtung zur Erzeugung eines Gasgemisches
EP2730675A1 (de) 2012-10-31 2014-05-14 Dockweiler AG Vorrichtung zur Erzeugung eines Gasgemisches
US10141209B2 (en) * 2014-02-28 2018-11-27 Tokyo Electron Limited Processing gas generating apparatus, processing gas generating method, substrate processing method, and storage medium

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EP0283874A1 (de) 1988-09-28
DE3862330D1 (de) 1991-05-16
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EP0283874B1 (de) 1991-04-10

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