DE2843280A1 - Glasueberzug fuer optisches halbleiter- bauelement - Google Patents

Glasueberzug fuer optisches halbleiter- bauelement

Info

Publication number
DE2843280A1
DE2843280A1 DE19782843280 DE2843280A DE2843280A1 DE 2843280 A1 DE2843280 A1 DE 2843280A1 DE 19782843280 DE19782843280 DE 19782843280 DE 2843280 A DE2843280 A DE 2843280A DE 2843280 A1 DE2843280 A1 DE 2843280A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
dipl
component according
ing
glass
optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19782843280
Other languages
English (en)
Inventor
Peter Alexander Barnes
Thomas Robert Kyle
Legrand Gerard Van Uitert
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AT&T Corp
Original Assignee
Western Electric Co Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Western Electric Co Inc filed Critical Western Electric Co Inc
Publication of DE2843280A1 publication Critical patent/DE2843280A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/028Coatings ; Treatment of the laser facets, e.g. etching, passivation layers or reflecting layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B3/00Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
    • H01B3/02Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances
    • H01B3/08Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances quartz; glass; glass wool; slag wool; vitreous enamels
    • H01B3/087Chemical composition of glass
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L24/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0216Coatings
    • H01L31/02161Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/44Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the coatings, e.g. passivation layer or anti-reflective coating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/04042Bonding areas specifically adapted for wire connectors, e.g. wirebond pads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05553Shape in top view being rectangular
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/48463Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/12Passive devices, e.g. 2 terminal devices
    • H01L2924/1204Optical Diode
    • H01L2924/12042LASER
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/12Passive devices, e.g. 2 terminal devices
    • H01L2924/1204Optical Diode
    • H01L2924/12043Photo diode

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Led Device Packages (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Description

