DE3446898C2

DE3446898C2 -

Info

Publication number: DE3446898C2
Application number: DE3446898A
Authority: DE
Inventors: Ryuichi Kameoka Kyoto Jp Miyazaki; Yosuke Otsu Shiga Jp Kakihara; Yasushi Doi; Hirokazu Kyoto Jp Takizawa
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1983-12-30
Filing date: 1984-12-21
Publication date: 1989-07-13
Also published as: GB8432727D0; US4868884A; JPS635745B2; JPS60143341A; GB2153181A; GB2153181B; DE3446898A1; GB8430656D0

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Herstellung einer Bildauszugsmaske gemäß dem Oberbegriff des Hauptanspruches.

Eine solche Vorrichtung ist bekannt (DE-OS 32 31 076). Es wird dabei mittels eines Umrißberechnungs- Schaltkreises 6 ein Umrißsignal L für jedes Pixel berechnet. Dieses Signal wird dann mit einem vorbestimmten Schwellenwert verglichen, um ein 1-Bit-Umrißsignal für jedes Pixel zu erhalten. Eine Auswahlmaske jedoch mit der bekannten Vorrichtung kann nicht erhalten werden, bis der Umriß des gesamten Zielbildes endgültig durch den Erhalt eines Kontursignals für jedes Pixel des Bildes bestimmt worden ist. Dann ist ein zusätzlicher Schritt erforderlich, um die Maske auf der Grundlage der bestimmten Umrißlinie des Bildes zu erstellen.

Es ist ferner eine gattungsfremde Vorrichtung bekannt (DE-OS 27 29 133), mit der Bilder reproduziert werden. Die Originale werden abgetastet und davon erhaltene Bilddaten gespeichert. Andererseits werden vorab Drucke des Signals, vergrößert oder verkleinert hergestellt unter Verwendung der Bilddaten. Diese Vorabdrucke werden dann auf einer Digitalisierungstafel angeordnet, welche einem Blatt eines Filmes entspricht, und zwar dergestalt, wie die Bedienungsperson es wünscht. Nach der Anordnung werden die Lagen der Vorabdrucke auf die Digitalisierungstafel mittels eines Läufers 51 nachgewiesen. Die Bilder werden dann unter Steuerung der solchermaßen erhaltenen Positionsdaten reproduziert.

Wenn das zu reproduzierende Bild einen rechteckförmigen Umriß aufweist, werden die Koordinaten der Ecke nachgewiesen und zusammen mit einem Code abgespeichert, welcher angibt, daß das Bild rechteckförmig ist. Wenn das Bild eine nicht regelmäßige, d. h. unregelmäßige Umrißlinie (z. B. Bild 44 gemäß Fig. 8) aufweist, wird eine Reihe von Positionssignalen erhalten, indem der Läufer dieser unregelmäßigen Umrißlinie folgt. Diese Daten werden mit einem Code gespeichert, der angibt, daß der Umriß unregelmäßig ist. Wenn ein Teil eines Bildes einen Teil des anderen Bildes überlappt wie im Falle der Bilder 43, 44, so wird im Block 43 festgelegt, welcher von diesen beiden in dem entsprechenden Bereich des Films aufgezeichnet werden soll. Mit dieser bekannten Vorrichtung ist keine Herstellung einer Maske durch Kombination zweier Masken möglich.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung gemäß dem Oberbegriff des Hauptanspruches so auszugestalten, daß damit die Umrißlinien des in einem Originalbild enthaltenen bestimmten Zielbildes auf halbautomatische Weise und einfacher sowie korrekt nachgewiesen werden kann.

Diese Aufgabe wird bei einer gattungsgemäßen Vorrichtung gemäß dem Oberbegriff des Hauptanspruches erfindungsgemäß durch dessen kennzeichnende Merkmale gelöst.

Die Bedienungsperson bestimmt also die Koordinaten eines zentralen Punktes eines Teilbereiches mittels eines AD-Wandlers und eines damit verbundenen Griffels oder dergleichen. Die Dichte der vier Farben des Bildes an dem vorherbestimmten Punkt wird auf der Monitorscheibe zusammen mit der Größe des vorherbestimmten Bereichs und einem Schwellwert angezeigt, die zuvor beide durch die Bedienungsperson bestimmt worden sind. Durch Veränderung des Schwellwertes in Abhängigkeit von der Dichte des Bildes auf beiden Seiten der Umrißlinien kann die Innen- und die Außenseite des Bildes genau durch den Schwellenwert bestimmt werden. Diese wird ebenso verwendet, um die Größe des Teilbereiches zu ändern. Der neue Schwellenwert und die Teilbereichsgröße werden ebenfalls auf der Monitorscheibe dargestellt. Die Bedienungsperson kann Größe und Lage jedes Teilbereichs bestimmen. Der solchermaßen bestimmte Teilbereich wird in einem Bildspeicher oder einem Maskenspeicher an entsprechenden Plätzen abgespeichert mittels einer Maskenherstellungseinrichtung. Danach werden die in einem Teilbereich vorhandenen einzelnen Pixel aufeinanderfolgend verarbeitet. Insbesondere wird die Dichte jedes Pixels mit dem Schwellenwert verglichen. Jedes Pixel, dessen Dichte höher oder niedriger als der Schwellenwert ist, wird gekennzeichnet bzw. "ausgefärbt", was bedeutet, daß ein Binär-Signal an der entsprechenden Adresse in einem Bild- oder Maskenspeicher abgespeichert wird, welches den Zustand "höher" oder "niedriger" als der Schwellenwert repräsentiert. Eine Teilmaske, die dem Teilbereich entspricht, wird auf diese Weise direkt durch Kennzeichnung der Pixel erhalten, ohne daß die durch diesen Teilbereich hindurchgehende Umrißlinie nachgewiesen wird. Diese Teildichte-Differenzmaskendaten sind also Daten, die die Teilmasken im Teilbereich repräsentieren. Vorstehende Schritte werden solange wiederholt, bis eine Reihe von Teilmasken erhalten ist, die die gesamte Umrißlinie des Bildes abdeckt. Dann wird entweder die Innenseite oder die Außenseite jeder Teilmaske gekennzeichnet, um somit die gesamte Maske zu erhalten.

