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Verfahren und Vorrichtung zur zweidimensionilen Positio-
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nierung eines Werkstückes Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren
zur zweidimensionalen Posit:onierung eines Werkstückes, insbesondere zur Ausrichtung
einer optischen Maske mit einer ausgewählten Position einer Halbleiterscheibe in
X- und Y-Richtung, sowie auf eine Vorrichtung zum Durchführen dieses Verfahrens.
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Eine solche Vorrichtung mit einer in X- und Y-Richtung adressierbaren
Maske und schrittweisem Antrieb für eine als Werkstück dienende Halbleiterscheibe
ist bereits vorgeschlagen worden. Bei dieser Vorrichtung wird eine Stri-#hplatte
schrittweise mit verschiedenen X- und Y-Koordinaten der Maske verschoben, um nacheinander
Teile der Maske auf das Muster der Strichplatte zu belichten.
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Die nacheinander adressierten X- und Y-Koordinaten der Maske werden
hier mit Hilfe von X- und Y-Marken in Form von zwei getrennten eindimensionalen
Anordnungen von parallelen Reißlinien auf einer die Maske tragende und in X- und
Y-Richtung bewegbare Bearbeitungsstation mit dem Strichplattenmuster ausgerichtet.
Abfühler erkennen die X- und Y-Koordinaten
einer adressierten
Stelle durch Abfühlen dieser X- und Y-Reißlinien. Durch auf die abgefühlte Adresse
ansprechende X- und Y-Servomotoren wird die Bearbeitungsstation in die Position
gebracht, die von der Bedienungsperson als Bezugsadresse gewählt worden ist.
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Die Bearbeitungsstation kann jedoch nicht gleichzeitig in beiden Koordinatenrichtungen
an die ausgewählte Stelle geführt werden. Sie wird vielmehr dadurch positioniert,
daß erst die Y-Koordinaten der Adresse abgefühlt werden und die Bearbeitungss#tation
an die adressierte Y-Koordinate gebracht wird. Sodann sucht die Bearbeitungsstation
nacheinander die X-Koordinaten in X-Richtung ab, bis die ausgewählte X-Koordinate
gefunden ist.
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Diese Vorrichtung hat also den Nachteil, daß die Bearbeitungsstation
nicht auf dem kürzesten Weg von einer ersten zu einer zweiten adressierten Position
gelangen kann, sondern vielmehr erst zu der Y-Koordinatenmarke am Rande der X-Koordinatenmarke
zurückkehren muß, um die X-Koordinatenmarken nach der gesuchten X-Koordinate absuchen
zu können.
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Hinzu kommt, daß die Genauigkeit dieser Vorrichtung von dem Grad abhängt,
mit dem die Führung der Bearbeitungsstation in Y-Richtung zur X-Achse an der ausgewählten
Y-Koordinate im rechten Winkel steht. Derartige Winkeltoleranzen können zwar beherrscht
werden, jedoch nur mit erheblichem Aufwand.
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Es ist weiterhin vorgeschlagen worden, bei einer solchen Vorrichtung
einen an der Bearbeitungsstation befestigten und dadurch zusammen mit dem Werkstück
bewegbaren Spiegel vorzusehen und auf diesen eiren Laser-Strahl zu richten.
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Die hierbei auftretende stehende Welle gestattet es, die Interferenzringe
des Laser-Strahls zu zählen und dadurch das Werkstück in beiden Koordinatenrichtungen
genau zu positionieren.
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Bei dieser Vorrichtung tritt die Schwierigkeit auf, daß als Maßstab
für die Lage des Werkstückes in beiden Koordinatenrichtungen die Wellenlänge des
Laser-Lichtes dient. Diese Wellenlänge ist jedoch eine Funktion der Temperatur,
des Druckes und der Feuchtigkeit des benutzten optischen Weges. Daher muß bei dieser
unter ferometer-Methode" de Bearbeitungsstation in einer Klimakammer untergeb-acht
sein, in welcher Temperatur, Druck und Feuchtigkernt mit hoher Genauigkeit konstant
gehalten werden können. Eine solche Klimakammer ist jedoch relativ kostspielig und
verkompliziert die Maschine.
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Der Erfindung liegt nun demgegenüber die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren
und eine Vorrichtung der eingangs genannten Art zu schaffen, die einfacher und billiger
zu realisieren sind und es doch ermöglichen, das Werkstück in einer Folge von wiederholbaren
Adressenstellen mit einer Genauigkeit von weniger als einem Zehntel Mikrometer zu
positionieren. Dabei soll die adressierbare Bearbeitungsstation zwischen zwei Adressenstellen
auf einem mehr direkten Weg bewegt werden, um die Suchzeit zwischen des einzelnen
Adressen klein zu halten.
