DE3310362C2 - - Google Patents
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19833310362 DE3310362A1 (de) | 1983-03-22 | 1983-03-22 | Verfahren zur veraenderung der optischen eigenschaft der grenzflaeche zwischen halbleitermaterial und metallkontakt |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19833310362 DE3310362A1 (de) | 1983-03-22 | 1983-03-22 | Verfahren zur veraenderung der optischen eigenschaft der grenzflaeche zwischen halbleitermaterial und metallkontakt |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3310362A1 DE3310362A1 (de) | 1984-10-11 |
| DE3310362C2 true DE3310362C2 (https=) | 1992-04-16 |
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ID=6194290
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19833310362 Granted DE3310362A1 (de) | 1983-03-22 | 1983-03-22 | Verfahren zur veraenderung der optischen eigenschaft der grenzflaeche zwischen halbleitermaterial und metallkontakt |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE3310362A1 (https=) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0214674B1 (en) * | 1985-09-05 | 1990-12-27 | Agfa-Gevaert N.V. | Method of adjusting the light-emission of a light emitting diode at a given driving current |
| EP0399361A3 (de) * | 1989-05-24 | 1991-02-06 | Siemens Aktiengesellschaft | Optoelektronisches Bauelement mit optischer Absorberfläche im III-V-Halbleitermaterial |
| US5917202A (en) * | 1995-12-21 | 1999-06-29 | Hewlett-Packard Company | Highly reflective contacts for light emitting semiconductor devices |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL6413441A (https=) * | 1964-11-19 | 1966-05-20 | ||
| GB1057687A (en) * | 1964-12-11 | 1967-02-08 | Associated Semiconductor Mft | Improvements in and relating to methods of manufacturing semiconductor devices |
| US3900864A (en) * | 1973-05-17 | 1975-08-19 | Bell Telephone Labor Inc | Monolithic led displays |
| US3969751A (en) * | 1974-12-18 | 1976-07-13 | Rca Corporation | Light shield for a semiconductor device comprising blackened photoresist |
| CH645208A5 (de) * | 1978-10-31 | 1984-09-14 | Bbc Brown Boveri & Cie | Verfahren zur herstellung von elektrischen kontakten an halbleiterbauelementen. |
| DD140716B1 (de) * | 1978-12-18 | 1983-01-26 | Heinz Hentschel | Fasenrollvorrichtung fuer zylindrische nietstifte |
| US4292092A (en) * | 1980-06-02 | 1981-09-29 | Rca Corporation | Laser processing technique for fabricating series-connected and tandem junction series-connected solar cells into a solar battery |
-
1983
- 1983-03-22 DE DE19833310362 patent/DE3310362A1/de active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3310362A1 (de) | 1984-10-11 |
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