DE2546664B2 - Mit ladungsverschiebung arbeitende bildaufnahmeanordnung - Google Patents
Mit ladungsverschiebung arbeitende bildaufnahmeanordnungInfo
- Publication number
- DE2546664B2 DE2546664B2 DE19752546664 DE2546664A DE2546664B2 DE 2546664 B2 DE2546664 B2 DE 2546664B2 DE 19752546664 DE19752546664 DE 19752546664 DE 2546664 A DE2546664 A DE 2546664A DE 2546664 B2 DE2546664 B2 DE 2546664B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- register
- registers
- shift
- electrodes
- cells
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 29
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 25
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 19
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 14
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 3
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims 1
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 7
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 1
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/71—Charge-coupled device [CCD] sensors; Charge-transfer registers specially adapted for CCD sensors
- H04N25/73—Charge-coupled device [CCD] sensors; Charge-transfer registers specially adapted for CCD sensors using interline transfer [IT]
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C19/00—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
- G11C19/28—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements
- G11C19/282—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements with charge storage in a depletion layer, i.e. charge coupled devices [CCD]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/148—Charge coupled imagers
- H01L27/14831—Area CCD imagers
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/71—Charge-coupled device [CCD] sensors; Charge-transfer registers specially adapted for CCD sensors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine mit Ladungsverschiebung arbeitende Bildaufnahmeanordnung mit einer Matrix
aus m Spalten mit jweils π ladungsgekoppelten Zellen, wobei jede Spalte ein lineares Schieberegister mit
optischem Eingang bildet und Einrichtungen zum Ingangsetzen der Verschiebung längs des Registers
enthält.
Die Technik der Ladungsverschiebeanordnungen, die in der angelsächsischen Terminologie als Charge-Coupled-Devices
oder CCD bezeichnet werden, ist bereits bekannt und ihre Grundprinzipien sind beispielsweise in
einem Aufsatz von W. S. BoyIe und G. E. Smith,
»Charge coupled semiconductor devices«, in der Zeitschrift »The Bell System Technical Journal«, April
1970, S. 587-593, und in einem Aufsatz von M. R Tompsett, »Charge transfer devices« in der Zeitschrift
»Journal of Vacuum and Science Technology«, Juli/August 1972, Band 9, Nummer 4, S. 1166-1181,
beschrieben.
Diese Anordnungen werden in bereits klassischer Weise verwendet, um lineare Register mit π Zellen
herzustellen, in denen man π digitale oder analoge Informationen speichern und nach Belieben daraus
:ntnehmen kann, oder um Bildaufnahmeanordnungen lerzustellen, mittels welchen ein zweidimensionaies
>ptisches Bild in eine elektrisches Signal umgewandelt verden kann, welches sequentiell für die Lichtintensität
η den verschiedenen Elementarzciien des optischen Südes kennzeichnende Informationen liefert. Es handelt
sich dabei um Matrizen, welche nxm ladungsgekoppelte Zellen enthalten, die in Zeilen und in Spalten
angeordnet sind und das abzutastende optische Bild in nxm Elementarzonen zerlegen, welche durch jede der
nxm Zellen der Matrix verarbeitet werden. Derartige Matrizen, die einzig und allein Festkörperbauelemente
enthalten, sind geeignet, in vorteilhafter Weise die klassischen Bildaufnahmeanordnungen zu ersetzen, bei
welchen als Abtasteinrichtung ein Elektronenstrahl verwendet wird.
In den linearen Registern bestehen die in einer Linie
angeordneten η Zellen aus zwei oder Jrei — je nach dem, ob das Register zwei- oder dreiphasig arbeitet —
MIS (Metall-lsolator-Halbleiter)- oder MOS (Metall-Oxid-Halbleiter)-Kapazitäten,
die nebeneinander angeordnet sind, jede Zelle speichert die Informationen,
die sie empfängt, in Form von Minoritätsladungsträgern des dotierten Halbleiters, der als Substrat für das
System der MlS-Kapazitäten des Registers dient. Die elektrischen Ladungen, die diese Minoritätsladungsträger
darstellen, werden in einer an der Grenzfläche zwischen Isolator und Halbleiter der MIS-Kapazitäten
erzeugten Inversionsschicht gespeichert, indem an ihre metallische Elektrode eine passende Spannung angelegt
wird, deren Absolutwert größer ist als ein als Schwellspannung VT bezeichneter Wert. Eine derartige
Spannung erzeugt in dem Halbleiter unter der betreffenden Elektrode eine Potentialmulde, die tatsächlich
aus einer mit Majoritätsladungsträgern unterbesetzten Raumladungszone besteht, und hält, wenn sie
in ihrem Absolutwert den Schwellenwert erreicht und überschreitet, in der Inversionsschicht Minoritätsladungsträger
fest. Diese Minoritätsladungsträger, deren Menge für die Information kennzeichnend ist, werden in
dem Halbleiter entweder durch einen solche Ladungsträger liefernden elektrischen Eingang, wobei die zu
speichernde Information eine Torschaltung derart beeinflußt, daß diese mehr oder weniger durchläßt, oder
durch die Erzeugung von Elektronen-Löcher-Paaren durch Absorption von Photonen gebildet, wobei die
Menge des an jeder Stelle und somit auf jede Zelle auflreffenden Lichtes die Menge von in jeder Zelle
gespeicherten Minoritätsladungsträgern festlegt.