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Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß das Werkstück
auf einer Bearbeitungsstation befestigt wird, die in der Ebene, in welcher das Werkstück
positioniert werden soll, in zwei Koordinatenrichtungen bewegbar ist, und die zur
Positionierung des Werkstückes eine zweidimensionale Anordnung von Koordinatenpositioniermarken
aufweist, daß ein vergrößertes Abbild mindestens eines Teiles der Positioniermarkenanordnung
auf eine stationäre Abfühlstation projiziert, dort abgefühlt und in ein den abgefühlten
Koordinaten entsprechendes Ausgangssignal umgesetzt wird, daß die abgefühlten Koordinaten
mit den Koordinaten einer Bezugsadresse
verglichen und in ein
Fehlersignal umgesetzt werden,und daß das Werkstück und die Positioniermarkenanordnung
in Abhängigkeit von dem Fehlersignal zu der Bezugsadresse bewegt werden.
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Eine vorteilhafte Weitergestaltung der Erfindung besteht darin, daß
der das Abbild aufnehmende Teil der stationären Abfühlstation gegenüber dem auf
ihn projizierten Abbild in mindestens eine der beiden Koordinatenrichtungen zur
Interpolation der betreffenden Koordinate der abgefühlten Adresse derart bewegt
wird, daß das in Abhängigkeit voa dem Fehlersignal bewegte Werkstück gegenüber einem
3ezugspunkt, der hinsichtlich der Koordinaten gegenüber der stationären Abfühlstation
stationär ist, zu der interpolierten abgefühlten Adresse geführt wird.
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Eine weitere Ausgestaltung der Erfindung ist dadurch gekennzeichnet,
daß ein der Bezugsadresse entsprechender Teil des Werkstückes und ein mit diesem
auszurichtendes stationäres Muster abgebildet werden, daß die Abbilder des Werkstückes
und des stationären Musters einander überlagert werden, und daß der das Abbild aufnehmende
Teil der stationären Abfühlstation in mindestens eine der beiden Koordiatenrichtungen
gegenüber den auf ihn projizierten Positioniermarken derart bewegt wird, daß der
der Bezugsadresse entsprechende Teil des Werkstückes zur genauen Ausrichtung der
bei#en Abbilder in den jeweiligen Koordinatenrichtungen und zur Interpolierung der
jeweiligen Koordinate der abgefühlten Adresse interpoliert wird derart, daß das
in Abhängigkeit von dem abgefühlten Ausgangssignal bewegte Werkstück zu der interpolierten
abgefühlten Adresse geführt wird.
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Im folgenden wird die Erfindung anhand eines in der Zeichnung dargestellten
Ausführungsbeispieles näher erläutert. Es zeigen: Fig. 1 eine perspektivische Ansicht
einer für die Anwendung der Erfindung geeigneten im schrittweisen Reihenbetrieb
arbeitenden Maskenausrichtvorrichtung, Fig. 2 eine teilweise in Blockform dargestellte
schematische perspektivische Ansicht der Maskenausrichtungsvorrichtung nach Fig.
1, Fig. 3 eine vergrößerte Ansicht des Ausschnittes 3-3 in Fig. 2, Fig. 4 den Verlauf
der Ausgangsspannung der Abfühlvorrichtung bei einer Bewegung der Bearbeitungsstation
in X-Richtung, Fig. 5 den Verlauf des aufgearbeiteten Ausgangssignales nach Fig.
4, Fig. 6 den Verlauf des Ausgangssignales der Abfühlstation im verriegelten Zustand,
wenn die Abfühlstation die Bearbeitungsstation an der Bezugsadresse verriegelt,
Fig. 7 den Verlauf der Signalintensität I der Grenzmarken-Abfühlvorrichtung in Abhängigkeit
von dem Abstand d vom Rand und Fig. 8 ein Schaltbild der Grenzmarken-Abfühlvorrichtung
für die Grenzmarken in X- und Y-Richtung.
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In den Fig. 1 und 2 ist eine im schrittweisen Reihenbetrieb arbeitende
Maskenausricht- und -belichtungsmaschine 20 dargestellt, welche die Merkmale der
vorliegenden Erfindung enthält. Die Maschine 20 umfaßt eine Basis 22 und eine Präzisions-Bearbeitungsstation
24 auf der Basis 22, welche ein Werkstück 30 aufzunehmen und dieses in einer horizontalen
Ebene #in zwei zueinander senkrechten Koordinatenrichtungen genau zu positionieren
vermag. Auf der Basis 22 befindet sich weiterhin eine optische Einheit 26.