Ein wesentlicher Vorteil bei der Erfindung ist also die Tatsache, daß die gesamte Maske erhalten wird, ohne daß die Umrißlinie des bestimmten Zielbildes in dem Bild nachgewiesen wird. Dies geschieht dadurch, daß nur die in dem ausgewählten Teilbereich vorhandenen Pixel verarbeitet werden, nicht aber wie beim Stand der Technik alle Pixel des Bildes.

Eine zweckmäßige Ausgestaltung der Erfindung ist im Unteranspruch gekennzeichnet.

Es folgt die Beschreibung einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung unter Bezugnahme auf die Zeichnung.

Es zeigt:

Fig. 1 den Vorgang zur Bildung der Sektionen bzw. Ansätze bei einem herkömmlichen Verfahren zur Herstellung einer Bildauszugsmaske;

Fig. 2 den Vorgang zur Bildung der Sektionen bzw. Ansätze bei dem erfindungsgemäßen Verfahren für die Herstellung einer Bildauszugsmaske;

Fig. 3 den Vorgang zur Bildung der Sektionen bzw. Ansätze bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung einer gürtelförmigen Bildauszugsmaske;

Fig. 4 den Vorgang zur Bildung der Sektionen bzw. Ansätze mit veränderlicher Größe für die erfindungsgemäße Herstellung einer Bildauszugsmaske;

Fig. 5 das Konzept der Berechnungsarten für die Synthese von Maskendaten, die von einem Zielbild erstellt werden, mit Grundmaskendaten;

Fig. 6 die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Herstellung einer Bildauszugsmaske;

Fig. 7 ein Ablaufdiagramm des Betriebs der Vorrichtung von Fig. 6;

Fig. 8 ein detailliertes Ablaufdiagramm des ursprünglichen bzw. ersten Datenerstellungsprozesses von Fig. 7;

Fig. 9 ein detailliertes Ablaufdiagramm des Prozesses von Fig. 7 für die Erfassung des Umrisses eines Zielbilds in jeder Sektion bzw. in jedem Ansatz;

Fig. 10 ein detailliertes Ablaufdiagramm des Bedingungsänderungsprozesses von Fig. 9;

Fig. 11 ein detailliertes Ablaufdiagramm des Variationsnachweisprozesses von Fig. 10;

Fig. 12 den Vorgang zur Bildung einer Sektion bzw. eines Ansatzes in einem Bildspeicher und in einem Maskenspeicher;

Fig. 13 einen Vorgang zur Bildung einer Maske mit teilweise unterschiedlicher Dichte unter Verwendung der von dem Zielbild ermittelten Daten und der Grundmaskendaten;

Fig. 14 einen Vorgang zur Bildung einer Synthese von Daten einer Bildauszugsmaske;

Fig. 15 ein Verfahren zur Erstellung der Daten einer Bildauszugsmaske durch Überblendung des zu verarbeitenden Farbauszuges.

In Fig. 2 ist das erfindungsgemäße Verfahren dargestellt, in welchem der Umriß l ₁ eines Zielbildes I ₁ mit einem Dichtewert F zu erfassen ist, das von einem Bildhintergrund mit einem Dichtewert E umgeben und in einem Bild K enthalten ist. Nimmt man an, daß die Dichtewerte E und F in einem Verhältnis von E<F zueinander stehen, so wird zunächst ein Schwellwert S bestimmt, der die Bedingung E<S<F erfüllt. Dann wird durch einen Vergleich des Schwellwerts S mit dem Dichtewert der gesamten Fläche des Bildes K der Umriß l ₁ des Bildes I ₁ als Grenzlinie zwischen dem Bereich erfaßt, dessen Dichtewert höher ist als der Schwellwert, und dem Bereich, dessen Dichtewert kleiner ist als der Schwellwert S. Der oben beschriebene Vorgang wird an dem auf einem Monitor (zum Beispiel der Bildschirm einer Kathodenstrahlröhre) erscheinenden Bild I ₁ (Fig. 2) ausgeführt. Zur Verkürzung der dazu benötigten Zeit wird dieser Vorgang vorzugsweise an den Pixels ausgeführt, die um den Umriß l ₁ herum angeordnet sind. Erfindungsgemäß werden also zunächst Sektionen N _-1 . . . N _-i gebildet, die den Umriß l ₁ in einer Gruppe umfassen bzw. abdecken, wie das in Fig. 2 gezeigt ist. Dann werden die Dichtewerte der in jedem Ansatz enthaltenen Pixels mit einem Schwellwert S verglichen. Anschließend erfolgt die Festlegung des endgültigen Umrisses l ₁ jeder Sektion. Dann können durch Ausfärben des Bereiches innerhalb (in diesem Falle das Zielbild l ₁, dessen Dichtewert F höher ist als der Schwellwert S) oder außerhalb (in diesem Falle der Bildhintergrund, dessen Dichtewert E kleiner ist als der Schwellwert S) des endgültigen Umrisses l ₁ gemäß vorher eingegebener Benennungsdaten die gewünschten Daten für die Bildauszugsmaske erstellt werden.

