DE29917354U1 - Durchlaufgerät zum Ätzen, Entwickeln, Strippen und Spülen von Platten - Google Patents
Durchlaufgerät zum Ätzen, Entwickeln, Strippen und Spülen von PlattenInfo
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- DE29917354U1 DE29917354U1 DE29917354U DE29917354U DE29917354U1 DE 29917354 U1 DE29917354 U1 DE 29917354U1 DE 29917354 U DE29917354 U DE 29917354U DE 29917354 U DE29917354 U DE 29917354U DE 29917354 U1 DE29917354 U1 DE 29917354U1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/08—Apparatus, e.g. for photomechanical printing surfaces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3085—Imagewise removal using liquid means from plates or webs transported vertically; from plates suspended or immersed vertically in the processing unit
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Description
Der Beschreibungstext wurde nicht elektronisch erfaßt
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Claims (7)
1. Durchlaufgerät zum Ätzen, Entwickeln, Strippen und Spülen von Platten, dadurch
gekennzeichnet, daß die Platten in vertikaler Lage im Durchlaufverfahren bearbeitet, d. h.
geätzt, entwickelt und gespült werden.
2. Durchlaufgerät zum Ätzen, Entwickeln, Strippen und Spülen von Platten, dadurch
gekennzeichnet, daß die Platten im Durchlaufgerät automatisch verarbeitet, d. h.
transportiert und dabei bearbeitet werden.
3. Durchlaufgerät zum Ätzen, Entwickeln, Strippen und Spülen von Leiterplatten, dadurch
gekennzeichnet, daß die Transportgeschwindigkeit für die Platten im Gerät variabel
einstellbar ist.
4. Durchlaufgerät zum Ätzen, Entwickeln, Strippen und Spülen von Platten, dadurch
gekennzeichnet, daß durch ein spezielles, gefedert gelagertes Walzensystem im
Durchlaufgerät Platten unterschiedlicher Stärke verarbeitet werden können.
5. Durchlaufgerät zum Ätzen, Entwickeln, Strippen und Spülen von Platten, dadurch
gekennzeichnet, daß die Anordung der für die einzelnen Arbeitsschritte erforderlichen
Kammern eine rationelle, schnelle Verarbeitung ermöglicht, da die Platte auf der einen Seite
des Gerätes unbearbeitet eingeführt wird und nach vollständigem Abschluß des
Arbeitsprozesses auf der anderen Seite des Gerätes entnommen werden kann.
6. Durchlaufgerät zum Ätzen, Entwickeln, Strippen und Spülen von Platten, dadurch
gekennzeichnet, daß die seitlichen Einlässe des Durchlaufgerätes durch ein spezielles
Schleusensystem (vertikales Vorhangsystem) die Verschleppung oder den Austritt von
Flüssigkeit aus den Kammern verhindert. Dabei besteht das Schleusensystem aus 3
voneinander versetzt angeordneten chemikalienbeständigen Gummidichtlippen, die durch
ihre räumliche Überlappung und ihre senkrechte Anordnung das Austreten von Flüssigkeit
verhindern.
7. Durchlaufgerät zum Ätzen, Entwickeln, Strippen und Spülen von Platten, dadurch
gekennzeichnet, daß der Spülvorgang in einer Zweikammern-Spülung erfolgt, wobei in der
ersten Spülkammer die Platten im Sprühverfahren vorgespült werden, während das
Spülwasser im Kreislaufprinzip bis zur Erreichung eines bestimmten
Sättigungsgrades/Verschmutzungsgrad Verwendung findet. In der zweiten Kammer werden
die Platten im Sprühverfahren mit Frischwasser gespült, wobei die Frischwasserzufuhr
automatisch geregelt wird und nur dann erfolgt, wenn die Platten in der Spülkammer sind,
so daß der Wasserverbrauch insgesamt minimiert werden kann.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE29917354U DE29917354U1 (de) | 1999-10-04 | 1999-10-04 | Durchlaufgerät zum Ätzen, Entwickeln, Strippen und Spülen von Platten |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE29917354U DE29917354U1 (de) | 1999-10-04 | 1999-10-04 | Durchlaufgerät zum Ätzen, Entwickeln, Strippen und Spülen von Platten |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE29917354U1 true DE29917354U1 (de) | 2000-01-20 |
Family
ID=8079744
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE29917354U Expired - Lifetime DE29917354U1 (de) | 1999-10-04 | 1999-10-04 | Durchlaufgerät zum Ätzen, Entwickeln, Strippen und Spülen von Platten |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE29917354U1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8705169B2 (en) | 2009-03-17 | 2014-04-22 | Juan Luis Rendon Granados | Glass products with anti-reflection properties and methods for the production and use thereof |
-
1999
- 1999-10-04 DE DE29917354U patent/DE29917354U1/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8705169B2 (en) | 2009-03-17 | 2014-04-22 | Juan Luis Rendon Granados | Glass products with anti-reflection properties and methods for the production and use thereof |
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