DE2719800C3 - Korpuskularstrahloptisches Gerät zur Projektion einer Maske auf ein Präparat mit einer Einrichtung zur Justierung der Maske relativ zum Präparat und Verfahren zur Justierung - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein korpuskularstrahloptisches Gerät zur Projektion einer durch ein Kondensorlinsensystem gleichmäßig mit einem Korpuskularstrahl beleuchteten Maske auf ein zu bestrahlendes Präparat, bei dem ein eine Justiermcrke enthaltender Bereich des Präparates mit einer Korpuskularstrahlsonde abgetastet wird, die als punktförmige Sonde eine Justieröffnung in der Maske durchsetzt und durch ein in Strahlrichtung oberhalb der Maske angeordnetes Ablenksystem rasterförmig ausgelenkt wird, und bei dem das dabei vom Präparat ausgehende Signal zur Bilderzeugung einem Monitor zugeführt wird. Ein derartiges Gerät, wie es z. B. aus einer Arbeit von Heritage. J. Vac. Sei. Technol., Vol. 12, No. 6, 1975, Seiten 1135 bis 1140 bekannt ist. dient insbesondere zur Erzeugung von Mustern auf Halbleiterplättchen (Wafern) bei der Herstellung von integrierten Schaltungen.

Bei dem bekannten Gerät wird zur relativen Justierung von Maske und Präparat die Erregung des Kondensorlinsensystems derart erhöht, daß die Strahlquelle — ideale Linsen vorausgesetzt — punktförmig in die Maskenebene und damit durch das anschließende Projekijonslinsensystem ebenfalls punktförmig in die Präparatebene abgebildet wird. Oberhalb der Maske

ίο Hegt ein Ablenksystem; es wird so erregt, daß die durch den Strahl gebildete punktförmige Sonae die Prüföffnung in der Maskenebene abrastert In der Nähe des Präparates befindet sich ein Detektor, der am Wafer ausgelöste Sekundärelektronen registriert; das Detektorsignal wird einem Monitor zugeführt. Auf dem Bildschirm des Monitors erscheint dann als Bild die Überlagerung zweier Abbildungen, von denen die eine die scharfe Abbildung der Oberfläche des Präparates mit der Justiermarke und den anderen Einzelheiten dieser Oberfläche ist. Die andere Abbildung ist ein Schattenbild der Prüföffnung in der Maske. Zur Justierung wird die Maske oder das Präparat so lange verschoben, bis sich das Bild der Prüföffnung und das der Justiermarke decken. Der Rasterbereich braucht dabei nicht größer als die Prüföffnung zu sein; die Vergrößerung sollte so gewählt sein, daß das Bild der Prüföffnung den Bildschirm des Monitors ausfüllt.

Bereits beim Einsetzen der Maske und des Präparates in das korpuskularstrahloptische Gerät wird ohne Bildbetrachiung auf dem Monitor eine mechanische Vorjustierung vorgenommen. Dabei kann die relative Lage von Maske und Präparat zueinander etwa auf 100 μίτι genau an sich außerhalb des Gerätes befindenden Verstellelementen abgelesen werden. Bei dem aus dem Aufsatz von Heritage bekannten Justierverfahren müßten die Justiermarke und die Prüföffnung mindestens so groß gewählt werden, daß sich ihre Bilder auf dem Monitor nach der beschriebenen Vorjustierung zumindest teilweise überlappen. Wäre das nicht der Fall, so würde auf dem Bildschirm des Monitors nur das Bild der Prüföffnung erscheinen; das der Justiermarke müßte erst gesucht werden. Bei dieser Größe von Prüföffnung und Justiermarke läßt sich jedoch die relative Lage der beiden Monitorbilder zueinander nicht mehr mit genügender Genauigkeit bestimmen. Diese Genauigkeit, die mindestens dem kleinsten Abstand zwischen den einzelnen Elementen auf dem Wafer, wie Kondensator, Transistor, Widerstand usw., entsprechen muß, beträgt etwa 0,1 μτη.