Die auf diese Weise in einer Zelle gespeicherten Informationen sind geeignet, von Zelle zu Zelle
verschoben zu werden, indem passende Spannungen an die Elektroden ihrer MIS-Kapazitäten angelegt werden.
Diese Spannungen erzeugen unter diesen Elektroden Potentialmulden, in denen die Ladungen angezogen
werden. Durch Verschieben dieser Potentialmulden längs des REgisters werden die Informationen verschoben,
die man auf diese Weise zu einem elektrischen Ausgang bringt, welcher ein Signal liefert, das
sequentiell die Informationen wiedergibt, die entweder seriell in den elektrischen Eingang des Registers oder,
wenn es sich um einen optischen Eingang handelt, parallel in die π Zellen eingegeben worden sind.
Zum Bilden einer Bildaufnahmematrix ordnet man mehrere lineare Register, beispielsweise m Register, mit
optischem Eingang nebeneinander an, wobei jede Spalte der Matrix aus einem Register besteht, während
\»Ap /pile aus den m MIS-Kapazitäten desselben
Ranges jedes Registers besteht Jede der η Zellen jedes
Registers integriert und speichert in Form von in den Potentialmulden gespeicherten Ladungen die Information,
die für die Lichtintensität des optischen Bildes auf der der Zelle entsprechenden Elementarfläche kennzeichnend
ist Das auf diese Weise in nxm Elementarflächen
unterteilte optische Bild wird auf der Matrix in ein elektrisches Bild umgewandelt, welches aus nxm
Ladungsmengen besteht, welche die nxm Lichtintensitäten
auf den nxm Elementarflächen darstellen.
Das Hauptproblem dieser Matrizen besteht in der Entnahme der auf diese Weise in jeder Zelle der Matrix
gespeicherten Informationen.
Während nämlich die Verschiebung Zeile für Zeile
Während nämlich die Verschiebung Zeile für Zeile
«5 parallel längs des Systems von m Registern zu einem
linearen Ausgangsregister ausgeführt wird, an welchem dann die Informationen seriell entnommen werden, wird
das optische Bild weiterhin auf der Matrix integriert, wodurch eine Löschung des Bildes hervorgerufen wird.
Die Verschiebungszeit, die für das Entnehmen eines vollständigen Bildes erforderlich ist, ist nämlich lang, da
η-mal ein m Informationen enthaltendes Ausgangsregister geleert werden muß.
Um diese Löschung des Bildes zu vermeiden, die diese Matrizen unbenutzbar machen würde, ist bereits eine Anordnung vorgeschlagen worden, bei welcher die Zeilenzahl der Matrix verdoppelt ist, so daß zwei Zonen vorhanden sind, die zwei unterschiedliche Funktionen haben, welche sich gegenseitig nicht stören. In einer ersten Zone, auf die das abzutastende optische Bild projiziert wird, erfolgt die Integration der optischen Informationen und ihre Transformation in elektrische Ladungen, die in den Zellen mit MIS-Kapazitäten gespeichert werden. In einer zweiten Zone, die das optische Bild nicht empfängt, erfolgt die zeilenweise Entnahme der Informationen. Eine schnelle zeilenweise Verschiebung gestattet, die in der ersten Zone gespeicherten Informationen in die zweite Zone zu übertragen.
Um diese Löschung des Bildes zu vermeiden, die diese Matrizen unbenutzbar machen würde, ist bereits eine Anordnung vorgeschlagen worden, bei welcher die Zeilenzahl der Matrix verdoppelt ist, so daß zwei Zonen vorhanden sind, die zwei unterschiedliche Funktionen haben, welche sich gegenseitig nicht stören. In einer ersten Zone, auf die das abzutastende optische Bild projiziert wird, erfolgt die Integration der optischen Informationen und ihre Transformation in elektrische Ladungen, die in den Zellen mit MIS-Kapazitäten gespeichert werden. In einer zweiten Zone, die das optische Bild nicht empfängt, erfolgt die zeilenweise Entnahme der Informationen. Eine schnelle zeilenweise Verschiebung gestattet, die in der ersten Zone gespeicherten Informationen in die zweite Zone zu übertragen.
Die Schnelligkeit dieser Parallelverschiebung verhindert eine Löschung des Bildes. Die serielle Entnahme
jeder Zeile kann in der zweiten Zone, die das Bild nicht empfängt, langsam vonstatten gehen.
Ein offensichtlicher Nachteil einer solchen Anordnung besteht darin, daß sie die Verwendung einer platzraubenden und teueren Matrix erfordert, da diese anstelle von nxm Zellen 2 χ nxm Zellen und eine doppelte Fläche haben muß.
Ein offensichtlicher Nachteil einer solchen Anordnung besteht darin, daß sie die Verwendung einer platzraubenden und teueren Matrix erfordert, da diese anstelle von nxm Zellen 2 χ nxm Zellen und eine doppelte Fläche haben muß.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Festkörper-Bildaufnahmeanordnung
zu schaffen, bei welcher die zum Abtasten von nxm Elementarflächen eines optischen
Bildes geeignete Matrix nur nxm ladungsgekoppelte Zellen enthält und dabei die Erzielung eines deutlichen
Bildes unter Bewahrung eines hohen Auflösungsvermögens gestattet.
Zur Lösung dieser Aufgabe ist eine mit Ladungsverschiebung arbeitende Bildaufnahmeanordnung der
eingangs genannten Art gemäß der Erfindung dadurch gekennzeichnet, daß, da die Verschiebungsingangsetz-
einrichtungen den m Registern gemeinsam sind, die m Register jeweils Einrichtungen zur Sperrung der
Verschiebiingsingangsetzeinrichtungen enthalten, wobei
die Sperreinrichtungen von m—1 Registern so gesteuert werden, daß die Verschiebung längs der m— 1
Register gesperrt wird, und wobei die Sperreinrichtun gen des m-ten Registers so gesteuert werden, daß dit
Verschiebung längs des m-ten Registers ausgeführ werden kann; und daß Einrichtungen vorgesehen sine
zum sequentiellen Entnehmen der in den π Zellen jedes
der m Register enthaltenen η Informationen im gleichen
Maße wie die m Verschiebungen, die unabhängig voneinander längs der m Register ausgeführt werden.
Da somit bei der Bildaufnahmeanordnung nach der Erfindung die in den nxm Matrixzellen als elektrische
Ladungen gespeicherten Informationen Spalte für Spalte entnommen werden, indem Steuereinrichtungen
die Verschiebung individuell längs jedes Registers ingang setzen und gleichzeitig die Verschiebung längs
der m— 1 anderen Register blockieren, ist die Verschiebungszeit
eines Registers ausreichend kurz, so daß die längs dieses Registers gespeicherten Informationen
nicht gelöscht werden. Die anderen Register werden während dieser Zeit nicht gestört, da darin keine
Verschiebung stattfindet und da sie fortfahren, das optische Bild, welches sie empfangen, normal zu
integrieren.
Weiterbildungen, Vorteile und Ergebnisse der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Beschreibung von
Ausführungsbeispielen. In den Zeichnungen zeigt
Fig. 1 eine schematische Ansicht einer Bildaufnahmeanordnung nach der Erfindung,
F i g. 2 und 3 zwei zueinander rechtwinklige schematische Schnittansichten eines Teils der Matrix von Fig. 1,
F i g. 4 und 5 Kurven, welche die Arbeitsweise einer Bildaufnahmeanordnung nach der Erfindung nach der
Erfindung in zwei Varianten veranschaulichen,
F i g. 6 eine schematische Schnittansicht eines Teils einer abgewandelten Ausführungsform der Matrix nach
der Erfindung und
F i g. 7 Kurven, welche die Arbeitsweise einer Bildaufnahmeanordnung veranschaulichen, bei welcher
eine Matrix gemäß F i g. 6 verwendet wird.
