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Diese Erfindung bezieht sich auf ein optisches Verfahren
zur Bildung eines Hologramms und insbesondere auf ein System
mit Einrichtungen zur Unterdrückung und Verstärkung optischer
Merkmale.
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Die vorliegende Erfindung wird im folgenden mit Bezug auf
die Prüfung periodischer Raster oder Masken beschrieben, wie
beispielsweise Fotomasken, die verwendet werden, um die Ätz-
und Dotierschritte bei der Herstellung integrierter
Schaltkreise zu mustern. Das Verfahren kann zur Unterdrückung der
Periodizität der Masken integrierter Schaltkreise und
gleichzeitiger Verstärkung oder Maximierung der Bildintensität
nichtperiodischer Defekte verwendet werden.
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Bisher wurden Digitalverfahren zur Prüfung hinsichtlich
der Defekte zweidimensionaler Felder, wie beispielsweise
Masken integrierter Schaltkreise, verwendet. Im allgemeinen
werden bei solchen Verfahren ein Doppelabtast-Mikroskopsystem
und hochentwickelte Algorithmen für Vergleich und Erfassung
verwendet. Typischerweise sind diese Digitalverfahren jedoch
kompliziert und zeitaufwendig.
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Im Gegensatz zu Digitalverfahren bieten optische Systeme
den Vorteil der parallelen Verarbeitung. Darüber hinaus
besteht keine übermäßige Anforderung hinsichtlich der
Genauigkeit im Ausgang bezüglich der wirksamen Intensität an jedem
Punkt. Es ist vielmehr ausreichend, daß das einem Defekt
zugeordnete Signal sehr viel stärker ist als das der
umgebenden periodischen oder quasi-periodischen Struktur zugeordnete
Signal, so daß beispielsweise eine Schwellenoperation dazu
verwendet werden kann, die Position des Defekts zu bestimmen.
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Optische räumliche Filterverfahren zur Defektverstärkung
wurden in der Vergangenheit hinsichtlich solcher Anwendungen
wie der Prüfung von Elektronenstrahl-Kollimationsrastern und
Siliziumdioden-Zielmarkenanordnungen für Fernsehkameraröhren
sowie hinsichtlich der Prüfung von bei der Herstellung von
integrierten Schaltkreisen verwendeten Fotomasken untersucht.
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Bei den optischen räumlichen Filtersystemen wurde ein Filter
in der Fourier-Ebene verwendet, um die diskreten
Ortsfrequenzen des periodischen Teils der Maske zu dämpfen, so daß nach
der Retransformation nur noch Defekte im Ausgang vorlagen.
Während die Ergebnisse derartiger Systeme vielversprechend
waren, wurde der Nutzen des Verfahrens durch die
Herstellungsdauer des Filters sowie durch die Notwendigkeit, hochwertige
Linsen mit niedriger Brennzahl zu verwenden, wenn große
Gegenstände geprüft werden, eingeschränkt.
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Vor kurzem wurde diese zweite Einschränkung durch die
Anwendung holographischer Aufzeichnung des Ausgangssignals
verbunden mit phasenkonjugiertem Auslesen aufgehoben. Siehe
beispielsweise R.L. Fusek, et al, "Holographic Optical
Processing for Sub-Micron Defect Detection", Proceedings of the
SPIE, Bd. 523, Januar 1985. Es wird hierbei jedoch ein
dreistufiges Verfahren angewandt: Zunächst wird ein fotografisches
Filter hergestellt, das das Fourier-Spektrum der zu prüfenden
Maske aufzeichnet; danach wird ein Hologramm der Maske in der
Ausgangsebene aufgezeichnet, wobei das Filter verwendet wird,
um den periodischen Teil des Spektrums auszublenden; und
schließlich wird das Hologramm nach der Verarbeitung durch die
Phasenkonjugierte des Bezugsstrahls beleuchtet, und das
defektverstärkte Bild tritt in der Ausgangsebene auf. Dieses
Verfahren wurde verwendet, um submikroskopische Defekte zu
erfassen. Es hat jedoch zusätzlich zu der obenerwähnten
Notwendigkeit eines dreistufigen Verfahrens den Nachteil, daß das
Verfahren auf jede Maske und jeden Maskentyp zugeschnitten
werden muß. Das heißt, für jede zu prüfende Maske muß ein
Hologramm aufgezeichnet und für jeden Maskentyp muß ein neues
Filter hergestellt werden.
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Dieses Verfahren wird auch in WO 83/02831 verwendet,
wobei die durch die optischen Eigenschaften des Systems
eingeführten Abbildungsfehler ausgeglichen werden, so daß die
Verwendung von Linsen minderer Qualität und höherer Brennzahl
ermöglicht wird. Dieses System sieht ein optisches System vor
zur Ausbildung eines Hologramms eines Gegenstandes von einem
Gegenstandsstrahl elektromagnetischer Strahlung, der
durchgelassen
oder von dem Gegenstand reflektiert wird; dieses
System weist auf: ein nichtlineares optisches Medium zur
Aufzeichnung eines Hologramms; eine optische
Transformationseinrichtung zur Ausführung von Vorwärtstransformationen und
inversen Transformationen des Gegenstandsstrahls; eine
optische Einrichtung, mit der der Gegenstandsstrahl durch die
optische Transformationseinrichtung gelenkt und dadurch die
Vorwärtstransformation des Gegenstandsstrahls auf das
Aufzeichnungsmedium gelenkt und ein Hologramm der
Gegenstandsstrahltransformation darin gebildet wird.
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Die Erfindung stellt ein optisches Verfahren zur
selektiven Bildunterdrückung und Verstärkung ausgewählter Merkmale
eines Gegenstandes zur Verfügung, wie in Anspruch 1
beschrieben.
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Bei der Verwendung von Fourier-Transformationen kann das
System nichtlineare Filter- oder Unterdrückungsoperationen
vorsehen, bei denen ein fotostrahlenbrechender Kristall
verwendet wird, der in dem Fourier-Bereich angeordnet ist. Die
Transformation des Gegenstandsstrahls wird auf den Kristall
fokussiert, neben einem Bezugsstrahl von geringerer Intensität
als die Spitzenwerte in der Fourier-Transformation des
Gegenstandsstrahls. In dem Fourier-Bereich besteht das Spektrum der
periodischen oder quasi-periodischen Struktur aus einer Folge
von hellen und scharfen Fourier-Komponenten, die den
Harmonischen des periodischen Gegenstands, wie beispielsweise einer
Fotomaske, entsprechen. In dem Fourier-Bereich sind auch sehr
viel breitere und schwächere Lichtwirkungen entsprechend der
kleinen Defekte in der periodischen Struktur anzutreffen.
Intensitätsinversion in dem fotostrahlenbrechenden Kristall
unterdrückt die Stärke der hellen Spitzen von den periodischen
Komponenten im Vergleich zu der Stärke des schwächeren Lichts
von den Defekten.
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Das Verfahren ermöglicht, gewählte Merkmale zu verstärken
oder gewählte Merkmale zu unterdrücken oder gewählte Merkmale
zu verstärken, während andere unterdrückt werden. Durch die
Verwendung eines Auslesestrahls, der typischerweise die
Phasenkonjugierte des Bezugsstrahls ist, wird ein Bild erzeugt,
das hauptsächlich aus den Defekten besteht, wobei die
Periodizitäten fehlen oder in ihrer Intensität sehr reduziert sind.
Dieses Verstärkungsverfahren findet in Realzeit statt, in dem
Sinne, daß die Maske oder ein anderer Gegenstand beim Eingang
eingeführt wird und innerhalb kurzer Zeit, beispielsweise
einige Millisekunden, ein Bild der Defekte erscheint.
