DE3131583A1 - Verfahren und einrichtung zum aufdampfen von verguetungsschichten auf durchsichtige substrate, insbesondere optische objekte - Google Patents
Verfahren und einrichtung zum aufdampfen von verguetungsschichten auf durchsichtige substrate, insbesondere optische objekteInfo
- Publication number
- DE3131583A1 DE3131583A1 DE19813131583 DE3131583A DE3131583A1 DE 3131583 A1 DE3131583 A1 DE 3131583A1 DE 19813131583 DE19813131583 DE 19813131583 DE 3131583 A DE3131583 A DE 3131583A DE 3131583 A1 DE3131583 A1 DE 3131583A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- objects
- layer
- thickness
- sio
- vapor deposition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
- C23C14/205—Metallic material, boron or silicon on organic substrates by cathodic sputtering
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00865—Applying coatings; tinting; colouring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Ophthalmology & Optometry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Description
Einrelcfcu»rgsf©rtig zur : 3131583
Weiterleitung erhalten
Dr.-ing. G. ftieblSng
boo48ch
Satis Vacuum AG Zürich/Schweiz
Verfahren und Einrichtung zum
Aufdampfen von
Vergütungsschichten auf
durchsichtige Substrate, insbesondere optische Objekte
Vergütungsschichten auf
durchsichtige Substrate, insbesondere optische Objekte
Verfahren und Einrichtung zum
Aufdampfen von Vergütungsschichten auf durchsichtige Substrate, insbesondere
optische Objekte
Die vorliegende Erfindung betrifft zunächst ein Verfahren zum Aufdampfen von Vergütungsschichten auf durchsichtige
Substrate, insbesondere optische Objekte aus Kunststoff, insbesondere Polydiathylenglycoldiallylcarbonat
im Vakuum, wobei sich die schichtbildenden Aufdampfsubstanzen gemeinsam mit den zu bedampfenden
Objekten im Innern eines evakuierbaren Rezipienten befinden.
Es ist allgemein bekannt, dass das Entspiegeln bzw. das Aufbringen von reflexmindernden Schichten auf durchsichtigen
Substraten aus Kunststoff von erheblicher Problematik ist.
In der CH-Patentschrift Nr (Ges.Nr. 4530/79)
der gleichen Anmelderin wurde hierzu festgestellt,
dass allein die Wärmeausdehnung von Kunststoffen etwa 200 mal grosser ist als alle bekannten Aufdampfsubstanzen.
Ferner wurde festgestellt, dass selbst nach sorgfältigstem
Reinigen im Vakuum noch dünne Wasssrhäute oder sonstige Spuren, weiche nur einige Atomlagen dick
sind, auf den zu bedampfenden Oberflächen der Substrate zurückbleiben,
Andrerseits wurde durch die DE-OS-Nr. 26 5Θ 417 festgestellt,
dass sich als durchsichtiges Substrat für optische Objekte, insbesondere Brillengläser, das unter
der Bezeichnung CR-39 bekannte Polydiäthylenglycoldiallylcarbonat
infolge seines optischen Verhaltens und seiner relativen Härte aufdrängt«
Hierzu wurde in der genannten CH-Patentschrift der gleichen Anmelderin festgestellt, dass man nun hier
auch bei der Auswahl geeigneter Aufdampfsubstanzen auf
viele Probleme stösst, wobei mindestens eine Doppelschicht
aus einem hoch- und einem niedrigbrschendsn
Material gefunden warden muss, um allen Erfordernissen,
die an solche Vergütungsschichten zu stellen sind, gerecht zu werden. Hierbei ist zu beachten, dass sich
die an den Grenzflächen Luft-Aufdampfschicht-Trägersubstrat
reflektierenden Wellen durch Interferenz auslöschen.