BLUMBACH · WESER · BERGEN · KRAMER ZWIRNER - HIRSCH · BREHM 28 A328O
PATENTANWÄLTE IN MÖNCHEN UND WIESBADEN
Patentconsult Radedcestraße 43 8000 Mündien 60 Telefon (089) 883603/883604 Telex 05-2123T3 Telegramme Patentconsult Patentconsult Sonnenberger Straße 43 6200 Wiesbaden Telefon (06121) 562943/561998 Telex 04-186237 Telegramme Patentconsult
Western Electric Company, Incorporated Barnes, 1-2-90 222 Broadway,
New York, N.Y. IOO38,
U.S.A.
Glasüberzug für optisches Halbleiter-Bauelement
Beschreibung:
Die Erfindung betrifft den Schutz von optischen Halbleiter-Bauelementen und die Einstellung des Reflektionsvermögens der Begrenzungsflächen (Facetten).
Die Bezeichnung "optisches Halbleiter-Bauelement" soll nachfolgend zur Bezeichnung irgendwelcher Bauelemente verwendet werden, die einen Körper aus einem Halbleitermaterial aufweisen, der einerseits als Folge der Anlegung von Spannung
München: R. Kramer Dipl.-Ing. · W. Weser Dipl.-Phys. Dr. rer. nat. · P. Hirsch Dipr.-lng. · H. P. Brehm Dipl.-Chem. Dr. phil. nat. Wiesbaden: P. G. Blumbacfi Dlpl.-Ing".. P. Bergen Dipl.-mg. Dr. fur. · G. Zwirner Dipt.-Ing. Dipl.-W.-Ing.
909816/0964
Licht emittiert, oder der andererseits als Folge von einfallendem Licht eine Spannung liefert und damit das Licht anzeigt. Beispiele für optische Halbleiter-Bauelemente sind lichtemittierende Dioden, superstrahlende Dioden, Laserdioden, Detektoren, optische Isolatoren und Photοtransistoren, wie sie etwa in dem Beitrag "Light-Emitting Diodes" von A.A. Bergh und P.J. Dean in Clarenden Press, 1976, beschrieben sind.
Die Entwicklung von optischen Halbleiter-Bauelementen hat eine Stufe erreicht, welche die Anwendung in optischen Nachrichtenübertragungssystemen wahrscheinlich macht. Unter diesen optischen Halbleiterbauelementen sind insbesondere Laserdioden besonders gut entwickelt, welche aus einem Galliumarsenid-Substrat bestehen, auf dem in epitaktisch aufgebrachten Schichten aus Germanium oder Tellur, die ihrerseits mit Galliumarsenid und Galliumaluminiumarsenid dotiert sind, lichtemittierende p-n-Übergänge ausgebildet sind. Zur Aufbringung dieser Schichten sind Verfahren wie die Flüssigphasenepitaxie und die Molekularstrahlepitaxie erfolgreich angewandt worden.
Laserdioden werden typischerweise in Form von winzigen Chips hergestellt, die hinsichtlich Größe und Form mit Salzkörnern vergleichbar sind^ an diesen Chips- sind an zwei, zu den Epitaxialflachen parallelen Grenzflächen Elektroden angebracht. Von den vier, zu den Epitaxialschichten senkrechten Grenzflächen sind typischerweise zwei Grenzflächen aufgerauht und zwei Grenzflächen stellen Spaltflächen dar, die als teilweise reflektierende Spiegel dienen, so daß ein Fabry-Perot-Resonator
90981S/0954
erhalten wird. Ein Überblick über den Entwicklungsstand der Laserdiodentechnologie kann dem Beitrag "Heterostructure Injection Lasers" von M.B.Panish in Proceedings of the IEEE, Band 64, Wr. 10, S. 1512-1540 (Oktober 1976) entnommen werden.
Die praktische Anwendung von optischen Halbleiter-Bauelementen in Nachrichtenübertragungssystemen hängt von einer Anzahl von Bauelement-Eigenschaften ab; einige dieser Eigenschaften hängen wieder in charakteristischer Form von den Grenzflächenqualitäten ab; hierzu gehören die Beständigkeit gegen die Einwirkung der umgebenden Atmosphäre und das Ausmaß des ReflektionsVermögens der Grenzfläche. Beispielsweise wird für lichtemittierende Dioden ein geringes Grenzflächen-Reflektionsv.ermögen gefordert, um eine max. Lichtabgabe zu erzielen. In gleicher Weise ist für Photodiodendetektoren ein geringes Grenzflächenreflektionsvermögen wünschenswert, um eine max. Empfindlichkeit der Diode zu erzielen. Im Falle von Laserdioden ist erkannt worden, daß selbst bei relativ mäßigen Energiewerten eine Erosion der Spiegel-Grenzfläche die Lebensdauer der Diode verkürzen kann. Um diese Probleme auszuschalten ist die Anwendung von dielektrischen Schutzüberzügen auf den lichtemittierenden Grenzflächen bzw. Facetten von Laserdioden vorgeschlagen worden.