Die Erfindung befaßt sich daher mit der Aufgabe, bei einem korpuskularstrahloptischen Gerät der eingangs genannten Art bei geringem Meßaufwand die Meßgenauigkeit zu erhöhen.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß die Justieröffnung aus einem Einfangbereich und einem innerhalb dieses Bereiches liegenden Feinjustierbereich besteht, daß sowohl der Einfang- als auch der Feinjustierbereich von einem für den Korpuskularstrahl undurchlässigen Rand umgeben sind und daß das

to korpuskularstrahloptische Bild des Einfangbereiches in der Präparatebene so groß ist, daß die Justiermarke bei mechanisch ohne Beobachtung des Bildes auf dem Monitor erreichbarer Vorjustierung innerhalb dieses korpuskularstrahloptischen Bildes des Einfangsbereichs

Im Gegensalz zu dem aus der Arbeit von Heritage bekannten Gerät ist es bei dem Gerät nach der Erfindung nicht notwendig, daß das Bild der Justieröff-

nung und das der Justiermarke etwa die gleiche Größe haben oder darüber hinaus auch noch die gleiche Form. Die Form der Justieröffnung kann bei dem erfindungsgemäßen Gerät völlig beliebig gewählt werden ohne Rücksicht auf die Form der Justiermarke. Wesentlich ist nur, daß das korpuskularstrahloptoche Bild der Justieröffnung in der Präparatebene so groß ist, daß die Justiermarke bei der mechanischen Vorjustierung innerhalb dieses Bildes zu liegen kommt. Erst die Form des Feinjustierbereiches muß, zumindest bei einem Justierverfahren, bei dem zwei Bilder zur Deckung gebracht werden, mit der Form der Justiermarke insoweit übereinstimmen, daß die relative Lage der beiden Bilder auf dem Monitor zueinander bestimmbar ist. is

Abweichend von dem bisher beschriebenen Positionierverfahren wird bei einem anderen bekannten Verfahren in einem Elektronenstrahlscbreiber kein vollständiges Bild der Präparatoberfläche, sondern lediglich ein Intensitätsprofil entlang einzelner Rasterzeilen (line scan) quer durch eine Justiermarke aufgenommen (IEEE Transactions on Electron Devices, Vol. ED-17, Nor. 6, Juni 1970, Seiten 450 bis 457). Anhand der Lage des Markensignals relativ zum Rasterfeld kann dort die Abweichung der Marke von einer Sollage, z. B. der Rasterfeldmitte, bestimmt werden. Wie dazu bereits in einer früheren Patentanmeldung (DE-OS 27 02 448 vorgeschlagen wurde, kann dieses Verfahren auch zum justieren einer Maske relativ zu einem Präparat eingesetzt werden. Dabei ist es zur jo Steigerung der Meßgenauigkeil vorteilhaft, den nur entlang einer Zeile über den Bildschirm des Monitors geführten Schreibstrahl in dazu senkrechter Richtung proportional zu dem erzeugten Signal auszulenken. Auch für dieses Positionierverfahren ist das Gerät nach )5 der Erfindung besonders vorteilhaft, insbesondere wenn als Justiermarken auf dem Präparat schmale Gräben oder entsprechende Erhöhungen vorgesehen sind. Zur Bilderzeugung können dabei sämtliche durch den Korpuskularstrahl in dem Präparat erzeugten Signale verwendet werden, also entweder die rückgestreuten Korpuskeln, die Sekundärkorpuskeln oder aber auch der Probenstrom. Die höhere Meßgenauigkeit ergibt sich bei dem korpuskularstrahloptischen Gerät nach der Erfindung nicht nur, wenn, wie es aus dem Aufsatz von Heritage bekannt ist, die Maske verkleinert auf das Präparat abgebildet wird, sie ergibt sich ebenfalls bei einer korpuskularstrahloptischen Schattenprojektion, bei der sich die Maske unmittelbar über dem Präparat befindet; die Maske wird 1 : 1 auf das Präparat so abgebildet. Gerade bei der korpuskularstrahloptischen Schattenprojektion wird man vorteilhafterweise den Probenstrom als Signal verwenden, da eine einwandfreie Registrierung der vom Präparat ausgehenden Sekundär- oder Rückstreukorpuskeln wegen der dicht darüberliegenden Maske Schwierigkeiten bereitet.