Fig. 3 zeigt einen Fall, in welchem der Umriß l ₂ und l ₃ eines Bildes I ₂ erfaßt wird, das einen Dichtewert J zwischen den Bereichen des Dichtewerts G und H (G<J<H) aufweist. Hier kann durch den Vergleich der Dichtewerte G, J und H mit den beiden Schwellwerten S ₂ und S ₃ (G<S ₂<J<S ₃<H) das Bild I ₂ erfaßt werden, dessen Dichte zwischen den Schwellwerten S ₂ und S ₃ liegt.

Neben den oben genannten grundsätzlichen Dingen kann auch die Größe der Sektionen verändert werden. Wenn zum Beispiel der Bereich des Dichtewerts C′ herausgezogen werden soll, der sich in einem komplizierten, aus den Bereichen der Dichtewert A′, B′ und C′ (Fig. 4) bestehenden Bild befindet, so kann der komplizierteste Bereich Q nicht mit einer Sektion bzw. einem Ansatz analysiert werden, der die gleiche Größe wie der Ansatz N _a aufweist. Wird dieser Versuch dennoch gewagt, so wird eine überwiegend falsche Grenzlinie erfaßt. Deshalb wird eine Sektion verwendet, die in einem solchen Maße verkleinert ist, daß die richtige Umrißlinie erfaßt werden kann.

Der bzw. die Schwellwerte können auch veränderlich sein, so daß die Abweichung der zu analysierenden Grenzbereiche erfaßt bzw. verarbeitet werden kann.

Wenn ein Farbauszug (zum Beispiel Y aus den Farbauszügen Y, M, C und K) eines Bildes keine klare Umrißlinie des Zielbildes erkennen läßt, kann stattdessen ein anderer Farbauszug für den Erfassungsprozeß verwendet werden, der die endgültige Umrißlinie des Bildes zeigt.

Fig. 15 zeigt ein Bild I ₁, das dem Erfassungs- bzw. Nachweisprozeß unterzogen wird. Der Umriß des größten Teil des Bildes I ₁, zum Beispiel der Bereich 1, wird durch Verwendung seines Farbauszuges M erfaßt (Fig. 15[a]). Da jedoch der Bereich 2 des Farbauszuges M des Bildes annähernd dieselbe Dichte aufweist wie der Bildhintergrund, läßt sich sein Umriß nicht erfassen.

In diesem Falle wird der Farbauszug M des Zielbildes mit dem Farbauszug C überblendet, so daß der klare Umriß des Bereichs 2 nachgewiesen bzw. erfaßt werden kann. Die solchermaßen erfaßten Umrisse der Bereiche 1 und 2 werden zusammengefügt, wie das in Fig. 15(c) gezeigt ist.

Wenn keiner der Farbauszüge eine klare Umrißlinie erkennen läßt, muß diese zum Beispiel mit dem üblichen Schreib- bzw. Abtaststift nachgezogen werden.

Erfindungsgemäß ist eine Synthese der Maskendaten, die auf vorstehend beschriebene Weise von dem Zielbild ermittelt werden, mit Grundmaskendaten möglich, die bereits vorher in einen Plattenspeicher eingegeben wurden. Soll zum Beispiel eine Synthese zweier Maskendaten M _a und M _b erfolgen, so stehen hierfür vier Rechenarten zur Verfügung: (i) es wird das logische ODER beider Maskendaten, wie in Fig. 5(b) gezeigt, (ii) das logische UND beider Maskendaten, wie in Fig. 5(c) gezeigt, und (iii) das logische Exklusiv-ODER beider Maskendaten, wie in Fig. 5(d) gezeigt, berechnet.

Fig. 6 zeigt ein Blockdiagramm der erfindungsgemäßen Vorrichtung.