Die Schicht muss erstens der sogenannten Indexbedingung genügen, die den Brechungsindex der Schicht
vorschreibt und bewirkt, dass die Amplituden der beiden Wellenzüge gleich gross werden» Zweitens muss die Schicht
der Phasenbedingung genügen, welche eine bestimmte Dikke der Schicht verlangt, damit die zur gegenseitigen
Auslöschung erforderliche Phasenumkehr auftritt. Eine
weitere Forderung ist, dass diese Schichten nach der Aufdampfung auch hart sein und gut halten müssen. Zudem
müssen sie widerstandsfähig sein gegen mechanische Abnutzung und gegen atmosphärische Einflüsse. Schliesslich
müssen die Schichten noch gegen das Altern widerstandsfähig sein und dürfen mit dem Sauerstoff der Luft
nicht reagieren, da sonst eine Fleckenbildung entstehen würde.
Um alle diese Bedingungen erfüllen zu können, wurde von der gleichen Anmelderin im genannten CH-Patent vorgeschlagen,
die zu vergütenden Substratflächen zunächst durch einen Elektronenstrahl "abzuwedeln", um dann die
so gereinigte Fläche mit einer ersten Schicht aus
Siliziummonoxid, siner zweiten Schicht aus Hafniumoxid
und dann mit einer dritten Schicht aus Siliziumdioxid zu bedampfen.
Durch diese Mass.nahmen wurden nun bisher nicht erreichte
Qualitäten möglich, die allerdings nicht alle an hochbelastete Brillen- oder Uhrengläser zu stellende Bedingungen
optimal zu erfüllen vermochten.
Es ist daher zunächst Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren der vorgenannten Art zu schaffen,
das geeignet ist, durchsichtige Substrate aus Kunststoff, insbesondere aus Polydiäthylenglycoldiallylcarbonat mit
Vergütungsschichten zu versehen, die allen gestellten Anforderungen gewachsen sind.
Dies wird bei dem eingangs erwähnten Verfahren erfindungsgemäss
dadurch erreicht, dass die Objekte mindestens vor und während dsr Aufdampfphase einer direkten
Infrarotstrahlung ausgesetzt werden.
Wie Langzeitversuche eindeutig ergeben haben, ist es durch diese Massnahmen nunmehr möglich, eine für das
Aufdampfen eines geeigneten Bedampfungsmaterials hervorragend
vorbereitete Oberfläche zu schaffen, wobei die Infrarotstrahlung sine totale Zerstörung und Auflösung
der oberflächigen Wasserhaut bewirkt und eine derartige
Oberflächendehnung des zu bedampfenden Substrates gestattet,
die bei einem späteren Gebrauch des Substrates nicht mehr erreicht wird, so dass ein späteres Reissen
der Beschichtung ausgeschlossen ist.
Dabei wird eine optimale Beschichtung dann erreicht, wenn auf die Objekte während der Infrarotbestrahlung
zwei unterschiedliche Schichten aus oxidierendem Silizium aufgedampft werden, wobei es zweckmässig ist,
wenn auf die Objekte eine erste hochbrechende Schicht aus einem Siliziummonoxid [SiO) und dann eine zweite
niedrigbrechende Schicht unterschiedlicher Dicke aus einBm Siliziumdioxid (SiO_) aufgedampft wird.
Versuche haben bestätigt, dass dia Schichtdicksn in
einem ganz besonderen und genauen Verhältnis zueinander stehen müssen, und zwar erfindungsgemäss so, dass die
erste Schicht bis zu einer Dicke von mindestens angenähert 1/12 von Lambda-Viertel und die zweite Schicht
bis zu einer Dicke von mindestens angenähert 3/4 Lambda, jeweils bezogen auf die Wellenlänge des sichtbaren Lichts,
für welche das menschliche Auge die maximale Empfindlichkeit aufweist, aufgedampft wird»
Ferner betrifft die vorliegende Erfindung ein optisches Objekt, insbesondere Brillen- oder Uhrenglas, aus einem
Substrat aus Kunststoff, insbesondere dem untsr der Bezeichnung CR-39 bekannten Polydiäthylenglycoldiallylcarbonat,
mit Vergütungsschichten, hergestellt nach dem erfindungsgemässen Verfahren.