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Dieses nichtlineare Filterverfahren hat viele andere
Anwendungen. Zusätzlich zu den obenerwähnten Verwendungen zur
Prüfung umfassen diese beispielsweise die industrielle Prüfung
von in der Chemie und Biologie verwendeten Maschen und die
Prüfung von Schattenrastern, die in Bildröhren von
Farbfernsehern verwendet werden.
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Nichtlineare optische, für die Verwendung in dem System
geeignete Medien umfassen andere fotostrahlenbrechende und
ferroelektrische Materialien, organische/anorganische
Materialien, die nichtlineare Suszeptibilitäten zweiter und dritter
Ordnung zeigen, sowie Materialien, die Resonanzübergänge
zeigen und Halbleitermaterialien.
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Im folgenden werden anhand der Zeichnungen Beispiele der
Erfindung beschrieben.
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Fig. 1 ist ein Blockschaltbild, das die an einem
Gegenstandsstrahl in einem System gemäß einem Aspekt der
vorliegenden Erfindung durchgeführten Schritte zeigt, nämlich
Vorwärtstransformation, Hologrammerzeugung mit
Strahlenkomponentenverstärkung und/oder -unterdrückung, inverse Transformation
und Auslesen;
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Fig. 2 zeigt eine typische Kurve des Logarithmus der
Diffraktionsintensität im Verhältnis zum Logarithmus des Io/Ir
Strahlenverhältnisses für fotostrahlenbrechendes Bi&sub1;&sub2;SiO&sub2;&sub0;
(BSO) oder Bi&sub1;&sub2;GeO&sub2;&sub0; (BGO);
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Fig. 3 ist ein Blockschema einer Ausführungsform eines
Systems gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung, nämlich eines optischen Defektverstärkungssystems;
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Fig. 4A und Fig. 4B zeigen eine periodische, Defekte
aufweisende Maske bzw. das defektverstärkte optische Auslesen
der Maske, das durch das System aus Fig. 3 bewirkt wird.
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Fig. 5 ist ein Diagramm der Intensitätslinienabtastung,
das das Stör-Verhältnis für den kleinsten Defekt aus Fign. 4A
und 4B zeigt;
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Fig. 6 zeigt ein Blockschema eines Systems gemäß einer
weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung in Form
eines Systems zur Durchführung optischer Intensitätsinversion.
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Fig. 1 ist ein vereinfachtes Blockschaltbild, das
schematisch die grundlegenden Aspekte einer Ausführungsform der
vorliegenden Erfindung zeigt. Zunächst wird, wie bei 9
gezeigt, ein Transformationsverfahren durchgeführt, wie
beispielsweise die Verwendung von Fourier-Optik zur Durchführung
einer Vorwärtstransformation an einem Eingangsstrahl, der eine
komplexe Funktion g enthält, die charakteristisch ist für
einen Gegenstand oder ein Objekt. Die sich ergebende Fourier-
Transformierte 10 des Gegenstandsstrahls wird auf ein
nichtlineares optisches Medium 11 angewandt und erzeugt dort eine
Interferenz mit einem Bezugsstrahl 12 zur Ausbildung eines
Hologramms in dem Medium. Danach wird das Hologramm durch den
Strahl 13 ausgelesen und, wie bei 15 gezeigt, eine inverse
Transformation an dem Ausgangsstrahl 14 durchgeführt zur
Erzeugung eines Ausgangssignals o in Form eines optischen
Strahls, der beispielsweise selektiv verstärkte
Intensitätskomponenten und/oder selektiv unterdrückte
Intensitätskomponenten enthält.
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In einer spezifischen, im einzelnen mit Bezug auf Fig. 3
beschriebenen Verwendung wird der Gegenstandsstrahl dadurch
erreicht, daß ein Laserstrahl durch eine Fotomaske des für die
Herstellung von integrierten Halbleiter-Schaltkreisen
verwendeten Typs durchgelassen wird. Das nichtlineare Medium ist
ein fotostrahlenbrechender Kristall, dessen nichtlineare
Eigenschaften Filterung oder Inversion der Intensität des
periodischen Aspekts der Maske in dem Hologramm bewirken.
