DE2917698C2 - Piezoelektrische Vorrichtung - Google Patents
Piezoelektrische VorrichtungInfo
- Publication number
- DE2917698C2 DE2917698C2 DE2917698A DE2917698A DE2917698C2 DE 2917698 C2 DE2917698 C2 DE 2917698C2 DE 2917698 A DE2917698 A DE 2917698A DE 2917698 A DE2917698 A DE 2917698A DE 2917698 C2 DE2917698 C2 DE 2917698C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- aluminum
- electrodes
- thickness
- piezoelectric
- amorphous
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 53
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 49
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 5
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- OTZGYUUQQRXJMY-UHFFFAOYSA-N $l^{2}-bismuthanylidenesilicon Chemical compound [Bi]=[Si] OTZGYUUQQRXJMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 11
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 7
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 description 5
- 229910000830 fernico Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000003679 aging effect Effects 0.000 description 3
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 3
- JSILWGOAJSWOGY-UHFFFAOYSA-N bismuth;oxosilicon Chemical compound [Bi].[Si]=O JSILWGOAJSWOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MXRIRQGCELJRSN-UHFFFAOYSA-N O.O.O.[Al] Chemical compound O.O.O.[Al] MXRIRQGCELJRSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000927 Ge alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N alumanylidynesilicon Chemical compound [Al].[Si] CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 aluminum-germanium Chemical compound 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
- H03H3/007—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
- H03H3/08—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of resonators or networks using surface acoustic waves
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/42—Piezoelectric device making
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine piezoelektrische Vorrichtung mit einem Körper aus piezoelektrischem
Material, der mit Aluminiumfilmelektroden versehen und in einem schützenden Gehäuse untergebracht ist.
Derartige Vorrichtungen werden z. B. als Resonatoren für Frequenzsteuerung und in Frequenzfiltern verwendet.
Von besonderer Bedeutung bei piezoelektrischen Vorrichtungen, die Aluminiumelektroden enthalten und
als Resonatoren verwendet werden, ist die Tatsache, daß sich die Schwingungsfrequenz der Vorrichtungen
langsam mit der Zeit ändert. Aluminium ist ein sehr reaktives Material, und es oxidiert langsam unter den in
den meisten in der Praxis verwendeten Umhüllungen vorherrschenden Umgebungsbedingungen. Die Dicke
der Aluminiumschicht, die auf Aluminium nach Oxidation an der Luft bei Zimmertemperatur gebildet wird, ist
mehrere Nanometer. Üblicherweise wird angenommen, daß die Dicke d dieser Schicht (in Ä ausgedrückt) durch
eine Gleichung der Form </=50 (1 — exp (tfr)) gegeben
wird, wobei t die Zeit darstellt, die vergangen ist, während
τ die charakteristische Zeit ist, die etwa 1 Monat bei Zimmertemperatur ist Die resultierende Zunahme
der Dicke des Oxidfilms führt eine langsame Änderung der Schwingungsfrequenz der Vorrichtung herbei. In
der britischen Patentschrift 11 85 819 ist ein Verfahren zum Beaufschlagen einer piezoelektrischen Vorrichtung
mit einer Masse beschrieben, um die Schwingungsfrenuenz derselben einzustellen, dadurch, daß eine Aluminiumelektrode
eloxiert wird, damit mindestens ein Teil ihrer äußeren Fläche in Aluminiumoxid umgewandelt
wird, wodurch die Vorrichtung mit der zugesetzten Masse an Sauerstoff, die chemisch durch den Eloxiervorgang
kombiniert wird, beladen wird.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Stabilität derartiger piezoelektrischer Vorrichtungen zu verbessern,
was sich u. a. in einer geringeren Änderung der Schwingungsfrequenz äußert
Diese Aufgabe wird bei einer piezoelektrischen Vorrichtung eingangs erwähnter Art gemäß der Erfindung
dadurch gelöst, daß die Oberflächen der Elektroden, die nicht mit dem piezoelektrischen Körper in Kontakt stehen,
mit einer Schicht aus amorphem Aluminiumoxid mit einer Dicke von mindestens 10 nm versehen sind,
und daß das Alumrniummetall unter der amorphen Aluminiumoxidschicht
eine Dicke von mehr als 40 nm aufweist
Es wurde gefunden, daß das Vorhandensein des amorphen Aluminiumoxids die Änderungsgeschwindigkeit
der Schwingungsfrequenz im Vergleich zu der Änderungsgeschwindigkeit der Schwingungsfrequenz einer
ähnlichen Vorrichtung, bei der keine amorphe AIuminiumoxidschicht auf der freigelegten Oberfläche des
Aluminiums gebildet ist, wesentlich herabsetzt. Im allgemeinen weisen die amorphen Alurr.;niumoxidschichten
eine Dicke von 10 bis 50 nm auf.
