DE2559265A1 - Optische integrierte schaltung mit einem wellenleiter mit mehrfach-heterouebergang und verfahren zu deren herstellung - Google Patents

Optische integrierte schaltung mit einem wellenleiter mit mehrfach-heterouebergang und verfahren zu deren herstellung

Info

Publication number
DE2559265A1
DE2559265A1 DE19752559265 DE2559265A DE2559265A1 DE 2559265 A1 DE2559265 A1 DE 2559265A1 DE 19752559265 DE19752559265 DE 19752559265 DE 2559265 A DE2559265 A DE 2559265A DE 2559265 A1 DE2559265 A1 DE 2559265A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
waveguide
integrated circuit
oscillator
optical integrated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19752559265
Other languages
English (en)
Other versions
DE2559265C2 (de
Inventor
Yasuharu Suematsu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Institute of Technology NUC
Original Assignee
Tokyo Institute of Technology NUC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Institute of Technology NUC filed Critical Tokyo Institute of Technology NUC
Priority to DE19752559265 priority Critical patent/DE2559265C2/de
Publication of DE2559265A1 publication Critical patent/DE2559265A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2559265C2 publication Critical patent/DE2559265C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/1028Coupling to elements in the cavity, e.g. coupling to waveguides adjacent the active region, e.g. forward coupled [DFC] structures
    • H01S5/1032Coupling to elements comprising an optical axis that is not aligned with the optical axis of the active region
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/026Monolithically integrated components, e.g. waveguides, monitoring photo-detectors, drivers
    • H01S5/0265Intensity modulators
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/50Amplifier structures not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Description

