DE2823642A1 - Verfahren zur beruehrungslosen potentialmessung an einem elektronischen bauelement - Google Patents
Verfahren zur beruehrungslosen potentialmessung an einem elektronischen bauelementInfo
- Publication number
- DE2823642A1 DE2823642A1 DE19782823642 DE2823642A DE2823642A1 DE 2823642 A1 DE2823642 A1 DE 2823642A1 DE 19782823642 DE19782823642 DE 19782823642 DE 2823642 A DE2823642 A DE 2823642A DE 2823642 A1 DE2823642 A1 DE 2823642A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- voltage
- amplifier
- spectrometer
- secondary electrons
- point
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/302—Contactless testing
- G01R31/305—Contactless testing using electron beams
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Measurement Of Current Or Voltage (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT Unser Zeichen Berlin und München VPA 7g O J Q 5 Q BRJ]
Verfahren zur berührungslosen Potentialmessung an elektronischen Bauelementen und Anordnung zur Durchführung
Jes Verfahrens
>)ie Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur berührungslosen
quantitativen Potentialmessung an elektronischen
Bauelementen mit einem Rasterelektronenmikroskop durch Messung der Energie der Sekundärelektronen, die an der
Meßstelle vom Primärelektronenstrahl ausgelöst werden. Die Energiemessung erfolgt mit einem Spektrometer, vorzugsweise
einem Gegenfeldspektrometer, dem ein Regelsystem für die Gitterspannung des Spektrometers zugeordnet ist.
Das Potential in Leiterbahnen eines elektronischen Bauelementes, insbesondere eines integrierten Schaltkreises,
kann bekanntlich mit einem Rasterelektronenmikroskop gemessen werden, dessen Primärelektronenstrahl an der Meßstelle
Sekundärelektronen auslöst, deren Energie vom Potential an der Meßstelle bestimmt wird. Ein Ablenkkondensator
führt die Sekundärelektronen über ein Gegenfeld des Spektrometers einem Elektronenkollektor zu, dem ein
Regelverstärker nachgeschaltet ist. Die Ausgangsspannung
des Regelverstärkers steuert das Gegenfeld und hält die
Kin 2 Sh / 16.5.197
%09881/0020
- / - VPA 78 P 7 O 5 O BRD
Gitterspannung bezogen auf die Spannung an der Meßstelle des Bauelementes mit Hilfe einer Rückkopplungsschleife
konstant. Die Gitterspannung an der Gegenfeldelektrode des Spektrometer wird solange nachgeregelt, bis die Spannung
zwischen Gitter und Meßpunkt wieder ihren ursprünglichen Wert erreicht hat. Dann entspricht die Änderung der Gitterspannung
der Potentialänderung an der Meßstelle des Bauelements, das als Probe dient.
Die an der Meßstelle ausgelösten Sekundärelektronen werden von einer Wehnelt-Elektrode und einer Anode des Spektrometers
abgesaugt, die deshalb auch als Absaugelektroden bezeichnet werden. Durch eine an der Probe anliegende
Spannung werden an der Meßstelle entsprechende elektrische Felder ausgebildet. Während bei negativem Potential und
Nullpotential die Anzahl der ausgelösten Sekundärelektronen konstant bleibt, werden durch positives Potential Gegenfelder
an der Meßstelle gebildet, welche die niederenergetischen Sekundärelektronen auf die Meßstelle zurücktreiben.
Positives Potential hat deshalb eine Änderung der integralen Energieverteilung und damit eine Verlagerung des
Arbeitspunktes des Regelsystems zur Folge, die eine entsprechende Fehlmessung ergibt.
Bei verhältnismäßig geringen positiven Potentialänderungen kann der Einfluß dieses Potentialkontrasts auf die quantitative
Messung durch ein starkes Saugfeld, d.h. ein hohes Potential von beispielsweise 1 kV/cm, an der Anode des
Spektrometer kompensiert werden. Bei hohen positiven Potentialen an der Meßstelle kann das Saugfeld.die Verlagerung
des Arbeitspunktes nicht vollständig verhindern.
Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, diesen durch den Potentialkontrast verursachten Meßfehler wenigstens
annähernd zu korrigieren, insbesondere soll sich der Arbeitspunkt selbst einstellen.