Das piezoelektrische Material kann z. B. ein natürlicher Kristall, wie Quarz, ein synthetischer Kristall, wie
Lithiumniobat oder Wismutsiliziumoxid, oder ein piezoelektrisches, keramisches Material, wie Blei-Zirkonat-Titanat,
sein.
Eine piezoelektrische Vorrichtung nach der Erfindung kann durch eiiv Verfahren hergestellt werden, das
darin besteht, daß Aluminiumfilmelektroden auf einem Körper aus elektrischem Material erzeugt werden, der
Körper mit den Aluminiumelektroden auf eine Temperatur zwischen 250 und 550° C in einer freien Sauerstoff
enthaltenden Atmosphäre erhitzt wird, um eine amorphe Aluminiumoxidschicht mit einer Dicke von mindestens
10 nm auf den nicht mit dem Körper in Kontakt stehenden Oberflächen der Elektroden zu bilden, und
der piezoelektrische Körper mit den Elektroden in einem schützenden Gehäuse eingeschlossen wird, wobei
die anfängliche Dicke der Aluminiumfilmelektroden genügend ist, damit eine Dicke von mehr als 40 nm von
Aluminiummetall unter den amorphen Aluminiumoxidschichten zurückbleibt. Die Filmelektroden werden üblicherweise
durch Aufdampfen oder Zerstäuben von Aluminium mit einer Reinheit von mindestens 99,99%
hergestellt. Der Magnesiumgehalt der Aluminiumelektroden muß geringer als 0,1 Gew.-°/o sein, um zu vermeiden,
daß eine kristalline Schicht aus Aluminiumoxid
während der Oxidation der freigelegten Oberflächen der Aluminiumelektroden erzeugt wird. Die amorphe
Aluminiumoxidschicht kann dadurch gebildet werden, daß der piezoelektrische Körper mit den Aluminiumelektroden
auf eine Temperatur zwischen 350 und 4500C während 10 bis 5 Minuten in einer freien Sauerstoff
enthaltenden Atmosphäre erhitzt wird.
Wenn es erforderlich ist, die Zeit zu verkürzen, die für
die Bildung der amorphen Aluminiumoxidschicht benötigt wird, kann der piezoelektrische Körper mit den Aluminiumelektroden
auf eine Temperatur zwischen 400 und 550° C erhitzt werden, wobei Aluminium mit 0,07 bis
0,15 Gew.-% Si oder Ge verwendet wird, das als Inhibitor
für die Kristallisation des Aluminiumoxids dient, weil beim Fehlen eines solchen Inhibitors das durch Erhitzung
von Aluminium gebildete Aluminiumoxid in diesem Temperaturbereich kristallin sein kann.