Dieses optische Objekt zeichnet sich erfindungsgemäss
aus durch zwei Vergütungsschichten unterschiedlicher Dicke und unterschiedlichen Materials aus oxidiertem
Silizium, wobei diese Anordnung gekennzeichnet ist durch eine erste, innere hochbrechende Schicht aus einem
Siliziummonoxid (SiO) und eine zweite,, äussers niederbrechende
Schicht unterschiedlicher Dicke aus einem Siliziumdioxid (SiQ-). Hierbei ist es wesentlich, wenn
die erste, innere Schicht aus Siliziummonoxid (SiO) eine Dicke von wenigstens angenähert 1/12 (ein Zwölftel)
von Lambda-Viertal hat und die zweite, Sussere Schicht
aus Siliziumdioxid (SiCL) sins Dicke von wenigstens 3/4
(Dreiviertel) Lambda hat, jeweils bezogen auf die Wellenlänge des sichtbaren Lichts, für welche das menschliche
Auge dia maximale Empfindlichkeit aufweist.
Weiter betrifft die vorliegende Erfindung eine Vakuumdampfanlage zum Aufdampfen von Vergütungsschichten auf
optische Objekte, inabesondere Brillen- oder Uhrengläser, aus einem Substrat aus Kunststoff, insbesondere
Polydiäthylenglycoldiallylcarbonat, mit einem drehbaren,
kalottenförmigen Objekthalter für ein vorzugsweise wendbares
Einspannen einer Mehrzahl Objekte unter einer Vakuumglocke, wobei sich die Aufdampfsubstanzen in
heizbaren und/oder dem Elektronenstrahl einer Elektronenstrahlkanone aussetzbaren Schiffchen auf der Rezipienten-Bodenplatte
befinden.
Diese Anlage zeichnet sich erfindungsgemäss dadurch aus,
dass auf dsr Rezipientsn-Bodenplatte oder nahe derselben
mindestens eine Infrarotstrahlungsquelle angeordnet ist, deren Wärmestrahlen direkt auf die Unterseite
des Objekthalters bzw. die dort eingespannten Objekte gerichtet sind.
Eine beispielsweise Ausführungsform des Erfindungsgegenstandes
ist nachfolgend anhand der Zeichnung, welche sehematisch und stark vereinfacht eine Vakuumaufdampf anlage
zur Durchführung dBs erfindungsgemässen Verfahrens
zsigt, naher erläutert.
Vakuumaufdampfanlagen sind in vielfältigen Ausführungsformen bekannt. Je nach dem, ob und an welcher Stelle
eine oder mehrere Verdampfungsquellen 10 in der als
Rezipient ausgebildeten Vakuumglocke 1 angeordnet sind, werden die zu beschichtenden Gegenstände, wie optische
Linsen, Filter, Spiegel u. dgl. und hier insbesondere Kunststoff-Brillengläser 30, die ganz allgemein auf
einem drehbaren, kalottenförmigen Objekthalter 4 mit
einer Mehrzahl Wendeträger 5,6 befestigt sind, in der Regel von unten und/oder auch von oben beschichtet«
Weil bei einer Bsdampfung von oben die Gefahr besteht,
dass aus der Verdampfungsquelle Stoffteilchen herausfallen
oder verspritzt werden und die zu beschichtenden
Flachen verunreinigen,, gibt man der betriebssicheren Bedampfung
von unten den Vorzug. Diese Betriebsart macht jedoch zur zweiseitigen Beschichtung ein Umwenden der
Gegenstände notwendig, wozu der Objekthalter 4 die ge-
nannten Wendeträger 5,6 umfasst. Sekanntermassen sind
unter der Vakuumglocke 1 auch Blendeneinrichtungen zur
Regulierung des Bedampfungsfeldes oder zum Abdecken, sei
es einer oder mehrerer Verdampfungsquellen, insbesondere
während des Umschwenkvorganges am Objekthalter 4 vorgesehen (nicht gezeigt). Zum Betreiben bzw. Bedienen der
im evakuierten Rezipienten zu bewegenden Apparateteile sind Einrichtungen ir.it Betätigungsbauteilen notwendig,
die von aussen in den Vakuumraum hineinreichen, wie etwa der Drehmechanismus 3 mit dem Motor 2 für den Objekthalter