Phasen-konjugiertes Auslesen (Vier-Wellen-Mischung) und
inverse Transformation erzeugen ein Bild, in dem die Intensität
der nichtperiodischen Defekte verstärkt ist.
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Dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Durchführung von
Defektverstärkung in Realzeit liegen zwei Beobachtungen
zugrunde.
Die erste besteht darin, daß die
Fourier-Transformierte eines periodischen Gegenstands eine Reihe diskreter Spitzen
ist, deren Breite umgekehrt abhängig ist von der
Eingangsfeldgröße und deren Abstand umgekehrt abhängig ist von der Periode
der Maske. Im Gegensatz dazu ist die Fourier-Transformierte
eines kleinen Defekts eine stetige Funktion, deren Intensität
mehrere Größenordnungen geringer ist als die periodischen
Spitzen. Es ist festzustellen, daß andere Transformationen
verwendet werden können, wie die Mellin-Transformation, um
ähnliche Ergebnisse zu erzielen. Die zweite Beobachtung ist,
daß der Diffraktionswirkungsgrad eines in einem
fotostrahlenbrechenden Medium gebildeten Volumen-Phasen-Hologramms
maximiert wird, wenn die Intensitäten der beiden Schreibstrahlen
annähernd gleich sind, und sich verringert, wenn der
Intensitätsunterschied größer wird. Für eine ebene Bezugswelle, deren
Intensität Ir größer ist als die Intensität Io des
Gegenstandsstrahls, ist das Ausgangssignal proportional zu der Intensität
des Gegenstandsstrahls; für einen Gegenstandsstrahl, der eine
größere Intensität aufweist als der Bezugsstrahl, ist das
Ausgangssignal proportional zur Umkehrung der Intensität des
Gegenstandsstrahls. Es ist zu beachten, daß für den Betrieb
der Einrichtung ein dritter, in den Kristall einfallender
Strahl notwendig ist, um das erwünschte Ausgangssignal zu
erzeugen. Dieser Strahl kann gleichzeitig mit den anderen
Strahlen oder darauffolgend, nach dem Schreiben des Hologramms
angelegt werden.
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In Fig. 2 ist eine Kurve 20 eines typischen
Diffraktionswirkungsgrads im Verhältnis zum Strahlenverhältnis auf einer
doppellogarithmischen Skala gezeigt, mit der Annahme, daß das
Strahlenverhältnis R ( Io/Ir) durch Änderung von Io und
Beibehaltung von Ir verändert wird. Ein Defekt kann dadurch
verstärkt werden, daß die Fourier-Transformierte einer Maske auf
den fotostrahlenbrechenden Kristall fokussiert wird und die
Intensität des Spitzenspektralanteils aufgrund des Defekts der
Intensität des Bezugsstrahls angenähert oder geringer als
diese gehalten wird. Das Strahlenverhältnis der Intensität des
Defektspektrums zu der Intensität des Bezugsstrahls sollte
daher ≤ 1 sein. Die Intensität der Spitzen aufgrund der
periodischen Struktur wird weit größer sein als die Intensität des
Bezugsstrahls, so daß der entsprechende
Diffraktionswirkungsgrad sehr klein wird. Somit führt das strahlenbrechende, in
dem Kristall gebildete Vergleichsmuster sowohl
Aufzeichnungsschritte als auch Filterschritte durch.