Die Daten von vier Farbauszügen Y (Gelb), M (Magenta), C (Zyan) und K (Schwarz) des Bildes, das ein bestimmtes, auf der Grundlage aller in dem Plattenspeicher 4 gespeicherten Bilddaten zu verarbeitendes Zielbild enthält, werden zunächst in entsprechende Bildspeicher 9 übertragen, Wenn zusammen damit Grundmaskendaten für den Prozeß verwendet werden müssen, werden die Daten aus dem Plattenspeicher 4 in einen Maskenspeicher 10 übertragen. Dann werden die in den Bildspeichern 9 gespeicherten Bilddaten und die in dem Maskenspeicher 10 gespeicherten Grundmaskendaten über einen D/A-Wandler, der einen YMCK/BGR-Umsetzer aufweist, einem Monitor 12 zugeleitet, auf welchem die entsprechenden Bilder erscheinen. Dann wird eine Vielzahl von Sektionen bzw. Ansätzen der Reihe nach rund um den Umriß des Zielbildes mit Hilfe eines A/D-Umsetzers 1 und eines Nadelstiftes gebildet. Anschließend erfolgt die Erstellung der Daten einer Bildauszugsmaske unter Verwendung einer Maskenherstellungseinrichtung 7 über ein Interface 8 durch Ausfärben des überflüssigen Bereiches, wobei diese Daten in den Maskenspeicher 10 einzugeben sind. Die gesamte Vorrichtung wird über eine Schiene bzw,. einen Bus 6 durch eine Zentraleinheit (CPU) gesteuert, in welche die Daten über einen A/D- Umsetzer, eine Tastatur 2 und eine Einstelleinrichtung in Form eines veränderlichen Widerstands eingegeben werden.

Die Fig. 7, 8, 9, 10 und 11 zeigen jeweils ein Ablaufdiagramm des Betriebs der erfindungsgemäßen Vorrichtung.

In Fig. 7 werden die folgenden Daten der Maskierungsbedingungen über die Tastatur 2 in die Maskenherstellungseinrichtung 7 eingegeben - - - (S ₁).

(1) (i) Nummer und Position bzw. Lage eines Zielbildes (Schwarzweißbilder und Farbbilder eingeschlossen);
(ii) Nummer und Position bzw. Lage einer gewünschten Grundmaske;
(iii) Farbauszüge (Y, M, C oder K), die dem Maskenherstellungsverfahren zu unterziehen sind, wenn es sich um ein farbiges Zielbild handelt;
(2) Den Rechenmodus (ODER, UND oder Exklusiv-ODER) für die Berechnung der Relation zwischen der von dem Zielbild hergestellten Maske und der Grundmaske;
(3) Standard-Schwellwert S;
(4) Eine der folgenden Verfahrensarten , und für die Herstellung von Masken mit teilweise unterschiedlicher Dichte.

ist eine Verfahrensart, bei welcher der Bereich, dessen Dichte größer ist als ein Schwellwert S, der logischen "0" entspricht, und der andere Bereich, dessen Dichte kleiner ist als der Schwellwert S, der logischen "1" entspricht, wobei beide Bereiche eine Sektion bzw. einen Ansatz bilden.

ist eine Verfahrensart, bei welcher der Bereich, dessen Dichte größer ist als ein Schwellwert S, der logischen "1" entspricht, und der andere Bereich, dessen Dichte kleiner ist als der Schwellwert S, der logischen "0" entspricht, wobei beide Bereiche eine Sektion bzw. einen Ansatz bilden.

ist eine Verfahrensart, bei welcher der Bereich, dessen Dichte zwischen zwei Schwellwerten S _a und S _b liegt, der logischen "1" (oder "0") entspricht, und der andere Bereich, der Dichte größer als der höchste oder kleiner als der tiefste Schwellwert S ist, der logischen "0" (oder "1") entspricht, wobei beide Felder eine Sektion bzw. einen Ansatz bilden.

Wenn ein Operator über die Tastatur 2 ein Dateneingabeendsignal eingibt - - - (S ₂) zeigt die CPU 5 die Daten des Bildes, das dem Maskenherstellungsprozeß zu unterziehen ist, auf die in Fig. 8 gezeigte Weise auf dem Monitor 12 an - - - (S ₃). Sind Grundmaskendaten erforderlich, werden diese Daten zusammen mit den Bilddaten auf dem Monitor 12 angezeigt, wie das in Fig. 14 dargestellt ist. Praktisch werden die Daten des dem Maskenherstellungsverfahren zu unterziehenden Bildes aus all den Daten ausgewählt, die in dem Plattenspeicher 4 gespeichert sind, und die Daten der Farbauszüge Y, M, C und K des Bildes werden in den Bildspeicher 9 übertragen, wie das in Fig. 8 gezeigt ist - - - (S ₃₁). Wenn zusammen damit Grundmaskendaten verwendet werden müssen - - - (S ₃₂: JA), so werden die in dem Plattenspeicher 4 gespeicherten Daten in den Maskenspeicher 10 eingegeben - - - (S ₃₃). Wenn keine Grundmaskendaten erforderlich sind - - - (S ₃₂: NEIN), dann wird der Inhalt des Maskenspeichers 10 gelöscht - - - (S ₃₄). Anschließend werden die in dem Bildspeicher 9 und Maskenspeicher 10 gespeicherten Daten auf dem Monitor 12 angezeigt - - - (S ₃₅).