4. Alle diese Mittel sind in der Regel von einem Steuerteil 20 aus ansteuerbar.
Der Innenraum bzw. Vakuumraum des Rezipienten ist ferner an eine Vakuumpumpe 22 und an eine Sauerstoff-Quelle 23
über ein Ventil 24 angeschlossen.
Ferner weist die Innenwand der Vakuum-Glocke 1 Rohrschlangen 25 auf, die nach aussen in einen Anschluss-Stutzen
26 für kaltes Wasser und einen Anschluss-Stutzen 27 für heisses Wasser ausmünden.
Die auf der Rezipienten-Bodenplatte 21 angeordnete Ver-
dampfungsquelle 10 umfasst hier nun ein erstes Schiffchen MO mit den Stromanschlüssen Ul zu seiner elektrischen
Erhitzung. Dieses Schiffchen 40 enthält das erstgenannte
Aufdampfungsmaterial, nämlich reines Silizium
(SiO).
Die Verdampfungsquelle 10 umfasst ferner eine sogenannte Elektronenstrahlkanone mit einem Heizfaden 42, dessen
austretende Elektronen in einer Fokusierungseinrichtung 43 strahlenförmig gebündelt werden. Beispielsweise kann
der Elektronenstrahl von einer an negativer Hochspannung liegenden Wolframkathode erzeugt werden und mit einem geformten
Wehnel-Zylinder vorfokusiert werden. Dieser Elektronenstrahl 44 lässt sich nun durch Umlenkmagnetmittel
45 in ein weiteres Schiffchen 46 umlenken, in dem sich das zweitgenannte Aufdampfmaterial, nämlich Siliziumdioxid
(SiOp) befindet. Selbstverständlich kann auch eine andere beispielsweise induktive Verdampfung durchgeführt
werden.
Ferner ist auf der Rezipienten-Bodenplatte 10 dis erfindungswesentliche Infrarotbestrahlungsquelle 50 mit ihren
Stromanschlüssen 51 derart montiert, dass ihre Wärmestrahlen direkt auf die Unterseite der zu bedampfenden Objekte
30 treffen.
Hierbei können nicht näher gezeigte Mittel vorgesehen sein, um das Infrarotlicht zusätzlich zu bündeln oder
zu verstärken. Ferner können beliebige Infrarotstrahlungsquellen
Verwendung finden und auch mehr als eine Quelle vorgesehen sein.
Für ein Aufdampfen der Vergütungsschichten auf beispielsweise Brillengläser aus dem genannten Polydiäthylenglycoldiallylcarbonat
zur Erreichung der vorbeschriebenen Qualität wurden zunächst die Objekte 30
nach einer Vorreinigung, einer mehrstündigen Ausgasung im Vakuum bei 95 C und einem Vakuum von 10 TORR und
einer Ultraschall-Nachreinigung in die Wendeträger 5,6 des kalottenförmigen Objekthalters 4 eingesetzt.
Danach wurde dsr Vakuumzyklus eingeleitet unter gleichzeitiger
Vorwärmung durch Einleiten von Warmwasser in den Wärmeaustauscher 25 während ca. 20 bis 25 Minuten.
Anschliessend erfolgte der Beginn der Infrarotbestrahlung
der nun mit dem Objekthalter 4 umlaufenden Objekte 30.
Diese Infrarotbestrahlung ist bis zur Beendigung des Vakuumzyklüs aufrechtzuerhalten.