Mit den Beiträgen
"Control of Facet Damage in GaAs Laser Diodes" von M.Ettenberg, H.S. Sommers, H.Kressel und
H.F.Lockwood in Applied Physics Letters, Band 18, 909815/0954
Nr. 12, S.571-573 (Juni 1971); sowie " Al2O7, Halfwave Films for Long-Life CW Lasers" von I.Lädany, M. Ettenberg, H.F. Lockwood und H.Kressel in Applied Physics Letters, Band 30, Nr. 2, S. 87-88 (15.Januar 1977)
sind für diesen Zweck insbesondere Überzüge aus Siliciumdioxid (SiCU) und Aluminiumoxid (Al2O,) vorgeschlagen worden.
Mit den Beiträgen
"Influence of Device Fabrication Parameters on Gradual Degradation of (AlGa)As CW Laser Diodes" von I. Ladany und H.Kressel in Applied Physics Letters, Band 25, Hr.e12, S. 708-710 (15.Dez.1974); und
"Reliability Aspects and Facet Damage in High Power Emission From (AlGa)As CW Laser Diodes at Room Temperature" von H. Kressel und I. Ladany in RCA Rev., Band 36, S.231-239 (Juni 1975)
ist über andere Aspekte der Langzeitzuverlässigkeit von Laserdioden berichtet worden.
Trotz dieser älteren Untersuchungen und Vorschläge besteht weiterhin ein Bedarf nach einem Überzug für optische Halbleiter-Bauelemente, welchergegenüber dem Halbleiter ein geringes Reflexionsvermögen aufweist und welcher die Erosion des Halbleiters verhindert. Die vorliegende Erfindung ist auf die Lösung dieses Problemes gerichtet.
9098 15/0954
Im einzelnen ist die erfindungsgemäße Lösung dieses Problems ein optisches III-V Halbleiter-Bauelement mit den in Anspruch 1 angegebenen Merkmalen. Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen.
Im Rahmen der Erfindung ist festgestellt worden, daß Bleisilikatglas besonders als Überzugsmaterial zum Schutz von optischen Halbleiter-Bauelementen und zur Einstellung des Oberflächenreflektionsvermögens geeignet ist. Der überzug kann auf dem Halbleitermaterial leicht durch Zerstäuben eines vorgefertigten Glaskörpers aufgebracht werden; die Zusammensetzung des vorgefertigten Glaskörpers ist dahingehend ausgewählt, daß geeignete thermische und optische Eigenschaften gewährleistet sind.
Nachfolgend wird die Erfindung mit Bezugnahme auf die Fig. 1 bis 3 im einzelnen erläutert; es zeigt:
Fig. 1 in schematischer und stark vergrößerter
Darstellung eine Laserdiode mit einem Bleisilikat-Schutzüberzug ;
Fig. 2 in graphischer Darstellung den Brechungsindex und den linearen Ausdehnungskoeffizienten von Bleisilikatglas als Funktion der Glaszusammensetzung; und
Fig. 3 in graphischer Darstellung die Lichtabgabe
einer" GaAs-Laserdiode vor und nach dem Auf-9 09815/09S4
bringen eines Überzugs aus Bleisilikatglas auf einer lichtemittierenden Begrenzungsfläche.
Wie aus Fig. 1 ersichtlich, gehören zu der Laserdiode ein GaAs-Substrat 1, eine elektrisch aktive Schicht 2, ein Wellenleiterstreifen 3, Bleisilikatglas-Überzüge 4, ein elektrischer Kontaktfleck 5 und ein elektrischer Anschlußdraht 6. Die Überzüge 4 werden'zweckmäßigerweise durch Zerstäubung eines vorgeformten Glaskörpers auf-gebracht, welcher die angestrebte Zusammensetzung aufweist. Die fertigen überzüge haben einheitliche Zusammensetzung, haften gut und sind frei von Nadellöchern.