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Für die Bewegung d!r Werkstücke 30, beispielsweise Halbleiterscheiben,
zu Bearbeitungsstation 24 ist eine automatische Werkstück-Hantiervorrichtung 28
vorgesehen.
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Die Basis 22 enthält einen großen Granitblock 10, dessen Oberseite
als Bezugsfläche mit einer Genauigkeit von einem Mikrometer bearbeitet worden ist
und der eine senkrecht durchgehende zylindrische Bohrung für die Aufnahme einer
optischen Abfühlvorrichtung 46 aufweist.
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Beim Betrieb führt die Bedienungsperson ein Werkstück 30, beispielsweise
eine Halbleiterscheibe, in die Maschine 20 ein, welche dann das Werkstück auf der
Bearbeitungsstation 24 genau positioniert. Die Bedienungsperson bewegt ein Mikroskop
105 der optischen Einheit 26 in eine geeignete Lage zur Betrachtung einer Maske
98, die mit einer adressierten Stelle der Halbleiterscheibe 30 optisch genau ausgerichtet
werden soll, um die Halbleiterscheibe 30 einer Belichtung mit dem Muster der Maske
98 auszuse-zen.
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Die Bedienungsperson wählt dazu einen Bezugsadressenteil der Halbleiterscheibe
30 aus, der das durch die Maske 98 projizierte Belichtungsmuster aufnehmen soll.
Mit der Bearbeitungsstation 24 ist je ein X- und Y-Servomotor 76, 77 verbunden,
der die Bearbeitungsstation 24 so bewegt, daß eine Positioniermarkenanordnung 45
der Bearbeitungsstation über die stationäre optische Abfühlvorrichtung 46
innerhalb
des Granitblocks 10 zur Ausrichtung gelangt. Die Bedienungsperson betrachtet dabei
die Halbleiterstelle an der Bezugsadresse, die von der optischen Einheit 26 beleuchtet
wird. Das Abbild der adressierten Stelle der Halbleiterscheibe wird auf die Rückseite
der Maske 98 projiziert, um das Abbild der Maske und das Abbild der adressierten
Stelle der Halbleiterscheibe zu überlagern.
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Die Bedienungsperson betrachtet die überlagerten Abbilder durch das
Mikroskop 105 und die Maske 98 und betätigt die Steuereinrichtungen so, daß die
Lage der Abfühlvorrichtung 46 etwas verändert und damit die Lage der Bearbeitungsstation
24 geringfügig korrigiert wird, um das Muster auf der Halbleiterscheibe 30 mit dem
Muster der Maske 98 genau auszurichten. Gleichzeitig wird auch die adressierte Stelle
auf Null bezogen, indem ein interpolierter Wert für die X- und Y-Koordinaten der
adressierten Stelle der Halbleiterscheibe 30 erzeugt wird.
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Anschließend schiebt die Bedienungsperson das Mikroskop 105 zur Seite
und eine Projektionslichtquelle 29 in die richtige Lage in der optischen Einheit
26. Die Halbleiterscheibe 30 wird mit dem Abbild der Maske 98 durch eine Projektionslinse
belichtet und dann an die nächste Belichtungsadresse bewegt. Hierzu führt die Bedienungsperson
die nächste Adresse in eine Programmiervorrichtung 73 ein, welche die Bearbeitungsstation
24 an die nächste Bezugsadresse führt, die in dem vorausgegangenen Ausrichtungsschritt
auf Null bezogen worden war. Die Halbleiterscheibe wird nacheinander in diesem schrittweisen
Reihenbetrieb belichtet, bis die Bedienungsperson oder die Programmiervorrichtung
73 die Hantiervorrichtung 28 betätigt, um die belichtete Halbleiterscheibe zu entfernen
und eine neue Halbleiterscheibe in die richtige Lage auf der Bearbeitungsstation
24 zu bringen.
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In Fig. 2 ist die adressierbare Werkstuck-Positioniervorrichtung mit
den Merkmalen der Erfindung genauer dargestellt. Die Halbleiterscheibe 30 ist an
der in der X-Y-Ebene bewegbaren Bearbeitungsstation 24 befestigt, die eine mit ihr
bewegbare Positioniermarkenanordnung 45 trägt. Unterhalb der Positioniermarkenanordnung
45 ist die stationäre Abfühlvorrichtung 46 innerhalb der zylindrischen Bohrung des
Granitblockes 10 angeordnet. Das Licht einer Lampe 47 wird durch eine Linse 48 auf
einen Strahlenteiler 49 gerichtet, der es durch eine Vergrößerungslinse 51 auf einen
relativ kleinen Bereich der X-Y-Positioniermarken lenkt.