Nach ca. 20 Minuten der Infrarotbestrahlung und bei einem Vakuum von 2X10 TORR wurden dann die Objekte
während ca. M Minuten mit reinem Sauerstoff durch Oeffnen des Ventiles 23 gespült.
Dann wurde die Temperatur im Inneren der Kammer durch Einleitung von Kaltwasser in den Wärmeaustauscher
gesenkt und die Objekte 30 nochmals während *} Minuten
mit reinem Sauerstoff (O2) gespült.
Darauf erfolgte das Aufdampfen der ersten Schicht durch Einschaltung des thermischen Verdampfers 40,Ml. Hierbei
zeigte sich durch ein langsames Hochregeln eine Getterung durch Bindung von Restgasmolekülen infolge
chemischer Reaktion mit den Gasmolekülen, wodurch das Hochvakuum auf 5X10" TORR verbessert wurde. Ferner
wurde festgestellt, dass das aufgedampfte Siliziummonoxid so eine innige Verbindung mit der unter der
Wirkung der Infrarotstrahlung erhitzten und optimal getrockneten Objektfläche eingehen konnte , die allen
üblichen Tests standzuhalten vermochte.
Hierbei hat sich die Notwendigkeit gezeigt, die mit 1/12 von Lambda-Viertel, bezogen auf die Wellenlänge
des sichtbaren Lichts, für wslche das menschliche Auge
die maximale Empfindlichkeit aufweist, aufgedampfte erste Schicht ca. 2 Minuten "ruhen" zu lassen, um eine
optimale Oxidation zu erreichen.
Nachfolgend wurde dann die zweite Schicht aus Siliziumdioxid mit einer Dicke von 3/4 Lambda, bezogen auf die
Wellenlänge des sichtbaren Lichts, für welche das mensch liche Auge die maximale Empfindlichkeit aufweist, durch
Einschaltung des Elektronenstrahlverdampfers 42-46 aufgedampft
.
Anschliessend wurde die Infrarotstrahlungsquelle 50,51
ausgeschaltet und die Anlage nach einer Verweilzeit von ainigen Minutsn geflutet und die nun vergüteten Objekte
30 entnommen.
Umfassende Messungen und Tests haben gezeigt, dass die auf die vorbeschriebene Weise vergüteten Objekte eine
bisher nie erreichte optische und mechanische Qualität besitzen unter Erfüllung aller gestellten Forderungen.
Insbesondere zeigt sich ein solches Objekt der reflexmindernden Wirkung einer Einfachschicht auf Brillenkron
mindestens ebenbürtig.
Es zeigt sich, dass durch diese Massnahmen der Verwendungsbereich
von optischen Kunststoff-Objekten erheblich erweitert werden kann.
Leerseite
Claims (1)
- Patentansprüche1.) Verfahren zum Aufdampfen von Vsrgütungsschichten auf organische Substrate, insbesondere optische Objekte aus Kunststoff, insbesondere Polydiäthylenglycoldiallylcarbonat im Vakuum, wobei sich die schichtbildenden Aufdampfsubstanzen gemeinsam mit den zu bedampfenden Objekten im Innern eines evakuierbaren Rezipienten befinden, dadurch gekennzeichnet, dass die Objekte mindestens vor und während der Aufdampfphase einer direkten Infrarotstrahlung ausgesetzt werden.2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass auf die Objekte während der Infrarotbestrahlung zwei unterschiedliche Schichten aus oxidierendem Silizium aufgedampft werden.Verfahren nach Anspruch 1 oder 2„ dadurch gakannzeichnet, dass auf die Objekte eine erste hochbrechende Schicht aus einem Siliziummonoxid (SiO) und dann eina zweite niedrigbrachende Schicht unterschiedlicher Dicke aus einem Siliziumdioxid (SiO„)aufgedampft wird.4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Schicht bis zu einer Dicke von mindestens angenähert 1/12 von Lambda-Viertsl und die zweite Schicht bis zu einer Dicke von mindestens angenähert 3/4 Lambda, jeweils bezogen auf die Wellenlänge des sichtbaren Lichts, für welche das menschliche Auge die maximale Empfindlichkeit aufweist, aufgedampft wird.5. Optisches Objekt, insbesondere Brillen- oder Uhrenglas aus einem