Die Darstellung nach Fig. 2 beruht auf den Beiträgen von "Properties of Glass", von G.W.Morey, S.375 (2.Auflage, erschienen bei Reinhold Press, 1954); und
"The Constitution of Lead Oxide Silica Glasses:II, the Correlation of Physical Properties with Atomic Arrangement" von G.J. Bair in Journal of the American Ceramic Society, Band 19, S.347-358 (1936)
und kann hilfreich zur Auswahl von Glaszusammensetzungen im Hinblick auf den Brechungsindex oder den linearen Ausdehnungskoeffizienten sein. Beispielsweise ist ersichtlich, daß ein Molverhältnis von angenähert 34:66 für die Glasbestandteile PbO und S1O2 ein Glas ergibt, dessen linearer Ausdehungs-
909815/095A
koeffizient eng demjenigen von GaAs entspricht. Alternativ führt ein Molverhältnis von angenähert 49,5^50,5 zu einem Glas, dessen Brechungsindex n2=1,9 besonders zweckmäßig für einen Antireflektionsbelag auf GaAs mit einem Brechungsindex von n^=5,6i ist.
Bleisilikatglas kann auch günstig auf anderen Halbleitermaterialien wie etwa GaAlAs, GaP, GaAsP, GaInAsP und GaAsSb aufgebracht werden. Noch allgemeiner ausgedrückt, kann auf Halb-" 1eitermaterialien, deren linearer Ausdehungskoeffizient vorzugsweise im Bereich von 4x10"" /0C bis 14x10" /0C liegt, ein Überzug aus thermisch verträglichem Bleisilikatglas aufgebracht werden. Die Zusammensetzung des Bleisilikatglases soll vorzugsweise in einem Bereich von im wesentlichen 20 Mol-% PbO und 80 Mol-% SiO2 bis im wesentlichen 70 Mol-% PbO und 30 Mol-%
2 liegen. Ein Anteil von wenigstens 20, und vorzugsweise 30 Mol-% PbO wird angestrebt, um ein ausreichendes Schmelzen des Bleisilikatglases bei relativ niedrigen Temperaturen zu gewährleisten. Anteile von wenigstens 30 und vorzugsweise 40 Mol-% SiO2 werden angestrebt, um eine Glasbildung zu gewährleisten. Es ist bekannt, daß die Anwesenheit von Kupfer-, Natrium- oder Kaliumionen die Lebensdauer von optischen Dioden verkürzen kann; der Anteil an solchen Ionen in dem Glasüberzug soll deshalb möglichst klein sein. Solche transparenten Oxide wie etwa Boroxid (B2O,), Aluminiumoxid (Al2O,) und Zirkonoxid (ZrOp) können in einem zusammengenommenen Anteil von bis zu 10 Gew.-% toleriert werden; diese Oxide sind nützlich, um den
909815/0954
Überzug in einem glasartigen Zustand zu halten, z.B.,wo hohe Temperaturen auftreten. Derartige Gläser sind in dem Beitrag "Solder Glass Sealing" von Robert H.Dalton in Journal of the American Ceramic Society, Band 39» S.109-112, vorgeschlagen worden.
Die Darstellung nach Fig. 3 zeigt die günstigen Auswirkungen, die durch die Aufbringung eines Bleisilikatglas-Überzugs auf einer GaAs-Laserdiode erzielt werden. Die mit A und B bezeichneten voll ausgezogenen Kurven entsprechen der Lichtabgabe von zwei lichtemittierenden Begrenzungsflächen einer nicht-überzogenen GaAs-Laserdiode. Die mit A1 und B1 bezeichneten, gestrichelt ausgezogenen Kurven entsprechen der Lichtabgabe einer Laserdiode, bei der eine lichtemittierende Begrenzungsfläche mit einer Schicht aus Bleisilikatglas überzogen ist. Im einzelnen entspricht die Kurve A1 der Lichtabgabe aus der nicht-überzogenen Begrenzungsfläche und die Kurve B1 der Lichtabgabe aus der überzogenenBqgrenzungsflache der Laserdiode. Es ist ersichtlich, daß die Anwesenheit des Überzugs zu einer größeren Intensität des emittierten Laserlichtes und zu einer stärk-eren linearen Punktion vom Diodenstrom führt. Dieser Vorteil beruht auf dem verringerten Begrenzungsflächen-Reflektionsvermögen bei Anwesenheit des Überzugs und kann nicht nur bei Laserdioden realisiert wa?den, sondern auch bei anderen lichtemittierenden optischen Halbleiter-Bauelementen. Im Falle von Photodioden besteht der entsprechende Vorteil in einer gesteigerten Empfindlichkeit der überzogenen Diode;
909815/0954
daruberhinaus sind in allen Fällen die überzogenen optischen Halbleiter-Bauelemente wirksam vor den schädlichen Einflüssen der umgebenden Atmosphäre geschützt.
Üblicherweise stören Überzüge, deren Dicke der il/2 Wellenlänge des durch die Oberfläche hindurchtretenden Lichtes entspricht, das Reflektxonsvermogen der überzogenen Oberfläche nicht nennenswert. Solche Überzüge können zum Schutz der Oberfläche eingesetzt werden; die Zusammensetzung dieser Überzüge kann hauptsächlich im Hinblick auf die thermische Verträglichkeit mit den Halbleitermaterial ausgewählt werden. Überzüge mit der optischen Dicke von 1/4- der Wellenlänge sind besonders als Antireflektionsbelag geeignet. Sofern solche Beläge oder Überzüge aus einem Glas bestehen, dessen Brechungsindex angenähert gleich der Quadratwurzel des Brechungsindex des Halbleitermateriales ist, können diese Überzüge dazu dienen, das Oberflächenreflektionsvermögen auf einen Wert von im wesentlichen Null herabzusetzen. Daruberhinaus kann das Oberflächenreflektionsvermögen auf jeden beliebigen Wert zwischen Null und dem Reflexionsvermögen der nicht-überzogenen Oberfläche eingestellt werden, indem der Überzug eine Dicke im Bereich von 1/4 bis 1/2 der Wellenlänge erhält und indem die Zusammensetzung des Glases dahingehend ausgewählt wird, daß der Brechungsindex des Glases angenähert der Quadratwurzel des Brechungsindex des Halbleitermaterials entspricht.
Obwohl ein Mo!verhältnis der Glasbestandteile PbO:SiO2 von
909815/0954
49,5:50,5 für einen Antireflektionsbelag auf GaAs optimal ist, können Gläser im Zusammensetzungsbereich von 30:70 bis 60:40 Mol-%, sofern sie in einer optischen Schichtdicke von 1/4 der Wellenlänge aufgebracht werden, das Oberflächenreflektionsvermögen einer überzogenen GaAs-Oberfläche auf einen Wert vonWQiiger als angenähert 1% verringern. Um übermäßige Spannungen zwischen dem Überzug und dem GaAs-Substrat zu vermeiden, soll der PbO-Anteil vorzugsweise im Bereich von 30 bis 40 Mol-% liegen. Sofern eine Zunahme des Oberflächenreflektionsvermögens angestrebt wird, kann eine zusätzliche Schicht aus einem stark reflektierenden Material, wie etwa Gold auf der Glasschicht aufgebracht werden, beispielsweise mittels üblicher Aufdampfverfahren.
Beispiel:
Bleisilikatglas mit einem Gehalt von 54 Mol-% PbO und 46 Mol-% SiO2 wurde zu einer Scheibe mit einem Durchmesser von 15 cm gegossen. Diese Scheibe wurde in einer mit einer öldiffusionspumpe ausgestatteten Hochfrequenz-Zerstäubungsapparatur befestigt. Im Verlauf der Zerstäubung wurde innerhalb der Zerstäubungsapparatur eine Atmosphäre aus 80% Argon und 20% Sauerstoff bei
—2
einem Gesamtdruck von 10 Torr eingehalten. Der Kathode wurde ein Hochfrequenz-Energiebetrag von 100 V zugeführt, was einer mittleren Energiedichte von 0,56 V/cm entspricht. Auf GaAs-AlGaAs-Laserdioden mit doppelter HeteroStruktur wurden Bleisilikatglasschichten mit einer Schichtdicke im Bereich von 40 bis 25O nm aufgebracht. Der Abstand zwischen dem Target
909815/0954
und dem Substrat betrug 38 mm; es wurde eine Abscheidungsgeschwindigkeit von 2 nm/min erhalten. Im Ergebnis wurden einheitliche, fest anhaftende Schichten erhalten, die frei von Nadellöchern waren. Die an einer Laserdiode mit einem 113 n®- dicken Glasüberzug durchgeführten Messungen sind mit Fig. 3 dargestellt. Diese Überzugsdicke entspricht einer optischen Dicke von 0,27 Wellenlängen.
9 09815/0954
e e 416 ·♦
r s e 11