Die amorphe Aluminiumoxidschicht dient als eine Sperre, die die Oxidationsgeschwindigkeit des Aluminiums
in der eingekapselten Vorrichtung wesentlich herabsetzt Während der Untersuchungen, die zu der Erfindung
geführt haben, hat sich ergeben daß die amorphen Aluminiumoxidschichten, die durch thermische Oxidation
hergestellt wurden, viel weniger permeabel als Aluminiumoxidschichten
gleicher Dicke waren, die durch Eloxierung von Aluminium erzeugt waren. Um die durch thermische Oxidation erzeugten Oxidschichten in
einem amorphen Zustand zu halten, muß die Oxidation bei Temperaturen unter 550° C durchgeführt werden. Es
wurde gefunden, daß kristalline Aluminiumoxidschichten eine viel größere Permeabilität als amorphe Aluminiumoxidschichten
aufweisen. Daher ist es notwendig, die Anwendung von Aluminium mit 0,1 Gew.-% oder
mehr Magnesium zu vermeiden, weil dadurch Kristallisation von Aluminiumoxid gefördert wird, wenn Aluminium
mit einer derartigen Menge an Magnesium auf eine Temperatur über 350° C erhitzt wird.
Bei akustischen Oberflächenwellenvorrichtungen ergibt
sich bei Anwendung der Erfindung der Vorteil, daß die Alterung, die an sich zu einer Änderung der
Schwingungtfrequenz führt, herabgesetzt wird, was wiederum zur Stabilisierung der Schwingungsfrequenz
beiträgt
Es wurde gefunden, daß bei akustischen Oberflächenwellenvorrichtungen
nach der Erfindung, deren piezoelektrische Körper durch Quarzkristalle gebildet werden,
die AltCTungsgeschwindigkeit ure einen Faktor 4 im Vergleich zu ähnlichen Vorrichtungen, bei denen die
Aluminiumelektroden nicht mit Aluminiumoxidschichten versehen waren, herabgesetzt ist. Ähnliche
Ergebnisse werden mit akustischen Oberflächenwellenvorrichtungen erzielt, bei denen das piezoelektrische
Material Lkhiumniobat oder Wismutsiliziumoxid war.
Bei anderen piezoelektrischen Vorrichtungen dient das amorphe Aluminiumoxid dazu, die elektrolytische
Zerstörung der Elektroden im wesentlichen Maße zu hemmen. Frequenzänderungen in Fernsehfiltern, bei deren
Herstellung Lithiumniobat oder Wismutsiliziumoxid verwendet wird, rufen keinen wesentlichen Effekt hervor,
aber wenn diese Vorrichtung mit Aluminiumelektroden hergestellt werden, die nicht passiviert sind und
in einem Wasser enthaltenden Gehäuse eingeschlossen werden, ist die Lebensdauer dieser Vorrichtung kürzer
als 300 Stunden. Es wurde gefunden, daß bei ähnlichen Fernsehfiltern mit Aluminiumelektroden, deren nicht
mit dem piezoelektrischen Körper in Kontakt stehende Oberflächen mit einer Schicht aus amorphem Aluminiumoxid
mit einer Dicke von mindestens 10 nm versehen
waren, der Wassergehalt der Umgebung innerhalb des Gehäuses der Vorrichtung vernachlässigbar war und
die Lebensdauer dieser Vorrichtungen mehr als 10 000 Stunden betrug.
Einige Ausführungsformen der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden im folgenden näher
beschrieben. Es zeigt
F i g. 1 schematisch und teilweise perspektivisch eine Ansicht eines Quarzkristalls mit einer Aluminiumfilmelektrodenstruktur,
F i g. 2 eine Draufsicht auf ein Gebilde, das aus dem Gebilde nach F i g. 1 und einem mit diesem verbundenen
Glashalter besteht,
F i g. 3 einen Schnitt durch das Gebilde nach F i g. 2 längs der Linie HI-III in Richtung der Pfeile,
F i g. 4 einen Schnitt durch eine piezoelektrische Vorrichtung, die dadurch hergestellt wird, daß ein schützendes
Gehäuse mit dem Gebilde nach F i g. 3 verbunden wird, wobei dieser Schnitt nach dem Schnitt F i g. 3 ähnlieh
ist, und
Fig.5 eine Seitenansicht eines Mqssenwellenquarzresonators
nach der Erfindung.
