DE338751T1 - Träger für Stereolithographie. - Google Patents

Träger für Stereolithographie.

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DE338751T1
DE338751T1 DE0338751T DE89303786T DE338751T1 DE 338751 T1 DE338751 T1 DE 338751T1 DE 0338751 T DE0338751 T DE 0338751T DE 89303786 T DE89303786 T DE 89303786T DE 338751 T1 DE338751 T1 DE 338751T1
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Charles William Van Lewis
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Claims (24)

303 786.1 13. JuU 1995 3D Systems, Inc. D17336 EP Hs/Sh/re Patentansprüche (für Veröffentlichung gemäß · Art. &Pgr;. § la (2) Int.Pat.ÜG^
1. Ein verbessertes stereolithographisches System, umfassend:
&iacgr;&ogr; erste Mittel, um aufbereitete, einen Gegenstand definierende Daten
im Hinblick auf einen dreidimensionalen Gegenstand bereitzustellen, der zu bilden ist, wobei die aufbereiteten Daten eine Stützstruktur für den Gegenstand angeben; und
zweite Mittel, die auf die aufbereiteten Daten ansprechen, zum
is automatischen Bilden des dreidimensionalen Gegenstands.
2. Verbessertes stereolithographisches System nach Anspruch 1, wobei die aufbereiteten Daten wabenartige Stützen für den Gegenstand angeben.
3. Verbessertes stereolithographisches System nach Anspruch 1, wobei die aufbereiteten Daten längliche, schlanke, rechtwinklige Stützstrukturen angeben.
4. Verbessertes stereolithographisches System nach Anspruch 1, wobei die aufbereiteten Daten Waben angeben, die dünn genug sind, um ein Ablösen vom Gegenstand zu ermöglichen, nachdem der Gegenstand gebildet worden ist.
5. Verbessertes stereolithographisches System nach Anspruch 1, wobei die aufbereiteten Daten Waben angeben, die lang genug sind, um für eine gute Haftung an einer Hebeplattform zu sorgen.
6. Verbessertes stereolithographisches System nach Anspruch 1, wobei die aufbereiteten Daten Waben angeben, die lang genug sind, um den Querschnitt des Gegenstands zu überspannen.
7. Verbessertes stereolithographisches System nach Anspruch 1, wobei die aufbereiteten Daten Stützen angeben, die Schichtgrenzen so lange an ihrem Platz verankern, bis Kreuzschraffur-Vektoren gezeichnet werden.
&iacgr;&ogr; 8. Verbessertes stereolithographisches System nach Anspruch 1, wobei die aufbereiteten Daten Stützen angeben, welche eine Deformation überkragender Bauteile verhindern.
9. Verbessertes stereolithographisches System nach Anspruch 1, wobei is die aufbereiteten Daten Stützen angeben, um Schichtteile anzuheften,
die sonst abdriften würden.
10. Verbessertes stereolithographisches System nach Anspruch 1, wobei die aufbereiteten Daten parallele wabenfönmge Stützen angeben.
11. Verbessertes stereolithographisches System nach Anspruch 1, wobei die aufbereiteten Daten im rechten Winkel zueinander stehende, wabenförmige Stützen angeben.
12. Verbessertes stereolithographisches System nach Anspruch 1, wobei die aufbereiteten Daten schräge Stützen angeben.
13. Ein Verfahren zur verbesserten Stereolithographie, das folgende Schritte umfaßt:
aufbereitete, einen Gegenstand definierende Daten werden im Hinblick auf einen dreidimensionalen Gegenstand bereitgestellt, der zu bilden ist, wobei die aufbereiteten Daten eine Stützstruktur des Gegenstands angeben; und
die aufbereiteten Daten werden genutzt, um den dreidimensionalen Gegenstand stereolithographisch zu bilden.
14. Verfahren zu verbesserten Stereolithographie nach Anspruch 13, wobei der Bereitstellungsschritt Daten einschließt, die wabenartige &iacgr;&ogr; Stützen für den Gegenstand angeben.
15; Verfahren zu verbesserten Stereolithographie nach Anspruch 13, wobei der Bereitstellungsschritt Daten einschließt, die eine lange, schlanke, rechtwinklige Stützstruktur einschließen.
16. Verfahren zur verbesserten Stereolithographie nach Anspruch 13, wobei der Bereitstellungsschritt Daten einschließt, die Waben ange-
■ ben, die dünn genug sind, um ein Ablösen vom Gegenstand zu erleichtern, nachdem der Gegenstand gebildet worden ist.
17. Verfahren zur verbesserten Stereolithographie nach Anspruch 13, wobei der Bereitstellungsschritt Daten einschließt, die Waben angeben, die lang genug sind, um für eine gute Anhaftung an einer Hebeplattform zu sorgen.
18. Verfahren zur verbesserten Stereolithographie nach Anspruch 13, wobei der Bereitstellungsschritt Daten einschließt, die Waben angeben, die lang genug sind, um den Querschnitt des Gegenstands zu überspannen.
19. Verfahren zur verbesserten Stereolithographie nach Anspruch 13, wobei der Bereitstellungsschritt Daten einschließt, die Stützen angeben, welche Schichtgrenzen an ihrem Platz verankern, bis Kreuzschrafrur-Vektoren gezogen werden.
20. Verfahren zur verbesserten Stereolithographie nach Anspruch 13, wobei der Bereitstellungsschritt Daten einschließt, die Stützen angeben, um eine Verformung überkragender Bauteile zu verhindern.
&iacgr;&ogr; 21. Verfahren zur verbesserten Stereolithographie nach Anspruch 13, wobei der Bereitstellungsschritt Daten einschließt, die Stützen angeben, um Schichtteile anzuheften, die sonst abdriften würden.
22. Verfahren zur verbesserten Stereolithographie nach Anspruch 13, is wobei der Bereitstellungsschritt Daten einschließt, die parallele wabenartige Stützen angeben.
23. Verfahren zur verbesserten Stereolithographie nach Anspruch 13, wobei der Bereitstellungsschritt Daten einschließt, die im rechten Winkel zueinander stehende, wabenartige Stützen angeben.
24. Verfahren zur verbesserten Stereolithographie nach Anspruch 13, wobei der Bereitstellungsschritt Daten einschließt, die schräge Stützen angeben.
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