Dann werden aus all den Farbauszugsdaten, die in dem Bildspeicher 9 gespeichert sind, diejenigen ausgegeben, die in dem Prozeß für die Erstellung der Daten für die Maskierungsbedingungen bestimmt wurden, und für die Ausgabe an die Einrichtung 7 für die Erstellung der Maskendaten über ein Interface 8 bereitgestellt - - - (S ₄).

Anschließend wird ein Zielpunkt T auf einen Punkt zubewegt, an welchem mit Hilfe des A/D-Umsetzers und des Nadelstiftes die Bildung einer Sektion bzw. eines Ansatzes an dem Umriß des Bildes gewünscht wird, das auf dem Monitor 12 ist - - - (S ₅). Da ein Endbenennungssignal noch nicht eingegeben ist - - - (S ₆: NEIN), wird durch die Festlegung des entsprechenden Punktes des A/D-Umsetzers mit Hilfe des Nadelstiftes - - - (S ₇: JA) eine Sektion bzw. ein Ansatz in der in Schritt S ₁ benannten Größe (Daten [5]) an dem gewünschten Punkt auf dem Monitor 12 dargestellt.

Fig. 12 zeigt die Einzelheiten des Vorgangs zur Bildung einer Sektion bzw. eines Ansatzes. Wenn ein Punkt des Koordinatenwerts (X, Y) an dem A/D-Umsetzer 1 mit dem Nadelstift verschoben wird, so wird der Koordinatenwert (X, Y) in einen entsprechenden Koordinatenwert (X _i , Y _i ) des Bildspeichers umgewandelt - - - (S ₈). Durch Verwendung des Koordinatenwerts (X _i , Y _i ) und der Größe (W × W) der Sektion bzw. des Ansatzes wird dann der Koordinatenwert (X _i0, Y _i0) des Analysestartpunkts der Sektion bzw. des Ansatzes - ausgedrückt als (X _i - , Y _i - ) - und der Koordinatenwert (X _iE , Y _iE ) des Prüfungsabtast- Stoppunktes - ausgedrückt als (X _i + , Y _i + ) - berechnet, so daß eine Bildsektion bzw. ein Bildansatz wie in Fig. 12 gezeigt gebildet wird.

Ein entsprechender Maskenansatz N _m wird an identischer Stelle des Maskenspeichers gebildet.

Der auf diese Weise gebildete Bildansatz N _i oder Maskenansatz N _m wird auf dem Monitor 12 gezeigt.

In diesen Sektionen bzw. Ansätzen N ₁ . . . N _i werden Masken mit teilweise unterschiedlicher Dichte hergestellt, und zwar auf die nachstehend im Zusammenhang mit Fig. 9 beschriebene Weise - - - (S ₉). Wenn die Daten der Bedingungen für die Maskenherstellung geändert werden müssen, werden die Daten auf die nachstehend im Zusammenhang mit Fig. 10 beschriebene Weise neu eingelesen - - - (S ₁₀). Wenn der A/D-Umsetzer 1 durch den Nadelstift nicht verschoben wird, werden die Schritte S ₈ und S ₉ übersprungen.

Durch Wiederholen der Schritte S ₅ bis S ₁₀ werden an den Umrißlinien des Zielbildes Masken mit teilweise unterschiedlicher Dichte hergestellt. Ist der Prozeß für die Herstellung der Masken mit teilweise unterschiedlicher Dichte beendet, gibt der Operator über die Tastatur 2 ein Beendigungs- bzw. Vollzugssignal ein. Wenn das Vollzugssignal eingegeben ist - - - (S ₆: JA), wird ein benannter Bereich in Übereinstimmung mit den Daten der Maskierungsbedingungen ausgefärbt - - - (S ₁₁). Die so gebildeten Daten in dem Maskenspeicher 10 werden in den Plattenspeicher 4 übertragen - - - (S ₁₂).

Fig. 9 zeigt ein detailliertes Ablaufdiagramm von Schritt S ₉ für die Herstellung von Masken mit teilweise unterschiedlicher Dichte.

Die Koordinatenwerte (X _i0 , Y _i0) und (X _m0, Y _m0) (die dieselben sind) der Analysestartpunkte des Bildansatzes N _i und des Maskenansatzes N _m werden jeweils zuerst bestimmt - - - (S _91a, S _91b). Dann wird der Modus für die Herstellung der Maske mit teilweise unterschiedlicher Dichte unter den Modi, die in den Daten (4) der Bedingungen für die Maskenherstellung beschrieben sind, diskriminiert - - - (S ₉₂), und es werden Daten der Masken mit unterschiedlicher Dichte der Sektionen bzw. Ansätze gemäß dem gewählten Modus erstellt - - - (S ₉₃). In diesem Fall werden die Daten der Masken mit teilweise unterschiedlicher Dichte, die aus dem gefärbten Bereich, der der logischen "1" entspricht, und dem anderen freien Bereich, der der logischen "0" entspricht, gebildet sind, erst einmal in einem Maskenflag-Speicher MK gespeichert - - - (S _93′).

Dann wird beurteilt, ob ein Modus für die Berechnung der Relation zwischen den von dem Zielbild ermittelten Maskendaten und Grundmaskendaten eingegeben ist - - - (S ₉₆).