Ein 80 nm dicker Aluminiumfilm wurde auf eine 1 mm dicke AT-geschnittene Quarzplatte t aufgedampft, wobei
als Ausgangsmaterial Aluminiumdraht mit einer Reinheit von 99,99% und mit 0,002 Gew.-% Magnesium
so verwendet wurde. Ein Elektrodenmuster einer Oberflächenwellenvorrichtung
wurde auf der Quarcplatte 1 dadurch erzeugt, daß der Aluminiumfilm normalen photolithographischen
Vorgängen unterworfen wurde. Dieses Elektrodenmuster bestand aus interdigitalen Eingangselektroden
2 und 3, einem Abschirmstreifen 4 und interdigitalen Ausgangselekwoden 5 und 6 (F i g. 1).
Die Quarzplatte 1 wurde dann mit einem vernickelten Fernico-Halter 7 mit Hilfe eines mit Silber beladenen
Epoxydharzes (Epo-Tek Typ H 31) 8 verbunden, wobei das Elektrodenmuster freigelassen wurde (F i g. 2J. Die
Elektroden und der Abschirmstreifen wurden elektrisch mit Metallstiften 9 des Halters 7 mit Hilfe von Aluminiumdrähten
10 verbunden, wobei die Verbindungen durch ein Ultraschallbindeverfahren hergestellt wurden.
Die Metallstifte 9 werden gegen den Halter 7 mit Hilfe nicht dargestellter Glashülsen isoliert.
Das Gebilde nach F i g. 2 wurde dann an der Luft auf 400° C während 10 Minuten erhitzt. Diese Wärmebehandlung
ergab eine 250 μπι dicke amorphe Schicht 11
aus Aluminiumoxid auf den nicht mit der Quarzplatte 1 in Kontakt stehenden Aluminiumoberflächen (Fig.3).
Der Deutlichkeit halber sind die Aluminiumdrähte 10 in
Fig.3 nicht dargestellt. Das Gebilde wurde gekühlt, und eine Aluminiumbuchse 12 wurde in einer trockenen
Stickstolfatmosphäre mit dem Metallhalter 7 mit Hilfe
einer Schicht 13 aus einem mit Silber behdenen Epoxydharz (Epo-Tek Typ H 31) verschmolzen (F ig. 4).
Es wurde gefunden, daß bei akustischen Oberflächenwellenvorrichtungen
von dem in der Zeichnung dargestellten Typ, die Schwingungsfrequenzen von 170 MHz
aufwiesen und bei 50°C betrieben wurden, sich die Schwingungsfrequenz um 3 ppm in den ersten zwei Wochen
nach der Herstellung und um noch 2 ppnV während der nächstfolgenden zehn Wochen änderte. Ähnliche
Vorrichtungen, bei denen das freigelegte Aluminium nicht mit einer amorphen Aluminiumoxidschicht durch
thermische Oxidation versehen worden war, wiesen Änderungen in der Schwingungsfrequenz von 12 ppm
während der ersten zwei Wochen und von 8 ppm in den nächstfolgenden zehn Wochen auf.
Eine der nach Beispiel 1 ähnliche Vorrichtung (siehe F i g. 1 bis 4) wurde durch ein ähnliches Verfahren hergestellt,
ausgenommen, daß die Aluminiumfilmelektroden 2,3 und der Abschirmstreifen 4 durch das Aufdampfen
einer Aluminium-Silizium-Legierung mit 0,5 Gew.-% Silizium hergestellt wurden. Der Siliziumgehalt
der Filmelektroden 2,3 und des Abschirmstreifens 4 war 0,1 Gew.-%. Die amorphen Aluminiumoxidschichten
wurden dadurch hergestellt, daß das Gebilde nach F i g. 1 auf 4500C in der Luft während 2 Minuten erhitzt
wurde. Die Dicke dieser amorphen Aluminiumoxidschichten betrug etwa 20 nm. Die Quarzplatte 1 wurde
dann mit einem vernickelten Fernicohalter 7 verbunden, und die Elektroden 2, 3 und der Abschirmstreifen 4
wurden elektrisch an Metallsalze 9 des Halters 7 mit
Hilfe von Aluminiumdrähten 10 angeschlossen, wobei diese Anschlüsse durch ein Ultraschallbindeverfahren
hergestellt wurden. Die Alterungseigenschaften dieser Vorrichtungen waren denen der Vorrichtung nach
F i g. 1 nach der Erfindung ähnlich.
