DE3339946C2 - - Google Patents

Info

Publication number
DE3339946C2
DE3339946C2 DE3339946A DE3339946A DE3339946C2 DE 3339946 C2 DE3339946 C2 DE 3339946C2 DE 3339946 A DE3339946 A DE 3339946A DE 3339946 A DE3339946 A DE 3339946A DE 3339946 C2 DE3339946 C2 DE 3339946C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
bath
copper
treatment
circuit boards
activation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE3339946A
Other languages
German (de)
Other versions
DE3339946A1 (en
Inventor
Klaus 6500 Mainz De Eisenmenger
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to DE19833339946 priority Critical patent/DE3339946A1/en
Publication of DE3339946A1 publication Critical patent/DE3339946A1/en
Application granted granted Critical
Publication of DE3339946C2 publication Critical patent/DE3339946C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/54Electroplating of non-metallic surfaces
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42Plated through-holes or plated via connections
    • H05K3/423Plated through-holes or plated via connections characterised by electroplating method
    • H05K3/424Plated through-holes or plated via connections characterised by electroplating method by direct electroplating
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/07Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
    • H05K2203/0703Plating
    • H05K2203/0716Metallic plating catalysts, e.g. for direct electroplating of through holes; Sensitising or activating metallic plating catalysts
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42Plated through-holes or plated via connections
    • H05K3/425Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern
    • H05K3/427Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern initial plating of through-holes in metal-clad substrates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten der Bohrungswandungen in Leiterplatten mit Kupfer gemäß den Merkmalen des Oberbegriffes des einzigen Patentanspruches.The invention relates to a method for coating the Bore walls in printed circuit boards with copper according to the Features of the preamble of the only claim.

Ein Verfahren der genannten Art ist z. B. aus der Fachzeit­ schrift "Metalloberfläche" 1965, Seite 121 bekannt. Danach wird eine gelochte, aus einem isolierenden Werkstoff be­ stehende Leiterplatte zunächst in einem alkalischen Reini­ gungsbad behandelt, daraufhin gespült, sodann in einem Palladium und Zinnchlorid enthaltenden Aktivierungsbad be­ handelt und nach einer weiteren Spülung in einem Kupferbad galvanisiert. Dieses bekannte Verfahren umfaßt allerdings noch weitere Verfahrensschritte, wozu nicht nur ein mecha­ nisches Aufrauhen der Oberflächen durch Abbimsen bzw. Sand­ strahlen oder dergl. gehört, sondern auch ein stromloses Verkupfern in einer alkalischen Kupfernitrat-Lösung mit Formaldehyd als Reduktionsmittel. Erst danach erfolgt bei dem bekannten Verfahren das elektrolytische Verkupfern in einem Sulfat- oder Pyrophosphatbad. Schließlich werden die Leiterplatten auch vor der Reinigung in dem alkalischen Reinigungsbad in Chrom-Schwefelsäure geätzt, wodurch der insgesamt erforderliche Aufwand sehr hoch ist.A method of the type mentioned is e.g. B. from professional time font "metal surface" 1965, page 121 known. After that will be a perforated, made of an insulating material standing circuit board first in an alkaline cleaning agent treatment bath, then rinsed, then in one Activation bath containing palladium and tin chloride and after a further rinse in a copper bath galvanized. However, this known method includes still further process steps, for which not only a mecha African roughening of the surfaces by abiming or sand radiate or the like, but also an electroless one Coppering in an alkaline copper nitrate solution with  Formaldehyde as a reducing agent. Only then does it take place at the known process of electrolytic copper plating a sulfate or pyrophosphate bath. Eventually they will Printed circuit boards also before cleaning in the alkaline Cleaning bath etched in chrome-sulfuric acid, whereby the total effort required is very high.

