DE342156C - - Google Patents

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DE342156C
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/08Mirrors

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Description

  • Spiegel für Bestrahlung mit kurzwelligen Strahlen. Erfindungsgemäß wird als Spiegelmaterial für kurzwellige Strahlen (ultraviolette Strahlen) Silizium verwendet.
  • Silizium hat den Vorzug, daß es einerseits kurzwellige Strahlen gut reflektiert, andererseits hohe chemische Widerstandsfähigkeit besitzt und auch mechanisch sehr widerstandsfähig ist. Es kann infolgedessen beispielsweise zur Bestrahlung von Körperhöhlen verwendet und leicht mechanisch und chemisch gereinigt werden, ohne eine Schädigung seiner Spiegelfläche befürchten zu müssen. Das Silizium ist außerdem heute ein sehr leicht in Körpern beliebiger Größe zugänglicher Stoff. Die Schwierigkeiten seiner Bearbeitung sind zwar groß, aber keineswegs unüberwindlich. Man kann die Spiegelkörper entweder aus. größeren Körpern herausarbeiten, z. B. durch Schleifen o. dgl., oder man kann beispielsweise so verfahren, daß man das Silizium auf einen Träger, z. B. aus Quarz- oder Uviolglas, der gleichzeitig als Schutzschicht für den Siliziumspiegel dienen kann, aufpräpariert. Dieses Aufpräparieren kann in der Weise geschehen, daß man das Silizium durch Kathodenzerstäubung auf den entsprechend geschliffenen Quarz- oder Glaskörper niederschlägt. .

Claims (2)

  1. PATENT-ANSPRÜcHE i. Spiegel für Bestrahlung mit kurzwelligen Strahlen, dadurch gekennzeichnet, daß Silizium als spiegelndes Material verwendet ist.
  2. 2. Spiegel nach Anspruch i, bestehend aus Uviol- oder Quarzglas mit einer Hinterlegung aus Silizium.
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