DE3401856A1 - Kontaktkopiereinrichtung - Google Patents

Kontaktkopiereinrichtung

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DE3401856A1
DE3401856A1 DE19843401856 DE3401856A DE3401856A1 DE 3401856 A1 DE3401856 A1 DE 3401856A1 DE 19843401856 DE19843401856 DE 19843401856 DE 3401856 A DE3401856 A DE 3401856A DE 3401856 A1 DE3401856 A1 DE 3401856A1
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B27/00Photographic printing apparatus
    • G03B27/02Exposure apparatus for contact printing
    • G03B27/14Details
    • G03B27/18Maintaining or producing contact pressure between original and light-sensitive material
    • G03B27/20Maintaining or producing contact pressure between original and light-sensitive material by using a vacuum or fluid pressure

Description

  • Kontaktkopiereinrichtung
  • Die Erfindung betrifft eine Kontaktkopiereinrichtung gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
  • Aus der DE-OS 25 11 071 ist eine Vorrichtung zum automatischen Ausrichten von Halbleiterscheiben bekannt, bei der eine Auflageplatte zur Aufnahme einer Halbleiterscheibe mehrere Bohrungen aufweist, die zwischen Vakuumbetrieb und Druckbetrieb umschaltbar sind. Zur Ausrichtung der Halbleiterscheibe wird die Auflageplatte mit Druckluft beaufschlagt, um zwischen der Halbleiterscheibe und der Auflageplatte ein Luftpolster zu schaffen. Nach der Positionierung wird die Halbleiterscheibe durch Vakuumbeaufschlagung der Auflageplatte in dieser Position auf der Auflageplatte fixiert.
  • In der DE-OS 32 17 851 ist eine Vorrichtung zum Erhitzen von Abdecküberzügen auf Halbleiterplättchen beschrieben, bei der das Plättchen zum Erhitzen mit einer perforierten Heizplatte durch Vakuumbeaufschlagung in engen Kontakt gebracht wird. Vor dem Erhitzen und zum Beenden der Erhitzung wird die Heizplatte mit Druckluft beaufschlagt, um das Plättchen in einem gewissen Abstand über der Heizplatte zu halten.
  • In der DE-OS 24 51 549 ist eine Belade- und Entladevorrichtung für plattenförmige Halbleiterscheiben offenbart, bei der die Halbleiterscheibe zum Transport auf einem Träger durch Vakuumbeaufschlagung fixiert und nach dem Transport durch Druckluftbeaufschlagung wieder gelöst wird.
  • Der DE-OS 31 20 477 entnimmt man eine. Vorrichtung zum Aufspannen und Fixieren von Halbleiterscheiben, bei der eine Aufspannscheibe zur Aufnahme einer Halbleiterscheibe aus einem Sintermaterial besteht, deren obere Schicht feine Poren und deren untere Schicht große Poren aufweist; die Aufspannscheibe ist mit einer undurchlässigen Fassung versehen und besitzt eine Wassereinspritzbohrung und eine Luftabsaugbohrung. Durch Einspritzen von Wasser wird die Halbleiterscheibe durch die Oberflächenspannung des Wassers in den Mittelbereich der Aufspannscheibe verlagert und anschließend durch Luftabsaugung fixiert. Nach der Bearbeitung wird wiederum Wasser zum Aufschwimmen der Halbleiterscheibe eingespritzt.
  • Aus der DE-OS 29 42 388 ist eine Positioniereinrichtung für Halbleiterscheiben bekannt, bei der eine Halbleiterscheibe auf einem Träger durch Vakuumbeaufschlagung gehaltert ist. Der Träger seinerseits wird auf einem Sitzhalter durch Vakuumbeaufschlagung zen- triert und fixiert.
  • Der DE-PS 21 06 920 entnimmt man eine Einrichtung zum genauen Ausrichten einer Halbleiterscheibe bezüglich einer Maske. Die Halbleiterscheibe auf einem Scheibenträger wird durch einen Kolben mittels Überdruck an die Maske angedrückt. Zum Ausrichten der Halbleiterscheibe wird der Scheibenträger am Kolben mittels Unterdruck fixiert.