Ein vorteilhaftes Verfahren zur Justierung einer Maske relativ zu einem Präparat mit dem erfindungsgemäßen Gerät besteht darin, daß durch eine Grobjustierung die Marke auf dem Präparat in den Feinjustierbe- t>o reich der Maske geschobc:. vw;\i, in dem nach einer Erhöhung der Vergrößerung die Feinjustierung vorgenommen wird. Wie bereits ausgeführt, soll sich die Justiermarke nach der mechanischen Vorjustierung bereits innerhalb des korpuskularstrahloptischen Bildes des Einfangsbereiches der Maske befinden. Zur Grobjustierung wird dann der Rasterbereich und die Vergrößerung auf dem Monitor so gewählt, daß der Einfangbereich etwa den Bildschirm dieses Monitors ausfüllt Bei dieser Einstellung wird das Präparat oder die Maske mechanisch derart verschoben, daß die Justiermarke innerhalb des Feinjustierbereiches der Mask« zu liegen kommt Anstelle der mechanischen Verschiebung, z. B. mit Piezokristallen, ist auch eine Verschiebung des Korpuskularstrahls durch ein magne-'.isches oder elektrisches Gleichfeld denkbar. Zur anschließenden Feinjustierung wird die Vergrößerung des Monitors so gesteigert und gegebenenfalls auch der Rasterbereich so geändert, daß nun das Bild dieses Feinbereiches die gesamte Fläche des Bildschirmes des Monitors ausfüllt — im line scan-Betrieb soll die Breite des Feinjustierbereiches entlang der abgetasteten Zeile etwa auf die Breite einer Bildschirmzeile vergrößert werden. Bei dieser Einstellung wird dann die Feinjustierung vorgenommen, d. h. die Maske so lange verschoben, bis Justiermarke und Feinjustierbereich die geforderte relative Lage zueinander zeigen.

Ein besonders einfacher Aufbau des Feinjustierbereiches ergibt sich dadurch, daß dieser aus einer oder mehreren Maschen eines innerhalb des Einfangbereiches aufgespannten Gitters besteht. Sollen auch andere Formen des Feinjustierbereiches als die einer Gittermasche zugelassen sein, so empfiehlt es sich, daß der Rand des Feinjustierbereiches über ein Stützgitter mi! dem Rand des Einfangbereiches verbunden ist. Hierbei können sowohl der Einfangbereich als auch der Feinjustierbereich völlig beliebige Formen annehmen. Eine vorteilhafte Weiterbildung besteht darin, daß der Rand des Feinjustierbereiches breiter als die Stegbreite des Stützgitters ist. Dadurch unterscheidet sich der Feinjustierbereich deutlicher von den ihn umgebenden Bereichen, so daß er bereits während der Grobjustierung leichter zu erkennen ist. Insbesondere im line scan-Betrieb bekommt man dadurch einen deutlicheren Intensitätssprung an diesem Rand, der wiederum das sichere Auffinden des Feinjustierbereiches erleichtert.

Anhand der F i g. 1 bis 4 werden im folgenden Ausführungsbespiele nach der Erfindung beschrieben. Dabei zeigt

Fig. 1 ein elektronenstrahloptisches Gerät als Ausführungsbeispiel der Erfindung,

F i g. 2a und 2b unterschiedliche Ausführungen von Masken, wie sie bei dem Gerät nach Fig. 1 vorteilhaft eingesetzt werden können, und

F i g. 3b den Probenstrom für verschiedene in F i g. 3a dargestellte Justiermarken.

Mit Hilfe der F i g. 4a bis 4c soll das Justierverfahren schrittweise erläutert werden.

Fig. 1 zeigt ein elektronenstrahloptisches Gerät 1, bestehend aus einer Elektronenquelle 2, einem dreistufigen Kondensorlinsensystem 3 mit den Linsen a, b und c und einem Projektionslinsensystem 6, das aus einer langbrennweitigen Zwischenlinse 7 und einer kurzbrennweitigen Abbildungslinse 8 zusammengesetzt ist. Die Linsen 7 und 8 sind als magnetische Linsen ausgebildet. Sie sind vorzugsweise entgegengesetzt gleich erregt; das bedeutet, daß sie dieselbe Amperewindungszahl besitzen und daß die Richtungen ihrer Magnetfelder zueinander entgegengesetzt sind. Durch diese Art der Erregung in Verbindung mit einem telezentrischen Strahlengang (der gegenseitige Abstand der beiden Linsen 7 und 8 ist gleich der Summe ihrer Brennweiten) wird erreicht, daß im Projektionslinsensystem der Verdrehungsfarbfehler, der Vergrößerungsfarbfehler und die isotrope Verzeichnung zu Null

werden und die verbleibenden Fehler zumindest teilweise aufgehoben sind.