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Das Abbild der Positioniermarkenanordnung 45 wird über die Vergrößerungslinse
51 durch den Spiegel des Strahlenteilers 49 projiziert und auf eine Abfühlfensterplatte
52 fokussier-», welche eine Anzahl Mustererkennungsfenster 53 für die Wiedererkennung
der X- und Y-Positioniermarken aufweist. Die Linse 51 vergrößert beispielsweise
dreizehnfach, so daß das auf die Fensterplatte 52 projizierte Abbild der Positioniermarken
dreizehnmal so groß ist wie in Wirklichkeit. Die Fensterplatte 52 enthält eine Anzahl
verschiedener Mustererkennungsfenster 53, die das Licht auf mit ihnen ausgerichtete
Stecklinsen 54 gelangen lassen. Die Stecklinsen 54 fokussieren das Licht auf eine
entsprechende Anzahl von PIN-Dioden 55, die auf einer Diodenplatte 56 der Abfühlvorrichtung
46 angeordnet sind.
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Für das Abfühlen der X-Koordinaten der Positioniermarkenanordnung
45 sind zwei Paare 57 der Dioden 55 vorgesehen und in gleicher Weise zwei Paare
58 von Dioden 55 für das Abfühlen der Y-Koordinaten. Die beiden Dioden jedes Diodenpaares
57, 58 sind mit entgegengesetzter Polarität parallel geschaltet, um ein Ausgangssignal
mit dem Wert Null zu erreichen, wenn beide Dioden eines
Diodenpaares
gleich stark beleuchtet werden.
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In Fig. 3 ist eine Anordnung von X- und Y-Positioniermarken 59 dargestellt,
die im vorliegenden Fall aus quadratischen Punkten einer Chromschicht auf einer
gebrannten Silikaplatte 61 bestehen. Eine Grenzmarke 62 aus der Chromschicht umrandet
die Anordnung der X- und Y-Positioniermarken 59. Die Marken 59 sind in Zeilen und
Spalten angeordnet, wobei die X-Koordinaten den Spalten und die Y-Koordinaten den
Zeilen entsprechen.
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Auf diese Weise ist jede adressierbare Stelle der Bearbeitungsstation
24 durch eine bestimmte Markierung 59 festgelegt, deren Spaltennummer der X-Koordinate
und deren Zeilennummer der Y-Koordinate entspricht. In dem Ausführungsbeispiel sind
die Marken 59 quadratische Punkte mit zehn Mikrometer Kantenlänge und 20 Mikrometer
Mittenabstand sowohl in der X- als auch in der Y-Richtung.
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Die Spalten- und Zeilen-Mustererkennungsfenster 53 in der Fensterplatte
52 bestehen aus zwei Arten. Die erste Fensterart ist ein durchsichtiges Rechteck
mit 100 x 120 Mikron Kantenlänge und entspricht einer Unteranordnung von 5 x 6 Marken
59. Sie tritt paarweise mit einer zweiten Fensterart auf, die aus einer Anordnung
von acht langgestreckten, parallelen schlitzartigen Fenstern besteht, die eine Breite
von 10 Mikrometer und einen Mittenabstand von 20 Mikrometer aufweisen und von denen
sechs eine Länge von 160 Mikrometer und zwei eine Länge von 120 Mikrometer besitzen,
so daß jeweils acht bzw.
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sechs Marken 59 durch jeden Fensterschlitz der Anordnung betrachtet
werden können. Auf diese Weise können durch die Fenster mit der Schlitzanordnung
60 Marken 59 beobachtet werden und durch die normalen rechteckigen Fenster 30 Marken
59. Die transparenten Bereiche beider Fensterarten haben jedoch die gleiche. Größe.
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Die Ausgangssignale der gegeneinander geschalteten Diodenpaare 57,
58 sind Null, wenn die parallel zu den schlitzartigen Fenstern der Mustererkennungsfenster
53 ausgerichteten Marken 59 zur Hälfte von dem undurchsichtigen Abstand zwischen
zwei schlitzartigen Fenstern abgedeckt sind und der eine Rand jedes schlitzartigen
Fensters mit der Mittellinie der jeweils betrachteten Punktspalte bzw.
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Reihe zusammenfällt. Die Längsrichtung der schlitzartigen Fenster
liegt dabei senkrecht zu der Abfühlrichtung.