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Eine Fourier-Optik-Analyse kann dazu verwendet werden,
die Ausbreitung von Licht von dem Gegenstand zu dem Kristall
zu beschreiben. Angenommen, die Maske ist rechteckig mit dem
Maß W · L und ein kleiner, lichtdurchlässiger, rechteckiger,
bei (xo, yo) liegender Defekt weist die Maße w · l auf. Es sei
p(x, y) eine Elementarzelle der periodischen Struktur, die
einen Abstand mit Intervallen der Länge a aufweist. Dann ist
die Intensität der Fourier-Transformation an dem Kristall, mit
W, L » a und Einheitsbeleuchtung
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wobei die sinc-Funktion definiert ist wie in Bracewell: "The
Fourier Transform and its Applications", McGraw-Hill, Inc.,
New York, 1978. Bracewell ist durch Bezug eingeschlossen. Die
räumlichen Frequenzvariablen beziehen sich auf räumliche
Variablen, da u = x/λf und P(u, v) die Fourier-Transformierte von
p(x, y) ist. P(O, O) stellt die Durchlaßfläche von einer Periode
des Musters dar, und P(O, O)/a² ist der Bruch der Maskenfläche,
die durchlässig ist.
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Das Hologramm sollte so aufgezeichnet werden, daß die
Intensität des periodischen Teils von T(u, v) ² größer ist als
die Intensität des Bezugsstrahls und die Intensität des
Defektteils von T(u,v) ² kleiner ist als die Intensität des
Bezugsstrahls. Wenn D als relevanter Dynamikbereich des
periodischen Teils definiert wird und der Lichteinfall auf die
Maske Ii ist, dann gilt mathematisch
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Ii(WL/λf)² P²(O,O)/a&sup4; (1/D) > Ir (2)
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Ii(wl/λf)² < Ir (3)
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Das zweite Ergebnis, d. h. die Beziehung (3) gilt für
einen Durchlaßdefekt und das Ergebnis muß modifiziert werden
zu
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für einen Opazitätsdefekt.
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Ein Beispiel für ein System zur Verstärkung von Defekten
ist in Fig. 3 gezeigt. Der kritische Teil des Systems, d. h.
der Teil, der allgemein dem in Fig. 1 gezeigten System
entspricht, wird durch Block 9 dargestellt. Ein Argon-Ionenlaser
17 (λ = 514,5 nm) wurde parallel gerichtet und geteilt zur
Bildung der beiden Schreibstrahlen, d. h. des Bezugsstrahls und
des Gegenstandsstrahls, sowie des Prüf- (Auslese) -Strahls.
Hierbei bezeichnet Ir die relativ geringe Intensität des
Bezugsstrahls, Io den Gegenstandsstrahl und Ip den
Auslesestrahl. Sowohl Bi&sub1;&sub2;GeO&sub2;&sub0; (BGO) als auch Bi&sub1;&sub2;SiO&sub2;&sub0; (BSO) Kristalle
12 wurden verwendet. In diesem beispielhaften Fall wurde ein
Bi&sub1;&sub2;SiO&sub2;&sub0; (BSO) Kristall 12 von der Größe 8 · 8 · 8 mm³ in
x-Richtung entlang einer (110) Achse ausgerichtet. Sowohl der
Gegenstandsstrahl als auch der Bezugsstrahl fielen auf den
Kristall 12 unter einem Winkel von ungefähr 7,5º zur Normalen
auf die Kristalloberfläche zur Bildung eines
Strahlenbrechungsgitter-Indexes innerhalb des Kristalls. Der
Auslesestrahl wurde unter dem Braggschen Winkel von ungefähr 7,5º zur
Normalen auf die gegenüberliegende Fläche des Kristalls,
relativ zu den Schreibstrahlen, gerichtet. Eine Linse 18 mit
einer Brennweite von 381 mm und einem Durchmesser von 78 mm
wurde zur Durchführung der Fourier-Transformation und der
inversen Transformation verwendet, und das Ausgangssignal
wurde durch eine CCD-Kamera 21 erfaßt.