Mit 4 ist eine Maske bezeichnet, die verkleinert auf ein Präparat 11. z. B. ein Halbleiterplättchen, abgebildet wird. Der Strah ngang des Projektionslinsensystems 6 ist telezentrisch; die hintere Brennebene der Zwischenlinse 7 und die vordere Brennebene der Abbildungslinse 8 fallen zusammen, die Maske 4 liegt in der vorderen Brennebene der Zwischenlinse 7 und das Präparat 11 in der hinteren Brennebene der Abbildungslinse 8. Der Verkleinerungsmaßstab, unter dem die Maske auf das Präparat abgebildet wird, entspricht dem Verhältnis der Brennweiten beider Linsen.

Zur integralen Abbildung der Maske 4 auf das Präparat 11 sind die Linsen des Kondensorlinsensy- i"j stems 3 derart erregt, daß die Maske 4 gleichmäßig mit einem Elektronenstrahl beleuchtet wird. Dieser Fall ist hier nicht dargestellt. Zum Justieren wird die Erregung der Linse c des Kondensorlinsensystems 3 derart gesteigert, daß der Elektronenstrahl auf die Maske 4 fokussiert wird. Zwischen den Linsen b und c des Kondensorlinsensystems 3 befindet sich ein Ablenksystem 9, durch welches der Elektronenstrahl um einen Punkt gekippt wird, der am vorderen Brennpunkt der Linse c liegt. Dadurch wird die Maske 4 von dem y-, Elektronenstrahl in senkrechter Richtung durchstrahlt.

Der auf die Maske 4 fokussierte Elektronenstrahl bildet die Sonde, die mit Hilfe des Ablenksystems 9 rasterförmig über die Maske 4 geführt werden kann. Die Maske 4 weist eine Prüföffnung 4a auf, das Präparat 11 in eine Justiermarke 11a. In dem Ausführungsbeispiel nach F i g. 1 wird als durch den einfallenden Elektronenstrahl im Präparat 11 erzeugtes Signal der Probenstrom verwendet, der über einen Verstärker 12 auf die V-Platten 13 eines Monitors 14 gegeben wird. Die r> Platten 15 für die X-Ablenkung werden synchron mit der entsprechenden X-Ablenkung des Ablenksystems 9 angesteuert. Diese Signalverarbeitung eignet sich speziell für den line scan-Betrieb, bei dem die Intensität des Probenstromes über dem Ort auf dem Bildschirm 1« des Monitors 14 aufgezeichnet wird. Ebenso wäre es möglich, durch Registrierung der Sekundär- bzw. Rückstreuelektronen die zwei überlagerten Bilder von Prüföffnung 4a und Justiermarke 1 la zu erhalten.

Direkt unterhalb der Maske 4 ist gestrichelt ein Präparat 11' eingezeichnet. Bei dieser Stellung des Präparates handelt es sich um eine Schattenprojektion; das Projektionslinsensystem 6 kommt dabei nicht zum Einsatz. Die Maske 4 wird im Verhältnis 1 : 1 auf das Präparat 11' abgebildet. Ansonsten bleibt alles unverän- ίο dert. Auch hier ist wiederum gestrichelt der Probenstrom auf den Verstärker 12 und von dort auf dem Monitor 14 gegeben. Gerade bei der Schattenprojektion eignet sich der Probenstrom besonders zur Erkennung der Justiermarke, da wegen der direkt oberhalb des Präparates 11' angeordneten Maske 4 die Sekundär- bzw. Rückstreuelektronen nur schwer vollständig zu registrieren sind.

Die Fig. 2a und 2b zeigen die Ausschnitte aus der Maske 4, die die Prüföffnung 4a enthalten. F i g. 2a zeigt mi als Beispiel eine runde Prüföffnung, in der sich ein Gitter 16 befindet. Der breite Rand 17 der Prüföffnung ist Teil der Maske 4 und nur in dieser Darstellung der Form der Prüföffnung angepaßt. Jede Masche dieses Gitters 16 kann der Feinjustierbereich darstellen. Vorzugsweise h5 wird man jedoch die mittlere Masche 16a dazu verwenden.

F i g. 2b zeigt eine quadratische Prüföffnung, wiederum von einem Rand 17 umgeben. Innerhalb dieser Prüföffnung befindet sich als Feinjustierbereich ein Ring 18, der von einem Stützgitter 19 getragen wird. Im Gegensatz zur F i g. 2a ist in dem Beispiel nach F i g. 2b auch der Feinjustierbereich von einem breiten, für Elektronen durchlässigen Rand umgeben.