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Wie in Fig. 4 dargestellt, erzeugt jedes Diodenpaar 57, 58 einen dreieckförmigen
Ausgangsstrom 50, 60, wenn die Bearbeitungsstation 24 bewegt wird. Weiterhin sind
die den Diodenpaaren 57, 58 entsprechenden Fensterpaare in der Fensterplatte 52
in der jeweiligen X- oder Y-Richtung gegenüber den anderen Fensterpaaren um ein
Viertel der Periode der auf die Fensterplatte 52 projizierten vergrößerten Marken
59 versetzt, d.h. um 5 Mikrometer. Diese Versetzung um 258 verursacht eine Phasenverschiebung
der elektrischen Signale 50 und 60 um 900. Wenn dabei die Bearbeitungsstation 24
in der positiven X-Richtung bewegt wird, eilt das Ausgangssignal 50 des ersten Diodenpaars
57 dem Ausgangssignal 60 des zweiten Diodenpaars 57 voraus, während das Ausgangssignal
60 dem Ausgangssignal 50 vorauseilt, wenn die Bearbeitungsstation 24 in der negativen
X-Richtung bewegt wird. Jeder Zyklus der Ausgangssignale 50, 60 entspricht dabei
dem Zählen einer bestimmten Spalte bzw. Zeile.
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In ähnlicher Weise sind die beiden Diodenpaare 58 und die zugehörigen
Mustererkennungsfenster 53 auf der Diodenplatte 56 bzw. der Fensterplatte 52 um
1/4 des vergrößerten Abstandes der auf die Fensterplatte 52 projizierten Marken
in der Y-Richtung versetzt, um eine 900 Phasenverschiebung der Ausgangssignale ähnlich
der
in Fig. 4 dargestellten zu erzielen.
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Die Ausgangssignale der Diodenpaare 57, 58 werden über Verstärker
und Entzerrer 55, 56 geführt, welche das dreieckförmige Ausgangssignal 50, 60 in
das Rechtecksignal 50', 60' gemäß Fig. 5 umwandeln. Auf diese Weise wird für jede
auf der Fensterplatte 52 abgefühlte Zeile bzw. Spalte von Positioniermarken ein
Rechteckimpuls erzeugt. Wenn die Ausgangssignale 50', 6#' der Verstärker und Entzerrer
65, 66 von einem ersten Diodenpaar denjenigen eines zweiten Diodenpaares vorauseilen,
was einer Bewegung in positiver X- oder Y-Richtung entspricht, werden zwei Zähler
68, 69 für die X- bzw. Y-Koordinaten so umgeschaltet, daß sie die Ausgangssigna
e der Verstärker 65, 66 für die Spalten bzw. Zeilen in positiver Richtung zählen,
wohingegen die Zähler 68, 69 in die negative Zählrichtung umgeschaltet werden, wenn
die Ausgangssignale 50' des ersten Diodenpaars den Ausgangssignalen 60' des zweiten
Diodenpaars nacheilen.
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Die Ausgangssignale der X- und Y-Zähler 68, 69 werden an Fehlerschaltungen
71, 72 für den Vergleich mit den X-und Y-Koordinaten einer Bezugsadresse von der
Programmiervorrichtung 73 weitergeleitet, die von der Bedienungsperson programmiert
worden ist, um vorbestimmte Adressen von Werkstückstellen auszuwählen. Das Fehlerausgangssignal
von den Fehlerschaltungen 71, 72 wird an entsprechende Servoverstärker 74, 75 weitergeleitet,
deren Ausgang an entsprechende X- bzw. Y-Servomotoren 76, 77 angeschlossen ist,
mit denen die Bearbeitungsstation 24 so verschoben werden kann, daß das Fehlersignal
am Ausgang der Fehlerschaltungen 71, 72 auf Null zurückgeht.
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Die Programmiervorrichtung 73 verfolgt jeweils die gezählte Anzahl
von Zeilen und Spalten sowie die verbleibende Anzahl von Zeilen und Spalten, um
die adressierten X- und Y-Koordinaten zu erreichen, und steuert auch die Drehzahl
der Servomotoren 76, 77 für die Bewegung der Bearbeitungsstation 24, um sicherzustellen,
daß vorbestimmte Grenzen für die Beschleunigung und Abgrenzung nicht überschritten
werden. Im Ausführungsbeispiel steuert die Programmiervorrichtung 73 die Beschleunigung
und Abbremsung auf ein Zehntel der Erdbeschleunigung. Wenn weiterhin die Fehlerzählung
eine Zeile bzw.
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Spalte vor der jeweiligen ausgewählten Koordinate der adressierten
Stelle angelangt ist, betätigt die Programmiervorrichtung 73 die Schalter Sx bzw.