  • Aus der DE-PS 31 34 960 ist eine Kontaktkopiereinrichtung bekannt, bei der eine zu übertragende Kopiervorlage mittels eines Vakuums mit der lichtempfindlichen Schicht einer herzustellenden Kopie in engen Kontakt gebracht wird.
  • In der DE-OS 33 11 964 ist eine Kontaktkopiereinrichtung offenbart, bei der eine Halbleiterscheibe auf einer Trägerplatte durch Vakuumbeaufschlagung gehaltert ist. Zu diesem Zweck wird die Trägerplatte im Randbereich ausschließlich mit Vakuum und im Mittenbereich separat mit Vakuum oder mit Druckluft beaufschlagt. Zur Kontaktierung einer Maske wird der Mittenbereich von Vakuum auf Druckluft umgeschaltet, so daß sich die Halbleiterscheibe konvex nach oben wölbt und zuerst mit ihrer Mitte mit der Maske in Kontakt gerät, um Lufteinschlüsse im Mittenbereich auszuschließen. Anschließend wird die Halbleiterscheibe durch ein zusätzliches Vakuum in vollständigen Kontakt mit der Maske gebracht.
  • In der DE-OS 27 44 837 ist eine Kontaktkopiereinrichtung beschrieben, bei der auf einer unteren Trägerplatte eine herzustellende Kopie in Form eines Halbleitersubstrats mit einer lichtempfindlichen Schicht mittels eines Vakuums gehaltert ist.
  • Auf einer oberen Trägerplatte ist eine zu übertragende Kopiervorlage in Form eines Films mit einem Muster mittels eines Distanzringes befestigt. Der luftdichte Raum zwischen der oberen Trägerplatte und der Kopiervorlage ist über eine Leitung mit einer Vakuumpumpe verbunden; durch Evakuierung# dieses luftdichten Raumes wird die Kopiervorlage nach oben in Richtung auf die obere Trägerplatte hin gewölbt.Zum Kontaktkopieren wird die obere Trägerplatte mit der Kopiervorlage auf einen auf der unteren Trägerplatte außerhalb des Halbleitersubstrats befestigten elastischen Ring abgesenkt.
  • Bei der anschließenden Justierung der Kopiervorlage bezüglich des Halbleitersubstrats wird eine Berührung zwischen der Kopiervorlage und dem Halbleitersubstrat durch die infolge des Vakuums erzielte konkave Wölbung der Kopiervorlage vermieden, so daß keine mechanischen Beschädigungen auftreten können. Nach der Ausrichtung wird der Raum zwischen den beiden Trägerplatten und dem elastischen Ring evakuiert und das die Wölbung der Kopiervorlage bewirkende Vakuum aufgehoben, so daß die Kopiervorlage wieder ihre ursprüngliche Form annimmt und die lichtempfindliche Schicht des Halbleitersubstrats kontaktiert. Nach der Belichtung wird die Kopiervorlage zur Trennung vom Halbleitersubstrat erneut mit Vakuum beaufschlagt und das Vakuum zwischen den beiden Trägerplatten aufgehoben. Diese aufwendige Kontaktkopiereinrichtung bedarf zweier Vakuumsysteme und eines relativ großen Zeitaufwandes für einen Kopiervorgang.
  • In der DE-OS 15 72 353 ist eine Kontaktkopiereinrichtung offenbart, bei der sich die zu übertragende Kopiervorlage über ein hydrostatisches Luftlager auf der lichtempfindlichen Schicht einer herzustellenden Kopie abstützt. Zum Kontaktkopieren wird das Luftpolster des Luftlagers bis zum Kontakt der Kopiervorlage mit der lichtempfindlichen Schicht der Kopie abgebaut. Zum Aufbringen des Anpreßdruckes zur engen Kontaktierung der Kopiervorlage mit der Kopie ist ein einstellbares Gewicht vorgesehen.
  • Nach der Belichtung wird die Wirkung des Gewichtes aufgehoben und das Luftpolster des Luftlagers zur Trennung der Kopiervorlage von der Kopie zur anschließenden relativen Verschiebung der Kopiervorlage bezüglich der Kopie wieder aufgebaut.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Kontaktkopiereinrichtung der oben erwähnten Gattung im Aufbau zu vereinfachen, die Güte der hergestellten Kopien zu verbessern und den Zeitaufwand für einen Ropiervorgang zu verringern.
  • Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch das kennzeichnende Merkmal des Anspruchs 1 gelöst.
  • Die mit der Erfindung erzielten Vorteile bestehen insbesondere darin, daß durch die vorgeschlagene Doppelfunktion des Luftlagers bei einer derartigen Kontaktkopiereinrichtung einmal ein problemloses und schnelles Positionieren der Kopiervorlage bezüglich der Kopie ohne gegenseitige Berührung und zum anderen auf einfache Weise eine schnelle und gute Kontaktbildung zwischen der Kopiervorlage und der Kopie zum Kontaktkopieren ohne zusätzliche Mittel ermöglicht werden, so daß sich ein verein- fachter und damit verbilligter Aufbau einer derartigen Kontaktkopiereinrichtung sowie Kopien mit wesentlich gesteigerter Qualität ergeben. Zudem wird durch den verringerten Zeitbedarf für einen Kopiervorgang die Kopierrate wesentlich erhöht, wodurch auch eine Verbilligung der einzelnen Kopien erzielt wird. Des weiteren wird durch die Befestigung des Halters für die Kopiervorlage über Gelenkstangen an der Trägerplatte bei der Vakuumbeaufschlagung des Luftlagers eine ungehinderte vollständige Kontaktbildung zwischen der Kopiervorlage und der Kopie ohne Veränderung ihrer gegenseitigen Ausrichtung ermöglicht.
  • Vorteilhafte Ausbildungen der Erfindung entnimmt man den Unteransprüchen.
  • Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird anhand der Zeichnung näher erläutert.
  • Es zeigen Figur 1 einen Querschnitt einer Kontaktkopiereinrichtung, Figur 2a eine Draufsicht auf eine Kopiervorlage in einer Fassung und Figur 2b einen Schnitt A-B der Anordnung nach Figur 2a.
  • In Figur 1 ist in einem Querschnitt eine Kontaktkopiereinrichtung dargestellt. Auf einer Grundplatte G ist ein Koordinatentisch KT angeordnet, der in X-Richtung und in Y-Richtung sowie in Z-Richtung mittels Linearführungen F und einer Antriebseinheit A verschiebbar ist. Auf dem Koordinatentisch KT ist eine Vakuumplatte VP zur Aufnahme einer herzustellenden Kopie K mittels Vakuum befestigt; die Kopie K besteht aus einer Glasplatte mit einer lichtempfindlichen Schicht S.
  • Auf der Grundplatte G ist mittels eines senkrecht verlaufenden Rahmens R eine Trägerplatte T mit einer mittigen öffnung 0 befestigt, in der eine Fassung D zur Aufnahme einer zu übertragenden Kopiervorlage V über dem Koordinatentisch KT angeordnet ist. Die Fassung D ist nach Figur 2a, b mittels dreier Laschen LA leicht demontierbar an einem Montageflansch M gehaltert, der seinerseits mit drei Schraubenverbindungen SV an der Trägerplatte T befestigt ist. Die Fassung D besteht aus einem Düsenring, in dem die Kopiervorlage V eingekittet ist. Die nach unten weisende Teilungsfläche TF der Kopiervorlage V steht gegenüber der unteren Fläche des Düsenrings D um etwa 15 «m vor. Der Düsenring D ist zusätzlich über drei horizontal angeordnete Gelenkstangen GS mit dem Montageflansch M verbunden, die eine starre Fixierung der Kopiervorlage V in der X-, Y-Ebene bewirken, aber in Z-Richtung eine Verschiebung der Kopiervorlage V um etwa 0,2 mm zulassen. Der Düsenring D ist mit einer Reihe von Luftdüsen LD bestückt, die über eine Druckleitung H mit Druckluft beaufschlagt werden; die Druckluft tritt an der unteren Fläche des Düsenrings D aus den Luftdüsen LD zur Bildung eines Luftlagers L zwischen der Teilungsfläche TF der Kopiervorlage V und der lichtempfindlichen Schicht S der Kopie K aus.