Substrat aus Kunststoff, insbesondere Polydiäthylenglycoldiallylcarbonat, mit Vergütungsschichten, hergestellt nach dem Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 4.6. Optisches Objekt nach Anspruch 5, gekennzeichnet durch zwei Vergütungsschichten unterschiedlicher Dicke und unterschiedlichen Materials aus oxidiertem Silizium.7. Optisches Objekt nach Anspruch 5 oder 6, gekenn-zeichnet durch eine erste, innere hochbrechende Schicht aus einem Siliziummonoxid (SiO) und eine zweite, äussers niederbrechende Schicht unterschiedlicher Dicke aus einem Siliziumdioxid (SiO„)o8. Optisches Objekt nach Anspruch 75 dadurch gekennzeichnet, dass die erste* innere Schicht aus Siliziummonoxid (SiO) eine Dicke von wenigstens angenähert 1/12 (ein Zwölftel) von Lambda-Viertel hat und die zweite, äussere Schicht aus Siliziumdioxid (SiO_) eine Dicke von wenigstens angenähert 3/4 (Dreiviertel) Lambda hat, jeweils bezogen auf die Wellenlänge des sichtbaren Lichts, für welche das menschliche Auge die maximale Empfindlichkeit aufweist.9. Vakuumaufdampfanlage zum Aufdampfen von Vergütungsschichten auf optische Objektes, insbesondere Brillenoder UhrengX§SQr, aus einem Substrat aus Kunststoff, insbesondere Polydiathylenglycoldiallylcarbonat, mit einem drehbaren, kalottenförmigen Objekthalter für ein vorzugsweise wendbares Einspannen einer Mehrzahl Objekte unter einer Vakuumglocke, wobeisich die Aufdampfsubstanzen in heizbaren und/oder dem Elektronenstrahl einer Elektronenstrahlkanone aussetzbaren Schiffchen auf der Rezipienten-Bodenplatte befinden, dadurch gekennzeichnet, dass auf der Rezipienten-BodenplattB (10) oder nahe derselben mindestens eine Infrarotstrahlungsquelle (50,51) angeordnet ist, deren WMrmestrahlen direkt auf die Unterseite des Objekthalters (4) bzw. die dort eingespannten Objekte (30) gerichtet sind.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH662180A CH632892GA3 (de) | 1980-09-03 | 1980-09-03 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3131583A1 true DE3131583A1 (de) | 1982-07-08 |
Family
ID=4312459
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19813131583 Withdrawn DE3131583A1 (de) | 1980-09-03 | 1981-08-10 | Verfahren und einrichtung zum aufdampfen von verguetungsschichten auf durchsichtige substrate, insbesondere optische objekte |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4485124A (de) |
CH (1) | CH632892GA3 (de) |
DE (1) | DE3131583A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10320384B3 (de) * | 2003-05-06 | 2005-02-10 | Leybold Optics Gmbh | Vakuumbeschichtungsanlage |
DE10324928A1 (de) * | 2003-06-03 | 2005-07-14 | Leybold Optics Gmbh | Vakuumbeschichtungsanlage |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH668430A5 (de) * | 1986-07-31 | 1988-12-30 | Satis Vacuum Ag | Vakuum-beschichtungsanlage fuer optische substrate. |
US4815962A (en) * | 1987-12-11 | 1989-03-28 | Polaroid Corporation | Process for coating synthetic optical substrates |
DE102005010005A1 (de) * | 2005-03-04 | 2006-12-28 | Nunner, Dieter | Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung von Kleinteilen |
EP2476775A4 (de) | 2009-09-11 | 2013-07-10 | Imott Corp | Schutzfilm und herstellungsverfahren dafür |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2658417A1 (de) * | 1976-12-23 | 1978-06-29 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Verfahren zur herstellung von antireflexschichten auf polydiaethylenglycoldiallylcarbonat, nach dem verfahren hergestellter optischer koerper und verwendung des optischen koerpers |
-
1980
- 1980-09-03 CH CH662180A patent/CH632892GA3/de unknown