Die Aluminiumfiimelektroden können dadurch hergestellt werden, daß eine Aluminium-Germaniurn-Legierung
mit 1 Gew.-% Germanium aufgedampft wird. Die so erhaltenen abgelagerten Elektroden enthalten
0,1 Gew.-% Germanium. Die Alterungseigenschaften einer mit solchen Elektroden hergestellten Vorrichtung
waren, wie gefunden wurde, den Alterungseigenschaften der Vorrichtung nach Beispiel 1 gemäß der Erfindung
ähnlich.
Vorrichtungen, die Schwingungsfrequenzen von etwa 10 MHz aufwiesen, sich die Frequenzen um weniger als
1 ppm pro Jahr änderten. Wenn jedoch die freigelegten Aluminiumoberflächen nicht passiviert worden waren,
war die Änderungsgeschwindigkeit der Schwingungsfrequenz der Vorrichtungen etwa 5 ppm pro Jahr.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
35
i ^.rCSGHat
wendung einer AT-geschnittenen Scheibe 21 mit einem Durchmesser von 12 mm hergestellt. Die Scheibe wurde
grobgeläppt und wurde dann mit Hilfe feinen Aluminiumoxidpulvers (Teilchengröße = 0,05 μπι Durchmesser)
geläppt Die geläppte Scheibe wurde während 2 Minuten in einer gesättigten Lösung von Aluminiumbifluorid
bei Zimmertemperatur geätzt Die Dicke der Scheibe 21 nach dieser Bearbeitung war 0,166 mm. Aluminiumelektroden
22 mit einem Durchmesser von 5 mm (Dicke etwa 100 nm) mit sich zu einander gegenüberliegenden
Teilen des Umfangs der Scheibe 21 erstreckenden Kontaktstreifen 23 und 24 wurden auf die Scheibe
21 unter Verwendung von Aluminium mit einer Reinheit von 9959% und mit 0,002 Gew.-% Magnesium aufgedampft
Die Scheibe 21 wurde anschließend in vernikkelten Fernicoklammern 25, 26 eines Halters mit Hilfe
eines mit Silber beladenen Epoxydharzes (Epo-Tek H 31) festgekittet Der Halter enthielt einen vernickelten
Fernico-Bodenteil 28 mit vernickelten Femicostiften 29, die gegen den Bodenteil 28 mit Hilfe von Glashülsen
30 isoliert waren. Das Gebilde wurde dann an der Luft bei 4000C während 5 Minuten erhitzt, um eine
amorphe Aluminiumoxidschicht mit einer Dicke von etwa 25 nm auf den Aluminiumelektroden 22 und den
Kontaktstreifen 23,24 zu bilden, damit die Aluminiumoberflachen passiviert wurden. Das Gebilde wurde anschließend
unter Verwendung eines üblichen Kaltsehweißverfahrens in einer vernickelten Fernicobuchse
31 mit trockenem Stickstoff eingeschlossen. Es wurde gefunden, daß bei durch dieses Verfahren hergestellten
Claims (6)
1. Piezoelektrische Vorrichtung mit einem Körper aus piezoelektrischem Material, der mit Aluminiumfilmelektroden
versehen und in einem schützenden Gehäuse untergebracht ist, dadurch gekennzeichnet,
daß die Oberflächen der Elektroden, die nicht mit dem piezoelektrischen Körper in Kontaki
stehen, mit einer Schicht aus amorphem Aluminiumoxid
mit einer Dicke von mindestens 10 nm (nanometer) versehen sind, und daß das Aluminiummetall
unter der amorphen Aluminiumoxidschicht eine Dicke von mehr als 40 nm (nanometer) aufweist
2. Piezoelektrische Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das piezoelektrische
Material Quarz, Wismutsilizium, Lithiumniobat oder Blei-Zirkonat-Titanat ist
3. Piezoelektrische Vorrichtung nach einem der Ansprüche J bis 2, dadurch gekennzeichnet, daß die
amorphen .ÄJuminiumoxidschichten eine Dicke von
10 nm bis 50 nm aufweisen.