  • Auf der Trägerplatte T ist ein Support P mit einem Längenmeßtaster LT angeordnet, dessen horizontaler Hub so bemessen ist, daß die Tastspitze TS des Längenmeßtasters LT von außen her das Zentrum der Kopiervorlage V erreichen kann.
  • Der Kontaktkopiervorgang verläuft folgendermaßen: Der Koordinatentisch KT befindet sich in einer Aus- gangsstellung (X = 0, Y = 0, Z = 0). Die anzufertigende Kopie K in Form der Glasplatte mit der nach oben weisenden lichtempfindlichen Schicht S wird auf die Vakuumplatte VP aufgelegt und mittels Vakuumbeaufschlagung gehaltert. Nach Betätigung einer nicht gezeigten Starttaste erfolgt der Kontaktkopiervorgang automatisch. Der Support P mit dem Längenmeßtaster LT wird von einer Ausgangslage bis zu einer Endlage in horizontaler Richtung verfahren, so daß die Tastspitze TS des Längenmeßtasters LT das Zentrum der Kopiervorlage V von oben antasten kann; diese Position der Tastenspitze TS ist die Ausgangsstellung in Z-Richtung. Die Ausgangslage und die Endlage des Supports P werden mittels nicht gezeigter Endschalter eingestellt. Der Düsenring D wird zur Ausbildung des Luftlagers L mit feinstgefilterter Druckluft beaufschlagt, die für einen Abstand von etwa 40 Am zwischen der Kopiervorlage V und der Kopie K vorgewählt ist.
  • Der Koordinatentisch KT wird nun mittels der Antriebseinheit A im Eilgang in Z-Richtung nach oben verfahren, bis die Glasoberfläche der Kopie K einen Näherungsschalter N an der Trägerplatte T betätigt, woraufhin die Eilganggeschwindigkeit auf Schleichgangsgeschwindigkeit umgeschaltet wird. Der Koordinatentisch KT fährt im Schleichgang weiter, bis die Kopiervorlage V vom vorgewählten Luftpolster des Luftlagers L zwischen der Kopie K und der Kopiervorlage V angehoben wird; dieses Anheben der Kopiervorlage V wird vom Längenmeßtaster LT gemessen. Ist eine vorgegebene Position in Z-Richtung erreicht, wird der Antrieb A des Koordinatentisches KT in dieser Position mittels einer Klemmeinrichtung KL geklemmt.
  • Die Tastspitze TS des Längenmeßtasters LT wird eingefahren und der Support P mit dem Längenmeßtaster LT in die Ausgangslage zurückgefahren.
  • Der Koordinatentisch KT wird nun gemäß einem vorgegebenen Programm in der X- und Y-Richtung positioniert, bis sich die Kopiervorlage V über der ersten Position der Kopie K befindet, die einen Mehrfachnutzen aufweist. Die Druckluft wird abgeschaltet und der Düsenring D und damit das Luftlager L mit Vakuum zur engen Kontaktierung der Teilungsfläche TF der Kopiervorlage V und der lichtempfindlichen Schicht S der Kopie K beaufschlagt. Nach einer kurzen Beruhigungszeit von ca. 1 sec. erfolgt die Belichtung B durch eine Blende BL, die in der öffnung 0 der Trägerplatte T konzentrisch angeordnet ist.
  • Nach der Belichtung B wird das Vakuum abgeschaltet und das Luftlager L über den Düsenring D wieder mit Druckluft beaufschlagt, so daß sich wieder ein Abstand von etwa 40 ßm zwischen der Kopiervorlage V und der Kopie K einstellt. Der Koordinatentisch KT wird wiederum in der X- und Y-Richtung positioniert, bis sich die Kopiervorlage V über der zweiten Position der Kopie K befindet, woraufhin sich der beschriebene Kontaktkopiervorgang wiederholt. Nachdem alle Positionen auf der Kopie K belichtet worden sind, fährt der Koordinatentisch KT in seine Ausgangsstellung (X = 0, Y = 0, Z = 0) zurück, wobei die Ausgangsstellung Z = 0 durch einen Schalter C festgelegt ist. Die Druckluft am Düsenring D wird abgeschaltet und die fertiggestellte Kopie K kann vom Koordinatentisch KT entnommen werden.