Sy, , um mit den Servomotoren 75, 76 den Anhaltepunkt für die entsprechenden X-
und Y-Positionen auf einen Kreuzungspunkt 83 des Ausgangssignals 50 der Diodenpaare
57, 58 zu verriegeln, wie er bei 83 in den Fig. 4 und Fig. 6 dargestellt ist.
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Die Ausgangssignale zweier dann angeschlossener Servoverstärker 81,
82 gelangen an den Eingang der Servoverstärker 74, 75, so daß die Servomotoren 76,
77 am Kreuzungspunkt 83 verriegelt werden. Der Kreuzungspunkt 83 entspricht dem
Mittelpunkt eines 10 Mikrometer breiten Bereiches auf dem Werkstück sowohl in X-
als auch in Y-Richtung. Er ist genau festgelegt mit einer Wiederholgenauigkeit von
1/10 Mikrometer. Auf diese Weise kann die Bearbeitungsstation 24 so prograilimiert
werden, daß sie zu einer Anzahl adressierbarer Stellen auf der Oberfläche des Werkstückes
30 bewegt werden kann, die sowohl in X- als auch in Y-Richtung mit einem Abstand
von 20 Mikrometer angeordnet sind. Weiterhin können diese adressierten Stellen wiederholt
mit einer Genauigkeit von einem Zehntel Mikrometer erreicht werden.
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Die ausgewählten Adressenstellen können auch interpoliert werden,
d.h. um plus oder minus 20 Mikrometer sowohl in der X- als auch in der Y-Richtung
gegenüber einem festen Punkt auf dem Granitblock 10 verschoben werden, indem eine
relativ geringe Verlagerung der Abfühlvorrichtung 46 gegenüber dem Granitblock 10
durchgeführt wird. Hierzu ist die Abfühlvorrichtung 46 zusammen mit der Fensterplatte
52 sowohl in X- als auch in Y-Richtung mit Hilfe von Servomotoren 84, 85 verschiebbar,
welche von den Ausgangssignalen zweier Fehlerschaltungen 86, 87 gesteuert werden.
Die Ausgangssignale zweier linear veränderbarer Differentialtransformatoren 88,
89 für eine Verschiebung in X- bzw. Y-Richtung, die zum Feststellen von Verschiebungen
der Abfühlvorrichtung 46 in X- und Y-Richtung fest auf den Granitblock 10 zurückbezogen
sind, werden an die Fehlerschaltungen 86, 87 weitergeleitet, um einen Vergleich
mit Bezugssignalen durchzuführen, die unter der Steuerung der Bedienungsperson von
X- bzw. Y-Bezugspotentiometern 91, 92 abgenommen werden. Die Fehlersignale der Fehlerschaltungen
86, 87 werden über Servoverstärker 93, 94 den Servomotoren 84, 85 zugeführt.
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Auf diese Weise ermöglichen die Potentiometer 91, 92 eine Interpolation
der ausgewählten Adressenkoordinaten X und Y auf weniger als 1/10 Mikrometer.
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In dem anhand Fig. 2 beschriebenen Ausführungsbeispiel kann die Bedienungsperson
über die Potentiometer 91, 92 Einfluß auf die Interpolation nehmen. In einem vollautomatisierten
Werkstückspositioniersystem wird jedoch vorteilhafterweise das Bezugssignal für
die Interpolation der Adressenstelle zum Vergleich mit den Ausgangssignalen der
Differenztransformatoren &8, 89 durch die Programmiervorrichtung 73 ausgewählt.
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Die von der Bedienungsperson gesteuerte Interpolation der X- und Y-Koordinaten
der adressierten Stelle der Halbleiterscheibe 30, wie sie durch die Potentiometer
91 und 92 ermöglicht wird, ist besonders vorteilhaft bei der Verwendung in einer
im schrittweisen Reihenbetrieb arbeitenden Halbleiterscheiben-Belichtungsmaschine
zum Ausrichten der photographischen Maske 98 mit dem Muster an einer ausgewählten
Adressenstelle 99 auf der Halbleiterscheibe 30. Hierzu wird die adressierte Stelle
auf der Oberfläche der Halbleiterscheibe 30 durch eine Lampe 101 beleuchtet, deren
Licht über eine Linse 102, einen Strahlenteilerspiegel 103 und eine Linse 104 auf
die adressierte Stelle 99 der Halbleiterscheibe 30 gelangt.