Des weiteren ist aus der DE 33 23 476 A1 ein Verfahren zur galvanischen Metallabscheidung auf nichtmetallischen Ober­ flächen bekannt, bei dem mit einem in erheblichem Umfang manipulierten Galvanobad gearbeitet wird. Dies geschieht durch die Zugabe von Farbstoffen, oberflächenaktiven Sub­ stanzen, Chelatbildnern, Glanzzusätzen und Nivellierungs­ zusätzen. Verschiedene Farbstoffe sind in der DE 33 23 476 konkret erwähnt, wie z. B. Victoria Pure Blue F80, Methy­ lenblau, Methylviolett, Acid Blue 161 usw. Versuche z. B. mit Methylenblau haben allerdings ergeben, daß dieser Zu­ satz das Galvanobad innerhalb kürzester Zeit zerstört bzw. absolut unbrauchbar macht. Die DE 33 23 476 A1 erteilt da­ her keine wiederholbare technische Lehre, die den prakti­ schen Bedürfnissen gerecht wird, denn diese erfordern, daß das Galvanobad möglichst mehrere Monate lang verwendbar ist.Furthermore, DE 33 23 476 A1 describes a method for galvanic metal deposition on non-metallic surfaces known areas with a significant extent manipulated electroplating bath. this happens by adding dyes, surface-active sub punching, chelating agents, gloss additives and leveling add. Different dyes are in DE 33 23 476 specifically mentioned, such as B. Victoria Pure Blue F80, Methy lenblau, methyl violet, Acid Blue 161 etc. Try z. B. with methylene blue, however, have shown that this Zu the galvanic bath is destroyed or absolutely useless. DE 33 23 476 A1 gives there no repeatable technical teaching that needs, because they require that the electroplating bath can be used for several months if possible is.

Aus der US-PS 30 99 608 geht schließlich noch ein Verfahren zum Metallisieren der Bohrungswandungen von Leiterplatten aus isolierendem Werkstoff hervor, das ohne chemische Ver­ kupferung auskommt. Gearbeitet wird aber unter zusätzlicher Verwendung einer 37%igen Salzsäure-Lösung und im Ergebnis weist dieses Verfahren derart schwerwiegende Mängel auf, daß es in der Praxis nicht durchführbar war. Dazu gehörte, daß die kolloide Palladium-Zinn-Chlorid-Suspension wegen ihrer Neigung zum Ausflocken eine nicht annehmbar kurze Lebensdauer von nur ca. 9 Tagen besitzt und wegen ihres hohen Palladium-Gehaltes relativ teuer ist. Ferner wird bei diesem Verfahren wesentlich mehr Kupfer an den Oberflächen als auf den Lochwandungen abgeschieden, was seine Unbrauch­ barkeit für die gewerbliche Nutzung zur Folge hat.Finally, a method is known from US Pat. No. 3,099,608 for metallizing the bore walls of printed circuit boards from insulating material, which without chemical ver copper gets along. But work is carried out under additional Using a 37% hydrochloric acid solution and as a result this method has such serious shortcomings that it was not feasible in practice. That included  that the colloidal palladium-tin-chloride suspension because of an unacceptably short tendency to flocculate Has a lifespan of only about 9 days and because of its high palladium content is relatively expensive. Furthermore, at this process significantly more copper on the surfaces than deposited on the hole walls, what its useless availability for commercial use.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Beschichten der Bohrungswandungen in Leiterplatten mit Kupfer anzugeben, das praktikabel ist, sich einfach und schnell durchführen läßt und mit einem geringen Aufwand an Bädern, Zeit und Energie auskommt.The invention has for its object a method for Coating the bore walls in printed circuit boards with Specifying copper that is practical, simple and easy can be carried out quickly and with little effort Baths, time and energy gets along.

Zur Lösung dieser Aufgabe sieht die Erfindung vor, daß die Behandlung im Aktivierungsbad 10 bis 15 Minuten erfolgt, daß die Behandlung im Galvanobad 20 bis 30 Minuten beträgt, daß das Aktivierungsbad auf einer Temperatur von 20° bis 30°C gehalten wird und daß das Galvanobad ebenfalls auf einer Temperatur von 20° bis 30° gehalten wird.To achieve this object, the invention provides that the Treatment in the activation bath takes 10 to 15 minutes, that the treatment in the electroplating bath is 20 to 30 minutes, that the activation bath at a temperature of 20 ° to Is kept 30 ° C and that the electroplating bath also on a temperature of 20 ° to 30 ° is maintained.

