DE1953712C3 - Vorrichtung zum Erzeugen eines Musters auf einem Werkstück mit Hilfe eines Elektronenstrahls - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Erzeugen eines Musters auf einem Werkstück mit Hilfe enes Elektronenstrahls, bei der die Lage eines Werkstückträges in bezug auf den Elektronenstrahl reproduzierbar einstellbar ist.

Solche Vorrichtungen werden für Elektronengeräte benötigt, mit denen sich lichtempfindliche Flächen bedrucken, insbesondere Platten aus Silicium oder einem sonstigen Halbleitermaterial, während der Herstellung von Halbleiterschaltungen wie Dioden, Transistoren und integrierten Mikroschaltungen belegen lassen (Philips Technische Rundschau, 28. Jg., 1967, Nr. 8/9/10, Seiten 275 bis 278, »Technologische Anwendungen von Elektronenstrahlen«).

Halbleiterplatten können durch Photolithographie mittels eines Harzes, das gegenüber Säuren widerstandsfähig ist, wenn es einer aktinischen Strahlung ausgesetzt worden ist, belegt werden. Projiziert man das Bild auf eine zuvor oxydierte und mit einem solchen Harz belegte Siliciumplatte, so härtet das Harz und bleibt nur an den Stellen haften, an denen das Bild hell ist, während das Harz von den dunklen Bereichen des Bildes durch einfaches Abwaschen entfernt werden kann. Ein entsprechender Belag wird gebildet durch die Oxydschicht, die von Fenstern durchbrochen ist, welche man dadurch erhält, daß man die betreffende Scheibe einem Säureeinfluß aussetzt, währenddessen das Oxyd sich aus den Bereichen entfernt, in denen das Harz sich nicht polymerisiert hat. Aufgrund dieses maskenartigen Belages lassen sich die ungeschützten Bereiche, beispielsweise durch Diffusion von Unreinheiten, derart umwandeln, daß Halbleiterschaltungen entstehen. Gewöhnlich werden solche Schaltungen in einer Großzahl auf ein und derselben Platte auf diese Weise gefertigt, von denen jede eine Abmessung von nur einem Bruchteil eines Millimeters haben kann.

Bei Verwendung von Lichtstrahlen ist das beste is Auflösungsvermögen, das man für die Maske erreichen kann, auf etwa 0,5 μπι durch Beugung des Lichtes beschränkt. Aber infolge verschiedener Effekte wie Streuung des Lichtes im Harz, Randwirkungen usw. ist das Auflösungsvermögen praktisch auf einen Wert von nahe 2 μηι beschränkt, der häufig unzureichend ist, um ein hohes Integrationsniveau zuzulassen. Um ein größeres Auflösungsvermögen zu erzielen, wird das Harz mit einem Elektronenstrahl lichtempfindlich gemacht, und zwar unter Ausnutzung der aktinischen Wirkung von Elektronen auf die Mehrzahl lichtempfindlicher Harze. Die Techniken, die hierfür bislang entwickelt worden sind, sind gewöhnlich eng verknüpft !ait dem Bereich der mit elektronischer Abtastung arbeitenden Mikroskopie. 3p Das große Auflösungsvermögen der Elektronenstrahlen kann nur dann wirksam ausgenutzt werden, wenn der Werkstückträger in bezug auf den Elektronenstrahl mit einer Genauigkeit, die dem Auflösungsvermögen des Elektronenstrahls entspricht, reproduzierbar einstellbar ist.