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Das Abbild der adressierten Stelle 99 auf der Oberflächer der Halbleiterscheibe
30 wird über die Linse 104 auf die Unterseite der Maske 98 geworfen. Es kann dort
durch die Maske 98 hindurch mit Hilfe des Mikroskops 105 beobachtet werden. Auf
diese Weise kann die Bedienungsperson durch das Mikroskop 105 einen kleinen Teil
106 der Maske 98 zusammen mit einem kleinen überlagerten Teil 99 der Halbleiterscheibe
30 betrachten.
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Wenn die Halbleiterscheibe 30 bereits einige Bearbeitungsschritte
hinter sich hat, kann an der Stelle 99 der Halbleiterscheibe 30 bereits ein Schaltungsmuster
zusammen mit dem entsprechenden Maskenmuster in dem Mikroskop 105 betrachtet werden.
Diese überlagerten Abbildungsmuster können durch d-ie Bedienungsperson durch Einstellen
der Potentiometer 91 und 92 in genaue Übereinstimmung gebracht werden, wobei der
Fehler geringer ist als 1/10 Mikrometer. Dies wird dadurch erreicht, daß die Maske
98 hinsichtlich der X- und Y-Koordinaten gegenüber dem stationären Granitblock 10
stationär ist, und die beleuchtete Stelle 99 auf der Halbleiterscheibe 30 relativ
zur Maske 98 und dem Granitblock 10 bewegt wird,
wobei die Bewegung
der Halbleiterscheibe 30 durch die Servomotoren 76, 77 und die zugehörigen Servoschleifen
mit der Bewegung der Abfühlvorrichtung 46 verriegelt wird.
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Die interpolierte und adressierte Halbleiterscheibe 30 wird dann durch
Projektion des Maskenabbildes über die Linse 104 mit dem Muster der Maske 98 belichtet.
Die interpolierte oder auf Null bezogene Adresse ist dann ein Bezugspunkt, von welchem
die Programm:#ervorrichtung 73 die Bearbeitungsstation 24 automatisch schrittweise
auf andere vorbestimmte Adressenstellen positioniert, die auf der Halbleiterscheibe
einen von der Größe des Abbildes der Maske auf der Halbleiterscheibe abhängigen
Abstand aufweisen. Dieses im schrittwe:#sen Reihenbetrieb arb#eitende Belichtungssystem
ermöglicht es, geringfügige Anpassungen bei den Adressenstellen vorzunehmen, um
kleine Positionierfehler der Halbleiterscheibe 30 auf der Bearbeitungsstation 24
durch die automatische Bantiervorrichtung 28 beim Zuführen der Halbleiterscheibe
30 zu kompensieren.
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Wie aus Fig. 2 ersichtlich, wird das Abbild der Positioniermarkenanordnung
45 in einer solchen Weise auf die Fensterplatte 52 projiziert, daß die Y-Bezugslinie,
die in Fig. 2 bei der Positioniermarkenanordnung 45 vorne liegt, bei der Fensterplatte
52 hinten zu liegen kommt. In ähnlicher Weise wird die X-Bezugslinie, die bei der
Markenanordnung 45 auf der linken Seite liegt, bei der Fensterplatte 52 auf die
rechte Seite projiziert. Zum Abfühlen der Y- und X-Grenzmarken 62 sind Grenzmarkenfenster
114, 115 und entsprechende Dioden 116, 117 vorgesehen. Dabei fühlt das Fenster 114
die Y-Grenzmarke und das Fenster 115 die X-Grenzmarke ab.
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Das Ausgangssignal der Dioden 116, 117 wird gemäß#der Fig. 7 und 8
über einen Verstärker 118 an eine Schwellwertschaltung 119 gegeben, wo es mit einem
von einem Bezugspotentiometer 120 gelieferten Bezugssignal verglichen wird und zum
Feststellen eines Grenzüberganges ein entsprechendes Ausgangssignal an die Programmiervorrichtung
73 liefert, welcher ein 16 Bit-Mikroprozessor vom Typ 9900 sein kann.
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In Fig. 7 ist der Ausgangssignalpegel I der Dioden 116, 117 als Funktion
der Lage des betreffenden Fensters gegenüber dem daraufprojizierten Markenabbild
dargestellt. Wenn das Grenzmarkenfenster sich vollständig innerhalb des Felces mit
der zweidimensionalen Punktanordnung befindet, liefern die Punkte einen Reflexionsgrad
von ungefähr 25%, so daß der Signalpegel I 25% des Maximalwertes besitzt. Wenn jedoch
das Abbild so verschoben wird, daß ein Teil der Grenzmarke auf das Fenster projiziert
wird, weist die Grenzmarke einen Reflexionsgrad von 100% auf und der Signalpegel
I steigt, wie in Fig. 7 gezeigt, auf seinen Maximalwert an. Wenn die Grenzmarke
das Grenzmarkenfenster vollständig überdeckt, befindet sich der Signalpegel I bei
100%. Die Schwellwertschaltung 119 ist so eingestellt, daß ein Signalpegel von 5/8
des Maximalwertes ein den Grenzübergang anzeigendes Ausgangssignal auslöst.