Die Verwendung der angegebenen Zeiten und Temperaturberei­ che genügt völlig zur Erzielung ausreichender Beschichtun­ gen mit Kupfer auf den Bohrungswandungen der Leiterplatten. Dabei versteht es sich ferner, daß die jeweilige Kupfer­ schicht um so stärker wird, je länger die Behandlung im Galvanobad dauert. Mit zunehmender Zeitdauer erhält man entsprechend stärker Kupferschichten, wobei die angegebe­ nen Zeitspannen für eine sichere Beschichtung ausreichen. Die niedrigen Temperaturen des Aktivierungsbades und die niedrigen Temperaturen des Galvanobades erfordern nur einen geringen Energieaufwand und die kurzen Behandlungszeiten sind vorteilhaft und produktionsfördernd. Schließlich füh­ ren die kurzen Behandlungszeiten und die genannten Tempe­ raturbereiche zu einer qualitativ hochwertigen Beschich­ tung, ohne daß dazu besondere Kosten oder zusätzliche Bäder erforderlich wären.The use of the specified times and temperature range surface is sufficient to achieve sufficient coating with copper on the hole walls of the circuit boards. It also goes without saying that the respective copper layer gets stronger the longer the treatment in Electroplating bath lasts. With increasing time you get correspondingly thicker copper layers, the specified enough time for a safe coating. The low temperatures of the activation bath and the low temperatures of the electroplating bath require only one  low energy consumption and short treatment times are beneficial and promote production. Finally lead Ren the short treatment times and the mentioned tempe areas for a high quality coating tion without any special costs or additional baths would be required.

Die Erfindung wird nachstehend anhand eines Ausführungsbei­ spieles näher beschrieben.The invention is illustrated below by means of an embodiment game described in more detail.

Als Reinigungsbad eignet sich besonders ein stark alkali­ sches Bad. Es können jedoch auch neutrale bis schwach sauere Bäder verwendet werden. Die Behandlung der Leiter­ platten in diesem Bad, welches auf etwa 65° bis 75°C ein­ gestellt wird, beträgt je nach der Güte der Leiterplatten bzw. der Bohrlöcher 10 bis 20 Minuten.A strongly alkaline is particularly suitable as a cleaning bath nice bathroom. However, it can also be neutral to weak acidic baths can be used. Treatment of the ladder plates in this bath, which at about 65 ° to 75 ° C. depending on the quality of the printed circuit boards or the boreholes 10 to 20 minutes.

Die Behandlung in dem Aktivierungsbad beträgt sodann etwa 10 bis 15 Minuten bei Raumtemperatur. Die Zeitdauer hängt hier ebenfalls wieder von der Güte der Bohrlöcher ab. Es muß jeweils genügend Zeit vorhanden sein, damit sich das Palladium an den Oberflächenstrukturen anlagern und sie auf diese Weise aktivieren kann.The treatment in the activation bath is then approximately 10 to 15 minutes at room temperature. The length of time depends here again from the quality of the boreholes. It there must always be enough time for the Add palladium to the surface structures and put them on can activate this way.

Der sich nach einem Spülvorgang anschließende nächste Ver­ fahrensschritt der Galvanisation erfolgt ebenfalls bei Raumtemperatur bzw. 20 bis 30°C und dauert je nach Güte der Bohrlöcher 20 bis 30 Minuten.The next Ver after a rinse The galvanization step also takes place at Room temperature or 20 to 30 ° C and lasts depending on the quality the holes 20 to 30 minutes.

Es ist zweckmäßig, ein Galvanisierbad zu verwenden, welches gut einebnende Eigenschaften besitzt, damit die Oberflä­ chenstrukturen der Bohrlochwandung gut abgedeckt werden.It is advisable to use an electroplating bath, which has good leveling properties so that the surface well structures of the borehole wall are well covered.

Claims (1)