4. Verfahren zur Herstellung einer piezoelektrischen Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis
3, dadurch gekennzeichnet, daß Aluminiumfilmelektroden
auf einem piezoelektrischen Körper erzeugt werden, der Körper mit den Aluminiumelektroden
auf eine Temperatur zwischen 250° C und 550° C in einer freien Sauerstoff enthaltenden Atmosphäre erhitzt
wird, um eine amorphe Aluminiumoxidschicht mit einer Dicke von mindestens 10 nm auf den nicht
mit dem piezoelektrischen Körper in Kontakt stehenden Oberflächen dc-r Eleki^oden zu bilden, und
der piezoelektrische Körper mit den Elektroden in einem schützenden Gehäuse e .!geschlossen wird,
wobei die anfängliche Dicke der Aluminiumfilmelektroden genügend ist, damit eine Dicke von mehr als
40 nm von Aluminiummetall unter der amorphen Aluminiumoxidschicht zurückbleibt
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der die Aluminiumelektroden tragende
Kristall auf eine Temperatur zwischen 350 und 450° C während 10 bis 5 Minuten in einer freien Sauerstoff
enthaltenden Atmosphäre erhitzt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der die Aluminiumelektroden tragende
Kristall auf eine Temperatur zwischen 400 und 550°C erhitzt wird und das Aluminium 0,07 bis 0,15
Gew.-% Si oder Ge enthält, das als ein Inhibitor für die Kristallisation von Aluminiumoxid dient. se
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB18461/78A GB1580600A (en) | 1978-05-09 | 1978-05-09 | Kpiezoelectric devices |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2917698A1 DE2917698A1 (de) | 1979-11-22 |
DE2917698C2 true DE2917698C2 (de) | 1985-10-24 |
Family
ID=10112837
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2917698A Expired DE2917698C2 (de) | 1978-05-09 | 1979-05-02 | Piezoelektrische Vorrichtung |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4472652A (de) |
JP (1) | JPS54158896A (de) |
BE (1) | BE876086A (de) |
CA (1) | CA1153102A (de) |
DE (1) | DE2917698C2 (de) |
ES (1) | ES480301A1 (de) |
FR (1) | FR2425729B1 (de) |
GB (1) | GB1580600A (de) |
IT (1) | IT1112839B (de) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4554717A (en) * | 1983-12-08 | 1985-11-26 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Method of making miniature high frequency SC-cut quartz crystal resonators |
DE3485015D1 (de) * | 1983-12-15 | 1991-10-10 | Toshiba Kawasaki Kk | Akustischer oberflaechenwellenresonator. |
JPS61251223A (ja) * | 1985-04-27 | 1986-11-08 | Pioneer Electronic Corp | 弾性表面波共振子 |
JPS61288132A (ja) * | 1985-06-17 | 1986-12-18 | Yokogawa Electric Corp | 水晶温度計 |
US4638536A (en) * | 1986-01-17 | 1987-01-27 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Method of making a resonator having a desired frequency from a quartz crystal resonator plate |
JPS62272610A (ja) * | 1986-05-21 | 1987-11-26 | Hitachi Ltd | 弾性表面波素子 |
US5091051A (en) * | 1986-12-22 | 1992-02-25 | Raytheon Company | Saw device method |
US5010270A (en) * | 1986-12-22 | 1991-04-23 | Raytheon Company | Saw device |
US5163209A (en) * | 1989-04-26 | 1992-11-17 | Hitachi, Ltd. | Method of manufacturing a stack-type piezoelectric element |
JPH0752820B2 (ja) * | 1990-02-28 | 1995-06-05 | 日本電波工業株式会社 | 多電極水晶振動子 |
FR2683322B1 (fr) * | 1991-10-30 | 1994-01-07 | Imaje | Rheometre acoustique haute frequence et dispositif de mesure de la viscosite d'un fluide utilisant ce rheometre. |