909881/0020
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß
die Steigung der integralen Energieverteilung der Sekundärelektronen gemessen wird und der Arbeitspunkt des Regelsystems
derart gesteuert wird, daß er im Punkt maximaler Steigung der integralen Energieverteilung bleibt. Durch
diese vorzugsweise automatische Nachregelung des Arbeitspunktes wird sowohl der Einfluß des Potentialkontrasts
als auch der Einfluß des Topographiekontrasts, d.h. die durch Kanten der Oberfläche des Bauelements verursachte
Änderung der Anzahl der ausgelösten Sekundärelektronen, beim Wechsel der Meßstelle auf einer Probe kompensiert.
Ferner ist die Störempfindlichkeit gering, weil überwiegend die hochenergetischen Sekundärelektronen zum
Signal beitragen. Das Regelsystem ist verhältnismäßig einfach aufgebaut und hat deshalb eine hohe Bandbreite
bis zu wenigstens einem MHz.
Eine einfache Anordnung zur Durchführung des Verfahrens mit einem Rasterelektronenmikroskop, bei dem die Energiemessung
der Sekundärelektronen durch Regelung der Gegenfeldelektrodenspannung des Spektrometers erfolgt, erhält
man dadurch, daß der Gegenfeldelektrodenspannung eine Modulationswechselspannung überlagert ist, die das Sekundärelektronensignal
entsprechend moduliert. Der Wechsel-Spannungsanteil kann von einem Lock-in-Verstärker detektiert
werden, dessen Ausgangssignal dem Eingang des Regelverstärkers vorgegeben wird. Die Modulationswechselspannung
kann vorzugsweise eine Sinusspannung sein.
Der Lock-in-Verstärker differenziert das Integral der Energieverteilung und steuert damit den Regelverstärker
derart, daß der Arbeitspunkt immer im Wendepunkt der Kennlinie, d.h. in der maximalen Steigung der Kennlinie
bleibt. Er korrigiert damit die Abweichung des Arbeitspunktes.
909881/0020
Anstelle des Lock-in-Verstärkers kann unter Umständen auch eine Sample-and-Hold-Schaltung vorgesehen sein, die
auf den Eingang des Regelverstärkers einwirkt, sobald sich die Amplitude des Wechselspannungsanteils am Verstärkerausgang
vermindert.
Zur weiteren Erläuterung der Erfindung wird auf die Zeichnung Bezug genommen, in deren Figur 1 ein Ausführungsbeispiel
einer Anordnung zur Durchführung des Verfahrens als Blockschaltbild schematisch veranschaulicht ist. In den
Figuren 2 bis 4 sind die Verfahrensschritte und die Wirkungsweise der Anordnung zur Durchführung des Verfahrens
nach Figur 1 anhand verschiedener Diagramme erläutert.
Nach Figur 1 wird ein Primärelektronenstrahl PE beispielsweise in der elektronenoptischen Säule 2 eines Rasterelektronenmikroskops
erzeugt. Sie enthält eine Elektronenkanone 4 und ein Strahlablenksystem 10, von dem lediglich
die beiden Spulensysteme angedeutet und mit 11 und 12 bezeichnet sind. Die Elektronenkanone 4 besteht im wesentlichen
aus einer Kathode 5, einer Wehnelt-Elektrode 6 und einer Anode 7. Unter Umständen kann die elektronenoptische
Säule 2 noch ein Strahltastsystem 8 enthalten, dessen Steuerung in der Figur nicht dargestellt ist.
Das magnetische Feld der Ablenkspulen 11 und 12 dient zur Positionierung der Primärelektronen PE auf der nicht näher
bezeichneten Meßstelle einer Probe 14, die vorzugsweise eine integrierte Schaltung sein kann und an deren Leiterbahnen
eine vorgegebene Spannung U quantitativ gemessen werden soll.
Die Primärelektronen PE lösen an der Meßstelle der Probe 14 Sekundärelektronen SE aus, deren Energie als Maß
für das Potential an der Meßstelle dient. Oberhalb der Probe 14 ist ein Gegenfeldspektrometer 16 angeordnet, das
909881/0020
- / -fr VPA 78 ρ 7050 BRD
eine Wehnelt-Elektrode 17 und eine Anode 18 enthält, die
als Absaugelektroden dienen. Ein zylinderförmiger Ablenkkondensator 20 ist zur Ablenkung der Sekundärelektronen
SE vorgesehen, die auf ihrem durch einen Pfeil angedeuteten Wege über das Verzögerungsfeld zweier Gegenfeld-elektroden
24 und 25 zu einem Elektronenkollektor gelangen. Der Elektronenkollektor 30 enthält zwischen
seinem Abschirmgitter 32 und einem Szintillator 34 eine Beschleunigungsstrecke mit einer Spannung von beispielsweise
10 kV. Die im Szintillator 34 ausgelösten Photonen werden über einen Lichtleiter 36 einem Photomultiplier
zugeführt, der im allgemeinen mit einem empfindlichen
Vorverstärker gekoppelt ist. Das Ausgangssignal U des
Photomultiplierswird einem Regelverstärker 40 zugeführt,
dessen Ausgangssignal U über eine Rückkopplungsschleife 42 einer Steuereinrichtung 44 für das Spektrometer 16
zugeführt wird und zur Nachregelung der Gitterspannung U~
des Spektrometers 16 dient. Das Reglerausgangssignal U wird ferner einem Bildschirm 48 zugeführt und dient beispielsweise
zur Steuerung der V-Achse eines Bildschirms. Die V-Aus lenkung entspricht der gemessenen Spannung υ*ς.
Der Gitterspannung UG des Spektrometers 16 wird ferner
eine Moduiationswechselspannung UM mit hoher Frequenz,
beispielsweise von 10 bis 200 kHz, überlagert, die von einem Wechselspannungsgenerator 50 geliefert wird und der
Steuereinrichtung 44 für das Spektrometer 16 vorgegeben wird. Das Ausgangssignal U des Photomultiplier 38 enthält
einen Wechselspannungsanteil, der vorzugsweise von einem Lock-in-Verstärker 52 detektiert wird aber von dem
Regelverstärker 40 wegen dessen geringer Bandbreite nicht verstärkt wird. Der Lock-in-Verstärker 52 liefert ein
Ausgangssignal U,, das der Amplitude des Wechselspannungsanteils im Photomultiplierausgangssignal U proportional
ist. Das Ausgangssignal U, des Lock-in-Verstärkers 52 wird dem Regelverstärker 40 vorgegeben.
909881/0020
- 4 - r νρΛ 78 P 7 O 5 O BRD
Das Ausgangssignal des Lock-in-Verstärkers 52 kann beispielsweise
noch von einer Elektronik 54 verarbeitet werden, die in Abhängigkeit von der Abweichung der Energie
der Sekundärelektronen von ihrem Maximum in positiver oder negativer Richtung dem Regelverstärker 40 ein entsprechendes
Korrektursignal liefert. Die Stromversorgung für die Probe 14 ist in der Figur mit 56 bezeichnet.
Nach dem Diagramm der Figur 2, in dem die Zahl NSE der
Sekundärelektronen in Abhängigkeit von ihrer Energie E aufgetragen ist, erhält man an der Meßstelle eine vorbestimmte
Energieverteilung der Sekundärelektronen. Die Energie E der Sekundärelektronen SE ist in Elektronen- .
volt eV angegeben. Die Anzahl Ν~Ε der ausgelösten Sekundärelektronen
wird in willkürlichen Einheiten angegeben, die im Diagramm nicht eingetragen sind. Die Kurve gibt
somit nur die relative Wahrscheinlichkeit der Anzahl von Sekundärelektronen an, wie sie beispielsweise für ein
Potential U = OV an der Meßstelle der Probe 14 gegeben ist. Der Arbeitspunkt ρ der Regeleinrichtung wird nun so
eingestellt, daß er immer im Maximum der Kurve, beispielsweise bei 2,5 eV liegt. Für eine Verschiebung der
Spannung an der Meßstelle um beispielsweise - 10 V erhält man dann eine neue Energieverteilung, die in Figur
2 gestrichelt angedeutet ist.
Aus dem Diagramm nach Figur 3, in dem das Integral «J"N(E)dE in Abhängigkeit von der Energie E der Sekundärelektronen
in eV aufgetragen ist, erhält man beispielsweise bei einem Potential U = OV an der Meßstelle der
Probe 14 eine Energieverteilung, die in der Figur 3 mit A bezeichnet ist. Ergibt sich an der Meßstelle eine negative
Potentialänderung auf beispielsweise - 10 V, so erhält man eine integrale Energieverteilung, die in der
Figur mit B bezeichnet ist. Im Fall einer Potentialänderung an der Meßstelle nach positiven Werten, beispielsweise
auf + 10 V, könnte man eine Energieverteilung erwarten, wie sie mit der Kurve Cq gestrichelt angedeutet
909881/0020
9 - i - VPA 78 ρ 7 05 0 BRD
ist. Bei dieser Verschiebung zum positiven Potential macht sich jedoch der Einfluß des Potentialkontrasts bemerkbar,
weil niederenergetische Sekundärelektronen die Probe an der Meßstelle nicht mehr verlassen können. Man erhält somit
eine Änderung der Energieverteilung, die beispielsweise in der Kurve C. angedeutet ist. Dementsprechend ergibt sich
eine zusätzliche Verschiebung des Arbeitspunktes vom Punkt χ zum Punkt γ mit dem entsprechenden Fehler Δ. F in
der Potentialmessung. Die Potentialänderung an der Meßstelle der Probe 14 um den Betrag Δ U ergibt somit nicht eine entsprechende
Potentialänderung am Spektrometer 16 sondern eine zusätzliche Potentialverschiebung um den Fehler Δ F, weil
die Sekundärelektronen in dem schraffierten Bereich zwischen
den Kurven Cq und C. auf die Probe 14 zurückfallen und
nicht zum Kollektor 30 gelangen.
Nach der Erfindung wird nun dieser Fehler ÄF dadurch wenigstens
annähernd beseitigt, daß die Gitterspannung UG
durch die Modulationswechselspannung U., moduliert wird, wie es im Diagramm nach Figur 3 für den Arbeitspunkt ρ
auf der Kurve B angedeutet ist.
Die Modulationswechselspannung moduliert die Steuerspannung für die Sekundärelektronen SE, nämlich die Gitterspannung
Up und damit das Gegenfeld des Spektrometers, das die Sekundärelektronen
auf ihrem Wege vom Kollektor 30 abbremst. Der Ausgang des Photomultipliers 38 enthält dann den Gleichspannungsanteil
und die modulierte Sinusspannung. Der Regalverstärker 40 kompensiert mit seiner Gleichspannung über
die Rückkopplungsschleife 42 mit der Gitterspannung UG die
Signaländerung an der Meßstelle der Probe 14. Der Lock-in-Verstärker 52, der nur den Wechselspannungsanteil des Photomultipliers
38 detektiert, liefert dann eine Spannung U,, die sich mit der Energieverteilung E der Sekundärelektronen
ändert, wie es in Figu^ 4 in einem Diagramm angedeutet ist, in dem die Ausgangsspannung U, des Lock-in-Verstärkers 52
909881/0020
über der Energie E der Sekundärelektronen aufgetragen ist. Die Ausgangsspannung U, ist proportional der Amplitude
des Photomultiplierausgangssignals U . Der Lock-in-Verstärker mißt somit die Steigung der integralen Energieverteilung
%/"N(E)dE. Der Wendepunkt in der Kurve B nach
Figur 3, das ist der Arbeitspunkt ρ der Regelung, entspricht somit dem Maximum im Diagramm der Figur 4. Dies
bedeutet, daß der Lock-in-Verstärker das Integral der Energieverteilung differenziert. Solange sich der Arbeitspunkt,
beispielsweise ρ in der Kurve B, nicht ändert und im Wendepunkt der Kurve bleibt, liefert der Lock-in-Verstärker
52 sein maximales Signal U, entsprechend der maximal an Amplitude des Wechselspannungsanteils im Photomultiplierausgangssignal
U .
Im Fall einer erheblichen positiven Potentialänderung an der Meßstelle der Probe 14 mit entsprechend flachem
Verlauf der Kurve C1 und einer Verschiebung des Arbeitspunktes nach y in der Kurve C1 wird auch das Ausgangs-
signal U, des Lock-in-Verstärkers entsprechend geringer. Das dem Regelverstärker 40 vom Lock-in-Verstärker 52 gelieferte
Ausgangssignal U, wird entsprechend kleiner und der Regelverstärker 40 regelt diese Signaländerung über
die Rückkopplungsschleife 42 mit Hilfe der Gitterspannung IU wieder nach. Er verschiebt damit den Arbeitspunkt y auf der Kurve C1 wieder in den Punkt Z maximaler
Steigung der Kurve C... Damit ist die Fehlmessung & F in
der Spannungsänderung wenigstens annähernd korrigiert, und das Spektrometer registriert lediglich die Spannungsänderung
-Δ U .