Wenn ein Berechnungsmodus eingegeben ist, erfolgt eine Synthese der in Schritt S ₉₃′ (S _93a′, S _93b′, S _93c′) ermittelten, in dem Maskenflag-Speicher gespeicherten Daten mit den Daten, die nach dem in Fig. 5 beschriebenen Berechnungsmodus in dem Maskenspeicher gespeichert wurden - - - (S ₉₅), und die sich ergebenden Daten werden in eine bestimmte Stelle des Maskenspeichers 10 eingegeben - - - (S ₉₆).

Das in Schritt S ₉₅ gezeigte Zeichen * bedeutet einen der Berechnungsmodi, nämlich UND, ODER oder Exklusiv- ODER.

Nach Ausführung der oben genannten Schritte werden die Adressen X _i und X _m der X-Richtung des momentanen Analysepunkts des Bildspeichers 9 und Maskenspeichers 10 jeweils um eins weiterbewegt - - - (S ₉₇), und der Wert der X-Richtungs-Adresse X _i (X _m ) wird mit jenem der X-Richtungsadresse X _iE (X _mE ) des Prüfungsabtast-Stoppunktes des Bildansatzes N _i (des Maskenansatzes N _m) verglichen - - - (S ₉₈). Bei X _i≦X _iE (X _m≦X _mE) werden die Prozesse der Schritte S ₉₂ bis S ₉₇ wiederholt. Bei X _i<X _iE (X _m<X _mE) werden die X-Richtungs-Adresse X _i des Bildspeichers 9 und die X-Richtungs-Adresse X _m des Maskenspeichers 10 der momentanen Analysepunkte bis zu den X-Richtungs-Adressen X _i0 (X _m0) des momentanen Analysestartpunktes des Bildansatzes N _i (Maskenansatzes N _m) erneuert, während die Y-Richtungs-Adressen Y _i des Bildspeichers 9 und die Y-Richtungs-Adressen Y _m des Maskenspeichers 10 der momentanen Analysepunkte ebenfalls jeweils um eins weiterbewegt werden - - - (S ₉₉). Dann wird der Wert der Y-Richtungs-Adresse Y _i (Y _m ) mit jenem der Y-Richtungsadresse Y _iE (Y _mE ) des momentanen Analysestoppunktes des Bildansatzes N _i , (Maskenansatzes N _m) verglichen - - - (S ₁₀₀). Bei Y _i≦Y _iE (Y _m≦Y _mE) werden die Prozesse des Schrittes S ₉₂ und der folgenden Schritte wiederholt. Bei Y _i<Y _iE (Y _m<Y _mE) werden die Prozesse des Schrittes S ₁₀ und der folgenden Schritte wiederholt.

Wenn eine Synthese der Daten eines auf dem Bildschirm 12 dargestellten Bildes I ₃ mit den Daten der Grundmaske M ₃ stattfindet (wie in Fig. 14[a] gezeigt), so wird jedes Pixel, das in einer Sektion bzw. einem Ansatz vorhanden ist wie in Fig. 13 gezeigt verarbeitet. Dieser Prozeß entspricht den Schritten S ₉₃ bis S ₉₅.

Nimmt man an, daß die in einem Ansatz N _n (Fig. 14) enthaltenen Pixels zu verarbeiten sind, so entspricht der Ansatz N _n dem Bildansatz N _in des Bildspeichers 9 sowie dem Maskenansatz N _mn des Maskenspeichers 10.

Wenn sich die Dichteverteilung aller Pixels innerhalb der Sektion bzw. des Ansatzes N _in wie in Fig. 13(b) dargestellt verhält, wo der Dichtewert des Bereichs "H" höher und der Dichtewert des Bereichs "L" niedriger ist als der Schwellwert S, so läßt der in Fig. 13(b) gezeigte Zustand die genaue Grenze zwischen dem Zielbild F und dem Bildhintergrund E erkennen. Wird der Maskenherstellungsmodus 2 gewählt, so erhält man eine Maske mit teilweise unterschiedlicher Dichte, in welcher der Bereich "H" der logischen "1" entspricht (zu färbender Bereich) und der Bereich "L" der logischen "0" entspricht (freizuhaltender Bereich). In der gleichen Weise wird aus der Grundmaske M ₃ eine Maske mit unterschiedlicher Dichte des Grundmaskenansatzes N _mn hergestellt, wie das in Fig. 13(e) gezeigt ist.

Die Synthese der auf diese Weise gebildeten zwei Maskendaten erfolgt gemäß dem benannten Berechnungsmodus, so daß die in Fig. 13(f) gezeigten Daten gebildet und in dem Maskenspeicher 10 gespeichert werden.

An dieser Stelle ist anzumerken, daß die in einer Sektion bzw. in einem Ansatz enthaltenen Pixels nicht auf einmal, sondern eines nach dem anderen verarbeitet werden.

Die vorgenannten Prozesse werden an einer Vielzahl von Sektionen bzw. Ansätzen durchgeführt, die den Umriß des Bildes I ₃ in einer Gruppe abdecken bzw. erfassen, wie das in Fig. 14(a) dargestellt ist. Nachdem der Ausfärbungsprozeß erfolgt ist - - - (S ₁₁), erhält man eine in Fig. 14(b) gezeigte Maske.