Aus der US-PS 3233 749 ist eine Vorrichtung zur Steuerung der Bewegungen eines Arbeitstisches bekannt. Bei dieser bekannten Vorrichtung sind an zwei zueinander senkrechten Seiten des Arbeitstisches piezoelektrische oder magnetostriktive Säulen angeordnet. Diese Säulen können abschnittsweise oder vollständig nach einem Programm aktiviert werden, wodurch sich die gewünschten Einstellungen des Arbeitstisches ergeben. Zwar ist die Verwendung des bekannten Tisches im Zusammenhang mit Elektronenstrahlgeräten angedeutet, die Genauigkeit der Einstellung des Tisches und vor allem ihre Reproduzierbarkeit reichen jedoch nicht aus, um den bekannten Tisch bei einer Vorrichtung zum Erzeugen eines Musters mit Hilfe eines Elektronenstrahls der eingangs genannten Art, bei der die Einstellgenauigkeit in der Größenordnung des Auflösungsvermögens des Elektronenstrahls liegen soll, wirksam, d. h. unter voller Ausnützung des Auflösungsvermögens des Elektronenstrahls einzusetzen. Darüber hinaus ist der bekannte Tisch nicht ausreichend gegen eine Verdrehung um seine Flächennormale beim Wiederholen der Einstellung gesichert. Schließlich kann der bekannte Tisch nur innerhalb des durch das Längenänderungsvermögen der magnetostriktiven Elemente gegebenen Bereichsauf definierte Positionen eingestellt werden Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, für eine Vorrichtung der eingangs genannten Art eine Einrichtung anzugeben, durch die ein Werkstück mogliehst genau reproduzierbar in bestimmte, innerhalb eines weiten Bereichs liegende Positionen gebracht werden kann, wobei auch Verdrehungen des Werkstücks in der Arbeitsebene bei wiederholtem Positio-

nieren vermieden werden.
Diese Aufgabe ist dadurch gelöst,

a) daß der Werkstückträger durch drei elektrostriktive Elemente an einem Kreuzschlitten befestigt ist,

b) daß zwei der elektrostriktiven Elemente zueinander parallel und das dritte elektrostriktive Element in bezug auf die ersten beiden senkrecht angeordnet sind,

c) daß an dem Werkstückträger mindestens zwei zueinander senkrechte Interferometerspiegel befestigt sind und auf einen der beiden Interferometerspiegel zwei monochromatische Lichtstrahlen zweier ortsfester Interferometer und auf den zweiten Interferometerspiegel ein monochromatischer Lichtstrahl eines dritten ortsfesten Interferometers jeweils senkrecht gerichtet sind, und

d) daß eine Steuerschaltung vorgesehen ist, die die mit Hilfe der Interferometer erzeugten Signale verarbeitet und die Einstellung der Lage des Werkstückträgers über den Kreuzschlitten und die elektrostriktiven Elemente steuert.

Mit der Vorrichtung gemäß der Erfindung kann der Werkstückträger mit Hilfe des Kreuzschlittens und der drei an diesem befestigten elektrostriktiven Elemente exakt über einen weiten Bereich positioniert werden. Die genaue Lage des Werkstückträgers wird durch drei Interferometer überwacht. Lageveränderungendes Werkstückträgers, die sich bei den Interferometern durch das Erscheinen von Interferenz;naxima und Interferenzminima bemerkbar machen, die wiederum durch einen Vorwärts-Rückwärtszähler erfaßt werden können, werden an die Steuerschaltung gemeldet. Diese erzeugt daraus Signale für die Einstellung des Werkstückträgers über den Kreuzschlitten und die elektrostriktiven Elemente.

Die Erfindung wird im folgenden anhand des in der Figur schematisch dargestellten Ausführungsbeispieles näher erläutert.

Ein Mikroskop mit elektronischer Abtastung kann dazu dienen, um Halbleiterplatten zu belegen oder zu maskieren.

Die Anfertigung von Schaltungen macht häufig aufeinanderfolgende Belegungen notwendig, zwischen denen Herstellungsvorgänge wie Diffusionen erfolgen; es ist wesentlich dabei, daß die Platte wiederholt unter den Elektronenstrahl in eine Lage gebracht werden kann, die dadurch bestimmt ist, daß die sich entsprechenden Elementarsätze aufeinanderfolgender Belegungen mit größtmöglicher Genauigkeit übereinander zu liegen kommen.

Zum Maskieren einer Halbleiterscheibe läßt sich eine Anlage verwenden, deren Einzelteile in der Figur wiedergegeben sind.

