DE2951723C2 - Metalldampflaser mit Gaszusätzen zur Verbesserung der Emissionseigenschaften - Google Patents
Metalldampflaser mit Gaszusätzen zur Verbesserung der EmissionseigenschaftenInfo
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- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
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Description
25
Die Erfindung betrifft einen Metalldampflaser nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1; vgl. J. R. McNeil, G. J.
Collins, K. B. Persson, D. L. Franken, Appl. Phys. Lett,
Bd. 27, Nr. 11 (1975), S. 595 - 598.
Kontinuierliche Lasertätigkeit ist in einer Reihe von Metalldämpfen (z. B. Cadmium Cd, Selen Se, Kupfer Cu,
Silber Ag, Gold Au) nachgewiesen worden, wobei Emission im sichtbaren, infraroten und ultravioletten
Spektralbereich erzielt worden ist Von besonderem Interesse ist die Emission im ultravioletten Spektralbereich
mit Wellenlängen kürzer als 400 nm, da die in diesem Bereich alternativ einsetzba; cn Edelgasionenlaser
nur geringen Wirkungsgrad besitzen. Im ultravioletten Spektralbereich unterhalb von 300 nm ist kontinuierliche
Lasertätigkeit bisher überhaupt nur in Metalldämpfen (Cu, Ag, Au) realisiert worden.
Obwohl die Metalldampflaser Wellenlängen emittieren, die mit anderen Lasertypen nicht erzeugbar sind,
werden die kontinuierlichen Metalldampflaser bis auf den Cadmiumdampflaser nur wenig für Anwendungen
eingesetzt, in denen intensive und gebündelte Ultraviolettstrahlung erforderlich ist. Dies liegt an den bisher
noch unbefriedigenden Emissionseigenschaften dieser Laser, d. h. die Emissionsdauer ist teilweise gering, das
Verhältnis von Emissionsleistung zur Anregungsleistung (Wirkungsgrad) ist klein und das Emissionsspektrum
(Zahl der bekannten Laserlinien) ist begrenzt.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Emissionsdauer von Metalldampflasern
sowie ihre Ausgangsleistung zu steigern und neue Emissionslinien anzuregen. Diese Aufgabe wird bei
einem gattungsgemäßen Metalldampflaser durch die kennzeichnenden Merkmale des Anspruchs 1 gelöst.
Weitere Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen.
Zur Erläuterung der mit der Erfindung erzielbaren Vorteile wird zunächst anhand des Anregungsmechanismus
für die oberen Niveaus der Laserübergänge die Ursache für die geringe Emissionsdauer und Emissionsleistung herkömmlicher Metalldampflaser erörtert.
Lasertätigkeit findet in einer Gleichstromentladung statt, die mit einem Puffergas betrieben wird, das den
Metalldampf in geringer Konzentration enthält. Die Anregung vieler oberer Laserniveaus in Metalldämpfen
erfolgt durch Stöße der Metallatome mit Puffergasionen (z. B. Helium He oder Neon Ne), wie in Fig. i für
das Beispiel des Kupferdampflasers mit Neon als Puffergas anhand eines vereinfachten Termschematas
dargestellt ist Bei F i g. 1 sind die Zahlenwerte der Energien der angeregten Zustände C E. Moore,
»Atomic Energy Levels«, U. S. Government Priming Office, Washington D. C.(1971), Volume I, Seiten 76, 77,
2Jl, Volume II, Seiten 111, 117, entnommen. Bei den
Kupferionenlinien wurde die Ionisierungseneigie addiert In F i g. 1 bedeuten 5S1D3Xi und 5S1Eh die oberen
Niveaus der ultravioletten Laserübergänge im Kupferdampf und 4/^/3°! und 4psF2° die entsprechenden
unteren Niveaus. Der Grundzustand des Neonions ist mit Ne+ gekennzeichnet Unterhalb dieses Zustandes
t-efinden sich die Energieniveaus der Neonatome,
wovon nur die metastabilen Zustände 3&Ρ>2,ο angegeben
sind, da nur diese wegen ihrer großen Lebensdauer stark besetzt sind. Die metastabilen Puffergasatome
stoßen nun ebenfalls mit den Metallatomen und können zu einer Besetzung der unteren Niveaus der Laserübergänge
führen. Die Besetzung der unteren Niveaus kann dabei direkt erfolgen, wie in F i g. 1 dargestellt, oder
über weitere Zwischenzustände. Die Besetzung der unteren Laserniveaus ist unerwünscht, da dadurch die
optische Verstärkung des Metalldampfes kleiner wird. Falls nur das obere Laserniveau besetzt wird und nicht
das untere zusätzlich. ließe sich eine höhere Verstärkung und damit auch höhere Emissionsleistung erreichen.