Für den Elektronenstrom im Präparat kann man folgende Bilanzgleichung aufstellen:

Ie = Ire + /.« + Ipr,

wobei Ie den Strom der auftreffenden Elektronen, Ire den der rückgestreuten, lsi.den der Sekundärelektronen und IrR den Probenstrom darstellt. Um ein charakteristisches Signal von der Justiermarke zu erhalten, muß diese — konstantes Ie vorausgesetzt — einen oder mehrere dieser Teilströme typisch verändern. Übliche Justiermarken sind deshalb z. B. aufgedampfte andere Substanzen mit unterschiedlichem Rückstreuvermögen oder Gräben, in deren Bereich die Sekundärelektronenausbeute verändert wird. Aus der obigen Bilanzgleichung ergibt sich, daß dann auch der Probenstrom, und zwar gegenläufig, verändert wird.

In F i g. 3 ist der Verlauf des Probenstromes für einen Einfachgraben und für einen Doppelgraben aufgezeigt. Im mittleren Abschnitt dieser Figur ist zur Verdeutlichung des Entstehens des Probenstromsignals an einem Doppelgraben der Fall aufgezeichnet, in dem zwei Einzelgräben ohne gegenseitige Beeinflussung nebeneinanderliegen. Wie man an diesem Teil der Fig. 3 ersehen kann, überlagern sich die Signale der beiden Einzelgräben in einem mittleren Bereich und führen zu einem schärferen größeren Signalpik an dieser Stelle. Der Doppelgraben verbessert dadurch wesentlich die Genauigkeit, mit der man seine Lage relativ zur Prüföffnung bestimmen kann.

Anhand der Fig.4 soll nun das Justierverfahren in drei Schritten näher erläutert werden. Im oberen Teil der F i g. 4 sind die jeweiligen Sekundärelektronenbilder dargestellt, im unteren Teil die entsprechenden Probenstromsignale. Der obere Teil der Fig.4a zeigt dabei die Justieröffnung, in der sich der von einem Stützgitter getragene Feinjustierbereich 20 befindet Dieser besteht aus fünf ein Kreuz bildenden Quadraten die von einem Rand umgeben sind, dessen Breite wesentlich größer als die Stegbreite des Stützgitters 19 ist. Außerdem zeigt dieses Bild die zufällige Lage der Justiermarke 21 nach der mechanischen Vorjustierung Dabei handelt es sich wiederum um einen Doppelgraben entsprechend dem rechten Teil der F i g. 3, der sich durch eine erhöhte Sekundärelektronenausbeute an der beiden äußeren Randern des Doppeigrabens und ir dessen Mitte bemerkbar macht (gegenläufig zurr Probenstromsignal entsprechend F i g. 3b, rechte Bildseite). Durch die Pfeile 22 ist angedeutet, entlang welcher Linie im line scan-Betriebabgerastert wird.

Im unteren Teil der Fig.4a ist der entsprechendt Probenstrom über dem Ort aufgetragen. Außerhalb dei Prüföffnung ist der Probenstrom Nuil, innerhalb de: Prüföffnung springt er auf einen bestimmten Wert Beirr Oberfahren jedes Steges des Stützgitters wird dei einfallende Elektronenstrahl abgeschirmt, d.h. dei Probenstrom sinkt ab. Wegen der Zeitkonstante dei Verstärker und wegen der geringen Breite dei Stützgitterstäbe sinkt er jedoch nicht ganz auf NuI herunter. Beim Überqueren des Doppeigrabens ander sich der Probenstrom entsprechend F i g. 3b, wegen dei geringen Vergrößerung ist jedoch die Auflösung füi eine genaue Lagebestimmung noch zu schlecht.

Im mittleren Bild 4b ist die Grobjustierung bereits durchgeführt. Der Doppelgraben wurde in die Mitte des Einfangbereiches geschoben. Durch den Aufbau der Justieröffnung erscheint der Doppelgraben 21 nun im Feinjustierbereich. Bei dieser Einstellung wird die Vergrößerung so weit erhöht, daß nur noch ein Quadrat des Feinjustierbereiches 20 den Bildschirm des Monitors ausfüllt. Auch der Rasterbereich kann dabei derart geändert werden, daß nur noch über dieses eine Quadrat des Feinjustierbereiches gerastert wird. Der breite Rand der einzelnen Quadrate des Feinjustierbereiches bietet dabei den Vorteil, daß das Probenstromsignal in diesem Bereich auf Null zurückgeht. Dadurch ist auch am Probenstromsigna! eindeutig feststellbar, daß wirklich über den Feinjustierbereich gerastert wird und nicht über eine andere Masche des Stützgitters. Wie in F i g. 4c dargestellt, kann nach dieser Vergrößerungserhöhung die Feinjustierung vorgenommen werden.