  • Durch die vorgeschlagene Doppelfunktion des Luftlagers L werden einmal ein schnelles Positionieren der Kopiervorlage V bezüglich der Kopie K ohne gegenseitige Berührung und zum anderen eine schnelle und gute Kontaktbildung zwischen der Kopiervorlage V und der Kopie K ermöglicht. Versuche haben ergeben, daß durch die Vakuumbeaufschlagung des Luftlagers L in kürzester Zeit (unter 1 sec.) ein guter Kontakt (Schwarzpasse) erzielt wird.
  • Die Luftströmung im Luftlager L bewirkt, daß eventuell zwischen der Kopiervorlage V und der Kopie K vorhandene Staubpartikel weggeblasen werden. Bei der Umschaltung des Luftlagers L von Druckluft auf Vakuum erfolgt ein weiches, paralleles und schichtschonendes Aufsetzen der Kopiervorlage V auf der Kopie K. Des weiteren wird eine automatische Kompensation unterschiedlicher Dicken der Glasplatten der Kopien K bewirkt. Die Befestigung des Halters D für die Kopiervorlage V über Gelenkstangen GS an der Trägerplatte T ermöglicht bei der Vakuumbeaufschlagung des Luftlagers L eine reibungsfreie ungehinderte vollständige Kontaktbildung zwischen der Kopiervorlage V und der Kopie K ohne Veränderung ihrer gegenseitigen Position.
  • Leerseite

Claims (8)

  1. Ansprüche 1. Kontaktkopiereinrichtung zum Herstellen von Mustern, insbesondere von Teilungen, bei der sich zur gegenseitigen Positionierung eine zu übertragende Kopiervorlage über wenigstens ein Luftlager auf der lichtempfindlichen Schicht einer herzustellenden Kopie abstützt, dadurch gekennzeichnet, daß zur Kontaktierung der Kopiervorlage (V) mit der lichtempfindlichen Schicht (S) der Kopie (K) das Luftlager (L) auch mit Vakuum beaufschlagbar ist.
  2. 2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Kopiervorlage (V) in einem Halter (D) in Form eines Düsenrings eingesetzt ist, dessen Luftdüsen (LD) das Luftlager (L) bilden.
  3. 3. Einrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Luftdüsen (LD) des Düsenrings (D) zur Positionierung mit Druckluft oder zur Kontaktierung mit Vakuum beaufschlagbar sind.
  4. 4. Einrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Halter (D) für die Kopiervorlage (V) über Gelenkstangen (GS) mit einer Trägerplatte (T) zur Auslenkung der Kopiervorlage (V) nur senkrecht zu ihrer Teilungsfläche (TF) mittels des Luftlagers (L) verbunden ist.
  5. 5. Einrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Gelenkstangen (GS) in einer Ebene parallel zur Teilungsfläche (TF) der Kopiervorlage (V) angeordnet sind.
  6. 6. Einrichtung nach Anspruch 1 und 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Kopie (K) mittels einer Vakuumplatte (VP) auf einem Koordinatentisch (KT) angeordnet ist, der zur Auslenkung der Kopiervorlage (V) mittels des Luftlagers (L) zwischen der Kopie (K) und der Kopiervorlage (V) senkrecht zur Teilungsfläche (TF) der Kopiervorlage (V) (Z-Richtung) verschiebbar und zur Ausrichtung der Kopiervorlage (V) bezüglich der Kopie (K) parallel zur Teilungsfläche (TF) der Kopiervorlage (V) (X-, Y-Richtung) positionierbar ist.
  7. 7. Einrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Auslenkung der Kopiervorlage (V) senkrecht zur Teilungsfläche (TF) der Kopiervorlage (V) zur Einstellung einer vorgegebenen Auslenkung mit einer Längenmeßeinrichtung (LT) meßbar ist.
  8. 8. Einrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Längenmeßeinrichtung (LT) durch einen Längenmeßtaster gebildet ist.
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DE3401856C2 (de) 1986-04-24

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