Claims (8)

  1. BLUMBACH · WEISER . BERGEN · KRAMER ZWIRNER . HIRSCH · BREHM
    PATENTANWÄLTE IN MÖNCHEN UND WIESBADEN 2843280
    Patentconsult Radeckestraße 43 8000 München 60 Telefon (089) 883603/883604 Telex 05-212313 Telegramme Patentconsult Patentconsult Sonnenberger Straße 43 6200 Wiesbaden Telefon {06121) 5629437561995 Telex 04-186237 Telegramme Patentconsult
    Western Electric Company, Incorporated 222 Broadway,
    New York, N.Y. IOO38,
    U.S.A.
    Glasüberzug für optisches Halbleiter-Bauelement
    Patentansprüche:
    Ein optisches III-V Halbleiter-Bauelement mit einem Körper aus wenigstens einem Halbleitermaterial, wobei wenigstens ein Teil des Körpers mit wenigstens einer ersten Schicht aus dielektrischem Material bedeckt ist, dadurch gekennzeichnet, daß
    das dielektrische Material im wesentlichen aus Glas besteht; das Glas seinerseits zu wenigstens 90 Gew.-% aus Bleioxid (PbO) und Siliciumdioxid (SiO2) besteht; wobei das Molverhältnis zwischen PbO und SiO2 im Bereich
    München: R. Kramer Dipl.-Ing. · W. Weser Dipl.-Phys. Dr. rer. nat. · P. Hirsch Dipl.-Ing. · H.P. Brehm Dipl.-Chem. Or. phil. nat. Wiesbaden: P. G. Blumbach Dipl.-lncJ. · P. Bergen Dipl.-Ing. Dr.jur. ■ G. Zwirner Dipl.-Ing. Dipl.-W.-Ing.
    909815/09S4
    von 20 *: 80 bis 70 : 30 liegt.
  2. 2. Bauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Molverhältnis im Bereich von 30 : 70 bis 60 : 40 liegt.
  3. 3. Bauelement nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß
    das Halbleitermaterial einen linearen Ausdehnungskoeffizienten im Bereich von 4 χ 10~6/°C bis 14 χ 1O~6/°C aufweist.
  4. 4. Bauelement nach Anspruch 3» dadurch gekennzeichnet, daß das Halbleitermaterial ein Material der nachfolgenden Gruppe, nämlich GaAs, GaAlAs, GaP, GaAsP, GaInAsP und GaAsSb ist.
  5. 5. Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Halbleitermaterial GaAs ist; und das Molverhältnis im Bereich von 30 : 70 bis 40 : 60 liegt.
  6. 6. Bauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Bauelement eine Laserdiode mit einem Licht-emittierenden p-n-Übergang ist, das optische Reflektoren und elektrische Anschlüsse aufweist.
  7. 7. Bauelement nach Anspruch 6, dadurch gekemizeichnet, daß die optischen Reflektoren Spiegel sind, nämlich durch Spaltung gebildete, parallele Begrenzungsflächen des Körpers.
  8. 8. Bauelement nach Anspruch 6 oder 7» dadurch gekennzeichnet t daß" die Ebene des p-n-Überganges senkrecht zur Ebene des Spiegels ausgerichtet ist.
    90 9 8 15/0954
DE19782843280 1977-10-11 1978-10-04 Glasueberzug fuer optisches halbleiter- bauelement Withdrawn DE2843280A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US84077877A 1977-10-11 1977-10-11