In dieser Anlage ist ein Werkstückträger BS vorgesehen, auf dessen Oberfläche ein Werkstück, nämlich eine oxydierte und mit lichtempfindlichem Harz überzogene Siliziumscheibe 21 angeordnet werden kann. Der Werkstückträger BS ist mittels Klauen 22 befestigt. Die Scheibe 21 nimm? ·■: .-teile der betreffenden Probe in dem Gehäuse des Elektronenmikroskops ein. Von diesem ist teilweise die Wand 24 dargestellt. Der untere Teil des Werkstückträgers BS ruht in einem Kreuzschlitten 23; der Werkstückträger BS und der Rahmen 23 sind mechanisch miteinander verbunden über drei feinregelbare elektrostriktive Elemente CYl, CXl, CY, die zwischen Flächen des Werkstückträgers und des Kreuzschlittens eingekeilt sind. Zwei elektrostriktive Elemente CXL, CXl befinden sich zwischen zur Achse X senkrechten Flächen und das Element CY zwischen zur Achse Y senkrechten Flächen. Der Werkstückträger BS und der Kreuzschlitten 23 bestehen aus einem Metall mit geringem Wärmedilatationskoeffizienten. Die Elemente CXl, CXl, CY können piezoelektrisch sein. Piezoelektrische Elemente sind bekannte Einrichtungen, die ein

ίο Keramikmaterial wie Bariumtitanat benutzen, das die Eigenschaft hat, sich unter der Einwirkung eines elektrischen Feldes auszudehnen. Gemäß der Figur besteht jedes Element aus zwei parallelen Keramikplättchen; elektrische Signale jcl, x2 und y erzeugen die Polarisation der Elemente. Empfehlenswerterweise werden die Elemente mit einer Abschirmung versehen, um zu vermeiden, daß sie Störfeldern ausgesetzt sind oder solche hervorrufen. In der Figur ist der Winkelabstand zwischen den Flächen des Werkstückträgers BS und denen des Kreuzschlittens 23 übertrieben groß ausgeführt, um die Wirkung der elektrostriktiven Elemente besser zu veranschaulichen. Der Kreuzschlitten 23 sitzt auf einem nicht dargestellten Goniometer. Das von Hand mittels des Drehknopfs G regelbare Coniometer bewirkt die Vorregelung der Ausrichtung. Der Kreuzschlitten ist in den Richtungen X bzw. Y mittels von Regelmotoren QX und QY gesteuerter Mikrometerschrauben VX und VY über Strecken verschiebbar, die mindestens dem Durchmesser der Scheibe 21 entsprechen. Die Motore QX und QYbefinden sich außerhalb des Mikroskops, und ihre Übertragungswellen 25 und 26 durchqueren die Wand 24 über luftdichte Durchführungen. Die Welle 26 ist mit der Schraube VX über ein Kegelgetriebe verbunden.

Die Wand 24 des Mikroskops enthält ein durchsichtiges Fenster 27. Ein außerhalb des Gehäuses vorgesehener Laser, vorzugsweise von der stabilisierten Monomode-Type, sendet über das Fenster 27 einen Lichtstrahl, der im Innern des Vakuumraums gleichzeitig drei Interferometer belichtet, und zwar über zwei halbdurchlässige Spiegel 510 und 511 und vier Spiegel Ml, M2, M3 und M4. Die Michelson-Interferometer besitzen einen festen Spiegel, einen bewegliehen Spiegel und einen festen halbdurchlässigen Spiegel. Die festen und die halbdurchlässigen Spiegel bilden drei Gruppen, von denen zwei, nämlich FXl bis 5ΑΊ und FXl bis 5A"2, längs derjenigen Fläche des Werkstückträgers BS angeordnet sind, die derjenigen gegenüberliegt, die sich auf den beiden piezoelektrischen Elementen abstützen; die dritte Gruppe, nämlich FY bis SY, ist längs einer zum Werkstückträger BS senkrechten Fläche angeordnet. Die Gruppen fester Spiegel sind starr mit einem festen, wenig dilatationsfähigen Teil des nicht dargestellten Mikroskops verbunden, das mit der Ausgangsblende des Elektronenstrahls kraftschlüssig verbunden ist. Die beweglichen Spiegel AX und AY sind mit den senkrechten Flächen des Werkstückträgers BS verbunden, längs deren die Gruppen fester Spiegel angeordnet sind. Es gibt nur zwei bewegliche Spiegel, denn einer derselben, nämlich AX, ist für die beiden längs ein und derselben Fläche angeordneten Interferometer gemeinsam vorgesehen. Die beweglichen Spiegel AX und AY

müssen starr verbunden sein mit der Plattenauflage, um eine gute Planfläche zu bilden, und einen Winkel von genau 90° einschließen.

Das von dem an den beweglichen Snieppl A Y op-

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koppelten Interferometers abgegebene Licht durchdringt das Fenster 27 des Vakuumraums und gelangt darauf an eine Empfangseinheit EY. Ebenso wird das von den beiden an den beweglichen Spiegel AX gekoppelten Interferometer auf Empfangseinheiten EXl und EXl gesandt, und zwar jeweils mittels eines Satzes Spiegel MS, M6, MI und M8. Diese Empfangseinheiten befinden sich außerhalb des Vakuumraums 24.

Die Lichtstärke des von den Interferometern abgegebenen Lichts ändert sich sinusförmig infolge der Aufeinanderfolge der Interferenzstreifen, wenn sich der Werkstückträger BS gegenüber der Ausgangsöffnung des Elektronenstrahls verschiebt; die von den Empfangseinheiten vorgenommene Zählung der Interferenzstreifen erlaubt, die Verschiebung des Werkstückträgers zu messen. In solchen Schaltungen läßt ein vor- und rückwärtszählender Zähler eine Lage bestimmen mit einer größeren Genauigkeit als 0,1 μπι.

Die Empfangseinheiten EXl, EXl und EY können eine unmittelbare Ablesung der Streifenanzahl oder selbst Bruchteile von Streifen liefern; sie liefern außerdem in Abhängigkeit dieser Zahlen elektrische Signale, die sich auf verschiedene Weise auswerten lassen. Schon hieraus geht hervor, daß

— die von der Empfangseinheit EY gezählte Streifenanzahl zur Messung einer Verschiebung des Werkstückträgers längs der Achse Y,

— die von der einen oder anderen der Empfangseinheiten EXl und EX2 gezählte Streifenzahl zur Messung einer Verschiebung des Werkstückträgers längs der Achse X, und

— die Differenz der von den Empfangseinheiten EXl und EXl gezählten Sireifenzahl zur Auswertung einer Drehung des Werkstückträgers dienen kann.

Die Ausgangssignale der Empfangseinheiten EXl, EXl und EY werden an eine Regelschaltung AS angelegt, die übliche Schaltungen enthält, mit denen sich die Motore QX und QY sowie die Vorspannungen xl, xl und y auf einen Abstand zwischen einer angegebenen Streifenzahl und der von den Empfangseinheiten angezeigten Streifenzahl einregeln lassen. Nicht dargestellte Organe erlauben außerdem die Steuerung der Motore und Vorspannung von Hand. Die Steuerschaltung AS kann auch an einen Prozeßrechner CS angeschaltet sein, der in der Lage ist, gemäß einem vorgegebenen Programm die Folge der Operationen der Steuerschaltung zu steuern.

Die soeben beschriebenen Änderungen eines Elektronenmikroskops durch Verwendung einer Anordnung gemäß der Erfindung führer, zu einer Betriebsweise beim Maskieren der Siliziumscheibe 21. Wie bereits erwähnt, belegt die elektronische Abtastung eine geringe Fläche dieser Scheibe, die nur einen Elementarsatz der Maske enthält. Eine vollständige Maske kann zusammengesetzt werden aus einer großen Anzahl solcher Elementarsätze, die nach einer Matratze verteilt sind. Es ist notwendig, die Scheibe nach dem Druck jedes einzelnen Elementarsatzes um eine Strecke zu verschieben, die der Teilung dieser Elementarsätze entspricht, damit aufeinanderfolgende Abtastungen nacheinander den Druck sämtlicher Elementarsätze der Maske verursachen. Diese Translationsverschiebung der Scheibe kann längs der Achse X erfolgen, um eine Zeile der Elementarsätze zu erzeugen, und dann längs der Achse Y vorgenommen werden, um von einer auf die nächste Zeile überzugehen.

Gemäß der Erfindung kann der Operationszyklus automatisch ablaufen. Zu diesem Zweck versieht man den Prozeßrechner CS mit einem Programm aufeinanderfolgender Operationen, gemäß welchem die Steuerschaltung AS periodisch die Motore QX und QY in Gang setzt, welche ihren Betrieb auf angezeigte Streifenzahl regeln. Gewünschtenfalls lassen sich die Motoren auch von Hand regeln und dfe der Verschiebung der Scheibe entsprechenden Streifenzahlen von den Zählern EXl, EXl und EY ablesen.

Da die Genauigkeit der durch die Motore gesteuerten mechanischen Einrichtungen kleiner gegenüber derjenigen ist, welche die Zählung der Streifen liefert, werden jedoch zweckmäßig die Motore angehalten, bevor die Streitenzähiung beendet ist. Man kann daraufhin die Vorspannung χ, xl und y der piezoelektrischen Elemente in einer Richtung sich ändern lassen, damit die Dilatation der Elemente, die sich aus der Änderung der Vorspannung ergibt, die Scheibe in die gewünschte Lage bringt und bis diese Lage erreicht ist. Ein solches Einwirken auf die Vorspannung der elektrostriktiven Elemente kann ebenfalls selbsttätig erfolgen.

Wenn die elektrostriktiven Elemente ihre auf eine Streifenanzahl eingeregelte Vorspannung besitzen, stellt sich eine automatische Kompensierung der zufälligen Verschiebung ein, die sich entweder durch mechanisches Spiel oder auf Grund Wärmedilatation einstellen kann. Die Kompensation erfolgt längs der Achsen X und Y und in den beiden Laufrichtungen sowie nach Drehung; im letzteren Fall resultiert die Kompensation aus einer ungleichen Änderung der Vorspannung der beiden elektrostriktiven Elemente CXl und CXl.

Die Dilatation oder die Kontraktion der piezoelektrischen Elemente kann auch außerordentlich geringe Verschiebungen verursachen, die kleiner sind als die Breite der Streifen; diese Verschiebungen werden durch Interferometrie mit einer Genauigkeit gemessen, die ebenfalls geringer ist als die Breite der Streifen, so daß die Gesamtgenauigkeit leicht besser als 0,1 μπι sein kann. Eine solche Genauigkeit ist auch durch die Dimension des Elektronenstrahls und durch die Fläche der Abtastung bedingt.

Die Verschiebungen werden gegenüber einem festen Punkt des Elektronenstrahls gemessen, den man auf die Ausgangsöffnung dieses Strahls legen kann, da die ortsfesten Spiegel der Interferometer über Zwischenteile starr mit der Ausgangsblende des Strahlenbündels verbunden sind. Die Automatisation der Verschiebungen ist ein gewisser Vorteil, da sie Zeit erspart. Die Genauigkeit gewinnt ihre Bedeutung in dem Fall, in dem es notwendig ist, aufeinanderfolgende Maskierungsvorgänge vorzunehmen, zwischen denen die Scheibe gereinigt und darauf Behandlungen wie Unreinheitsdiffusionen in den Bereichen der Scheibe unterworfen wird, die durch die Maske nicht geschützt werden. Während aufeinanderfolgender Maskierungen bildet man Masken, deren Einzelsätze — wenn auch allgemein verschieden — übereinandersetzbar sind, und es ist absolut notwendig, daß sämtliche Einzelsätze aufeinanderfolgender Masken sich auf der Scheibe mit einer größtmöglichen Genauigkeit überlagern. Es ist daher notwendig, daß das Vorrükken der Einzelmotive so gleichmäßig wie möglich erfolgt, was sich mit einer Anordnung gemäß der Erfindung erreichen läßt. Ferner muß man bei jeder

Maskierung die Scheibe auf ihrer Auflage anordnen, um ihr eine Lage zu geben, die gegenüber einem Fixpunkt des Elektronenstrahls genau bestimmt ist.

Mit der beschriebenen Vorrichtung läßt sich wiederholbar und mit höchster Genauigkeit die Scheibe auf eine Lage einstellen, die gegenüber einem Fixpunkt des Elektronenstrahls und gegenüber der Abtastrichtung markiert ist. Zu diesem Zweck werden auf der Scheibe zwei unveränderliche mikroskopische Markierungen wie beispielsweise Marken an den Enden eines Durchmessers der Scheibe gezogen. Außerdem wird eine sichtbare Marke auf den Schirm der Beobachtungskathodenröhre, beispielsweise in der Mitte deren Bildschirms aufgebracht. Man betätigt die Mikrometereinrichtungen des Mikroskops, um die '5 Scheibe derart auszurichten, daß man durch Verschiebung der Scheibe längs der Achse X die beiden Marken unter die Ausgangsöffnung des Elektronenstrahls führt und sodann die Scheibe in eine Lage bringt, in der die erstere Marke sich unter der öffnung befindet. Darauf läßt man das Material im Mikroskop in seiner üblichen Verwendung arbeiten und betätigt, indem man auf dem Bildschirm der Kathodenröhre das Zusammenfallen der Marke dieses Schirms mit dem vergrößerten Bild der ersten Marke der Scheibe beobachtet, zunächst die Motre QX und QY der Mikrometereinrichtungen und stellt dann, wenn man an die Genauigkeitsgrenze der Einrichtungen gelangt, die Vorspannungen jcl, x2 und y der piezoelektrischen Elemente CYl, CX2 und CY so lange ein, bis die Marken vollkommen zusammenfallen. Darauf verschiebt man die Scheibe in Richtung der Achse X, indem man den Motor QX so lange laufen läßt, bis das vergrößerte Bild der zweiten Marke der Scheibe sehr nahe an die Marke des Beobachtungsschirms herankommt; sodann kann man diese Annäherung vollenden, indem man in einer gleichen Messung und in gleicher Richtung auf die Vorspannung xl und x2 der elektrostriktiven Elemente CXl und CX2 einwirkt, jedoch kann es hierbei auch passieren, daß infolge eines Ausrichtfehlers der Marken auf der Achse X eine Drehung der Scheibe notwendig wird, damit die beiden Marken zusammenfallen, eine ausreichende Drehung kann sich dadurch erzielen lassen, daß man in einer gleichen Messung und in entgegen- -t5 gesetzter Richtung auf die Vorspannung der Ausrichtkeile CXX und CX2 oder wenn möglich in einer entsprechenden Messung einwirkt, um die Scheibe in ihrer Ebene um die erste Marke Rl sich drehen zu lassen. Hierbei können die Vorspannung der Keile CXl und CX2 sowie der Motor QX von Hand gesteuert werden, jedoch kann die Steuerung auch durch Regelung erfolgen, indem man die Steifenzahl anzeigt, welche der Entfernung entspricht, die die beiden Marken der Scheibe trennt.

Wenn die Lage der Scheibe auf diese Weise eingeregelt ist, legt man den Ursprung der Koordinaten auf eine der beiden Marken der Scheibe Rl. Zu diesem Zweck bringt man das Bild der Marke in Zusammentreffen mit der Marke des Schirms und setzt die Streifenzähler auf Null. Anschließend unterbricht man zum Druck der Einzelsätze auf der Scheibe mittels des Elektronenstrahls den bisher als Mikroskop durchgeführten Betrieb und geht auf die Betriebsweise als Schreiber über, in welcher die Intensität des Elektronenstrahls gesteuert wird.

Um die Scheibe in die Lage zu führen, die für den Druck eines ersten Einzelwesens geeignet ist, und um diese Scheibe um Strecken zu verschieben, die den Teilungen dieser Einzelsätze gleich sind, beobachtet man die Verschiebungsmessungen, die in Streifenzahlen durch die Zähler EXl, EX2 und EY angegeben werden. Der Operationszyklus kann auch automatisch auf entsprechende Art erfolgen, die zuvor bereits für den Fall beschrieben wurde, in dem man keine sich wiederholenden Maskierungen vorgesehen hat.

Die Lage eines Einzelsatzes der Maske kann somit mit einer Genauigkeit von 0,1 % fixiert und höher sein als die Breite einer vom Elektronenstrahl abgetasteten Fläche. Wenn man beispielsweise eine Genauigkeit von etwa 0,1 μηι wählt, so kann der Einzelsatz der Maske etwa ΙΟΟμίη Seitenlänge einnehmen.

Vorzugsweise wählt man eine ganze Zahl an Interferenzstreifen wie an Teilungen der Einzelsätze der Maske. Eine besonders geeignete Abmessung ist 324 μπι, d. h. 2"' Wellenlängen eines Helium-Neon-Lagers. Der Einzelsalz der Maske kann somit 162 μπι Seitenlänge haben, wobei beiderseits der Einzelsätze ein freier Raum von etwa 100 Jim für Zwischenverbindungen verbleiben kann. Auf einer Siliziumscheibe können 2'" Elementarsätze gleicher Abmessung ein Quadrat von 10 mm Seitenlänge einnehmen, und der restliche Platz der Scheibe ist verfügbar für die Zwischenverbindungen.

Die an die Schnelligkeit und Sicherheit der Vorgänge bei automatischer Betriebsweise geknüpfte Genauigkeit erlaubt, auf ein und derselben Platte eine größere Anzahl integrierter Schaltkreise und sonstige Halbleiterschaltungen vorzusehen, wie dies bislang möglich war.

Mit der Anlage gemäß der Erfindung kann mit einem Material gearbeitet werden, in welchem die Intensität des Elektronenstrahls zeitabhängig gesteuert wird.

Hierzu 1 Blatt Zeichnunccn

Claims (3)

Patentansprüche:

1. Vorrichtung zum Erzeugen eines Musters auf einem Werkstück mit Hilfe eines Elektronenstrahls, bei der die Lage eines Werkstückträgers in bezug auf den Elektronenstrahl reproduzierbar einstellbar ist, dadurch gekennzeichnet,

a) daß der Werkstückträger (BS) durch drei elektrostriktive Elemente (CXl, CXl, CY) an einem Kreuzschlitten (23) befestigt ist,

b) daß zwei der elektrostriktiven Elemente (CÄ'l, CXT) zueinander parallel und das dritte elektrostriktive Element (CY) in bezug auf die ersten beiden senkrecht angeordnet sind,

c) daß an dem Werkstückträger (BS) mindestens zwei zueinander senkrechte Interferometerspiegel (AX, A Y) befestigt sind und auf einen der beiden Interferometerspiegel (AX) zwei monochromatische Lichtstrahlen zweier ortsfester Interferometer und auf den zweiten Interferometerspiegel (AY) ein monochromatischer Lichtstrahl eines dritten ortsfesten Interferometers jeweils senkrecht gerichtet sind, und

d) daß eine Steuerschaltung (AS) vorgesehen ist, die die mit Hilfe der Interferometer erzeugten Signale verarbeitet und die Einstellung der Lage des Werkstückträgers (BS) über den Kreuzschlitten (23) und die elektrostriktiven Elemente (CXl, CXl, CY) steuert.

2. Vorrichtung nach Anspruch I₁ dadurch gekennzeichnet, daß die elektrostriktiven Elemente (CXl, CXl, CY) aus Bariumtitanat bestehen.

3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die monochromatischen Strahlen Laserstrahler, sind.