Die Herabsetzung der Verstärkung kann für einzelne Linien so weit gehen, daß keine Besetzungsinversion
vorliegt und keine Lasertätigkeit möglich ist. Werden die metastabilen Puffergasatome erst während
des Betriebes der Gasentladung gebildet, so ist die Besetzung der unteren Laserniveaus verzögert gegenüber
dem Einschalten der Entladung. Der Laser besetzt in diesem Fall zunächst eine relativ hohe Ausgangsleistung.
Durch die Besetzung der unteren Laserniveaus nimmt die Leistung ab, oder die Laseremission hört
vollständig auf, d. h. die BeseUing der unteren
Laserzustände durch metastabile Puffergasatome führt zu einer Begrenzung der Emissionsdauer des Lasers.
Zusammengefaßt ergibt sich, daß metastabile Puffergasatome
die Emissionseigenschaften von Metalldampflasern schädlich beeinflussen. Eine Verbesserung der
Emissionseigenschaften ist durch die Herabsetzung der Dichte der metastabilen Atome möglich, wie sie
erfindungsgemäß durch den im Anspruch 1 angegebenen Gaszusatz erzielt wird. Es ist nämlich bereits seit
längerem bekannt (F. M. Penning, C. C. J. Addink. Physica, Bd. 1 [1934], S. 1007-1027), daß in Gasentladungen
metastabile Neonatome durch Zusatz einer geringen Menge Argongas abgebaut werden können.
Vom Neon-Wasserstoff-Laser ist bekannt (V. P. Chebotaev, L S. Vasilenko Sov. Phys. JETP. Bd. 21
[1965], Nr. 3. S. 515. 516), daß auch Wasserstoff dafür
geeignet ist. Allgemein können zum Abbau metastabiler Atome Gase verwendet werden, deren lonisierungsenergie
V1 kleiner ist aiii die Energie Vmel der
metastabilen Atome (W. de Groot. F. M. Penning, Handbuch der Physik [Herausgeber H. Geiger, K.
Scheel], Band XXIII, 12. Aufl., S. 174, Springer-Verlag
[1937]):
Bei der Auswahl des Gaszusatzes muß allerdings beachtet werden, daß der Laserprozeß durch den
Gaszusatz nicht behindert wird. Das Gas darf also keine oder nur geringe Absorption bei den Laserlinien zeigen
und die Besetzung des oberen Laserniveaus nicht wesentlich beeinträchtigen.
Als erstes Ausführungsbeispiel der Erfindung wird im
folgenden anhand von Fig.2 ein Kupferdampflaser
näher beschrieben. Die Emissionsdauer des kontinuierlichen Kupferdampflasers im ultravioletten Spektralbereich
beträgt bei den bisher bekannten Systemen nur einige Sekunden bis Minuten (vgL F i g. 2). Danach muß
der Laser abgeschaltet werden, damit sich die Anordnungen regeneriert Nach einer Pause von
einigen Sekunden bis Minuten kann der Laser wieder in Betrieb genommen werden. Um kontinuierlichen
Betrieb zu erreichen, ist eine Umwälzung oder ein Austausch des Puffergases Neon im Entladungsbereich
notwendig. Das hat den Nachteil, daß der Laser ständig mit einer Gasfülleinheit oder Umwälzeinrichtupg
verbunden sein muß. Durch einen Gaszusatz entsprechend den Patentansprüchen 1 und 2 kann die
Emissionsuauer ohne Gasaustausch oder -umwälzung verlängert werden. Außerdem wird die Ausgangsleistung
gesteigert sowie neue Emissionsiinien angeregt.