Anstelle des Lock-in-Verstärkers 52 mit der nachgeschalteten Elektronik 54 zur Feststellung der Richtung der
Energieänderung kann unter Umständen auch eine Sampleand-Hold-Schaltung
vorgesehen sein, die den Wechselspan-
909881/0020
- 4 - VPA 78 P 7 O 5 O BM)
nungsanteil detektiert und dem Regelverstärker 40 ein Signal liefert, sobald dieser Wechselspannungsanteil im
Photomultiplierausgangssignal U vom Maximum seiner Amplitude abweicht.
3 Patentansprüche
4 Figuren
909881/0020
Claims (3)
- Patentansprüche/ - VPA 78 ρ 7 O 5 O BRDVerfahren zur berührungslosen quantitativen Potentialmessung an einem elektronischen Bauelement mit einem Rasterelektronenmikroskop durch Messung der Energie der Sekundärelektronen, die an der Meßstelle vom Primärelektronenstrahl ausgelöst werden, mit einem Spektrometer, dem ein Regelsystem für die Gitterspannung des Spektrometers zugeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Steigung der integralen Energieverteilung (A, B, C.) gemessen wird, und der Arbeitspunkt Cb, y, z) des Regelsystems derart gesteuert wird, daß er im Punkt (b, z) maximaler Steigung der integralen Energieverteilung bleibt.
- 2. Rasterelektronenmikroskop zur berührungslosen quantitativen Potentialmessung an einem elektronischen Bauelement durch Messung der Energie der Sekundärelektronen, die an der Meßstelle vom Primärelektronenstrahl ausgelöst werden, mit einem Gegenfeldspektrometer, dem ein Regelverstärker zur Regelung der Gegenfeldelektrodenspannung zugeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß der Gegenfeldelektrodenspannung (U,-,) eine Modulationsspannung CU„) überlagert ist, die das Sekundärelektronen- signal moduliert und daß dem Regelverstärker (40) ein Lockin-Verstärker (52) nachgeschaltet ist, dessen Ausgangssignal (U,) dem Eingangssignal des Regelverstärkers (40) überlagert ist.
- 3. Rasterelektronenmikroskop nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Modulationswechselspannung (Uw) eine Sinusspannung ist.909881/0020
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19782823642 DE2823642A1 (de) | 1978-05-30 | 1978-05-30 | Verfahren zur beruehrungslosen potentialmessung an einem elektronischen bauelement |
JP6456079A JPS54157085A (en) | 1978-05-30 | 1979-05-24 | Method of and device for measuring potential with no contact at electronic part |
GB7918090A GB2021789B (en) | 1978-05-30 | 1979-05-24 | Monitoring voltage using an electron beam probe |
NL7904226A NL7904226A (nl) | 1978-05-30 | 1979-05-29 | Werkwijze voor het contactloos uitvoeren van een potentiaalmeting aan elektronische onderdelen, en een inrichting voor het uitvoeren van een dergelijke werkwijze. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19782823642 DE2823642A1 (de) | 1978-05-30 | 1978-05-30 | Verfahren zur beruehrungslosen potentialmessung an einem elektronischen bauelement |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2823642A1 true DE2823642A1 (de) | 1980-01-03 |
Family
ID=6040559
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19782823642 Withdrawn DE2823642A1 (de) | 1978-05-30 | 1978-05-30 | Verfahren zur beruehrungslosen potentialmessung an einem elektronischen bauelement |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS54157085A (de) |
DE (1) | DE2823642A1 (de) |
GB (1) | GB2021789B (de) |
NL (1) | NL7904226A (de) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3036660A1 (de) * | 1980-09-29 | 1982-05-19 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Anordnung fuer stroboskopische potentialmessungen mit einem elektronenstrahl-messgeraet |
EP0066071A1 (de) * | 1981-05-26 | 1982-12-08 | International Business Machines Corporation | Vorrichtung zum kontaktlosen Testen von elektrischen Anschlüssen |
EP0066070A1 (de) * | 1981-05-26 | 1982-12-08 | International Business Machines Corporation | Verfahren und Vorrichtung zu kontaktlosem elektrischem Testen |
DE3138990A1 (de) * | 1981-09-30 | 1983-04-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Koaxiales gegenfeld-spektrometer hoher akzeptanz fuersekundaerelektronen und elektronenstrahl-messgeraet |
DE3138901A1 (de) * | 1981-09-30 | 1983-04-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verbessertes gegenfeld-spektrometer fuer die elektronenstrahl-messtechnik |