Fig. 10 zeigt ein detailliertes Ablaufdiagramm des in Fig. 7 gezeigten Schrittes S ₁₀ des Nachweises der Änderung der Bedingungsdaten. Bedingungsänderungsdaten, die über die Tastatur eingegeben werden, werden in den Schritten 101 bis 103 verarbeitet. Das heißt wenn die Bedingungsänderungsdaten die Änderung des Farbauszuges benennen, der dem Bildauszugsprozeß zu unterziehen ist, werden die in dem Speicher 9 gespeicherten Daten des gewählten Farbauszuges der Maskenherstellungseinrichtung 7 zugeleitet - - - (S _101a, S _101b). Wenn die Bedingungsänderungsdaten die Änderung des Berechnungsmodus benennen, so werden die Daten des gewählten Berechnungsmodus der Maskenherstellungseinrichtung 7 zugeleitet - - - (S _102a, S _102b). Wenn die Daten die Änderung des Maskenherstellungsmodus benennen, wird der gewählte Maskenherstellungsmodus der Maskenherstellungseinrichtung 7 zugeleitet - - - (S _103a, S _103b).

Dann werden der Dichtewert des Zielpunkts T und der Schwellwert S auf dem Monitor 12 angezeigt - - - (S ₁₀₄). Wenn von der Einstelleinrichtung 3 ein die Änderung des Schwellwertes S benennendes Signal eingegeben wird, wird ein neu eingestellter Schwellwert in die Maskenherstellungseinrichtung 7 eingegeben. Bei nur einem Schwellwert wird nur die Einstelleinrichtung 3 verwendet. Bei zwei Schwellwerten, die für den Auszug eines gürtelförmigen Bildes (Fig. 3) verwendet werden, werden die Einstelleinrichtungen 3 a und 3 b verwendet - - - (S ₁₀₅, S ₁₀₆). Wenn von der Einstelleinrichtung 3 ein die Änderung der Sektions- bzw. Ansatzgröße benennendes Signal eingegeben wird, werden die Daten der neu erstellten Ansatzgröße in die Maskenherstellungseinrichtung 7 eingegeben - - - (S ₁₀₇).

Fig. 11 zeigt ein detailliertes Ablaufdiagramm der Schritte 105 a, 106 a und 107 a des Änderungnachweisprozesses.

Zuerst wird der vorliegende Ausgabewert P der Einstelleinrichtung 3 in eine CPU eingegeben - - - (S ₁₁₁), und es wird der Differenzwert Δ P zwischen dem vorliegenden Ausgabewert P und dem vorherigen Ausgabewert P′ berechnet - - - (S ₁₁₂). Der Differenzwert Δ P wird durch einen Einheitswert U geteilt (U ist der dem Einheitsschwellwert (Ansatzgröße) entsprechende Ausgabewert der Einstelleinrichtung), nämlich zur Berechnung des Abweichungswertes Δ Q des Schwellwerts (Ansatzgröße) - - - (S ₁₁₃). Dann wird der vorliegende bzw. momentane Schwellwert (Größe des Ansatzes) Q, der der momentanen Ausgabe der Einstelleinrichtung 3 entspricht, durch Addieren der Abweichung Δ Q mit dem vorherigen Schwellwert (Größe des Ansatzes) Q ermittelt - - - (S ₁₁₄).

Der auf diese Weise ermittelte Schwellwert (Größe des Ansatzes) Q wird mit dem bereits eingestellten oberen und unteren Grenzwert verglichen. Wenn der Wert Q größer als der obere Grenzwert oder kleiner als der untere Grenzwert ist, so ist der obere oder untere Grenzwert der neue Schwellwert S (Ansatzgröße W) - - - (S ₁₁₆). Der neu bestimmte Schwellwert S wird auf dem Monitor 12 angezeigt - - - (S ₁₁₇).

Ein wichtiger Aspekt, der hier erwähnt werden muß, ist, daß bei der Neuherstellung der Maske mit teilweise unterschiedlicher Dichte des überlappenden Bereichs zwischen der Maske des Zielbildes und der Grundmaske die Daten des überlappenden Bereichs der Grundmaskendaten aus dem Maskenspeicher gelöscht werden. In diesem Falle müssen die Grundmaskendaten aus dem Plattenspeicher 4 neu eingelesen werden.

Im übrigen können drei Maskenspeicher vorgesehen werden, nämlich einer für die Grundmaske, ein weiterer für die Maske mit teilweise unterschiedlicher Dichte und ein noch weiterer für eine Synthese-Maske.

Der Grundmaskenspeicher kann auch als gemeinsamer Speicher für die Speicherung zusammengesetzter Bilddaten verwendet werden.

Die Sektion bzw. der Ansatz kann anstelle eines Quadrats auch die Form eines Kreises aufweisen.