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Wenn die Maschine eingeschaltet wird, bewirkt die Programmiervorrichtung
73, daß die Bearbeitungsstation 24 in einer solchen Weise verlagert wird, daß die
Grenzmarken abgefühlt werden und daß die Spalten- und Zeilen-Zählung in den entsprechenden
X- Und Y-Zählern auf die Grenzmarken zurückbezogen werden. Das Erreichen der X-Grenzmarke
wird von der Programmiervorrichtung 73 dadurch festgestellt, daß die Bearbeitungsstation
24 unter
Beibehaltung einer anfänglichen Y-Zeilenadresse in der
negativen X-Richtung verschoben wird, bis durch das Grenzmarken fenster 115 und
die Diode 117 ein Grenzmarkenabbild festgestellt wird. Das Schwellwertausgangssignal
wird an die Programmiervorrichtung 73 weitergeleitet, um den Ausgang des Spaltenzählers
auf die entsprechende X-Grenzmarke zurückzubeziehen. Die Programmiervorrichtung
73 verschiebt jetzt die Bearbeitungsstation 24 unter Beibehaltung der anfänglichen
Y-Zeilenadresse in der positiven X-Richtung, bis der Zähler bis zum Mittelpunkt
der Bearbeitungsstation 24 gezählt hat. Dann veranlaßt die Programmiervorrichtung
73 die Bearbeitungsstation 24 unter Beibehaltung der mittleren X-Spaltenadresse
in der negativen Y-Richturg weiterzugehen, bis das Grenzmarkenfenster 114 und die
Diode 116 die Y-Grenzmarke erfaßt. Das Ausgangssignal der Schwellwertschaltung wird
wieder zu der Programmiervorrichtung zurückgegeben und setzt die Zeilenzählung an
der Y-Grenzmarke auf Null.
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Wenn das Diodenpaar 57, wie zuvor anhand der Fig. 4 und 6 beschrieben,
mit Hilfe des analogen Kreuzungspunkts 83 die Vorrichtung auf die X-adressierten
Marken verriegelt, verwendet es dasjenige Diodenpaar, das am weitesten von der entsprechenden
Abfühidiode 116 für die Y-Grenzmarke entfernt ist, um ein Abfühlen der Grenzmarke
und ein Anhalten der Bewegung der Bearbeitungsstation zu ermöglichen, während diese
an der gewünschten adressierten Spalte verriegelt wird. In ähnlicher Weise ist das
für die Verriegelung der adressierten Zeilenmarken verwendete Diodenpaar 58 aus
den gleichen Gründen dasjenige, das am weitesten von der Abfühldiode 117 für die
X-Grenzmarke entfernt ist.
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Die beschriebene in der X- und Y-Richtung adressierbare Werkstück-Positioniervorrichtung
hat insbesondere in einer Maskenausricht- und Belichtungsmaschine den Vorteil, daß
das Werkstück schrittweise an verschiedene adressierbare Stellen bewegt werden kann,
die bis auf einen Zehntel-Mikrometer genau bestimmt werden können. Das schrittweise
Weiterbewegen des Werkstückes von einer adressierbaren Stelle zur nächsten erfolgt
auf dem kürzesten Weg zwischen den beiden adressierten Stellen und wird durch eine
gemeinsame zweidimensionale Anordnung von Positioniermarken genau bestimmt, wodurch
die Suchzeit verringert und der Durchsatz der Maschine erhöht wird, während die
Genauigkeit der adressierten Stellen durch das genaue Positionieren von X- und Y-Koordinatenmarken
genau bestimmt wird, ohne daß die Genauigkeit von dem Grad der Orthogonalität kostspieliger
Lagervorrichtungen abhängt und ohne daß genau konstantzuhaltende Klimakammern für
Laser-Vorrichtungen erforderlich wären.
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Unter einer zweidimensionalen Anordnung" von Koordinaten-Positioniermarken
soll jede Anordnung von Marken in zwei Richtungen verstanden werden. Während also
eine Reihe paralleler Linien eine eindimensionale Anordnung ist, wäre eine Reihe
von Punkten, die wie in Fig. 3 in zwei Richtungen hantereinander angeordnet sind,
genauso eine zweidimensionale Anordnung, wie eine Reihe konzentrischer Ringe mit
einer Reihe radialer Speichen.