  • Optische integrierte Schaltung mit einem Wellen-
  • leiter mit Mehrfach-Heteroübergang und Verfahren zu deren Herstellung Die Erfindung betrifft eie optische integrierte Schaltung mit einem Wellenleiter mit Mehrfach-Heteroübergang bzw.
  • -aufbau und ein Verfahren zu deren Herstellung; bei der optischen, integrierten Schaltung sind verschiedene Funktionsschaltungen auf einem Wafer oder Plättchen aufgebracht, indem Dünnschichtelemente über Hichtungskoppler an einen Wellenleiter gekoppelt sind.
  • Im folgenden wird zuerst die Beziehung zwischen bekannten aktiven und passiven, optischen Elementen und einem Wellenleiter beschrieben. Hierzu wird die Beziehung zwischen einem Halbleiterlaser und einem Wellenleiter erläutert.
  • In einem herkömmlichen Halbleiterlaser ist ein Reflektor an jedem Ende eines Lasermediums angebracht, so daß der Halbleiterlaser als Resonator arbeiten kann. Es ist jedoch sehr schwierig gewesen, einen Wellenleiter an dem Resonator anzubringen, da ein Teil des Laserlichts über den Reflektor abgeleitet wird.
  • Es ist auch vorgeschlagen wrden, einen Richtungskoppler zu verwenden, um einen Wellenleiter an einen Halbleiterlaser in Form eines Ringresonators anzukoppeln. Die Anbringung des Wellenleiters ist jedoch nach wie vor schwierig da ein Teil des Laserlichts abgeleitet wird. Darüber hinaus können sie nicht in Form einer integrierten Schaltung hergestellt werden. Es ist daher auch vorgeschlagen worden, einen Verteilerreflektor zu verwenden, welcher an einem Teil eines Dünnschicht-Halbleiterlasers angebracht ist und mit einem Wellenleiter eine Einheit bildet.
  • Jedoch ist der Übertragungsverluat bzw. die -dämpfung in dem Wellenleiter bei der Wellenlänge des Laserlichts sehr groß, da der Dünnschichtwellenleiter dieselbe Zusammensetzung wie das Halbleiterlasermedium hat. Ferner ist es auch nachteilig, daß das Ausgangslicht divergiert, da die Dicke des Dünnschichtlasermediums sehr dünn ausgebildet ist, um den Schwellenwertstrom bei der Schwingung zu vermindern. Um ihn bzw. es mit anderen optischen Elementen integriert aufzubauen, sind ferner einzeln hergestellte optische Elemente erforderlich. Darüber hinaus wird der Kopplungsverlust geschaffen, wenn die optischen Elemente aneinander gekoppelt werden, und die Lebensdauer ist kurz, da die Kristalle über dem Verteilerreflektor aufgewachsen werden, nachdem dieser fertiggestellt ist.
  • Die Erfindung soll daher eine optische integrierte Schaltung mit einem Wellenleiter mit Mehrfach-Heteroübergang oder -aufbau schaffen, in welcher Dünnschichtelemente, wie ein Halbleiterlaser, über einen Richtungskoppler an einen Wellenleiter gekoppelt sind, welcher einen minimalen Ubertragungsverlust bzw.
  • eine minimale -dämpfung aufweist. Ferner soll gemäß der Erfindung eine optische, integrierte Schaltung mit einem Mehrfach-Hetereoaufbau geschaffen werden, in welcher Mesa-Dünnschichtelemente zusammen mit einem Wellenleiter mit Mehrfach-Hetereoübergang bzw. -aufbau als Einheit ausgebildet und an diesen über einen Richtungskoppler angekoppelt sind, so daß Laser-Oszillatoren, -Modulatoren, -Verstärker, -Detektoren oder -Demodulatoren, -Raummodulatoren uä. gleichzeitig durch Aufwachsen von Kristallen hergestellt und ausgebildet werden können.
  • Darüber hinaus soll eine optische, integrierte Schaltung mit einem Wellenleiter mit Mehrfach-Heteroübergang oder -aufbau geschaffen werden, wobei Eingangs- und Ausgangsschaltungen mit einer Schwingungs- bzw. Modeumwandlung, wie Dünnschichtlinsen, welche nicht unmittelbar mit der Lebensdauer von Dünnsichtelementen in Beziehung zu setzen sind, in Form einer integrierten Schaltung hergestellt werden, so daß die optische1 integrierte Schaltung im Vergleich zu den bekannten optischen, integrierten Schaltungen kompakter und leistungsstärker bei minimalem Verlust hergestellt werden kann.
  • Gemäß der Erfindung ist dies bei einer optischen, integrierten Schaltung mit einem WeLlenleiter mit Mehrfach-Heteroübergang oder -aufbau erreicht, bei welchem ein Hesa-Dünnschicht-Oszillator aus aktiven und/oder passiven optischen Elementen mit einem Wellenleiter als Einheit ausgebildet ist, in welchem der Übertragungsverlust bzw. die -dämpfung bei der Wellenlänge des zu übertragecden Laserlichts kleiner ist, und an diesen über einen Richtungskoppler angekoppelt ist.
  • Gemäß der Erfindung ist sorbit eine optische1 integrierte Schaltung mit einem Wellenleiter mit Mehrfach-Heteroübergang geschaffen, bei welcher ein Dünnschichtelement, wie, ein Halbleiterlaser, über einen Hichtungskoppler mit einem geringen Ubertragungsverlust bzw. kleiner -dämpfung an einen Wellenleiter angekoppelt ist.
  • Nachstehend wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die anliegenden Zeichnurgen im einzelnen erläutert. Es zeigen: Fig. 1 bis 3 schematische Darstellungen zur Erläuterung bekannter lialbleiterlaser, bei welchen Wellenleiter verwendet sind; Fig.4 eine perspektivische Darstellung einer ersten Ausführungsform der Erfindung; Fig.5 eine Darstellung, in welcher die Beziehung zwischen den Brechungsindizes der Schichten der in Fig.4 dargestellten Einrichtung wiedergegeben sind; Fig.6 eine schematische Darstellung der in Fig.4 dargestellten Einrichtung; Fig.7 und 8 Darstellungen zur Erläuterung der Arbeitsweise der in Fig.4 dargestellten Einrichtung; Fig.9(a) und (b) Darstellungen zur Erläuterung der Beziehung zwischen den Übertragungs- bzw. Fortpflanzungskon stanten und den Wellenformen; Fig. 10 die einzelnen Schritte zur herstellung der in Fig.4 dargestellten Einrichtung; und Fig. 11 bis 22 schematische Darstellungen der zweiten bis zehnten Ausführungsform der Erfindung.
  • in Fig.1 ist schematisch eine Atrsfiihrungsform von bekannten Laserausgangsschaltungen dargesteLlt. Ein Koppler 4 eines WelLenleiters 3 aus dielektrischem Material ist unter einem Halbleiterlaser 1 mit reflektierenden Enden 2 angeordnet, so daß ein Teil des in dem Laser 1 erzeugten Laserlichts an den Wellenleiter 3 übertragen werden kann. Jedoch ist die Anbringung des teilweise gekrümmt ausgebildeten Wellenleiters schwierig.
  • Bei einer weiteren1 in Fig.2 dargestellten, bekannten Anordnung wird ein Teil des Laserstrahls, welcher durch einen Halbleiterlaser la in Form eines Ringresonators erzeugt wird, über einen Richtungskoppler 3a abgeleitet; jedoch die Anbringung des verlustarmen Wellenleiters ist auch hier schwierig, da eine höher entwickelte Fertigungstechnik erforderlich ist.
  • Bei einer weiteren bekannten, in Fig.3 dargestellten Anordnung ist ein Verteilerreflektor 3b an einem Teil eines Dünnschicht-Halbleiterlasers 1 angebracht; der Verlust bei der Wellenlänge des Laserlichts ist jedoch groß, da der Wellenleiter eine Dünnschicht mit derselben Zusammensetzung wie der des Lasers aufweist. Ferner ist der Dünnschichtlaser sehr dünn ausgebildet, um den Schwingungs-Schwellenwertstrom zu verringern, was zu dem Nachteil führt, daß das Licht am Ausgang divergiert. Weiterhin ist nachteilig, daß um ihn mit anderen optischen Elementen aufzubauen, einzeln hergestellte optische Elemente erforderlich sind. Obendrein ist es nachteilig, daß ein Kopplungsverlust zwischen den Lichtelementen geschaffen wird. Auch muß der Kristall über dem Verteilerreflektor 3b aufgewachsen werden, nachdem dieser hergestellt worden ist, so daß sich Schwierigkeiten aufgrund der kurzen Lebens- bzw. Betriebsdauer ergeben.
  • In Fig.4 ist die erste Ausführungcform gemäß der Erfindung dargestellt, welche einen Oszillator 10 und einen Wellenleiter 20 aufweist. Der Oszillator 10 besteht aus einer GaAs-Schicht 11 einer Al Ga As-Schicht 12, einer aktiven Schicht 13 aus z 1-z Al Ga xAs, einer ersten Elektrode 14 und reflektierenden, x spiegelnden Enden 16 und 16a mit transparenten Isolierschichten 15 und 15a zwischen den spiegelnden Enden 16 und 16a und den Schichten 11 bis 13. Der Wellenleiter 20 weist eine Al Ga As-Schicht 21, welche eine Kopplungsschicht für eine z Kopplung zwischen dem Oszillator 10 und dem Wellenleiter 20 ist, eine Al Ga As-Schicht 22, welche ein Ausgangswellenleiter ist, y l-y eine Al Ga As-Schicht 23, eine GaAs-Schicht 24 und eine Elekz 1-z trode 25 auf. Die Indizes x, y und z haben die folgende Beziehung zueinander: x < y zu z. Die Brechungsindizes der Schichten sind in Fig.5 dargestellt, wobei mit den Buchstaben p und n die Halbleiterarten bezeichnet sind.
  • Als nächstes wird die Arbeitsweise der Anordnung anhand von Fig.6, welche eine schematische Darstellung der in Fig.4 dargestellten Einrichtung zeigt, und anhand von Fig.7 beschrieben, in welcher dargestellt ist, wie ein Teil des Laserlichts von dem Oszillator 10 in den Wellenleiter 20 abgeleitet wird.
  • Die Kopplungslänge 1 hängt hierbei von der Dicke 2a, 2b und c 2c und den Brechungsindizes n1 bis n3 der aktiven Schicht 13, der Ausgangswellenleiterschicht 22 und der Kopplungsschicht 21 ab. Mit den Buchstaben ß 1 bis ß sind die Ausbreitungskonstan-3 ten bezeichnet.
  • Die Laserwelle A1 mit der Kopplungslänge lc, welche an einem Ende des Oszillators 10 erzeugt wird, breitet sich in der durch den ausgezogenen Pfeil angegebenen Richtung aus und geht allmählich in die Laserwelle A2 über. Ein Teil der Laserwelle breitet sich in den Wellenleiter 20 als Laserwelle A aus, wel-3 che über diesen als Ausgang übertragen wird. In dem Oszillator 10 wird die Laserwelle durch die reflektierende Spiegelfläche 16a in die durch gestrichelte Linien dargestellte Laserwellenform A la reflektiert. Die Laserwelle A la geht dann in die Laserwelle A2a über, von welcher sich ein Teil in den Wellenleiter 20 ausbreitet. Die Laserwelle A3a wird an der reflektierenden Spiegelfläche 16 reflektiert, um wieder die durch die ausgezogene Linie wiedergegebene Laserwelle A1 zu bilden. In diesem Fall wird die Laserwelle in dem Wellenleiter 20 die austretende Ausgangswelle.
  • Die Schwingungsart bzw. der Mode der Laserwelle am Ausgnng, wenn die Kopplungslänge lc/2 ist, ist in Fig.8 dargestellt.
  • Wenn die Konstanten ßl = ß2 und ßl 6 ß2 sind, sind die Laserwellen als die Überlagerung von zwei Wellen dargestellt, wie aus Fig.9(a) und 9(b) zu ersehen ist.
  • Wie vorstehend beschrieben, kann der Dünnschicht-Oszillator aus einem Lasermedium bzw. -medien und die aus dünnen Schichten bestehende Dünnschicht-Ausgangsschaltung, welche bei der Laserwellenlänge verlustarm ist, in Form eines mehrschichtigen Aufbaus hergestellt werden.
  • Als nächstes wird das Herstellungsverfahren der in Fig.4 dargestellten Einrichtung beschrieben. In der in Fig.4 dargestellten Einrichtung können die Enden 16 des Oszillators 10, an welchen die reflektierenden Spiegelfächen ausgebildet sind nicht gespalten oder durch Polieren fertigbearbeitet werden. Ein Beispiel für ein Herstellungsverfahren gemäß der Erfindung, bei welchem diese Schwierigkeit überwunden ist, wird nunmehr anhand von Fig. 10 beschrieben.
  • Auf dem in Fig. 1O<i) dargestellten Wafer oder Plättchen aus der GaAs-Schicht 11, der AlzGa1-zAs-Schicht 12, der AlxGa1-xAs-Schicht 1), der Al Ga As-Schicht 21, der Al Ga As-Schicht z 1z y l-y 22, der Al Ga As-Schicht 23 und der GaAs-Schicht 24 wird eine z 1-z Maske 26 angeordnet, wie in Fig. 1O(ii) dargestellt ist. Die Maske 26 besteht aus einem GaAs-Kristall, dessen beide Enden 27 und 27a gespalten sind, um Spiegelflächen zu bilden. Die Maske 26 wird so auf der Schicht 11 angeordnet, daß ihre Kristailflächen miteinander übereinstimmen können. Danach wird das Plättchen einem Umkehrspatter-Prozeß (reverse spattering) ausgesetzt, so daß die durch gestrichelte Linien umgebenen Teile entfernt werden können. Auf diese Weise ist dann der Mesa-Oszillator 10 geschaffen, wie in Fig. 1O(iii) dargestellt ist.
  • Die Endflächen des Oszillators 10 werden fertig behandelt, um Spiegelflächen wie die Endflächen 27 und 27a der Maske 26 zu schaffen. Danach werden, wie in Fig.lO(iv) dargestellt ist, die Elektroden 14 und 25, die transparenten Isolierschichten 15 und 15a an den Endflächen des Oszillators 10 und dann die reflektierenden Spiegelflächen 16 und 16a auf den transparenten Isolierflächen 15 und 15a angebracht. Auf diese Weise kann eine optische, integrierte Schaltung mit einem Wellenleiter mit Mehrfach-Heteroübergang bzw. -aufbau erhalten werden. Bei Versuchen hat sich herausgestellt, daß die Spiegelflächen durch das vorbeschriebene Verfahren an der 110-ELene der Al Ga Asx Schicht erhalten werden können, und die auf diese Weise erhaltenen Spiegelflächen ermöglichen dann die Laserwirkung.
  • Weitere Ausführungsformen der Erfindung sind in den Fig. 11 bis 13 dargestellt. Bei der in Fig.11 dargestellten Einrichtung ist der Oszillator 10 nicht mis den reflektierenden Spiegelflächen an seinen Enden vorgesehen, sondern es sind Verteilerreflektoren 28 und 28a auf der oberen Fläche der Ausgangs schaltung 20 angebracht. Bei der in Fig. 12 dargestellten Einrichtung ist statt des Verteilerreflektore 28 eine reflektierende Spiegelfläche 27 an der Ausgangsschaltung 20 angebracht, wobei eine transparente Isolierschicht 26 dazwischen angeordnet ist. Bei der in Fig. 13 dargestellten Einrichtung ist die reflektierende Spiegelfläche 27 als Einheit mit dem Oszillator 10 ausgebildet.
  • In diesen Ausführungsformen ist die Breite der WelZenleiterschicht aus Al Ga As der Ausgangsschaltung so dargestellt, y l-y daß sie gleich der Breite des Wafers oder Plättchens ist; selbstverständlich kann diese Breite jedoch beliebig gewählt werden.
  • Bei der fünften in Fig. 14 dargestellten Ausführungsform ist eine Ausgangsschaltung 30 der in Fig.4 dargestellten Einrichtung zugeordnet. Der Oszillator 10 und der Wellenleiter 20 sind als eine Einhakt ausgebildet, und danach ist eine Dünnschicht-Ausgangsschaltung 30 für eine Schwingungsart- bzw.
  • Modeumwandlung auf dem Wellenleiter 20 ausgebildet und an diesem richtungsgekoppelt aufgebracht. Das Laserlicht von dem Oszillator 10 wird über den Wellenleiter 20 an die Ausgangsschaltung 30 übertragen, von welcher das Laserlicht über eine optische Faserübertragungsleitung 70 zu einem Bestimmungsort übertragen wird.
  • Bei der sechsten in Fig.15 dargestellten Ausführungsform sind ein Verstärker 40 und der Oszillator 10 in integrierter Form aufgebracht, indem das in Fig.lO(i) dargestellte Plättchen einem Umkehrspatterprozeß ausgesetzt wird, um gleichzeitig den Oszillator 10 und den Verstärker 40 auszubilden. Infolgedessen haben die aktiven Laserschichten des Oszillätors 10 und des Verstärkers 40 dieselbe Zusammensetzung, so daß hierdurch ein sehr guter Verstärker 40 geschaffen werden kann.
  • Die siebte in Fig. 16 dargestellte Ausführungsform weist einen Modulator 50 auf, welcher zusammen mit dem Oszillator 10 und dem Verstärker 40 auf dem Wellenleiter 20 ausgebildet ist. In Fig. 17 ist die in Fig.16 wiedergegebene Einrichtung im einzelnen dargestellt. Sie weist eine obere Elektrode 80 auf, welche auch als Wärmesenke dient; ferner sind untere Elektroden 81, 84 und 85 an der unteren Fläche des Wellenleiters 20 für den Oszillator i0, den Verstärker 40 bzw. den Modulator 50 angebracht oder ausgebildet. Durch Diffussion von Störstellen sind in der Nähe der unteren Elektroden 81, 84 und 85 Zonen 81+, 84a und 85a mit niedrigem Widerstand ausgebildet.
  • Bei der achten in Fig. 18 dargestellten Ausführungsform ist ein Detektor oder ein Demodulator 16 zusammen mit dem Wellenleiter .'0 ausgebildet. Im Unterschied zu den vorbeschriebenen Ausführungsformen sind nur die passiven optischen Elemente auf dem Wellenleiter 20 ausgebildet; diese Einrichtung kann zur Gleichrichtung oder Demodulation oder zur Überwachung verwendet werden.
  • Bei der neunten in Fig. 19 dargestellten Ausführungsform wid der Verstärker 40 zuerst zusammen mit dem Wellenleiter 20 ausgebildet, und dann werden eine Eingangsschaltung 30a und eine Ausgangsschaltung 30 aufgebracht und ausgebildet.
  • Bei der zehnten in Fig.20 dargestellten Ausführungsform ist ein- Filter 70 in der in Fig.18 dargestellten Einrichtung vorgesehen. Wenn Laserlicht mit Frequenzen fl und 2 über den Wellenleiter 20 übertragen wird, sperrt das Filter 70 das Laserlicht mit der Frequenz f2, so daß das Laserlicht der Frequenz f1 von dem Detektor 60 gefühlt werden kann.
  • In Fig. 21 ist gemäß der Erfindung eine Rechenschaltung dargestellt, bei welcher die Fourier'scheRaumtransformation benutzt ist. Das Laserlicht von dem Oszillator 10 wird über eine Dünnschichtlinse 9i an einen Raummodulator 92 übertragen und wird mit dem Signal g moduliert. Das modulierte Laserlicht wird dann über eine Dünnschictitlinse 93 an einen Raummodulator 94 übertragen und mit dem Signal h moduliert. Auf diese Weise wird dann das modulierte Signal über eine Dünnschichtlinse 95 an eine Detektoranordnung 96 übertragen, so daß (g x h)-Ausgänge erhalten werden können. Gemäß der Erfindung können diese Schaltungen als ein integrierter Schaltungsaufbau ausgebildet werden.
  • Bei der in Fig.22 dargestellten Einrichtung ist eine Anzahl von N Oszillatoren 10A, lOB .... lON parallel zueinander ausgebildet, so daß deren Ausgänge über eine Dünnschichtlinse 97 addiert werden können, um den hohen Ausgang zu schaffen.
  • Bei den vorbeschriebenen Ausführung formen sind GaAs-Halbleiterlaser verwendet worden. Es können jedoch auch andere Diodenlaser mit Heteroübergang bzw. -aufbau verwendet werden, wie InGaAs-, AlGaAsSb-, InGaAsP-Laser usw.
  • Paten tansprüche Leerseite

Claims (16)

  1. Patentansprüche 1. Optische integrierte Schaltung mit einem Wellenleiter mit Mehrfach-Heteroübergang, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß ein Mesa-Dünnschichtoszillator (10), wie passive oder aktive optische Elemente, über einen Richtungskoppler (21) als Einheit auf einem Wellenleiter (20) mit Mehrfach-Heteroübergang ausgebildet wird, welcher bei der Wellenlänge des zu übertragenden Laserlichtes verlustarm arbeitet.
  2. 2. Optische integrierte Schaltung nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß der Oszillator (10) eine GaAs-Schicht (11), eine AlzGao zAs-Schicht (12), eine aktive Schicht (13) aus Al x eine auf der GaAs-Schicat (11) angebrachte Elektrode (14) und reflektierende Spiegeltächen (16, 16a) aufweist, welche über Isolierschichten (15, 15a) an den Endflächen des Oszillators (10) ausgebildet sind.
  3. 3. Optische integrierte Schaltung nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß der Richtungskoppler eine Al Ga1 zAs-Schicht (21), eine AlGaAsSb-Schicht oder eine InGaAs-Schicht aufweist.
  4. 4. Optische integrierte Schaltung nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß der Wellenleiter eine Kopplungsschicht in Form einer Al Ga As-Schicht (21) für eine z Kopplung zwischen dem Oszillator (10) und dem Wellenleiter (20), eine Ausgangs-Wellenleiterschicht in Form einer Al da Asy I-y Schicht (22), eine GaAs-Schicht (24) und eine zweite an der GaAs-Schicht (24) angebrachte zweite Elektrode (25) aufweist.
  5. 5. Optische integrierte Schaltung nach Anspruch 4, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß ein Verteilerreflektor (28, 28a) auf der oberen Fläche des Wellenleiters (20) als Einheit ausgebildet ist.
  6. 6. Optische integrierte Schaltung nach Anspruch 4, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß ein Verteilerreflektor (28a) und eine reflektierende Spiegelfläche (27) auf dem Wellenleiter (20) ausgebildet sind.
  7. 7. Optische integrierte Schaltung nach Anspruch 4, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß ein Spiegelreflektor sowohl an dem Oszillator (10) als auch an dem Wellenleiter (20) ausgebildet ist.
  8. 8. Optische integrierte Schaltung nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß eine Dünnschicht-Ausgangs schaltung für eine Schwingungsart- oder Modeanpassung auf der oberen Fläche des Wellenleiters (20) einheitlich mit diesem ausgebildet und an ihn richtungsgekoppelt ist.
  9. 9. Optische integrierte Schaltung nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß ein Verstärker (40) auf der oberen Fläche des Wellenleiters (20) einheitlich mit diesem ausgebildet ist.
  10. 10. Optische integrierte Schaltung nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß eine Anzahl Oszillatoren (1OA bis lON) auf dem Wellenleiter (20) ausgebildet und parallel in der Weise angeordnet ist, daß die Ausgänge der Oszillatoren (10A bis lON) über eine Dünnschichtlinse (97) erhalten werden können.
  11. 11. Optische integrierte Schaltung nach Anspruch 9, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß ein Modulator (50) auf der oberen Fläche des Wellenleiters (20) einheitlich mit diesem ausgebildet ist.
  12. 12. Optische integrierte Schaltung nach Anspruch 11, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß ein Detektor oder ein Demodulator (60) auf der oberen Fläche des Wellenleiters (20) einheitlich mit diesem ausgebildet ist.
  13. 1. Optische integrierte Schaltung nach Anspruch 12, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß ein Filter (70) auf der oberen Fläche des Wellenleiters (20) einheitlich mit diesem ausgebildet ist.
  14. 14. Optische integrierte Schaltung mit einem Wellenleiter mit Mehrfach-Heteroübergang, insbesondere nach Anspruch 1, g e -k e n n z e i c h n e t durch einen Halbleiterlaser-Oszillator (10), durch eine erste Dünnschichtlinse (91), über welche das Laserlicht von dem Oszillator (10) übertragen wird, durch eine erste Anordnung von Haummodulatoren (92), welche zum Modulieren des über die erste Dünnschichtlinse (91) übertragenen Laserlichts parallel angeordnet sind, durch eine zweite Dünnschichtlinse (93) zum Übertragen des modulierten Laserlichts von der ersten Anordnung von Raummodulatoren (92), durch eine zweite Anordnung von Raummodulatoren (94), welche zur weiteren Modulation des über die zweite Dünnsichtlinse (93) übertragenen Laserlichts parallel angeordnet sind, durch eine dritte Dünnschichtlinse (95) zum Übertragen des Laserlichts von der zweiten Anordnung von Raummodulatoren (94), und durch eine Anordnung von Detektoren (96), welche zum Fühlen oder Demodulieren des über die dritte Dünnschichtlinse (95) übertragenen, modulierten Lichts parallel angeordnet sind.
  15. 15. Verfahren zur Herstellung einer optischen integrierten Schaltung mit einem Wellenleiter mit Mehrfach-Heteroübergang, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß ein mehrschichtiges Plättchen aufbereitet wird, welcheseine erste Schicht (11) aus GaAs, eine zweite Schicht (12) aus Al-Ga As, wobei die erste (11) und die zweite Schicht (12) einenOszillator (10) darstellen, eine dritte Schicht (21) aus Al Ga As, welche ein Koppz 1-z lungsschicht darstellt, eine vierte Schicht (22) aus AlyGa1-yAs, welche einen Ausgangswellenleiter darstellt, eine fünfte Schicht (23) aus AlzGa1-zAs sowie eine sechste Schicht (24) aus GaAs aufweist, wobei die ersten bis sechsten Schichten in der engegebenen Reihenfolge von oben nach unten angeordnet sind, daß eine Maske (26) auf der ersten Schicht (il) angeordnet ist, daß das Plättchen durch einen Umkehr-Spatterprozeß geätzt wird, um so die nicht erforderlichen Schichten über der unteren Hälfte der Kopplungsschicht (21) aus Al Ga As zu entfernen, um z 1-z dadurch einen Mesa-Oszillator (10) zu schaffen1 daß danach die Endflächen (16, 16a) des Mesa-Oszillators (10) fertig bearbeitet werden, um eine Spiegelfläche zu bilden, daß hierauf transparente Isolierschichten (15, 15a) auf den Spiegelendflächen angebracht werden, und daß reflektierende Spiegelflächen (16, 16a) auf den tran-,parenten Isolierschichten (15, 15a) ausgebildet werden.
  16. 16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch g e k e n n z e i c hn e t, daß die Maske (26) aus eine GaAs-Kristall besteht, dessen Enden gespalten sind, um Spiegelflächen zu schaffen, und daß sie auf der ersten GaAs-Schicht (11) des Oszillators in der Weise angeordnet wird, daß ihre Kristallflächen miteinander übereinstimmen.
DE19752559265 1975-12-31 1975-12-31 Halbleiterlaser Expired DE2559265C2 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19752559265 DE2559265C2 (de) 1975-12-31 1975-12-31 Halbleiterlaser

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19752559265 DE2559265C2 (de) 1975-12-31 1975-12-31 Halbleiterlaser

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2559265A1 true DE2559265A1 (de) 1977-07-07
DE2559265C2 DE2559265C2 (de) 1982-06-09

Family

ID=5965924

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19752559265 Expired DE2559265C2 (de) 1975-12-31 1975-12-31 Halbleiterlaser

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE2559265C2 (de)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3138704A1 (de) * 1981-09-29 1983-04-21 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur herstellung von laserdioden-resonatorspiegeln
DE3411269A1 (de) * 1984-03-27 1985-10-10 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Puls-code-modulierbare laserdioden-vorrichtung
EP0169567A2 (de) * 1984-07-26 1986-01-29 Nec Corporation Halbleiterlaservorrichtung
DE3529321A1 (de) * 1984-03-27 1987-02-26 Siemens Ag Laserdioden-vorrichtung mit verlustfreier auskopplung

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3806830A (en) * 1972-02-23 1974-04-23 Nippon Electric Co Composite semiconductor laser device
DE2258297A1 (de) * 1972-11-29 1974-06-06 Philips Patentverwaltung Verfahren zur herstellung geaetzter strukturen in substraten durch ionenaetzung
US3902133A (en) * 1973-09-24 1975-08-26 Texas Instruments Inc Monolithic source for integrated optics

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3806830A (en) * 1972-02-23 1974-04-23 Nippon Electric Co Composite semiconductor laser device
DE2258297A1 (de) * 1972-11-29 1974-06-06 Philips Patentverwaltung Verfahren zur herstellung geaetzter strukturen in substraten durch ionenaetzung
US3902133A (en) * 1973-09-24 1975-08-26 Texas Instruments Inc Monolithic source for integrated optics

Non-Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Appl. Phys. Lett., 26, 1975, Nr. 9, S. 528-531 *
Appl. Phys. Lett., 27, 1975, Nr. 1, S. 45-48 *
Appl. Phys. Lett., 27, 1975, Nr. 10, S. 562-564 *
Proceedings of the IEEE, bd. 63, Jan. 1975, S. 208 *
The Bell System Technical Journal, Bd. 48, 1969, Nr. 7, S. 2071-2102 *
The Bell System Technical Journal, Bd. 53, 1974, Nr. 4, S. 717-739 *

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3138704A1 (de) * 1981-09-29 1983-04-21 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur herstellung von laserdioden-resonatorspiegeln
DE3411269A1 (de) * 1984-03-27 1985-10-10 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Puls-code-modulierbare laserdioden-vorrichtung
DE3529321A1 (de) * 1984-03-27 1987-02-26 Siemens Ag Laserdioden-vorrichtung mit verlustfreier auskopplung
EP0169567A2 (de) * 1984-07-26 1986-01-29 Nec Corporation Halbleiterlaservorrichtung
EP0169567A3 (en) * 1984-07-26 1988-09-07 Nec Corporation Semiconductor laser device

Also Published As

Publication number Publication date
DE2559265C2 (de) 1982-06-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69937014T2 (de) Lichtwellenleiterverzweigung mit Reflektor
EP0193852B1 (de) Integrierte Resonatormatrix zum wellenlängenselektiven Trennen bzw. Zusammenfügen von Kanälen im Frequenzbereich der optischen Nachrichtentechnik
DE69709436T2 (de) Optischer Halbleitermodulator und sein Herstellunsgverfahren
EP0217063B1 (de) Optische Anordnung
EP0418705B1 (de) Interferometrischer Halbleiterlaser
DE68917785T2 (de) Laserlichtquelle für den sichtbaren Bereich.
DE2804105C2 (de)
DE69001560T2 (de) Faser-optischer Kreisel.
DE2747371C3 (de) Halbleiterlaser
DE3415576C2 (de)
DE69116014T2 (de) Optischer Wellenleiterschalter für zwei Wellenlängen
DE69011921T2 (de) Halbleiterlaser mit veränderbarer Emissionswellenlänge und selektives Wellenlängenfitter und Verfahren zum Betrieb derselben.
DE69505900T2 (de) Halbleiterlaser mit integrierter Wellenleiterlinse
DE68913782T2 (de) Polarisationsunabhängiger optischer Wellenleiterschalter.
DE69214869T2 (de) Herstellungsverfahren einer Anordnung eines optischen Wellenleitersubstrats und eines Substrats zum Ausrichten von optischen Fasern
DE68912027T2 (de) Vorrichtung zur Frequenzverdopplung.
DE69022877T2 (de) Lichtisolator vom Wellenleitertyp.
DE112021002102T5 (de) Quantenkaskadenlaserelement, Quantenkaskadenlaservorrichtung und Verfahren zur Fertigung der Quantenkaskadenlaservorrichtung
EP0262439A2 (de) Lasersender mit einem Halbleiterlaser und einem externen Resonator
DE3689302T2 (de) Optische Wellenleitergeräte.
DE3443863C2 (de)
DE69118563T2 (de) Laservorrichtung
DE2220148C2 (de) Optische Steuervorrichtung mit einem Dünnschichtwellenleiter und einer akustischen Welle
DE69126240T2 (de) Lichtwellenlängenwandler
DE112018007107T5 (de) Optische integrierte Halbleitervorrichtung

Legal Events

Date Code Title Description
D2 Grant after examination
8328 Change in the person/name/address of the agent

Free format text: SCHWABE, H., DIPL.-ING. SANDMAIR, K., DIPL.-CHEM. DR.JUR. DR.RER.NAT., PAT.-ANW., 8000 MUENCHEN