Da bei dem erfindungsgemäßen Verfahren, wie vorstehend erwähnt, der Umriß eines Zielbildes durch den Vergleich der Dichtewerte der um den Umriß herum befindlichen Pixels mit einem optimalen Schwellwert erfaßt wird, läßt sich der genaue Umriß des Zielbildes ermitteln. Durch die Verwendung zweier Schwellwerte können darüber hinaus die Umrisse eines gürtelförmigen Bildes ermittelt werden.

Eine Bildauszugsmaske eines Zielbildes, das komplizierte Zwischenräume aufweist, wie beispielsweise das Bild eines Baumes, Waldes oder Querholzes, läßt sich dadurch herstellen, daß im Zuge der Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens geeignete Zielpunkte und Ansatzgrößen bestimmt werden (wobei die Zwischenräume selbstverständlich nicht aus dem Bild herausgezogen werden). Weist das Bild sehr viele winzige Zwischenräume auf, so muß die gesamte Fläche des Bildes, das das Zielbild enthält, analysiert werden.

Darüber hinaus können Bereiche eines Bildes, die in bezug auf die Dichteverteilung einfach sind, durch die Verwendung breiterer Sektionen bzw. Ansätze analysiert werden, so daß der Betrieb entsprechend effizienter gestaltet werden kann.

Solche Bereiche eines Zielbildes, die in bezug auf die Dichteabweichung schwierig sind, können durch die Verwendung einer Vielzahl von Schwellwerten analysiert werden, so daß sich Daten des korrekten Umrisses ermitteln lassen. Durch vorliegende Erfindung, bei welcher die Umrisse eines Bildes Block für Block erfaßt bzw. nachgewiesen werden, wird ein effizientes Verfahren zur Herstellung einer Bildauszugsmaske sowie eine entsprechende Vorrichtung zur Verfügung gestellt.

Kurz zusammengefaßt betrifft die Erfindung ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Herstellung einer Bildauszugsmaske im Zuge einer elektronischen Bildreproduktion, wobei durch den Vergleich der Dichtewerte der Pixels eines bestimmten Farbauszugs eines Originals, welches das Zielbild enthält, das in Form von Daten in einem Bildspeicher gespeichert ist, mit einem Schwellwert, durch die Bestimmung der Grenzlinie zwischen dem Bereich, dessen Dichtewert höher ist als der Schwellwert, und dem Bereich, dessen Dichtewert niedriger ist als der Schwellwert, als endgültige Umrißlinie des Zielbildes und durch Zuweisung jeweils unterschiedlicher Daten zu jedem Bereich eine Bildauszugsmaske hergestellt wird, die in einem Maskenspeicher zu speichern ist.

Claims

1. Vorrichtung zur Herstellung einer Bildauszugsmaske bei einer elektronischen Bildreproduktion mit:

- einem Bildspeicher für die jeweilige Speicherung der Farbauszüge Y (Gelb), M (Magenta), C (Zyan) und K (Schwarz) eines Originals,
- einem Maskenspeicher,
- einer Maskenherstellungseinrichtung,
- einer Anzeigeeinrichtung für die Anzeige der in den Bildspeichern gespeicherten Farbauszugsdaten,
- einer Einrichtung für die Eingabe der Daten der Bedingungen für die Maskenherstellung in die Maskenherstellungseinrichtung,
- einer Einrichtung für die Auswahl desjenigen Bildspeichers, der die dem Maskenherstellungsverfahren zu unterziehenden Farbauszüge enthält,
- einer Einrichtung für die Erfassung der Umrißlinie eines in dem zu verarbeitenden Bild enthaltenen bestimmten Zielbildes durch den Vergleich der Dichtewerte der darin enthaltenen Pixel mit einem in der Maskenherstellungseinrichtung gespeicherten Schwellwert,
- einer Einrichtung für die Speicherung der ermittelten Daten in einem Maskenspeicher, wobei die Daten innerhalb oder außerhalb der Umrißlinie unterscheidbar sind,

gekennzeichnet durch:

- eine Einrichtung zur Festlegung der Mitte einer die Umrißlinie eines in dem zu verarbeitenden Bild enthaltenen Zielbildes umschließenden Sektion, nämlich eines Zielpunkts auf der Anzeigeeinrichtung mit Festlegung seiner Koordinaten in dem Bildspeicher und in dem Maskenspeicher und
- eine Einrichtung für die Erstellung der entsprechenden Sektion mit vorgebbarer Größe in einem Bildspeicher, wobei die Sektion um die durch die Einrichtung für die Festlegung der Sektion benannte Sektionsmitte oder den benannten Zielpunkt zentriert ist, gemäß Sektionsdaten, die über die Eingabeeinrichtung eingegeben werden, wobei die Einrichtung für die Festlegung der Mitte einer Sektion einen A/D-Umsetzer und die Einrichtung für die Eingabe (a) eine Tastatur für die Eingabe der Daten der Bedingungen für die Maskenherstellung, (b) eine Einrichtung für die Einstellung der Größe der Sektion und (c) eine Einrichtung für die Einstellung des Schwellwerts aufweist.

2. Vorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Einrichtung zum Ausfärben entweder des Bereichs innerhalb oder außerhalb des endgültigen Umrisses des bestimmten Zielbildes je nach Erfordernis.