US5420472A (en) * | 1992-06-11 | 1995-05-30 | Motorola, Inc. | Method and apparatus for thermal coefficient of expansion matched substrate attachment |
US5446954A (en) * | 1993-09-30 | 1995-09-05 | Motorla, Inc. | Method for manufacturing a frequency control device |
US5406682A (en) * | 1993-12-23 | 1995-04-18 | Motorola, Inc. | Method of compliantly mounting a piezoelectric device |
JPH07212169A (ja) * | 1994-01-21 | 1995-08-11 | Nippon Carbide Ind Co Inc | 電子素子用パッケージ |
US6273322B1 (en) * | 1999-05-12 | 2001-08-14 | Aichi Steel Corporation | Productive method of amorphous metal-metal jointed parts and amorphous metal-metal jointed parts |
US6625855B1 (en) * | 1999-10-06 | 2003-09-30 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Method for producing surface acoustic wave device |
JP3432472B2 (ja) * | 1999-12-09 | 2003-08-04 | 沖電気工業株式会社 | 弾性表面波装置の製造方法 |
US6566979B2 (en) * | 2001-03-05 | 2003-05-20 | Agilent Technologies, Inc. | Method of providing differential frequency adjusts in a thin film bulk acoustic resonator (FBAR) filter and apparatus embodying the method |
JP3926633B2 (ja) * | 2001-06-22 | 2007-06-06 | 沖電気工業株式会社 | Sawデバイス及びその製造方法 |
US7148610B2 (en) * | 2002-02-01 | 2006-12-12 | Oc Oerlikon Balzers Ag | Surface acoustic wave device having improved performance and method of making the device |
US7154206B2 (en) * | 2002-07-31 | 2006-12-26 | Kyocera Corporation | Surface acoustic wave device and method for manufacturing same |
US8508100B2 (en) * | 2008-11-04 | 2013-08-13 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Surface acoustic wave element, surface acoustic wave device and methods for manufacturing the same |
KR101644165B1 (ko) * | 2009-09-25 | 2016-07-29 | 삼성전자주식회사 | 표면탄성파 디바이스 및 바이오센서 |
JP2015088579A (ja) * | 2013-10-30 | 2015-05-07 | セイコーエプソン株式会社 | パッケージ、光学デバイス、光センサー、電子デバイスおよび電子機器 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1994487A (en) * | 1930-01-24 | 1935-03-19 | Brush Dev Co | Method of applying electrodes to piezo crystals |
US3363119A (en) * | 1965-04-19 | 1968-01-09 | Clevite Corp | Piezoelectric resonator and method of making same |
AU413304B2 (en) * | 1968-03-28 | 1971-05-17 | Amalgamated Wireless (Australasia) Limited | Improvements in quartz crystal units |
US3584245A (en) * | 1969-02-20 | 1971-06-08 | Mallory & Co Inc P R | Piezoelectric resonator utilizing electrodes larger than the polarized region for controlling the coupling coefficient thereof |
JPS5258341A (en) * | 1975-11-10 | 1977-05-13 | Toshiba Corp | Surface wave filter |
CA1106960A (en) * | 1976-02-17 | 1981-08-11 | Virgil E. Bottom | Method of adjusting the frequency of a crystal resonator |
-
1978
- 1978-05-09 GB GB18461/78A patent/GB1580600A/en not_active Expired
-
1979
- 1979-04-30 US US06/034,525 patent/US4472652A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-05-02 DE DE2917698A patent/DE2917698C2/de not_active Expired
- 1979-05-03 CA CA000327038A patent/CA1153102A/en not_active Expired
- 1979-05-04 IT IT22397/79A patent/IT1112839B/it active
- 1979-05-07 BE BE0/195030A patent/BE876086A/xx unknown
- 1979-05-07 ES ES480301A patent/ES480301A1/es not_active Expired
- 1979-05-08 JP JP5624479A patent/JPS54158896A/ja active Granted
- 1979-05-09 FR FR7911749A patent/FR2425729B1/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2425729A1 (fr) | 1979-12-07 |
CA1153102A (en) | 1983-08-30 |
GB1580600A (en) | 1980-12-03 |
FR2425729B1 (fr) | 1985-08-02 |
JPS6327885B2 (de) | 1988-06-06 |
BE876086A (fr) | 1979-11-07 |
ES480301A1 (es) | 1980-01-01 |
IT7922397A0 (it) | 1979-05-04 |
JPS54158896A (en) | 1979-12-15 |
US4472652A (en) | 1984-09-18 |
DE2917698A1 (de) | 1979-11-22 |
IT1112839B (it) | 1986-01-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2917698C2 (de) | Piezoelektrische Vorrichtung | |
DE3208239C2 (de) | Oberflächenwellenbauelement | |
DE69321083T2 (de) | Akustische Oberflächenwellenanordnung mit Interdigitalwandler auf einem Substrat-Träger und Verfahren zur Herstellung | |
DE10207342A1 (de) | Verfahren zum Liefern unterschiedlicher Frequenzeinstellungen bei einem akustischen Dünnfilmvolumenresonator- (FBAR-) Filter und Vorrichtung, die das Verfahren beinhaltet | |
DE69310835T2 (de) | Verfahren zum Ätzen von Mustern in Sendust- und Chromschichten | |
DE10207330A1 (de) | Verfahren zum Herstellen akustischer Dünnfilmvolumenresonatoren (FBARs) mit unterschiedlichen Frequenzen auf dem gleichen Substrat durch eine Subtraktionsverfahren und Vorrichtung, die das Verfahren beinhaltet | |
DE10207341A1 (de) | Verfahren zum Erzeugen akustischer Dünnfilmvolumenresonatoren (FBARs) mit unterschiedlichen Frequenzen auf einem einzelnen Substrat und Vorrichtung, die das Verfahren beinhaltet | |
DE2105508A1 (de) | Piezoelektrisches Element | |
DE2036621C3 (de) | Schichtkörper aus Aluminiumoxidsubstrat und Zinkoxidüberzug | |
DE10207324A1 (de) | Verfahren zum Herstellen akustischer Dünnfilmvolumenresonatoren (FBARs) mit unterschiedlichen Frequenzen auf dem gleichen Substrat durch ein Substrationsverfahren und Vorrichtung, die das Verfahren beinhaltet | |
DE1416028B2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines als Dickenscherungsschwinger wirkender Wandlers | |
DE3437498A1 (de) | Akustischer resonator und verfahren zu seiner herstellung | |
DE2653406A1 (de) | Piezoelektrische keramische materialien | |
DE3603337C2 (de) | ||
DE69021918T2 (de) | Akustische Oberflächenwellenanordnung. | |
DE2827654A1 (de) | Gabelfoermiger quarzschwinger | |
DE2256624C3 (de) | Quarzkristallschwinger und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE2724082A1 (de) | Quarzkristalloszillator | |
DE1541523B1 (de) | Piezoelektrisches elektroakustisches Wandlerelement und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE2435910C2 (de) | Piezoelektrischer Wandler | |
DE1648209C3 (de) | Verfahren zum Herstellen eines indirekt geheizten Thermistors | |
DE3035933C2 (de) | Pyroelektrischer Detektor sowie Verfahren zur Herstellung eines solchen Detektors | |
DE60206470T2 (de) | Saw-bauelement und verfahren zu seiner herstellung | |
DE4497992C2 (de) | Rechteckiges AT-Schnitt-Quarzelement, Quarzschwinger, Quarzschwingereinheit und Quarzoszillator sowie Verfahren zur Herstellung des Quarzelements | |
DE69416368T2 (de) | Akustische Oberflächenwellenanordnung und Verfahren zu deren Herstellung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8363 | Opposition against the patent | ||
8366 | Restricted maintained after opposition proceedings | ||
8305 | Restricted maintenance of patent after opposition | ||
D4 | Patent maintained restricted | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |