DE2740764A1 - Verfahren zum herstellen einer halbleitervorrichtung - Google Patents
Verfahren zum herstellen einer halbleitervorrichtungInfo
- Publication number
- DE2740764A1 DE2740764A1 DE19772740764 DE2740764A DE2740764A1 DE 2740764 A1 DE2740764 A1 DE 2740764A1 DE 19772740764 DE19772740764 DE 19772740764 DE 2740764 A DE2740764 A DE 2740764A DE 2740764 A1 DE2740764 A1 DE 2740764A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electron beam
- semiconductor
- resist
- resist layer
- impact
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P76/00—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography
- H10P76/20—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography of masks comprising organic materials
- H10P76/204—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography of masks comprising organic materials of organic photoresist masks
- H10P76/2045—Electron beam lithography processes
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19772740764 DE2740764A1 (de) | 1977-09-09 | 1977-09-09 | Verfahren zum herstellen einer halbleitervorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19772740764 DE2740764A1 (de) | 1977-09-09 | 1977-09-09 | Verfahren zum herstellen einer halbleitervorrichtung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2740764A1 true DE2740764A1 (de) | 1979-03-22 |
| DE2740764C2 DE2740764C2 (https=) | 1989-09-14 |
Family
ID=6018580
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19772740764 Granted DE2740764A1 (de) | 1977-09-09 | 1977-09-09 | Verfahren zum herstellen einer halbleitervorrichtung |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE2740764A1 (https=) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4508952A (en) * | 1983-02-17 | 1985-04-02 | University Patents, Inc. | Electron beam cutting |
-
1977
- 1977-09-09 DE DE19772740764 patent/DE2740764A1/de active Granted
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| US-Z.: IEEE Transactions on Electron Devices, Bd. ED-17, 1970, Nr. 6, S. 450-457 * |
| US-Z.: Proceedings of the IEEE, Bd.62, 1974 Nr. 10, S. 1367-1375 * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4508952A (en) * | 1983-02-17 | 1985-04-02 | University Patents, Inc. | Electron beam cutting |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2740764C2 (https=) | 1989-09-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3878751T2 (de) | Verfahren zur elektronenstrahlaufzeichnung und system in verbindung mit kontinuierlich verschiebbarem tisch unter verwendung von gross-bereichsablenkung. | |
| DE2811553C2 (https=) | ||
| DE69123612T2 (de) | In einem Gerät zusammengefügtes Rasterelektronenmikroskop und Rastertunnelmikroskop und Verfahren | |
| DE4326874C3 (de) | Verfahren zum Gravieren eines Musters in eine Oberfläche eines Werkstücks | |
| DE2260229C3 (https=) | ||
| DE2222665A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Ausrichten von Elektronenprojektionssystemen | |
| DE3206374C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Eichen der Ablenkung eines aus geladenen Teilchen bestehenden Strahls | |
| DE2725959C3 (de) | Elektronenstrahl-Bearbeitungseinrichtung | |
| DE2659247A1 (de) | Elektronenstrahlenbuendel benutzendes, lithografisches system | |
| DE2647855C2 (de) | Verfahren zur Herstellung elektronischer Mikroschaltungen | |
| DE2121000A1 (de) | Einrichtung zum Vergleich von Mustern | |
| DE19544753C2 (de) | Elektronenstrahl-Schreibverfahren | |
| DE69018556T2 (de) | Belichtungsvorrichtung. | |
| DE19904487C2 (de) | Verfahren zur Messung achssymmetrischer magnetischer Felder | |
| DE2740764C2 (https=) | ||
| DE2704441A1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur bestrahlung einer werkstueckflaeche | |
| DE3346001C2 (https=) | ||
| DE1953712C3 (de) | Vorrichtung zum Erzeugen eines Musters auf einem Werkstück mit Hilfe eines Elektronenstrahls | |
| DE2460715C3 (de) | Korpuskularstrahloptisches Gerät zur Korpuskelbestrahlung eines Präparats in Form eines Flächenmusters mit mehreren untereinander gleichen Flächenelementen | |
| DE2719800C3 (de) | Korpuskularstrahloptisches Gerät zur Projektion einer Maske auf ein Präparat mit einer Einrichtung zur Justierung der Maske relativ zum Präparat und Verfahren zur Justierung | |
| DE112022005513T5 (de) | Steuerungsverfahren für eine schreibvorrichtung und schreibvorrichtung | |
| EP0036026A1 (de) | Adressierbare Positioniervorrichtung | |
| EP0054710B1 (de) | Verfahren zum Ausrichten und Prüfen eines mit Mustern versehenen Werkstücks, z.B. einer Maske für die Herstellung von Halbleiterelementen | |
| DE19829674A1 (de) | Lithografisches Verfahren zur Individualisierung einzelner Chips im Scheibenprozeß | |
| DE102020134463B3 (de) | Materialbearbeitungsverfahren und Materialbearbeitungssystem zur Ausführung des Verfahrens |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
| 8125 | Change of the main classification |
Ipc: H01J 37/304 |
|
| D2 | Grant after examination | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |