DE2611857A1 - Verfahren zum elektrischen abscheiden von in loesungen dispergierten teilchen - Google Patents

Verfahren zum elektrischen abscheiden von in loesungen dispergierten teilchen

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DE2611857A1
DE2611857A1 DE19762611857 DE2611857A DE2611857A1 DE 2611857 A1 DE2611857 A1 DE 2611857A1 DE 19762611857 DE19762611857 DE 19762611857 DE 2611857 A DE2611857 A DE 2611857A DE 2611857 A1 DE2611857 A1 DE 2611857A1
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salts
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DE19762611857
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Henry Brown
Thaddeus Walter Tomaszewski
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Oxy Metal Industries Corp
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Oxy Metal Industries Corp
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D13/00Electrophoretic coating characterised by the process
    • C25D13/02Electrophoretic coating characterised by the process with inorganic material

Description

  • Verfahren zum elektrischen Abscheiden von in Lösungen dispergierten Teilchen Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur elektrischen kathodischen Abscheidung feiner badunlöslicner Teilchen, die in wäßrigen Elektrolyten dispergiert sind; die Elektrolyte enthalten wasserlösliche Salze einwert.iger Kationen, wie zum Beispiel Natriumsulfat, Kaliumsulfat, Lithiumsulfat und ähnliche, die auf festen Kathoden keine galvanischen Ablagerungen des einwertigen Kations aus den wäßrigen Lösungen ergeben.
  • Es hat sich jetzt herausgestellt, daß man, wenn feine badunlösliche Teilchen oder Pulver, wie z.B. jene von Bariumsulfat, Aluminiumoxid, Siliciumcarbid, Aluminiumsilikat, Molybdänsulfid, Graphit, Bor, Silicium, Siliciumdioxid, Glas, Aluminium, Zirkonsilikat, Polyvinylchlorid, Polyvinylidanchlorid, Fluorkohlenstoff-Harze, wie zum Beispiel Polytetrafluoroäthylen, Polyamide, Polyäthylen und ähnliche, in wäßrigen Lösungen von Salzen einwertiger Kationen, wie zum Beispiel Alkalimetall- oder Ammoniumsulfat-Lösungen, feinstverteilt werden, sie auf Kathoden unter Verwendung ähnlich niedriger Spannungen und Stromdichten abscheiden kann, die beim Elektrcplattieren von Metallen aus wäßrigen Lösungen verwendet werden, wie bei der Nickelplattierung aus Watts-Bädern.
  • Die Adhäsion der Teilchen ali sauberen Stahl-, Messing-, Kupfer, Nickel-, rostfreien Stahl-Kathoden oder ähnlichen Kathoden iat übarraschend. Die Filme der abgeschiedenen Teilchen können in schnell fließendem Wasser ohne Filmverlust der Teilchen gewässert werden. Die Filme können bei iiO0C für einige Stunden getrr>cknet werden und verlieren ihre Adhäsion nicht.
  • Die Filme können jedoch mit einer Bürste oder einem Tuch abgerieben-werden. Nichtsdestoweniger liegt der Vorteil dieses Verfahrens, Teilchenfilme auf Metall herzustellen, darin, daß diese Filme eine ausreichende Adhäsion besitzen; daß sie nach dem Bewässern oder nach dem Trocknen der Gegenstände mit den galvanisch überzogenen Filmen der Teilchen weiterverarbeitet werden können und im wesentlichen unbeschädigt bleiben. Wenn zum Beispiel feine Bariumsulfat- oder Strontiumsulfat-Pulver oder Gemische auf einer Nickel-Fläche abgeschieden werden und dann diese Fläche einen dünnen Überzug von 0,005 bis 0,05 mm von Chrom, Silber, Gold, Rhodium erhält, wird ein schöner Satin oder eine glänzende Satin-Endoberflächengüte erreicht, die einen außerordentlichen Korrosionswiderstand in industrieller Umgebung und bei Seeklima besitzt. Der Grund dafür ist, daß der galvanische Endüberzug von Chrom oder Gold etc. wegen des vorhandenen darunterliegenden galvanischen Überzuges der eingebetteten feinen Teilchen mikroporös ist. Die Mikroporosität des zuletzt angebrachten edleren Metalls bewirkt eine sehr deutliche Abnahme in der anodischen Stromdichte in den Poren des Endüberzuges und verringert dadurch sehr die Geschwindigkeit des Lochfraßes.