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2843280A1 true DE2843280A1 (de) 1979-04-12

Family

ID=25283207

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19782843280 Withdrawn DE2843280A1 (de) 1977-10-11 1978-10-04 Glasueberzug fuer optisches halbleiter- bauelement

Country Status (10)

Country Link
JP (1) JPS5464483A (de)
BE (1) BE871127A (de)
CA (1) CA1115401A (de)
CH (1) CH635466A5 (de)
DE (1) DE2843280A1 (de)
FR (1) FR2406309A1 (de)
GB (1) GB2005917B (de)
IT (1) IT1099271B (de)
NL (1) NL7810206A (de)
SE (1) SE7810313L (de)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4751708A (en) * 1982-03-29 1988-06-14 International Business Machines Corporation Semiconductor injection lasers
JPS60217685A (ja) * 1984-04-13 1985-10-31 Hitachi Ltd 発光素子
DE69118482T2 (de) * 1990-11-07 1996-08-22 Fuji Electric Co Ltd Laserdiode mit einer Schutzschicht auf ihrer lichtemittierenden Endfläche
US5488623A (en) * 1990-11-07 1996-01-30 Fuji Electric Co., Ltd. Mold-type semiconductor laser device with reduced light-emitting point displacement during operation
US5444726A (en) * 1990-11-07 1995-08-22 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor laser device
US20080049431A1 (en) * 2006-08-24 2008-02-28 Heather Debra Boek Light emitting device including anti-reflection layer(s)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR87810E (fr) * 1961-09-29 1966-05-20 Ibm Objets revêtus et procédé de réalisation de leurs revêtements protecteurs
GB1250099A (de) * 1969-04-14 1971-10-20
US3676756A (en) * 1969-09-18 1972-07-11 Innotech Corp Insulated gate field effect device having glass gate insulator
GB1352959A (en) * 1972-11-09 1974-05-15 Standard Telephones Cables Ltd Passivation of semiconductor devices

Also Published As

Publication number Publication date
NL7810206A (nl) 1979-04-17
JPS5464483A (en) 1979-05-24
GB2005917A (en) 1979-04-25
SE7810313L (sv) 1979-04-12
FR2406309B1 (de) 1982-05-14
IT1099271B (it) 1985-09-18
IT7828555A0 (it) 1978-10-09
CH635466A5 (de) 1983-03-31
CA1115401A (en) 1981-12-29
FR2406309A1 (fr) 1979-05-11
GB2005917B (en) 1982-01-20
BE871127A (fr) 1979-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69214423T2 (de) Verwendung einer Halbleiterstruktur als lichtemittierende Diode
EP2564478B1 (de) Laserlichtquelle
EP2695207B1 (de) Optoelektronischer halbleiterchip
DE4305296C3 (de) Verfahren zum Herstellen einer strahlungsemittierenden Diode
EP2169733B1 (de) Halbleiterlichtquelle
EP1769540B1 (de) Reflektierendes schichtsystem mit einer mehrzahl von schichten zur aufbringung auf ein iii/v-verbindungshalbleitermaterial
EP2149160A1 (de) Optoelektronisches bauelement und verfahren zur herstellung einer mehrzahl optoelektronischer bauelemente
DE102010046793B4 (de) Kantenemittierende Halbleiterlaserdiode und Verfahren zu dessen Herstellung
Thornton et al. High reflectivity GaAs‐AlGaAs mirrors fabricated by metalorganic chemical vapor deposition
EP1906461B1 (de) Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements und optoelektronisches Bauelement
DE2843280A1 (de) Glasueberzug fuer optisches halbleiter- bauelement
JPS589389A (ja) 発光構体及びその製造方法
EP3240048B1 (de) Halbleiterchip für die optoelektronik und verfahren zu dessen herstellung
DE102008052405A1 (de) Optoelektronisches Halbleiterbauelement
WO2018224483A1 (de) Kantenemittierender halbleiterlaser und betriebsverfahren für einen solchen halbleiterlaser
CA1177150A (en) Positive index lateral waveguide semiconductor laser
CN108767658B (zh) 一种半导体激光器的制作方法、半导体激光器及巴条
DE69205404T2 (de) Optisch gepumpter Miniatur-Laser Resonator, Verfahren zur Herstellung und Laser mit einem solchen Resonator.
US4577322A (en) Lead-ytterbium-tin telluride heterojunction semiconductor laser
DE3322388A1 (de) Halbleiterlaser
WO2021144261A1 (de) Halbleiterlaserdiode und verfahren zur herstellung einer halbleiterlaserdiode
EP1756870A1 (de) Transparenter kontakt und verfahren zu dessen herstellung
DE3604295C2 (de)
DE19926958A1 (de) Lichtemissions-Halbleiterdiode auf der Basis von Ga (In, AL) P-Verbindungen mit ZnO-Fensterschicht
DE3604294C2 (de)

Legal Events

Date Code Title Description
8130 Withdrawal