Verfahren zum Beschichten der Bohrungswandungen in Leiterplatten mit Kupfer, wobei die gelochten Leiter­ platten aus einem isolierenden Werkstoff bestehen, zunächst in einem alkalischen Reinigungsbad, daraufhin gespült, sodann in einem Palladium und Zinn­ chlorid enthaltenden Aktivierungsbad behandelt und nach einer weiteren Spülung in einem Kupferbad galvanisiert werden, dadurch gekennzeichnet, daß die Behandlung im Aktivierungsbad 10-15 Minuten erfolgt, daß die Behandlung im Galvanobad 20-30 Minuten beträgt, daß das Aktivierungsbad auf einer Temperatur von 20° bis 30°C gehalten wird und daß das Galvanobad eben­ falls auf einer Temperatur von 20° bis 30°C gehalten wird.Process for coating the bore walls in printed circuit boards with copper, the perforated printed circuit boards consisting of an insulating material, first in an alkaline cleaning bath, then rinsed, then treated in an activation bath containing palladium and tin chloride and, after a further rinsing, galvanized in a copper bath , characterized in that the treatment in the activation bath takes 10-15 minutes, that the treatment in the electroplating bath is 20-30 minutes, that the activation bath is kept at a temperature of 20 ° to 30 ° C and that the electroplating bath also if at a temperature is kept from 20 ° to 30 ° C.
DE19833339946 1983-11-04 1983-11-04 Process for metallising printed circuit board hole walls Granted DE3339946A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19833339946 DE3339946A1 (en) 1983-11-04 1983-11-04 Process for metallising printed circuit board hole walls

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19833339946 DE3339946A1 (en) 1983-11-04 1983-11-04 Process for metallising printed circuit board hole walls

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3339946A1 DE3339946A1 (en) 1985-05-23
DE3339946C2 true DE3339946C2 (en) 1990-12-06

Family

ID=6213486

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19833339946 Granted DE3339946A1 (en) 1983-11-04 1983-11-04 Process for metallising printed circuit board hole walls

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE3339946A1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111601461A (en) * 2020-06-08 2020-08-28 大连崇达电路有限公司 Improvement method for no copper of circuit board hole

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3099608A (en) * 1959-12-30 1963-07-30 Ibm Method of electroplating on a dielectric base
DE3323476A1 (en) * 1982-07-01 1984-01-05 Kollmorgen Technologies Corp., 75201 Dallas, Tex. IMPROVED METHOD FOR GALVANIC METAL DEPOSITION ON NON-METALLIC SURFACES

Also Published As

Publication number Publication date
DE3339946A1 (en) 1985-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2630151C2 (en)
DE1068970B (en) Electroplating of black nickel coatings and pretreatment of the workpieces to be coated
DE3315062C2 (en)
DE2137179A1 (en) Method for electroless metal heating of a surface
DE3400670A1 (en) GALVANIC BATH CONTAINING AQUEOUS GOLD SULFIT AND METHOD FOR GALVANIC DEPOSIT OF GOLD USING THIS BATH
DE3343052C2 (en) Process for electroless gold plating of a metallized ceramic substrate
DE3339946C2 (en)
DE1100178B (en) Process for the production of alloyed electrodes on semiconductor bodies made of silicon or germanium
DE2649144A1 (en) METHOD AND BATH FOR ELECTROLYTIC SILVER DEPOSITION
DE2211439A1 (en) Gold bath
DE2618638C3 (en) Electroplating bath and process for the deposition of coatings from tin-containing alloys
DE102011115802B4 (en) Process for the corrosion protection treatment of a workpiece made of an aluminum material, in particular of an aluminum wrought alloy
DE60133795T2 (en) Method for producing conductive layers on dielectric surfaces
DE2149808C2 (en) Process and bath for the pre-treatment of strips and sheets made of steel for single-layer enameling
DE1621145B1 (en) PROCESS FOR PRE-TREATMENT OF ALUMINUM OR ITS ALLOYS BEFORE ELECTRICAL COATING
DE3486228T2 (en) NICKEL PLATING ALUMINUM WITHOUT ELECTRICITY.
DE3124522A1 (en) Process for the colouring of porous materials without current
DE1796217C2 (en) Cyanide-free, bright zinc bath containing sodium zincate
DE69116134T2 (en) Bath composition for electroless plating and process for its production
DE2159613A1 (en) Process for electroless metal plating of non-conductive bodies
DE2259544A1 (en) METHOD OF ELECTRONICALLY PLATING A PLASTIC SUBSTRATE WITH A METAL
DE1924194C3 (en) Stabilized tin (II) chloride palladium hydrosol, process for the manufacture and use of the same for activating the surface of non-conductive substrates for the electroless deposition of a conductive metal
DE1621145C (en) Process for the pretreatment of aluminum or its alloys prior to galvanic coating
DE741131C (en) Process for generating galvanic deposits on zinc alloys
AT203315B (en) Process and bath for chemical nickel plating of solid non-metallic surfaces

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8363 Opposition against the patent
8331 Complete revocation