Beim Kupferdampflaser tritt besonders du'^h Beimischung
von Argon (Partialdruck bis 5%) eine Verlangerung der Emissionsdauer auf. Fig.2 zeigt die experimentell
beobachtete Abhängigkeit der Laserintensität Φ bei den Wellenlängen 260,0 und 259,1 nm als Funktion
der Zeit /, wenn lediglich Neon als Puffergas (13 mbar) verwendet und wenn zusätzlich Argon beigemischt
wird. Bei Verwendung von nur Neon als Puffergas nimmt die Laserintensität Φ als Funktion der Zeit t
schnell ab. Bei einem Entladungsstrom von /=25 A ist die Emissionsdauer größer als 3 min, dabei ist die
Laserintensität jedoch klein. Bei einem Ent'.adungsstrom
von 36 A beträgt die Emissionsdauer nur noch weniger als 0.5 min.
Durch Zumischung einer kleinen Menge Argon mit einem Partialdruck von 0,1 % tritt als Funktion der Zeit
eine nahezu stabile Emission auf. Außerdem wird die Laserintensität bei gleichem Entladungsstrom vergrößert.
Des weiteren konnte beim Kupferdampflaser durch Argonzusatz eine neue Laserlinie bei 270,096 nm
angeregt werden.
Ein zweites Ausführungsbeispiel der Erfindung stellt ein Selendampflaser dar. Bekannte Ausführungen von
Selenlasern mit Helium als Puffergas emittieren zahlreiche Linien im Bereich von 446 bis 1258 nm; vgl. C.
S. Willett, »Introduction to Gas Lasers: Population Inversion Mechanisms«, S. 214, Pergamon Press (1974).
Es sind beim Helium-Selenlaser zusätzlich Linien unterhalb 400 nm zu erwarten (M. B. Klein, W. T.
Silfvast, Appl. Phys. Lett, Bd. 18 [1971], Nr. 11, S.
482—485), die von den 5/7-Zuständen ausgehen und auf
unteren Niveaus enden, die Energien zwischen den metastabilen Zuständen 2' So und Il3S| des Heliums
besitzen.
Diese möglichen unteren Laserzustände in Seil werden durch Penningstöße mit den metastabilen
Heliumatomen besetzt, wodurch Laserübergänge zu diesen Zuständen verhindert werden.
Durch Zusatz eines geeigneten Gases, das die Bedingung nach Gl. 1 erfüllt, können die metastabilen
Heliumatome abgebaut und Laserlinien in Selen auch unterhalb 400 nm angeregt werden.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (3)
1. Metalldampflaser mit einem Puffergas bzw. Puffergasgemisch, dessen Atome bei Laserbetrieb
metastabile Zustände besetzen, von denen aus eine Anregung der Metalldampfatome in die unteren
Laserzustände erfolgt, gekennzeichnet durch einen Zusatz eines Gases, dessen lonisierungsenergie
kleiner ist als die Energie der metastabilen Atome im Puffergas bzw. Puffergasgemisch.
2. Metalldampflaser nach Anspruch I, dadurch
gekennzeichnet, daß der Metalldampf aus Kupfer, das Puffergas aus Neon und das Zusatzgas aus
Argon mit einem Partialdruck von 0,01 bis 5%, bezogen auf den zum Betrieb des Lasers notwendigen
Neondruck, besteht.
3. Metalldampflaser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Metalldampf aus Selen und
das Puffergas aus Helium besteht.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19792951723 DE2951723C2 (de) | 1979-12-20 | 1979-12-20 | Metalldampflaser mit Gaszusätzen zur Verbesserung der Emissionseigenschaften |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19792951723 DE2951723C2 (de) | 1979-12-20 | 1979-12-20 | Metalldampflaser mit Gaszusätzen zur Verbesserung der Emissionseigenschaften |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2951723A1 DE2951723A1 (de) | 1981-07-09 |
DE2951723C2 true DE2951723C2 (de) | 1983-09-08 |
Family
ID=6089267
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19792951723 Expired DE2951723C2 (de) | 1979-12-20 | 1979-12-20 | Metalldampflaser mit Gaszusätzen zur Verbesserung der Emissionseigenschaften |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2951723C2 (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AUPN813596A0 (en) * | 1996-02-16 | 1996-03-07 | Macquarie Research Limited | Metal vapour laser |
-
1979
- 1979-12-20 DE DE19792951723 patent/DE2951723C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2951723A1 (de) | 1981-07-09 |
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