DE2650124A1 - Vorrichtung fuer spektrochemische untersuchungen, insbesondere fuer die laser-mikrospektralanalyse - Google Patents
Vorrichtung fuer spektrochemische untersuchungen, insbesondere fuer die laser-mikrospektralanalyseInfo
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Description
ι it\
Titel: Vorrichtung für spektrochemische Untersuchungen,
insbesondere für die Laser-Mikrospektralanalyse
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung für spektrochemische
Untersuchungen, insbesondere für die Laser-Mikrospektralanalyse.
Charakteristik der bekannten technischen Lösungen:
Bei der Laser-Mikrospektralanalyse wird die zu untersuchende
Probe mit einem fokussierten Laserstrahl verdampft und der Probendampf zum Leuchten angeregt. Die
emittierte Strahlung wird dann in üblicher Weise mittels eines Spektrographen untersucht.
Obwohl man bei Verwendung z. B. eines gütegeschalteten Festkörperlasers oder TEA-Gaslasers zur Mikrospektralanalyse
auf eine zusätzliche Anregung der Probendampfwolke verzichten kann, weil diese meist selbst schon
bis zur Eigenstrahlung aufgeheizt ist, sind doch alle
kommerziellen Laser-Mikroapektralanalysatoren mit einer
Vorrichtung für die Anregung, vorzugsweise mit einer mit der Blitzlampenauslösung des Lasers oder der Entstehung
des Lasermikroplasmas synchronisierten Hilfsfunkenanregung ausgerüstet..Die Trennung von Verdampfung und Anregung
gestattet es, beide Vorgänge unabhängig voneinander zu optimieren und die Spektrallinienintensität und das
Spektrallinienprofil für die Registrierung des Lasermikroplasmas wesentlich zu verbessern·
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Andererseits erfordert die Trennung von Verdampfung und Anregung zusätzliche Apparaturen zur Erzeugung und
Zuführung der Anregungsenergie, wie z. B. die Einrichtungen zur elektrischen Punkentladung, Hohlraumresonatoren, Vakuumgefäße
u. a«, die es mit sich bringen, daß die Probe bei den Analys!erarbeiten oft schwer zugänglich ist bzw.
erst verkleinert oder bearbeitet werden muß·
Es ist auch schon bekannt, die Anregung des.Probendampf
es mit einem zweiten Laserstrahl vorzunehmen, wobei dessen Fokus innerhalb der Dampfwolke liegt. Während jedoch die einen schon genannten Anregungsverfahren einen
größeren Raum als die Probendampf wolke bei der Anregung erfassen,
wird bei der Verwendung eines zweiten, fokussierten Laserstrahles die Probendampfwolke nur sehr ungleichmäßig
infolge der vom Fokus des Laserstrahls nach außen hin rasch abfallenden Leistungsdichte angeregt, Dadurch
kommt es häufig zur unerwünschten Selbstumkehr der emittierten Spektrallinien. Außerdem läßt sich die zeltliche
Synchronisierung der beiden Laserbündel nur schwlerig erreichen. Würde man zu diesem Zweck ein zweites Laserstrahlbündel
aus der gleichen Laserquelle etwa durch Strahlaufspaltung ableiten, dann steht der Laserimpuls
zur Anregung des Materialdampfs zeitlich zu früh zur Verfügung, weil vom Auftreffen des Laserstrahls auf das Probenmaterlal
bis zum Entstehen· der Probendampfwolke eine
endliche Zelt vergeht. Es muß daher die Anregung durch einen zweiten Impuls vorgenommen werden, der gegenüber
dem ersten Impuls mit einer gewissen zeitlichen Verzögerung auftritt.
Darlegung
dea
Wesens der Erfindung?