DE3138929A1 (de) * | 1981-09-30 | 1983-04-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verbessertes sekundaerelektronen-spektrometer fuer die potentialmessung an einer probe mit einer elektronensonde |
DE3138926A1 (de) * | 1981-09-30 | 1983-04-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Elektronenoptische anordnung fuer die hochaufloesende elektronenstrahl-messtechnik |
DE3138927A1 (de) * | 1981-09-30 | 1983-04-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Abbildendes spektrometer fuer die elektronenstrahl-messtechnik und elektronenstrahl-messgeraet |
DE3206309A1 (de) * | 1982-02-22 | 1983-09-15 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Sekundaerelektronen-spektrometer und verfahren zu seinem betrieb |
DE3232671A1 (de) * | 1982-09-02 | 1984-03-08 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Anordnung und verfahren zur spannungsmessung an einem vergrabenen messobjekt |
DE3235100A1 (de) * | 1982-09-22 | 1984-03-22 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur messung elektrischer potentiale an vergrabener festkoerpersubstanz |
DE3235484A1 (de) * | 1982-09-24 | 1984-03-29 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur unterdrueckung einer stoerung bei der messung von signalverlaeufen mit einer korpuskularsonde und vorrichtung zur durchfuehrung eines solchen verfahrens |
DE112017007822B4 (de) | 2017-09-29 | 2023-06-01 | Hitachi High-Technologies Corporation | Rasterelektronenmikroskop |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5932145A (ja) * | 1982-08-16 | 1984-02-21 | Hitachi Ltd | 電位検出装置 |
GB8515250D0 (en) * | 1985-06-17 | 1985-07-17 | Texas Instruments Ltd | Testing of integrated circuits |
US4943769A (en) | 1989-03-21 | 1990-07-24 | International Business Machines Corporation | Apparatus and method for opens/shorts testing of capacitively coupled networks in substrates using electron beams |
JP2973554B2 (ja) * | 1991-03-19 | 1999-11-08 | 富士通株式会社 | 電子ビーム装置による電圧測定方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1246744A (en) * | 1969-01-02 | 1971-09-15 | Graham Stuart Plows | Electron beam apparatus |
GB1277303A (en) * | 1969-09-16 | 1972-06-14 | Gen Electric | Method and apparatus for testing circuits with an electron beam |
-
1978
- 1978-05-30 DE DE19782823642 patent/DE2823642A1/de not_active Withdrawn
-
1979
- 1979-05-24 GB GB7918090A patent/GB2021789B/en not_active Expired
- 1979-05-24 JP JP6456079A patent/JPS54157085A/ja active Pending
- 1979-05-29 NL NL7904226A patent/NL7904226A/xx not_active Application Discontinuation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1246744A (en) * | 1969-01-02 | 1971-09-15 | Graham Stuart Plows | Electron beam apparatus |
GB1277303A (en) * | 1969-09-16 | 1972-06-14 | Gen Electric | Method and apparatus for testing circuits with an electron beam |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3036660A1 (de) * | 1980-09-29 | 1982-05-19 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Anordnung fuer stroboskopische potentialmessungen mit einem elektronenstrahl-messgeraet |
EP0066071A1 (de) * | 1981-05-26 | 1982-12-08 | International Business Machines Corporation | Vorrichtung zum kontaktlosen Testen von elektrischen Anschlüssen |
EP0066070A1 (de) * | 1981-05-26 | 1982-12-08 | International Business Machines Corporation | Verfahren und Vorrichtung zu kontaktlosem elektrischem Testen |
DE3138990A1 (de) * | 1981-09-30 | 1983-04-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Koaxiales gegenfeld-spektrometer hoher akzeptanz fuersekundaerelektronen und elektronenstrahl-messgeraet |
DE3138901A1 (de) * | 1981-09-30 | 1983-04-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verbessertes gegenfeld-spektrometer fuer die elektronenstrahl-messtechnik |
DE3138929A1 (de) * | 1981-09-30 | 1983-04-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verbessertes sekundaerelektronen-spektrometer fuer die potentialmessung an einer probe mit einer elektronensonde |
DE3138926A1 (de) * | 1981-09-30 | 1983-04-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Elektronenoptische anordnung fuer die hochaufloesende elektronenstrahl-messtechnik |