Wie Versuche am Schattenprojekt ergeben haben, ist bei Verwendung einer Sondengröße von 0,5 μπι und eines Sondenstromes von 5 ■ 10-¹⁰A die geforderte Genauigkeit der Lageerkennung möglich.

Im Beispiel nach der F i g. 4 ist im line scan-Betrieb

die Justierung in einer Richtung vorgenommen worden. In der dazu senkrechten Richtung muß das Verfahren entsprechend wiederholt werden.

Die spezielle Form des Feinjustierbereiches 20 entsprechend Fig.4 bietet -dabei einen wesentlichen Vorteil. Im Prinzip könnte der Feinjustierbereich allein aus dem mittleren Quadrat bestehen. Zur Justierung in beiden Richtungen müßten jedoch sich kreuzende Gräben verwendet werden, wodurch im Kreuzungspunkt eine unerwünschte Störung der Grabenstruktur auftreten würde. Daher ist es vorteilhaft, außerhalb dieses Kreuzungsbereiches die Gräben zu überfahren und dazu beispielsweise, wie in F i g. 4 dargestellt, in einer Richtung das untere Quadrat des Feinjustierbereiches zu benutzen, in der dazu senkrechten Richtung das rechte oder linke Quadrat.

Neben den hier in den Ausführungsbeispielen gezeigten Justieröffnungen in einer Maske sind andere, beliebig geformte öffnungen sowohl für den Einfangbereich als auch für den Feinjustierbereich möglich.

Die Erfindung ist nicht nur bei Elektronenstrahlgeräten, sondern auch bei Ionenstrahlgeräten dieser Art anwendbar.

Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims (5)

Patentansprüche:

1. Korpuskularstrahloptisches Gerät zur Projektion einer durch ein Kondensorlinssensystem gleichmäßig mit einem Korpuskularstrahl beleuchteten Maske auf ein zu bestrahlendes Präparat, bei dem ein eine Justiermarke enthaltender Bereich des Präparates mit einer Korpuskularstrahlsonde bestrahlt wird, die als punktförmige Sonde eine Justieröffnung in der Maske durchsetzt und durch ein in Strahlrichtung oberhalb der Maske angeordnetes Ablenksystem rasterförmig ausgeienkt wird, und bei dem das dabei vom Präparat ausgehende Signal zur Bilderzeugung einem Monitor zugeführt wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Justieroffnung (Aa) aus einem Einfangbereich und einem innerhalb dieses Bereichss liegenden Feinjustierbereich (16a, 18, 20) besteht, daß sowohl der Einfang- als auch der Feinjustierbereich (16a, 18,20) von einem für den Korpuskularstrahl undurchlässigen Rand umgeben sind und daß das korpuskularstrahloptische Bild des Einfangbereiches in der Präparatebene so groß ist, daß die Justiermarke (11a, 21) bei mechanisch ohne Beobachtung des Bildes auf dem Monitor (14) erreichbarer Vorjustierung innerhalb dieses korpuskularstrahloptischen Bildes des Einfangbereiches liegt.

2. Korpuskularstrahloptisches Gerät nach Anspiuch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Feinjustierbereich (16ajaus einer oder mehreren Maschen eines innerhalb des Einfangbereiches aufgespannten Gitters (16)besteht (F i g. 2a).

3. Korpuskularstrahloptisches Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Rand des Feinjustierbereiches (18) über ein Stützgitter (19) mit dem Rand (17) des Einfangbereiches verbunden ist (Fig. 2b).

4. Korpuskularstrahloptisches Gerät nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Rand des Feinjustierbereiches (18) breiter als die Stegbreite des Stützgitters (19) ist.

5. Verfahren zur Justierung einer Maske relativ zu einem Präparat mit einem Gerät nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß durch eine Grobjustierung die Marke (IbJ auf dem Präparat (11) in den Feinjustierbereich (16a, 18, 20) der Maske (4) geschoben wird, in dem nach einer Erhöhung der Vergrößerung die Feinjustierung vorgenommen wird.