Zur Vermeidung der Nachteile der bekannten Anordnungen
hat sich die Erfindung die Aufgabe gestellt, eine Vorrichtung zu schaffen, die eine möglichst gleichmäßige Anregung
eines großen Bereichs der Probendampfwolke gewährleistet, ohne daß dazu etwa aufwendige Apparaturen oder
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-Jf- g
26.5Π124
eine spezielle Probenvorbereitung notwendig wären·
Der Lösung der Aufgabe wird die bereits bekannte Vorrichtung zur Laserspektralanalyse zugrunde gelegt, die
im wesentlichen aus einem Laser als Energiequelle zur Verdampfung von Probenmaterial, einem optischen System
zur Fokussierung der Laserstrahlung auf die Oberfläche der Probe und aus Mitteln zur Anregung des verdampften
Probenmaterials besteht,
Erfxhdungsgemaß wird die Aufgabe dadurch gelöst,
daß die Mittel zur Anregung des verdampften Targetmaterials eine Anordnung zur Erzeugung von mindestens zwei räumlich
getrennten Teillichtbundein aus dem Licht der Laserlichtquelle
sowie mindestens ein zum Target benachbart angeordnetes Hilfstarget umfassen, wobei sich das Target
im Strahlengang und zumindest in Fokusnähe des einen Teillichtbündels und jedes Hilfstarget im Strahlengang und
zumindest in Fokusnähe von mindestens einem der übrigen Teillichtbundel befindet und wobei die bestrahlten Oberflächen
von Target und Hilfstarget einander benachbart angeordnet sind.
Es ist von Vorteil, wenn die Anordnung zur Erzeugung von zwei Teillichtbündeln im wesentlichen aus einer lichtdurchlässigen,
teilweise keilförmigen Platte besteht, die sich im Lichtweg zwischen einem Objektiv zur Fokussierung
des kohärenten Lichtes und dem zu analysierenden Target befindet·
Es ist weiterhin von Vorteil, wenn die Anordnung zur Erzeugung von zwei Teillichtbündeln im wesentlichen
aus der.Laser-Lichtquelle besteht und diese so ausgebil-"
det ist, daß aus ihren beiden Resonatorenden je ein Teillichtbündel
auskoppelbar ist, und daß die optischen Mittel zur Fokussierung aus zwei optischen Systemen bestehen,
von denen das erste System im Lichtweg des einen Teillichtbündels angeordnet ist und dieses Teillichtbündel
nach Umlenkung an einem ersten Reflektor auf das Target
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fokussiert und das zweite System im liohtweg des anderen
TeillichtbundeIs angeordnet ist und dieses andere Teillichtbündel
nach Umlenkung an einem zweiten Reflektor auf das Hilfstarget fokussiert. Außerdem ist es von Vorteil,
wenn die Anordnung zur Erzeugung der Teillichtbündel, mindestens zwei gütegeschaltete Laser-Lichtquellen
umfaßt, von denen jedes eines der Teillichtbündel aussendet
·
Weiterhin ist von Vorteil, eine Anordnung zur Erzeugung der Teillichtbündel zu verwenden, die aus einer
Laser-Lichtquelle, aus einem in Lichtausbreitungsrichtung.
nacheinander angeordnetem bifokalen Spiegellinsenobjektiv, einem lichtdurchlässigen Hilfstarget mit zueinander.paralleler
Ober- und Unterseite und dem Target besteht, wobei das Linsensystem des Spiegellinsenobjektivs die achsnahen
Lichtstrahlen auf die dem Target zugewandte Unterseite des Hilfstargets und das Spiegelsystem des Spiegellinsenobjektivs
die achsfernen Lichtstrahlen des Laser-Lichtbündeis durch das Hilfstarget hindurch auf die Oberfläche des
Targets fokussiert·
Ferner ist es von Vorteil, die Vorrichtung mit.einer
Abbildungsoptik und einem Spektrographen zu versehen,.wobei
die Abbildungsoptik die Strahlung des verdampften, angeregten Targetmaterials durch die Spaltblende in die
Optik des Spektrographen abbildet.
Schließlich ist es von Vorteil, die Vorrichtung mit einem optischen System zur Betrachtung der Targetoberfläche
zu versehen, um damit die zu analysierende Stelle des Targets aussuchen zu können«
Die erfindungsgemäße Vorrichtung unterscheidet sich
somit von den bekannten Anordnungen und Verfahren vorteilhaft in der Weise, daß die Anregung des verdampften
Targetmaterials durch ein zusätzliches Mikroplasma erfolgt, welches durch Materialverdampfung infolge Bestrahlung der
Oberfläche des Hilfstargets durch ein weiteres Laser-
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-sr-
?
Lichtbündel erzeugt wurde. Von seinem Entstehungsort auf der Oberfläche des Hilfstargets ausgehend, bewegt
sich das aus verdampften Material des Hilfstarges bestehende Mikroplasma exposionsartig fort und expandiert
in die Materialdampfwolke des Probentargets hinein· Dabei kommt es durch Energieaustausch zwischen den angeregten
und nicht angeregten Partnern beider Materialdampf- bzw. Plasmawolken zur Wechselwirkung und damit zur Emission
von Strahlung aus dem Targetdampf, Wenn die Energie zum
Erzeugen des anregenden Mikroplasmas und des Target-Mikrosplasmas aus der gleichen Laser-Lichtquelle stammen,
erreicht man neben einer zeitlich exakten Synchronisierung der Momente des Entstehens beider Plasmen auch eine verbesserte
Reproduzierbarkeit der Meßergebnisse. Die beträchtliche Energiedichte der Laserstrahlung erweist sich,
infolge der Notwendigkeit, zwei Plasmen anregen zu müssen,
als Vorteil der Erfindung gegenüber den bekannten Methoden
und Vorrichtungen, bei denen besonders bei Untersuchungen von sehr kleinen Objekten die Intensität der Laserstrahlung
oft abgeschwächt werden muß.
Die Merkmale der Erfindung ergeben sich,aus der nachfolgenden
Beschreibung und den Ausführungsbeispielen in Verbindung mit den schematischen Zeichnungen. Es zeigern
Pig. 1a den zeitlichen Impulsverlauf eines zur
Anregung eines Lasers dienenden Blitzlichtimpulses (Intensität Jg der Blitzlampe,
Zeit t des Licht impulses, Δ t λ 1 ms
Fig. 1b den zeitlichen Verlauf einer Laser-Impulsfolge,
die durch den Blitzlichtimpuls nach
Fig. 1a erzeugt wurde.(Intensität, des La-. , serlichtes J1, Zeit t, Δ t^ ^10/Us)
Fig. 1c den zeitlichen Verlauf der durch einen Laser spike ausgelösten und vom Mikroplasma
emittierten Strahlung (Intensität IM der
Strahlung des Mikroplasmas, Zeit t,
^tn «»100 ns), die sich wiederum zusammen- 0 70984S/0640
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setzt aus der Strahlungsintensität JK der
Kontinuumsstrahlung zum zeitlichen Beginn
der Emission und der Strahlungsintensität J„ des Linienspektrums)
Pig. 2 die schematische Darstellung des Aufbaus
einer erfindungsgemäßen Vorrichtung zu spektroohemisehen Untersuchungen
Fig. 3 die schematische Darstellung einer weiteren Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vor-.
richtung,
Fig. 4 die schematische Darstellung einer weiteren möglichen Ausführungsform der erfindungsgemäßen
Vorrichtung unter Einbeziehung eines bifokalen Spiegelobjektivs zur Strahlentei-
- lung und -fokussierung,
Fig. 5 eine schematische Darstellung der Vorrichtung
nach Fig· 2 mit einer Mikroskopeinrichtung zur Untersuchung der Targetoberfläche.
Der Vorgang der Anregung des aus Atomen und Ionen des Targets bestehenden Mikroplasmas läßt sich etwa folgendermaßen
beschreiben:
Eine Blitzlampe soll während der Zeitdauer Δ tD
einen Blitzlichtimpuls IB emittieren (Fig. 1a) und
einen laser zur Aussendung von η Spikes I.. 2 3###n mit
zwischenzeitlichem Abitand At^ induzieren. Die Zahl Ύ\
und die Zeit Δ tfe lassen sich variieren, etwa durch Änderung
der Anfangstransmission eines passiven Schalters. Jeder dieser ausgekoppelten Laserspikes In verdampft bei
seiner Fokussierung auf die Oberfläche einer Materialprobe eine wenige /um dicke Oberflächenschicht des Targets
und erzeugt ein von der Probenoberfläche aus sich explosionsartig ausbreitendes Mikroplasma· Die Ausbreitungsgeschwindigkeit des Plasmas beträgt in Richtung senkrecht
zur Materialoberfläche ca. 103 m/s« Etwa 10 ns nach dem
Auftreffen eines Laserspikes auf die Targetoberfläche
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läßt sich das Entstehen eines Lasermikroplasmas anhand der emittierten kontinuierlichen Strahlung I^ (Abb. 1c)
nachweisen, die nach einer weiteren Zeitdauer A tQ von ca. 50 bis 300 ns in Emission von Ionen und Atomlinien Ig
übergeht, bis durch Abkühlung des Mikroplasmas ein Abklingen der Emission erfolgt. Die Abkühlung des Mikroplasmas
kann zu Selbstumkehrerscheinungen führen, die sich
auch radial zur Ausbreitungsriehtung, d· h» in Abbildungsrichtung bemerkbar machen, wenn die Anregung des Plasmas
örtlich unterschiedlich ist.
Die integrale Anregungszeit At, z. B. bei Hllfsfunkenanregung,
liegt im allgemeinen in der Größenordnung der
Zeitspanne Z\t„. Infolge der hohen Expansionsgeschwindiga
keit der Laser-Mikroplasmen ist das Mikroplasma des Hilfstargets
aber nur in der Zeitspanne Δΐ< Δΐ^ für die Anregung
des Targetplasmas wirksam« Die Anregung kann deshalb impulsförmig erfolgen und es ist daher naheliegend, das
Mikroplasma des Targets mit dem Mikroplasma des .Hilfstargets
anzuregen, das von demselben Lagerspike, z.B. durch Strahlteilung erzeugt wurde und das in seiner Ausdehnung
das Mikroplasma des Targets voll einschließt. Dieser Prozeß wiederholt sich mit jedem Lagerspike und klingt ab, bevor
der nächste Spike der Laserimpulsgruppe emittiert wird (Fig. 1b).
Weil nach dieser Methode das aus Targetmaterial bestehende Plasma über sein gesamtes Volumen ziemlich gleichmäßig
angeregt werden kann (Abb. 2), ist der radiale Temperaturgradient im Targetplasma geringer und die Erscheinungen
der Selbstumkehr werden verringert.
im folgenden sollen anhand von Beispielen einige
Ausführungsformen der Vorrichtung zur Durchstrahlung und Anregung von Laser-Mikroplasmen durch zusätzliche Hilfsplasmen
bzw. Hilfskrater, die.von anderen .Targetoberflächen
herrühren, beschrieben werden. Jede dieser Anordnungen besteht im wesentlichen aus der Laserquelle, der Pokussier-
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und Strahlenteileroptik und den.Targets.
In der Anordnung nach Pig. 2 wird ein Laserstrahlbündel L an einem Resonatorende eines Lasers A, bestehend
aus einem zwischen einem totalreflektierten Prisma 1 und einem Auskoppelspiegel 2 als Reflektoren angeordneten
aktiven.Medium 3 und einem passiven Schalter 4f ausgekoppelt,
über ein Umlenkprisma 5 umgelenkt und durch ein Linsenobjektiv 6 auf ein zu analysierendes Target 8
fokussiert. Bevor die Laserstrahlung dieses Target erreicht (Teillichtbündel L1), lenkt eine teilweise keilförmige
Glasplatte 7 mit einem Keilwinkel <£- einen Teil
der Strahlung (Teillichtbündel L2) auf die Oberfläche eines Hilfstargets 9· Für den Keilwinkel <f- gilt:
0 «C(L<
45°.
Die Oberflächen des Targets 8 und des Hilfstargets 9 bilden miteinander einen Winkel β , für den gilt:
90°< β ^d 180°.
Beim Auftreffen der Laserstrahlung auf das Target 8 und das Hilfstarget 9 entstehen durch die Materialverdampfung
Mikroplasmen 10 und 11, wobei das Mikroplasma 11 in das Mikroplaema 10 hineinexpandiert bzw. dieses einhüllt.
Dadurch erfolgt ein Energieaustausch zwischen den beiden Plasmen, der zur weiteren Anregung des Mikroplasmas
10 und damit verbunden zur Abgabe von Strahlungsenergie mit einem für das Targetmaterial charakteristischem
Spektrum führt» Um optimale Bedingungen für die Plasmaanregung und dadurch auch eine hohe Kachweisempfindlichkeit
bei spektrochemisohen Analysen zu erzielen, ist es allerdings erforderlich, daß die Intensitäten von beiden
Laser-Teilstrahlenbündeln L1, L2, die der Materialverdampfung
von Target 8 und Hilfstarget 9 dienen sowie der Winkel P innerhalb der angegebenen Grenzen, geeignete
Werte besitzen. Diese Werte müssen für das jeweilige Untersuchungsmaterial durch einige Vorversuche ermittelt
werden. So lassen sich zu diesem Zweck die Lichtintensitä-
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ten der beiden Laser-Teilstrahlenbündel durch Verschieben
der keilförmigen Glasplatte 7 in Richtung eines Doppelpfeils
X und der Winkel \° durch eine durch den Drehpfeil
Y angedeutete Drehung des Hilfstargets um eine Achse Z senkrecht zur optischen Achse O.j-0.. des Laserlichtbündels
Ii und zur optischen Achse Og-O2 eines
Licht bündeis L, der vom Mikroplasma 10 emittierten Strahlung verändern·
Als Material für das Hilfstarget 9 können das
Grundmaterial des Targets 9, eine geeignete Puffersubstanz, spektralreiner Kohlenstoff, SlO2 oder auch Alkali- und
Erdalkalihalogenide sowie Mischungen dieser Materlallen verwendet werden·
Die Projektion der vom Mikroplasma 10 emittierten Strahlung auf den hier nicht dargestellten Spektralapparat
erfolgt zum Zwecke der Laser-Mlkro-Emissionsspektralanalyse
mit Hilfe einer Abbildungsoptik 13 in die mit einem Pfeil S angedeutete Richtung*.
In der Anordnung naeh Fig. 3 werden in beiden Richtungen
der Resonatorachse C-C des Laser A entsprechend dem unterschiedlichen Reflexionsvermögen von Auskoppelspiegeln
2 und 2* die Laserstrahlenbündel L1 und L" emittiert, die nach ihrer Reflexion an Umlenkspiegeln
5 und 5' und Fokussierung durch Linsenobjektive 6 und 6· auf die Oberfläche des fargets 8 und des Hilfstargets
9 einfallen· Da hierbei der Winkel ^ zwischen Strahlachsen C1-C1 und C"-C" der beiden optischen
Systeme mit den Linsenobjektiven 6 und 6' der Bedingung 90°<c V<C18O° genügt, hat die Anordnung gegen-
über der nach Fig. 2 den Vorteil, daß die beiden Laser·· mikroplasmen 10 und 11 aufeinander zu expandieren und
dabei ihre Feld- und kinetische Energie teilweise zugunsten der Anregungs- und Strahlungsenergie verbraucht
wird. .
Bei der in Flg· 4 gezeigten Vorrichtung gelangt
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265Q12A
ein von der Laserquelle A emittiertes Laserstrahlenbündel L nach Umlenkung an den Umlenkspiegel 5 auf
ein bifokales Spiegellinsenobjektiv 6" und wird dort in der Weise aufgespalten, daß die achsfernen Strahlen
auf die Oberfläche des Targets 8 fokussiert werden, nachdem sie zuvor das lichtdurchlässige Hilfstarget 9
durchlaufen haben und die achsnahen Strahlen nach ihrem Durchtritt durch das Linsenobjektiv 61 auf die dem
Target.zugewandte Unterseite des Hilfstargets 9 fokussiert
werden·
Als Material für das als planparallele Platte ausgebildete Hilfstarget kann beispielsweise Polystyrol oder
ein anderer für Laserstrahlung hinreichend transparenter Werkstoff dienen. Auoh bei dieser.Anordnung expandieren
beide Mikroplasmen aufeinander zu·
Da das Hilfstarget 9 durch jeden Laserblitz an seiner Unterseite Zerstörungen erleidet, muß es vor jedem
neuen Laserblitz in Richtung des Doppelpfeils V etwas verschoben werden. Die emittierte Plasmastrahlung wird
mit Hilfe des aus dem Hohlspiegel 12 und dem Linsensystem 13 in die Spaltebene oder Optik eines hier nicht
dargestellten Spektrographen abgebildet·
Die Anordnung nach Pig. 4 hat gegenüber den übrigen hier beschriebenen Vorrichtungen den Vorteil, daß der
Laserfokus nicht am Rand der Targetoberfläche liegen muß
und somit das zu analysierende Target nicht - wie sonst eventuell erforderlich - in der .Nähe des zu untersuchenden
Einschlusses geteilt werden muß»
.. Die Anordnung nach Fig. 5f die auf derjenigen nach
-pig. 2 basiert, ist mit einem Mikroskopsystem zur Betrachtung
bzw., Lokalisierung der zu untersuchenden Stelle des Targets 8 und des Hilfstargets 9 ausgerüstet.
Bei der Beobachtung kann man die strahlenteilende Glas-, platte 7 in Richtung des Doppelpfeils X verschieben, um
die Apertur in den Teilstrahlengängen zwecks besserer
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Beobaehtbarkeit zeitweise zu. erhöhen· Das Mikroskopsystem
besteht aus einem Okular 14, einem einschwenkbaren Spiegel 15 und dem fokussierenden Objektiv 6· Wenn die ausgesuchte
Stelle des Targets 8 mit Laserlicht bestrahlt werden soll, wird der Spiegel aus dem Laserstrahlengang
herausgeschwenkt. Selbstverständlich sind die in der Beschreibung und in den Figuren erläuterten Anordnungen
nur Beispiele, die die Erfindung keineswegs beschränken, sondern nur ihr Prinzip verständlich machen sollen·
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4M-
Leerseite
Claims (1)
- ίι
Erfindun^sanspruchgc1. Vorrichtung für spektrochemische Untersuchungen, insbesondere für die Laser-Mikrospektralanalyse.mit einer kohärentes Licht aussendenden Laser-Lichtquelle, mit op-r tischen Mitteln zur Fokussierung des kohärenten Lichtes, dessen Energie nach Fokussierung zur Materialverdampfung und -anregung ausreicht, mit einem in der Lichtausbreitungsrichtung den Mitteln zur Fokussierung nachgeordneten, zu analysierenden Target und mit Mitteln zur Anregung des verdampften Targetmaterials zur Strahlungsemission, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zur Anregung des verdampften Targetmaterials eine Anordnung zur Erzeugung von mindestens zwei räumlich getrennten Teillichtbündeln aus dem Licht der Laser-Lichtquelle sowie mindestens ein zum Target benachbart angeordnetes Hilfstarget umfassen, wobei sich das Target im Strahlengang und zumindest in Fokusnähe des einen Teillichtbündeis und jedes Hilfstarget im Strahlengang und zumindest in Fokusnähe von mindestens einem der übrigen Teillichtbündel befindet und wobei die bestrahlten Oberflächen von Target und Hilfstarget einander benachbart angeordnet sind,2„ Vorrichtung nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Anordnung zur Erzeugung von zwei Teillichtbündeln im wesentlichen aus einer lichtdurchlässigen, teilweise keilförmigen Platte besteht, die sich im Lichtweg zwischen einem Objektiv zur Fokussierung des kohärenten Lichtes und dem,hu analysierenden Target befindet·3· Vorrichtung nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Anordnung zur Erzeugung von zwei Teillichtbündeln im wesentlichen aus der Laserlichtquelle besteht und diese so ausgebildet ist, daß aus ihren beiden Resonatorenden je ein Teilliohtbündel auskoppelbar ist, und daß die optischen Mittel zur Fokussierung aus zwei optischen Systemen bestehen, von denen das erste System im Lichtweg des einen Teillichtbündeis angeordnet ist3118709846/0640und dieses Teillichtbündel nach Umlenkung an einem ersten Reflektor auf das Target fokussiert und das zweite System im Lichtweg des anderen Teillichtbündels angeordnet ist und dieses andere Teillichtbundel nach Umlenkung.an einem zweiten.Reflektor auf das Hilfstarget fokussiert.4· Vorrichtung nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Anordnung zur Erzeugung der Teillichtbündel mindestens zwei gütegeschaltete Laser-Lichtquellen umfaßt, von denen jede eines der Teillichtbündel aussendet,5. Vorrichtung nach Punkt 1, gekennzeichnet durch eine Anordnung zur Erzeugung der Teillichtbündel, bestehend aus der Laser-Lichtquelle, aus einem in Lichtausbreitungsrichtung nacheinander angeordnetem bifokalen Spiegellinsenobjektiv, einem lichtdurchlässigen Hilfstarget mit zueinander paralleler Ober- und Unterseite und dem Target, wobei das Linsensystem des Spiegellinsenobjektivs die achsnahen Lichtstrahlen auf die dem Target zugewandte Unterseite des Hilfstargets und das Spiegelsystem des Spiegel linsenobjektivsdie achsfernen Lichtstrahlen des Laser-Lichtbündels durch das Hilfstarget hindurch auf die Oberfläche des Targets fokussiert,6, Vorrichtung nach Punkt 1, 2, 3» 4 oder 5» dadurch gekennzeichnet, daß eine Abbildungsoptik und ein Spektrograph vorgesehen sind, wobei die Abbildungsoptik die Strahlung des verdampften angeregten Targetmaterials durch die Spaltblende in die Optik des Spektrographen abbildet.7» Vorrichtung nach Punkt 1, 2, 3, 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß ein optisches System zur Betrachtung der Targetoberfläche vorgesehen ist,I -27.1.1977
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