DE2740764C2 - - Google Patents

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DE2740764C2
DE2740764C2 DE19772740764 DE2740764A DE2740764C2 DE 2740764 C2 DE2740764 C2 DE 2740764C2 DE 19772740764 DE19772740764 DE 19772740764 DE 2740764 A DE2740764 A DE 2740764A DE 2740764 C2 DE2740764 C2 DE 2740764C2
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electron beam
resist
semiconductor
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DE19772740764
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Hugo Dr.Rer.Nat. Dipl.-Phys. 8035 Gauting De Ruechardt
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Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
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    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
    • H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
    • H01L21/0277—Electrolithographic processes

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  • Physics & Mathematics (AREA)
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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
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