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Weiter Bezug nehmend auf Fig. 3 wurde die kohärente
Strahlung von dem Argon-Ionenlaser 17 durch einen variablen
Dämpfer/Strahlenteiler 19 in einen ersten Strahl, den
phasenkonjugierten Auslesestrahl Ip, und einen zweiten Strahl,
insgesamt durch 21 bezeichnet, geteilt. Der variable Dämpfer/
Strahlenteiler 19 wurde auch zur Steuerung der Intensität des
Auslesestrahls relativ zu dem zweiten Strahl 21 verwendet,
d. h. zur Bildung eines Auslesestrahls von relativ geringer
Intensität. Der Prüf- oder Auslesestrahl Ip wurde durch die
konvergierende Linse 22 erweitert, durch die Linse 23 parallel
gerichtet und dann mittels des Spiegels 24 auf den Kristall
gerichtet unter Braggschen Bedingungen. Der zweite Strahl 21
ging durch eine Halbwellenplatte 26, wurde dann durch die
Linse 27 erweitert und durch die Linse 28 parallel gerichtet.
Der zweite Strahl 21 wurde sodann mittels eines Spiegels 29
auf einen polarisierenden Strahlenteilungswürfel 31 zur
Teilung des zweiten Strahls gerichtet. Einer der daraus
resultierenden Strahlen wurde durch eine Halbwellenplatte 32
durchgelassen zur Bildung des Bezugsstrahls Ir. Der andere daraus
resultierende Strahl, Gegenstandsstrahl Io, wurde mittels des
Spiegels 33 auf den Gegenstand 34, in diesem Falle eine
periodische Maske, und dann auf die Linse 18 gerichtet, die die
Fourier-Vorwärtstransformation an dem Gegenstandsstrahl
durchführte. Die Transformierte des Gegenstandsstrahls wurde auf
den fotostrahlenbrechenden Kristall 12 fokussiert, wo
Interferenz zwischen dem Bezugsstrahl Ir und der Transformierten
des Gegenstandsstrahls Io ein Hologramm der
Fourier-Transformierten
des Gegenstands 36 bildete. Die Verbindung von der
Halbwellenplatte 26, dem polarisierenden
Strahlenteilungswürfel 31 und der zweiten Halbwellenplatte 32 erlaubte eine
Änderung des Strahlenverhältnisses Io/Ir zur Bildung des
erwünschten Bezugsstrahls von relativ geringer Intensität
unter Beibehaltung der Polarisation.
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Es ist zu beachten, daß der Gegenstand 34 sich an der
vorderen Brennebene der Fourier-Transformations-Linse befand
(dies ist keine notwendige Bedingung, da der Gegenstand
beliebig vor der Linse angeordnet werden kann), während der
Kristall sich an der hinteren Brennebene befand. Das Auslesen
wurde durch den phasen-konjugierten Strahl Ip durchgeführt.
Das Ausgangssignal ging durch Linse 18, wo die inverse
Transformation durchgeführt wurde, und wurde dann durch den
Strahlenteiler 36 auf Kamera 21 gerichtet. In dem in Fig. 3
gezeigten Aufbau wurde das Ausgangssignal bei Kamera 21, einer
CCD-Kamera (ladungsgekoppelte Einrichtung), erfaßt und mittels
eines Standard-Fernsehbildschirms oder Monitors 38 angezeigt.
Ein Polarisator 39 wurde vor dem Ausgang angeordnet, um das
Streulicht zu verringern und den Störabstand zu vergrößern. Es
ist zu beachten, daß außer CCD-Kameras auch andere geeignete
Detektoren verwendet werden können. Darüber hinaus können auch
andere fotostrahlenbrechende und allgemein nichtlineare
optische Materialien verwendet werden. Während bei dem
beispielhaften System aus Fig. 3 eine durchlässige Geometrie verwendet
wird, in der das Laserlicht durch den Gegenstand 34
durchgelassen wird, kann darüber hinaus auch eine reflektierende
Geometrie verwendet werden, in der der Gegenstandsstrahl Io
durch Reflexion von dem Gegenstand erzeugt wird. Es ist zu
beachten, daß die Auslese- und Schreibstrahlen von
unterschiedlichen Quellen stammen können.