DE3138927A1 (de) * | 1981-09-30 | 1983-04-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Abbildendes spektrometer fuer die elektronenstrahl-messtechnik und elektronenstrahl-messgeraet |
DE3206309A1 (de) * | 1982-02-22 | 1983-09-15 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Sekundaerelektronen-spektrometer und verfahren zu seinem betrieb |
DE3232671A1 (de) * | 1982-09-02 | 1984-03-08 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Anordnung und verfahren zur spannungsmessung an einem vergrabenen messobjekt |
DE3235100A1 (de) * | 1982-09-22 | 1984-03-22 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur messung elektrischer potentiale an vergrabener festkoerpersubstanz |
DE3235484A1 (de) * | 1982-09-24 | 1984-03-29 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur unterdrueckung einer stoerung bei der messung von signalverlaeufen mit einer korpuskularsonde und vorrichtung zur durchfuehrung eines solchen verfahrens |
DE112017007822B4 (de) | 2017-09-29 | 2023-06-01 | Hitachi High-Technologies Corporation | Rasterelektronenmikroskop |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2021789A (en) | 1979-12-05 |
GB2021789B (en) | 1982-07-07 |
JPS54157085A (en) | 1979-12-11 |
NL7904226A (nl) | 1979-12-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0014304B1 (de) | Verfahren und Anordnung zur berührungslosen Potentialmessung an einem elektronischen Bauelement | |
DE2823642A1 (de) | Verfahren zur beruehrungslosen potentialmessung an einem elektronischen bauelement | |
DE2436160B2 (de) | Rasterelektronenmikroskop | |
DE69021275T2 (de) | SEM Vergrösserungskompensation. | |
EP0189777A1 (de) | Korpuskularstrahl-Messverfahren zum berührungslosen Testen von Leitungsnetzwerken | |
DE1690575B2 (de) | Verfahren und einrichtung zur automatischen, lagemaessigen zentrierung eines elektronenstrahls | |
DE3412715C2 (de) | Feldemissions-Abtastelektronenmikroskop | |
DE2726173C2 (de) | Verfahren und Schaltung zur automatischen Positionierung eines Werkstückes relativ zu einem Abtastfeld bzw. zu einer Maske, sowie Verwendung des Verfahrens | |
DE4004935A1 (de) | Detektor fuer ein rasterelektronenmikroskop | |
DE2514805C3 (de) | Anordnung zur Leistungssteuerung von Hochspannungs-EIektronenstrahlerzeugern | |
EP0226913A2 (de) | Verfahren und Anordnung zur Lokalisierung und/oder Abbildung der ein bestimmtes zeitabhängiges Signal führenden Punkte einer Probe | |
DE2744102C3 (de) | Umschaltbarer Gleichspannungsgenerator | |
DE2411841B2 (de) | Auger-Elektronenspektrometer | |
DE808050C (de) | Schaltung zur Erzeugung phasenmodulierter Schwingungen und elektrische Entladungsroehre fuer diese Schaltung | |
DE3407041A1 (de) | Verfahren zur automatischen einstellung des arbeitspunktes bei signalverlaufsmessungen mit korpuskularstrahl-messgeraeten | |
DE2904833B1 (de) | Vorrichtung zur beruehrungslosen Dicken- oder Abstandsmessung | |
EP0310816A1 (de) | Automatische Frequenznachführung bei Korpuskularstrahlmessverfahren unter Anwendung eines modulierten Primärstrahls | |
DE19703048B4 (de) | Fuzzy-gesteuertes Linsensystem einer teilchenoptischen Kolonne und Verfahren zu seinem Betrieb | |
DE1237813B (de) | Lichtpunktabtaster mit einer Kathodenstrahlroehre | |
DE2353872A1 (de) | Feldemissions-elektronenkanone | |
DE930167C (de) | Schaltung zur Erzeugung eines saegezahnfoermigen Stromes in den Ablenkspulen einer Kathodenstrahlroehre | |
DE1281564B (de) | Verfahren zur Messung des Reflexionsfaktors eines Messobjekts im Mikrowellengebiet | |
DE3941178A1 (de) | Verfahren zur quantitativen potentialmessung mit einer korpuskularsonde | |
DE2705417A1 (de) | Anordnung zum ein- und austasten des elektronenstrahls eines elektronenmikroskops | |
DE2105185C3 (de) | Verfahren und Anordnung zur berührungslosen Messung der Breite oder Lage eines Gegenstandes mittels eines Sichtstrahls |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OAR | Request for search filed | ||
OB | Request for examination as to novelty | ||
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8136 | Disposal/non-payment of the fee for publication/grant |