  • Ebenfalls ist es möglich, die Kathoden mit den elektrolytisch abgeschiedenen Filmen der Teilchen in "stromlose " (elektroden lose ) Kupfer oder Nickel- oder Kobalt- (oder den Legierungen der Eisengruppe) Plattierungsbäder zu überführen und so die Filme der Teilchen in stromlosem Kupfer, Nickel, Kobalt oder den Legierungen dieser Metalle einzubetten. In dem Fall, daß nickel-phosphorhaltige oder Nickel-Bor-Legierungen durch diese stromlosen Verfahren erhalten werden, neigt die Einführwg feiner anorganischer Teilchen in das Grundmaterial dieser Legierungen dazu, den Überzug weiter zu erhärten, was für Verschleißfestigkeits-Probleme wichtig ist.
  • Wenn verformbare Metalle über abgeschieden Filmen organischer thermoplastischer Teilchen, wie z.B. Polystyrol, das verdampft oder aufgelöst werden kann, abgeschiedenen werden, kann nichtnur eine poröse Folie hergestellt werden, sondern mit einem dickeren Überzug können Folien mit nur einer porösen Seite erhalten werden, die zum Beispiel dazu beitragen, haltbare Beschichtungen auf Kunststoffflächen herzustellen. Ebenfalls können Doppelfolien dadurch hergestellt werden, daß ein dünner Kupferüberzug ungefähr 0,1 mm bis 0,5 mm über einen Film abgeschiedener Teilchen plattiert wird, und daß danach das Kupfer mit Nickel überzogen wird.
  • Es sollte betont werden, daß die erfindungsgemäß kathodisch abzuscheidenden Teilchen Partikel sind, die sich im Bad absetzen, so daß eine ausreichende Bewegung der Losullgangewendet werden muß, um die Teilchen als Suspension im Bad zu halten. Dies weicht von der elektrophoretischen Abscheidung organischer Harzteilchen in entweder monomerer Form oder kolloidaler polymerer Form ab.
  • In diesen Fällen scheiden sich die organischen Harzteilchen auf Anoden ab und in kolloidaler Form benötigen sie keine Bewegung, um ihre Suspension im Bad aufrechtzuerhalten.
  • Die Bäder der vorliegenden Erfindung sind wäßrige Lösungen, die einwertige Kationen enthalten, wie z.B. Jlkalimetall- und Ammoniumkationen. Die einwertigen Alkalimetall-Kationen und das Ammoniumkation können als Sulfatsalze. wie zum Beispiel Ammoniumsulfat oder Karbonat-Salze, wie z.B. Natriumkarbonat, oder Sulfonate, wie z.B. Natriuminethyl- oder Äthylsulfonate, Natriumbenzolsulfonat, Natriumnaphthalintrisulfonat u. ä. verwendet werden. Der beim Verfahren bevorzugte pH liegt bei ungefähr 4 bis 10,5, während höhere und besonders niedrigere pH-Werte dazu neigen, dünnere Filme der meisten feinen Partikel, die im Bad suspendiert sind, zu ergeben. Gemischte Salze können ebenfalls verwendet werden. Die niedrigeren Konzentrationswerte der Salze, wie z.B. 30 bis 100 g pro Liter werden gegenüber den höheren Konzentrationen bevorzugt, um die besten Ablagerungsgeschwindigkeiten zu erhalten. Die Temperatur der Bäder ist nicht kritischrund die Ablagerungsgeschwindigkeiten der Pulver sind genauso gut bei 60°C oder höher, als bei Raumtemperatur oder niedriger.
  • Im allgemeinen können oberflächenaktive Stoffe, wie zum Beispiel Natrium-2-Äthylhexylsulfat und Natrium-n-Octylsulfat, in den Bädern verwendet werden, ebenfails können sogar nicht ionische und kationische oder ionisch neutrale Sulfobetaine verwendet werden. Puffer wie zum Beispiel Borsiure verringern die Ablagerungsgeschwindigkeit der Teilchen, wobei die besten Ergebnisse, wie erwähnt, bei einfachen Bädern erhalten werden, die Natrium-, Kalium-, Lithium-, oder Ammonium-, Rubidium- und Caesium-Sulfate enthalten. Aminsulfate können ebenfalls verwendet werden; die bevorzugten Salze sind im allgemeinen jedoch Natrium- und Kalium-, Lithium- und Ammonium-Sulfate oder Gemische dieser Salze.
  • Verschiedene Teilchen oder Pulver können in die Bäder zur Plattierung auf die Kathodenflächen eingetragen werden. Wenn zum Beispiel in einer einfach luftbewegten 100 g/l Natriumsulfat-Lösung 25 bis 150 g/l Bariumsulfat-Pulver einer Partikelgröße von 0,05 bis 5 Mikron, oder 5 bis 50 g/l feines Bor-Pulver einer gleichen Partikelgröße, oder Siliciumkarbid Pulver einer Partikelgröße von 0,1 bis 7 Mikron in Konzentrationen von ungefähr 1 bis 100 g/l, oder abgeschiedene bzw. feinste Silicium-Hydrogele in Konzentrationen von ungefähr 1 bis 50 g/l einer Partikelgröße von 0,01 bis 5 Mikron dispergiert werden, hat es sich herausgestellt, daß ein Film von jedem dieser Teilchen innerhalb weniger Minuten auf einer Kathode unter Verwendung von Stromdichten von ungefähr 5 bis 100 Amp./sq.ft. (O,5 bis I0AIcIn1 abgeschieden werden kann. Luftbewegung o4er mechanische Bewegung hält die Teilchen ziemlich einheitlich im Bad dispergiert. Bei den Sulfat-Elektrolyten können die Anoden Graphit, Blei oder Nickel oder andere unlösliche Elektroden in wäßrigen Sulfat-Lösungen sein, und wie schon erwähnt worden ist, kann dia Badtemperatur Raumtemperatur oder niedriger bis mindestens 600C betragen.
  • Andere äußerst nützliche Beispiele des Verfahrens und der Methode dieser Erfindung sind thermoplastische Harzteilchen, wie zum Beispiel Polyvinylidenchlorid, PVC, Polyäthylen, Polyamide und Polytetrafluoroäthylene, die als Film dichter diskreter Teilchen aufgetragen werden, die erhitzt werden können, um einen kontinuierlichen Film zu bilden. Die Zugabe eines oberflächenaktiven Fluorkohlenstoffes zum wäßrigen Bad bei Polytetrafluoroäthylen und anderen Fluorkohlenstoff-Harzpulvern trägt dazu bei, eine maximale Ablagerung dichter filmbildender Teilchen zu erhalten. PVC, Polyäthylen und Polyvinylidenchlorid werden sehr schnell abgeschieden, und gute kontinuierliche Filme können durch Erhitzen der Filme gebildet werden. Ein anderes wichtiges Beispiel liegt bei Glas- und keramischen Filmen vor, die durch Hitzebehandlung von Gegenständen gebildet wurden, die mit galvanischen Abscheidungen feiner Glas- und Keramik-Teilchen überzogen wurden. Ein weiteres wichtiges Beispiel ist die galvanische Abscheidung von Bor-Pulver oder Silicium-Pulver auf rostfreien Stahl-, Nickel- oder Monel-Kathoden. Die Filme von Bor- oder Silicium-Pulver können dann als Zuschlag bei der Verbindung von rostfreiem Stahl und rostfreiem Stahl, oder rostfreiem Stahl und Nickel oder ähnlichem wirken, zum Beispiel durch Pressen eines mit einem Borpulver-Film überzogenen Stahlgegenstandes auf einen anderen Stahl- oder Nickelgegenstand und Erhitzen auf eine hohe Temperatur im Vakuum. Gemischte Teilchen, wie zum Beispiel Bariumsulfat und PVC, Bariumsulfat und Graphit u.ä. können ebenfalls verwendet werden.
  • Damit dem Fachmann die vorliegende Erfindung und die Art und Weise, in der sie ausgeführt wird, besser verständlich wird, sind die folgenden genauen Beispiele angegeben. Sie sind lediglich exemplarisch, und die Art und Weise, in der sie durchgeführt werden, ist nicht als Begrenzung zu verstehen.
  • Beispiel 1 Das erfindungsgemäße Verfahren wird mit Plattierungsbädern, die die folgenden Bestandteile in den angegebenen Mengen enthalten, unter folgenden Bedingungen durchgeführt: Konzentration in Gramm Pro Liter Na2S04.10 H20 100 - 250 BaS04 feines Pulver (0,1 bis 3 Mikron Partikel-Größe) 1 - 150 Konzentration in Gramm pro Liter Nickelüberzogene Kathode Graphit Anode Luftbewegung Raumtemperatur Kathodenstromdichte 5 - 100 Amp./sq.ft. (ca. 0,) bis 10A/dm Plattierungszeit 1 - 10 Minuten Ein Film von Bariumsulfat-Teilchen wird auf der gesamten Kathode abgeschieden. Na=h dem Abwaschen wird die nickelüberzogene Kathode mit ihrem Film feiner Bariumsulfatteilchen zu einem Chrom-Plattierungsbad überführt und mit 75 bis 500 pn Chrom, oder gleicher Dicke einer Goldplattierung aus einem alkalischen oder sauren Gold-Plattierungsbad überzogen. In jedem Fall wird ein schönes satinartiges Aussehen erhalten. Der Korrosionsschutz für das darunterliegende Grundmetall aus Stahl- oder Zink-Formguß, das mit Kupfer überzogen ist, dann mit Nickel überzogen wird, bevor der Film der feinen Teilchen elektrisch niedergeschlagen wird, und dann schließlich mit Chrom oder Gold oder auch mit Silber oder Rhodium überzogen wird, ist wirklich hervorragend. Mit Corrodkote und CASS beschleunigte Versuche zeigen, daß ein äußerst hervorragender Korrosionsschutz erhalten wird, verglichen mit dem Fall, wo keine Lilmbildendon Teilchen vorliegen. Der Film der Teilchen kann vor dem Endüberzug von Chrom, Gold, Silber oder Rhodium mit einer dünnen Nickelschicht plattiert werden.
  • Beispiel 2 Anstelle von Bariumsulfat-Teilchen werden im gleichen Bad wie beim Beispiel 1 abgesetzte Siliciumoxid-Teilchen oder äußerst feine Siliciumoxid-Hydrogele der äußersten Partikelgröße von ungefähr 0,01 bis 0,03 Mikron in Konzentrationen von 5 bis 50 g/l verwendet, wobei nach der Durchführung der gleichen Plattierungsversuche die gleichen hervorragenden Ergebnisse erhalten werden, außer daß das Aussehen der dünnen Endplattierung von Chrom, Gold, Silber oder Rhodium genauso oder fast so glänzend ist wie das des darunterliegenden Nickels. Das heißt, wenn die äußerste Partikelgröße der Siliciumoxid-Teilchen ungefähr um 0,02 Mikron liegt, obwohl Agglomerate Abmessungen so groß wie 6 bis 10 Mikron haben können, verursachen die Teilchen kein merkliches Mattwerden der nachfolgenden Plattierung. In der gleichen Weise werden Aluminiumsilikat, Zirkoniumsilikat und Zirkoniumoxid abgeschieden und dann mit einer nachfolgenden dünnen Nickelplattierung überzogen, gefolgt von Chrom oder Gold etc., oder direkt mit einer dünnen Chrom-, Gold-, Silber-, Rhodium-Plattierung oder Zinn-Nickel-Legierungs-Plattierung, und man erhält so eine gemischte Plattierung mit stark verbessertem Korrosionsschutz des darunterliegenden Metalls. Wenn die Nickel-Plattierung auf dem Grundinetall frisch aufgetragen wurde und nicht vollständig gespült wird, ergeben sich durch das Eintragen der Nickel-Plattierungssalze in die Natrium-, Kalium-, oder Lithium-Sulfat oder Chlorid-Lösungen keine Probleme bei der Ablagerung der Pulver. Bei Chlorid-Bädern, wie zum Beispiel Natriumchlorid oder Kaliumchlorid, wird an unlöslichen Anoden, zum Beispiel Graphit, Chlor entwickelt, und deshalb werden Chlorid-Elektrolyte im allgemeinen nicht bevorzugt.
  • Beispiel 3 Anstelle der feinen Pulver von Siliciumoxid, Bariumsulfat, Aluminiumsilikat und Zirkoniumoxid, die elektrisch abgeschieden und wie im Beispiel 2 beschrieben verarbeitet wurden, werden Filme feiner Pulver von Molybdänsulfid, Graphit, Bleipulver oder Gemische elektrolytisch als Filme auf einem Metall, wie zum Beispiel Stahl, Aluminium, Kupfer, Nickel, Bronze, Messing, etc. abgeschieden und nachfolgend mit dünnen Plattierungen von Kupfer, Nickel, Silber, Bronze, Messing, Zinn, Blei, einer Blei-Zinn-Legierung und einer Blei-Zinn-Kupfer-Legierung überzogen. Mehrfache Schichten werden ebenfalls plattiert, wie zum Beispiel eine dünne Plattierung von Kupfer, gefolgt durch einen dünnen Zinn-Film, und danach erwärmt, um ein Bronze-Grundmateriäl mit eingebetteten Teilchen von Blei, Graphit oder Molybdänsulfid oder Gemischen zu erhalten. Zusätzlich kann eine Blei-Zinn-Plattierung (90-10) ebenfalls über den Kupfer- oder Nickel-Überzug plattiert werden. Solche Flächen ergeben ausgezeichnete Lagerflächen mit niedriger Reibung und verhindern ein Festfressen und sind ausgezeichnet zum Kaltstarten geeignet.
  • Beispiel 4 Entsprechend der Verfahrensweise der voranstehenden Beispiele werden die Pulver elektrolytisch auf einer passiven Fläche abgeschieden, wie zum Beispiel auf einem trockenen Nickel-Überzug oder auf einem n Chromat eingetauchten und abgewaschenen Nickel-Überzug oder auf einer rostfreien Stahl-Fläche oder auf einem dünnen Film eines Kadmium-Überzuges, der aus einem alkalischen Cyanidbad auf Stahl abgeschieden wurde, auf dem die Haftung schlecht ist. Nachdem eine nachfolgende Abscheidung von Nickelf Eisen, Kobalt oder ihren Legierungen, oder Kupfer, Silber, Messing oder Bronze über die Teilchen plattiert worden ist, werden von diesen Metallen Folien geformt, die die eingebetteten Teilchen in der Metall-Grundschicht enthalten. Sind die Teilchen Polystyrol oder ein Karbonat, wie zum Beispiel Nickelkarbonat, werden die Teilchen aus den Folien im Fall von Polystyrol dadurch entfernt, daß sie im Vakuum oder einer inerten Atmosphäre erwärmt werden, und bei Nickelkarbonat in einem Ofen mit Wasserstoffatmosphäre, die das Nickelkarbonat zu Nickel reduziert.
  • Auf diese Weise wird eine £ein poröse Folie gebildet.
  • Beispiel 5 Fluorkohlenstoff-Teilchen werden kathodisch auf einem Metall oder einer leitenden Fläche mit folgendem Bad abgeschieden: Konzentration in Gramm Pro Liter Na2S04 oder K2S04 30 - 100 Polytetrafluoroäthylen-Teilchen (0,1 bis 10 Mikron Größe) 10 - 150 Kalium-perfluoro-p-äthyl cyclohexylsulfonat 0,1 - 1 Kathodenstromdichte 10-100 Amp./sq.ft.
  • (ca t-10 Amp /dm 2) Raumtemperatur bis 600C Graphit Anode Luftbewegung Plattierungszeit 1 - 15 Minuten Nachdem ein Film von Fluorkohlenstoff-Teilchen abgeschieden worden ist, wird ein dünner Kupfer Messing-, Bronze Silber Blei-Zinn-, Blei-Zinn-Kupfer-Legierungs- oder Nickel-Überzug von weniger als etwa 0,025mm über die Teilchen aufgetragen, wobei eine ausgezeichnete Antireibungs-Lagerfläche erhalten wird.
  • Wird Nickel mit einem dünnen End-Chromüberzug verwendet, wird ein ausgezeichneter Korrosionsschutz für das Grundmetall erhalten.
  • Folien werden erhalten, wenn eine passive Fläche plattiert wird, wie schon vorher im Beispiel 4 beschrieben wurde. Sind die Folien über ungefährqDZSmm dick, enthält die eine Seite dann die dicht abgeschiedenen Teilchen und die zuletzt überzogene Seite ist dann teilchenfrei.

Claims (8)

  1. Patentansprüche:
    1 Verfahren zur elektrischen kathodischen Abscheidung von Filmen aus feinen Teilchen wasserlöslicher Pulver, dadurch gekennzeichnet, daß die Teilchen aus einer Dispersion in bewegten wäßrigen Lösungen von Salzen einwertiger Kationen abgeschieden werden, die aus der Gruppe der Alkalimetall-Kationen und des Ammoniumions ausgewählt werden, wobei die elektrische Abscheidung in Abwesenheit von elektrolytisch abscheidbaren Ionen vorgenommen wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die wasserunlöslichen Teilchen Bariumsulfat-Teilchen sind.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die wasserunlöslichen Teilchen Borteilchen sind.
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die wasserunlöslichen Teilchen Siliciumteilchen sind.
  5. 5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die wasserunlöslichen Teilchen Siliciumkarbid-Teilchen sind.
  6. 6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die einwertigen Kationen in der wäßrigen Lösung als Sulfatsalze vorliegen.
  7. 7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die einwertigen Kationen als Karbonate in den wäßrigen Lösungen vorliegen.
  8. 8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die einwertigen Kationen als Sulfonate in den wäßrigen Lösungen vorliegen.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0033465A1 (de) * 1980-01-30 1981-08-12 BASF Lacke + Farben AG Verfahren zur Herstellung eines Gegenstandes bestehend aus einem elektrisch leitfähigen Substrat und einem darauf festhaftend angeordneten metallisch aussehenden Überzug
DE3333504A1 (de) * 1983-08-04 1985-02-14 BBC Aktiengesellschaft Brown, Boveri & Cie., Baden, Aargau Oberflaechenschicht zur herabsetzung der ueberspannung an einer elektrode einer elektrochemischen zelle und verfahren zu deren herstellung

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EP0033465A1 (de) * 1980-01-30 1981-08-12 BASF Lacke + Farben AG Verfahren zur Herstellung eines Gegenstandes bestehend aus einem elektrisch leitfähigen Substrat und einem darauf festhaftend angeordneten metallisch aussehenden Überzug
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