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Die Gegenstandsmaske 16 umfaßte eine 36 · 36 Anordnung
von Quadraten, jedes mit Seiten von 150 um. Der Abstand
zwischen den Quadraten betrug 100 um, somit war die Periode a
gleich 250 mm. Die Gesamtmaskengröße war 9 · 9 mm². In dieser
Anordnung wurden sieben durchlässige Defekte der Größen
100 · 100 um², 100 · 50 um² (zwei Defekte), 100 · 25 um² (zwei
Defekte), und 100 · 10 um² (zwei Defekte) angeordnet, wie in
Fig. 4A gezeigt. Der Ausgang des optischen Systems ist in Fig.
4B gezeigt und wurde durch eine angelegte Spannung von 4 kV
über den Kristall erreicht. Es ist zu beachten, daß die zwei
kleinsten Defekte in Fig. 4A nicht sichtbar sind; sie
erscheinen jedoch in dem Ausgang aus Fig. 4B. In Fig. 4B wurde der
periodische Hintergrund relativ wirksam unterdrückt, so daß
die Defekte deutlich sichtbar sind. Fig. 5 zeigt eine
Intensitätsabtastung einer Linie des Ausgangsbildes, die den
erhaltenen Worst-Case-Störabstand zeigt. Der dargestellte Defekt ist
einer der zwei 10 · 100 um² Punkte. Mit diesem System können
ohne weiteres noch kleinere Defekte erfaßt werden.
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Beim Aufzeichnen des Hologramms war die Intensität des
Gegenstandsstrahls an der Maske (Io) 16 mW/cm² und die
Intensität des Bezugsstrahl (Ir) 3,0 mW/cm², was zu
Strahlenverhältnissen an dem Kristall (nur für den Defekt) von 0,014 bis
0,00014 führte, abhängig von der Größe des Defekts. Somit
zeigen die Versuchsergebnisse, daß Verstärkung auch für Werte
mit R sehr viel kleiner als eins auftritt. Infolgedessen
veränderte sich das Verhältnis des einfallenden Strahls an der
Maske, das zur Erreichung eines defektverstärkenden Ausgangs
(Io/Ir) nötig war, nicht sehr mit Bezug auf einen Bereich von
Defektflächen von mehr als zwei Größenordnungen. Da die in
Fig. 1 gezeigten inversen Eigenschaften unter Bedingungen der
Ebenwellen-Beleuchtung hergeleitet wurden, können die
Filtereigenschaften des Kristalls nicht durch eine einfache
Strahlenverhältnisabhängigkeit beschrieben werden. Das Verhältnis
der Spitze des periodischen Teils der Transformation zu der
Spitze des Defektteils reichte von 8,5 · 10&sup6; bis 8,5 · 10&sup8;.
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Die im Ausgangssignal erreichte Auflösung kann vergrößert
werden, beispielsweise durch Reduzieren von f# des optischen
Systems (und Verwendung eines Kristalls mit größeren Maßen),
durch Steigerung der Größe der abbildenden Elemente der CCD-
Kamera (von denen jedes 23 um · 13,4 um war), und/oder durch
Verwendung anderer nichtlinearer Aufzeichnungsmaterialien.
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Während die obenbeschriebene Intensitätsinversion und die
Beispiele für Defekte die Anwendung der Erfindung bei
Verwendung des sichtbaren Teils des elektromagnetischen Spektrums
zeigen, ist die Erfindung auch auf andere, nichtsichtbare
Teile des elektromagnetischen Spektrums anwendbar, wie z. B.
Röntgenstrahlen.
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Zusammenfassend ist festzustellen, daß ein Verfahren zur
selektiven Verstärkung und/oder Unterdrückung optischer
Merkmale in Realzeit vorgestellt wurde.