-
1981
- 1981-08-10 DE DE19813131583 patent/DE3131583A1/de not_active Withdrawn
- 1981-08-27 US US06/296,806 patent/US4485124A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10320384B3 (de) * | 2003-05-06 | 2005-02-10 | Leybold Optics Gmbh | Vakuumbeschichtungsanlage |
DE10324928A1 (de) * | 2003-06-03 | 2005-07-14 | Leybold Optics Gmbh | Vakuumbeschichtungsanlage |
US7311939B2 (en) | 2003-06-03 | 2007-12-25 | Leybold Optics Gmbh | Vacuum coating unit and a method for the differentiated coating of spectacle lenses |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CH632892GA3 (de) | 1982-11-15 |
US4485124A (en) | 1984-11-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0529268A2 (de) | Harte Entspiegelungsschicht für Kunststofflinsen | |
DE4341173B4 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Abscheidung unterschiedlicher Materialien auf einem Substrat | |
DE3136798A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur ausbildung von duennen oxydfilmschichten unter verwendung der reaktiven verdampfung | |
EP0502385A1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer doppelseitigen Beschichtung von optischen Werkstücken | |
DE60110510T2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Substratbeschichtung | |
EP0698798A2 (de) | Beschichtete optische Kunststofflinse | |
DE2658417A1 (de) | Verfahren zur herstellung von antireflexschichten auf polydiaethylenglycoldiallylcarbonat, nach dem verfahren hergestellter optischer koerper und verwendung des optischen koerpers | |
DE3852939T2 (de) | Verfahren zur Beschichtung künstlicher optischer Substrate. | |
DE3131583A1 (de) | Verfahren und einrichtung zum aufdampfen von verguetungsschichten auf durchsichtige substrate, insbesondere optische objekte | |
DE3909654C2 (de) | Reflexionsvermindernder Film für optische Teile aus Kunststoff | |
DE3627248A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines antireflexionsfilms auf organischen linsen oder brillenglaesern | |
EP1407059A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines optisch wirksamen schichtsystems | |
EP1221496A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung optischer Elemente | |
EP1581666B1 (de) | BESCHICHTUNG FÜR EIN kUNSTSTOFFSUSBSTRAT | |
EP0759566A1 (de) | Kompositmaterial zur Abschirmung von Strahlung | |
DE102012112780B3 (de) | Optisch wirksames Schichtsystem mit transparenter Deckschicht und Verfahren zu deren Herstellung | |
EP1219724B1 (de) | Aufdampfmaterial zur Herstellung hochbrechender optischer Schichten | |
CH645136A5 (en) | Process and apparatus for treating the surface of optical objects in vacuo | |
DE102008014900A1 (de) | Schichtsystem zur Beheizung optischer Oberflächen und gleichzeitiger Reflexminderung | |
DE60111002T2 (de) | Optisches Element für einen Infrarotlaser und zugehöriges Herstellungsverfahren | |
DE2050556C3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer hochbrechenden optisch homogenen und absorptionsfreien Oxidschicht | |
DE19642001A1 (de) | Projektionsmaske | |
DE2055632A1 (de) | Verfahren zum Herstellen von Blend schutzglasern durch Aufdampfen von Ober flachenschichten im Vakuum, insbesondere auf Brillenglasern | |
DE102004018435A1 (de) | Vorrichtung zum beidseitigen Beschichten von Substraten mit einer hydrophoben Schicht | |
DE19515172C1 (de) | Verfahren zur Abscheidung von farbigen Schichten auf Substrate und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OAV | Publication of unexamined application with consent of applicant | ||
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |