DE2600847A1 - Verfahren zur herstellung von supraleitenden schichten - Google Patents
Verfahren zur herstellung von supraleitenden schichtenInfo
- Publication number
- DE2600847A1 DE2600847A1 DE19762600847 DE2600847A DE2600847A1 DE 2600847 A1 DE2600847 A1 DE 2600847A1 DE 19762600847 DE19762600847 DE 19762600847 DE 2600847 A DE2600847 A DE 2600847A DE 2600847 A1 DE2600847 A1 DE 2600847A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- molybdenum
- coating
- dgk
- dap
- coated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 12
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 title claims abstract description 5
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 15
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 title claims description 15
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 title claims description 14
- 229910001182 Mo alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title abstract 3
- PTISTKLWEJDJID-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenemolybdenum Chemical compound [Mo]=S PTISTKLWEJDJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 14
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims abstract description 6
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 229910052961 molybdenite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229910052982 molybdenum disulfide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- -1 MoS2 Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 4
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 15
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 9
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims description 4
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011669 selenium Substances 0.000 claims description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 2
- GICWIDZXWJGTCI-UHFFFAOYSA-I molybdenum pentachloride Chemical compound Cl[Mo](Cl)(Cl)(Cl)Cl GICWIDZXWJGTCI-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 2
- 239000011265 semifinished product Substances 0.000 description 2
- FWMUJAIKEJWSSY-UHFFFAOYSA-N sulfur dichloride Chemical compound ClSCl FWMUJAIKEJWSSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 description 2
- 229910018105 SCl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 101001135436 Urodacus yaschenkoi Antimicrobial peptide scorpine-like-2 Proteins 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/01—Manufacture or treatment
- H10N60/0212—Manufacture or treatment of devices comprising molybdenum chalcogenides
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/01—Manufacture or treatment
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
- Verfahren zur Herstellung von supraleitenden Schichten
- Für den technischen Einsatz von Supraleitern wird in vielen Fällen relativ hoher Sprungpunkt (Tc) und möglichst hohe magnetische Feldstärke (Hc) gefordert. Die wirtschaftliche ITerstellung von Supraleitern erfordert meist eine kontinuierliche Fertigung der supraleitenden Materialien.
- Diese drei Forderungen werden mit dem erfindungsgemässen Verfahren erreicht; es ist anwendbar auf die kortinuierliche Herstellung von supraleitenden Schichten auf Drähten, Stäben, Bändern oder gropflächigen Blechen.
- Das Verfahren beruht darauf, da die zu beschichtenden Körper aus Molybdän, Molybdänlegierungen bzws. aus Molybdän beschichteten Körpern zuerst mit Sulfiden wie MoS2, Mo1-xMxSy (M = Nb, Ta, Ti, Zr, Hf, V, Or, W) beschichtet oder bei über 6000G mit einem Gasgemisch aus Schwefel und/oder Selen, deren halogenide und Verdünnungsgasen wie Argon, Stickstoff und/oder Wasserstoff behandelt und anschließend bei 1000-1200°C ein G-asgemisch einwirken gelassen wird, das gebildet wird, indem Perhalogenide von Niob, Molybdän, Blei, Zinn und Selten-Erdmetalle und/oder Halogene mit Molybdän, Blei, Zinn und anderen A-Metallen wie Aluminium und Selten-Erdmetallen reagieren. Es ist wesentlich, dap stets ausreichende Mengen der freien Metalle vorliegen. An Stelle der freien Metalle sind auch deren Begierungen verwendbar. Dabei werden die Verdünnungsgase in jeder Behandlungsstufe in einer Konzentration von ca. 85-99 Vol % angewandt. Der Gesamtdruck liegt vorteilhafterweise im Bereich von ca. 0,6 bis 2 Atm. Die zu beschichtenden Körper werden kontinuierlich durch die jeweilige Atmosphäre, die in zwei hintereinander geschalteten Reaktionsgefäßen untergebracht sind, hindurchgeschleupt, wobei die Halbzeuge durch direkten Stromdurchgang auf > 6000C bzw. 100( 1200°O aufgeheizt werden.
- Dabei dienen in bekannter Weise Transportrollen aus Molybdän bzw. Molybdänlegierungen als strom-zuführende Kontakte. Die beiden Reaktionsgefäße werden von aupen mittels Strahlungsheizung auf 500-600°C geheizt. Nach Verlassen der zweiten Reaktionskammer durchlaufen die beschichteten Teile eine Abkühlungszone in einem rohrförmigen Gefäß, das ein Gemisch aus Argon mit 10 bis 30 Vol % Wasserstoff enthält. Schließlich werden die Körper mit einer gegen Beschädigung schützenden Lackschicht umhüllt. Das zweistufige Verfahren ergibt auf den eingesetzten Halbzeugen innerhalb einiger Stunden eine 0,1 bis 100 µm starke supraleitende Schicht, die auf den Trägern festhaftend verankert ist. Die erzielbaren Sprungpunkte liegen im Bereich von 10 bis ca. 20 K und die kritischen Feldstärken bei 500 bis ca.
- 800 kG.
- Für das verfahren ist wesentlich, daß die schichtaufbauende Gasphase in der zweiten Stufe in situ erzeugt wird, d.h. die einzelnen Halogenide, die wirksam sind, müssen nicht direkt zugesetzt bzw. vorgelegt werden. Es wurde erkannt, daß es im Hinblick auf die supraleitenden Eigenschaften erheblich vorteilhafter ist, die Metalle wie Molybdän, Blei, Zinn, Selten-Erdmetalle sowie andere A- und B-Metalle, z.B. Ca, Sr, Ni, Cr, Mn in blockiger, schwammiger Form und/oder als Legierung in die Beschichtungsgefäße einzulegen und mit den Verdünnungsgasen 0,5-10 Vol % freie Halogene und/oder Halogenwasserstoffe oder die Perhalogenide von Molybdän, Blei oder Zinn einzuleiten.
- Auf diese Weise werden niedere Halogenide erzeugt, die für den Aufbau der supraleitenden Schichten notwendig sind.
- nas Verfahren soll am Beispiel der Beschichtung von Molybdändrähten (# 0,05 mm) näher beschrieben werden. Einhundert polierte Drähte durchlaufen auf kunststoffrollen zuerst ein Bad aus verdünnter Flußsäure (0,5-1,6 Gew. % HF), dann eine Waschzoni in der die Drähte mit destilliertem Wasser säurefrei gewaschen werden und schließlich eine Trockenzone mit Heipluft von 50-80°C. Die so gereinigten Drähte durchlaufen dann von oben nach unten kontinuierlich das erste senkrecht stehende und rohrförmige Beschichtungsgefäß mit vorgeschalteter Schleußenkammer. Im Beschichtungsgefäß wird praktisch kein Zug auf die Drähte ausgeübt ; die Drähte werden mittels Rollen aus Molybdän mit einer Geschwindigkeit von ca.1 mm/min geführt, über die Gleichstrom zur Beheizung der Dräbte auf 800-850°C zugeführt wird.Von außen ber wird das Beschichtungs rohr mit einem Widerstandsofen in bekannter Weise auf ca. 5700C erhitzt. Durch das 2,5 m lange Beschichtungsrohr strömt langsam von unten nach oben ein Gasgemisch, das aus 1 Vol. Teil Schwefelwasserstoff, 0,1 Vol. Teile Jod, 0,2 Vol.
- Teile Schwefeldichlorid und Wasserstoff besteht. Ohne wesen-tliche Abkühlung durchlaufen dann die Drähte das zweite nachgeschaltete und ebenfalls senkrecht stehende Beschichtungsrohr. Die Beheizung der Drähte auf 1050-1070°C und der Rohrwand auf ca 5700C erfolgt w:ie bei dem ersten Beschichtungsrohr bereits beschrieben. Auch hier strömt das Reaktionsgas den Drähten entgegen; es besteht aus 0,7 Vol. Teilen Molybdänpentachlorid und Argon. Das Beschichtungsrohr ist innen mit Blechstücken aus Molybdän ausgekleidet, die im unteren Teil Taschen besitzen, in denen Bleistücke und Zinnstücke eingesetzt werden. Die Reaktionsgase werden an den oberen Enden der Bes chi chtungsrohre abgeführt, Nach Verlassen des zweiten Beschichtungsrohres werden die Drähte in Argon langsam abgekühlt, durchlaufen dann ein Bad mit Nitrolack und werden schließlich nach dem Trocknen auf Spulenkerne Die erzielte Sprungtemperatur liegt bei 12,5 K und das kritische Feld bei 650 kG.
- Das Verfahren ist außerordentlich anpassungsfähig an die Erfordernisse der Supraleitungstechnik. So kann die Beschichtung mit MoS2 oder Mo1-xMSy durch Sputtern, Aufdampfen im Vakuum oder mittels Niederschlagen aus einer reaktiven Gasphase im Plasma oder im Bereich von Normaldruck erfolgen, d.h. mittels chem:ical vapour deposition (CVD). Dazu wird vorteilhafterweise ein Gemisch aus Schwefelhalogenid wie SCl2, Molybdänpentachlorid, Metallhalogenide, Schwefelwasserstoff und Wasserstoff über die auf 600-900°C erhitzten Körper geleitet. Sowohl beim CVD wie beim Beschichten im Plasma beträgt der Wasserstoffanteil ca 80-99 Vol %. Es ist günstig, den Schwefelgehalt in der Schicht möglichst nieder zu halten; das gelingt vor allem bei den ternären und höheren Sulfiden Mo1-x MSy mit 1 4 y < 2. Neben Molybdän können noch folgende Metalle in den Sulfiden von besonderem Interesse sein : Nb, Ta, Ti, Zr, Hf, V, Cr, W.
- Eine weitere Anpassung ermöglicht der Einsatz von Selen und dessen Halogenide.
- Wesentlich für das erfindungsgemäße Verfahren ist, dap die hohen kritischen Felder mit der zweiten Behandlungsstufe erreicht werden.
Claims (1)
- Ansprüche Anspruch 1 Verfahren zur Herstellung -von supraleitenden Schichten auf Molybdän, Molybdänlegierungen bzw. auf Körpern, die mit Molybdän beschichtet sind, dgk., dap die zu beschichtenden Körper zuerst mit Sulfiden wie MoS2, Mo1-xMxS2 beschichtet werden oder bei über 600°C mit einem Gasgemisch behandelt werden, das aus Schwefel und/oder Selen, deren Halogenide und Verdünnungsgasen wie Argon, Stickstoff und/oder Wasserstoff besteht und anschließend bei 1000-1200°C ein Gasgemisch einwirken gelassen wird, das gebildet wird aus Parhalogeniden und/oder Halogenen und den Metallen Noybdän, Blei, Zinn, Selten-Erdmetallen, A-Metallen und/oder deren Legierungen.Anspruch 2 Verfahren nach Anspruch 1, dgk., dap die Beschichtung kontinuierlich erfolgt, inden die zu beschichtenden ilaibzeuge mittels Gleit- bzw. Transportrollen bewegt werden und diese Rollen als Stromkontakte zur direkten Aufheizung benutzt werden.Anspruch 3 Verfahren nach Anspruch 1 dgk., dap die Verdünnungsgase in beiden Beschichtungsstufen ca. 85 bis 99 Vol % betragen und der Gesamtdruck im Bereich von 0,6 bis 2 Atm liegt.Anspruch 4 Verfahren nach Anspruch 1 dgk., daP die Beschichtung mit MoS2 oder Mo1-xMS2 (mit M = Nb, Ta, Ti, Zr, Hf, V, Cr, W) durch Sputtern, Aufdampfen oder durch Abscheiden aus einer reaktiven Gasphase erfolgt.Anspruch 5 Verfahren nach Anspruch 1 und 4 dgk., dap die Abscheidung aus einer reaktvien Gasphas emit einem Gemisch aus Molybdänpentahalogenid, Schwefelbalogenid, Wasserstoff und Schwefelwasserstoff im Plasma erfolgt, wobei der Wasserstoffanteil im Bereich von 80-99 Vol % liegt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19762600847 DE2600847A1 (de) | 1976-01-12 | 1976-01-12 | Verfahren zur herstellung von supraleitenden schichten |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19762600847 DE2600847A1 (de) | 1976-01-12 | 1976-01-12 | Verfahren zur herstellung von supraleitenden schichten |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2600847A1 true DE2600847A1 (de) | 1977-07-14 |
Family
ID=5967288
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19762600847 Pending DE2600847A1 (de) | 1976-01-12 | 1976-01-12 | Verfahren zur herstellung von supraleitenden schichten |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2600847A1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3524082A1 (de) * | 1985-07-05 | 1987-01-08 | Bbc Brown Boveri & Cie | Supraleitende faser und verfahren zu deren herstellung |
DE3834356A1 (de) * | 1988-10-06 | 1990-04-12 | Schering Ag | Verfahren zur herstellung duenner molybdaensulfidfilme |
CN106191831A (zh) * | 2016-08-16 | 2016-12-07 | 安徽天祥空调科技有限公司 | 一种用于空调散热片的成膜剂及其制备方法 |
-
1976
- 1976-01-12 DE DE19762600847 patent/DE2600847A1/de active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3524082A1 (de) * | 1985-07-05 | 1987-01-08 | Bbc Brown Boveri & Cie | Supraleitende faser und verfahren zu deren herstellung |
US4849288A (en) * | 1985-07-05 | 1989-07-18 | Brown, Boveri & Cie. Ag | Composite superconducting fiber |
DE3834356A1 (de) * | 1988-10-06 | 1990-04-12 | Schering Ag | Verfahren zur herstellung duenner molybdaensulfidfilme |
CN106191831A (zh) * | 2016-08-16 | 2016-12-07 | 安徽天祥空调科技有限公司 | 一种用于空调散热片的成膜剂及其制备方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3851195T2 (de) | Verfahren für die chemische Dampfabscheidung. | |
DE1446161C3 (de) | Supraleitendes Bauelement und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE69205881T2 (de) | Behandlung von Sinterlegierungen. | |
Hatt et al. | Occurrence of the meta-stable omega phase in zirconium alloys | |
DE2600847A1 (de) | Verfahren zur herstellung von supraleitenden schichten | |
US4088512A (en) | Quench-age method for the fabrication of niobium-aluminum superconductors | |
DE2627208A1 (de) | Superleiter | |
CH617722A5 (de) | ||
DE1771572A1 (de) | Verfahren zum Niederschlagen einer aus Niob und Zinn bestehenden kristallinen Schicht | |
DE2948735C2 (de) | Verfahren zu kontinuierlichen Herstellung von Niob-Germanium-Schichten auf einem Trägerkörper | |
DE2011581B2 (de) | Verfahren zur herstellung eines niob titan supraleiters | |
DE2127022C3 (de) | Verfahren zum Erhöhen der kritischen Stromdichte eines Supraleiters | |
DE3145236C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von verformungsbeständigen oxydischen Schutzschichten | |
DE69512710T2 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Niobium-Zinn-Supraleiters | |
US3252832A (en) | Method of making magnetically hard superconducting wires | |
US3578496A (en) | Method of improving the superconductivity of niobium-tin layers precipitated on a carrier | |
DE1521102A1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines supraleitenden Koerpers | |
DE2127022B2 (de) | Verfahren zum erhoehen der kritischen stromdichte eines supraleiters | |
DE2108635A1 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung eines langgestreckten Supraleiters | |
DE1621334C (de) | Verfahren zur Herstellung von Schicht ten aus der intermetallischen supralei tenden Verbindung Niob Zinn (Nb tief 3 Sn) auf einem Trager | |
DE2104332C3 (de) | Verfahren zur Nachbehandlung eines Supraleiters | |
DE2355008C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Supraleiters mit einer Schicht der A15-Phase des Systems Nb-Al bzw. Nb-Al-Ge | |
DE2355005C3 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Supraleiters mit einer Schicht der A15-Phase des Systems Nb-Al-Si | |
DE1790062C (de) | Supraleiter mit einer Nb tief 3 Sn Schicht an der Oberflache und Ver fahren zu dessen Herstellung | |
DE1621334B2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Schichtten aus der intermetallischen supraleitenden Verbindung Niob-Zinn (Nb tief 3 Sn) auf einem Träger |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OHJ | Non-payment of the annual fee |