In der folgenden Beschreibung und in den Zeichnungen
sind die verwendeten Ladungsverschiebeanordnungen 3-Phasen-Ladungsverschiebeanordnungen. Selbstverständlich
ist die Erfindung ebensogut bei an sich bekannten 2-Phasen-Ladungsverschiebeanordnungen
anwendbar.
Wie oben bereits kurz erwähnt, enthält eine erfindungsgemäße Festkörperanordnung für die Bildaufnahme
eine Matrix mit nxm ladungsgekoppelten Zellen, die in m Spalten von jeweils η Zellen angeordnet
sind. Da es sich hier um 3-Phasen-Ladungsverschiebeanordnungen handelt, enthält jede Zelle drei benachbarte
MIS-Kapazitäten, die durch drei leitende Elektroden festgelegt sind.
In F i g. 1 ist jede Spalte der Matrix tatsächlich ein
lineares Register Ri, R2... Rm, welches aus π Zellen Ci,
C2... Cn mii jeweils drei MIS-Kapazitäten besteht
Die m Register sind in einer für diese Art von Matrizen an sich herkömmlichen Anordnung auf ein und
demselben Halbleitersubstrat t hergestellt, wie es die F i g. 1,2 und 3 zeigen, in welchen gleiche Bezugszeichen
gleiche Elemente bezeichnen.
Das Substrat 1 besteht beispielsweise aus N-leitendem Silicium, das mit einer dielektrischen Schicht 2
überzogen ist, die beispielsweise aus Siliciumdioxid bestehen kann. Leitende Elektroden, drei pro Zelle —
nämlich die Elektroden £ii, Ea, En für die erste Zelle
des Registers Ri; die Elektroden £21, £22. £23 für die
zweite Zelle; usw. — sind auf die Schicht 2 aufgebracht, um die MOS-Kapazitäten der ladungsgekoppelten
Zellen zu bilden.
Wie in den F i g. 1 und 2 dargestellt, sind die Elektroden E11, £12 -. · dem System der Register Ri... A0,
gemeinsam. Um die Vermischung der in einer Zelle
eines Registers gespeicherten Ladungen mit den in den benachbarten Zellen der benachbarten Register gespeicherten
Ladungen zu vermeiden, oder, anders ausgedrückt, um m MOS-Kapazitäten längs ein und derselben
Elektrode Eu ... E„z effektiv festzulegen und um m
getrennte Register Ri... Rm zu erhalten, zerlegt man die
Matrix in Spalten, indem beispielsweise auf dem Substrat 1 unter der Oxidschicht 2 Diffusionen des
N+ -Leitungstyps ausgeführt werden, weiche äquidistante
parallele Streifen 3 bilden. Diese Streifen 3 von N+ -Diffusionen haben eine Schwellspannung, die
größer ist als die des /V-Substrats. Indem für die an die
Elektroden angelegten Steuerspannungen sowohl für die Integration als auch für die Verschiebung Werte
gewählt werden, die zwischen der Schwellspannung der MOS-Kapazitäten und der der N+ -Diffusionen liegen,
werden die unter den verschiedenen Register R\... Rn,
erzeugten Potentialmulden wirksam voneinander isoliert. Andere bekannte Isolierungsverfahren sind hier
ebenfalls anwendbar.
Von den Elektroden £n, £12... sind jeweils alle dritten
miteinander verbunden, da es sich hier um eine Anordnung mit drei Phasen Φι, Φι und Φ3 handelt, an die
die Taktspannungen für das Einschreiben und für die Verschiebung angelegt werden, wie weiter unten
gezeigt werden wird.
Ein lineares Ausgaberegister R* das aus m Zellen mit
beispielsweise drei Elektroden besteht, wenn es sich hier ebenfalls um ein Register mit drei Phasen φι, ψ2, ψ3
handelt, ist auf demselben Substrat 1 wie die Matrix selbst angeordnet. Das Register Rs ist in der Lage, zu
einer Ausgangsdiode £>$, welche ein elektrisches Signal s
abgibt, die Ladungen zu übertragen, die für die eingetragenen Informationen kennzeichnend sind, welehe
es von der Matrix aus η χ m Zellen empfängt.
Gemäß der Erfindung sind Einrichtungen vorgesehen, die die Verschiebung der in den Zellen der Matrix
gespeicherten Ladungen von Register zu Register in Gang setzen. Während eines der m Register Ri... Rn, in
das Ausgaberegister Rs entleert wird, verschiebt dieses
die Informationen im gleichen Maße zu der Ausgangsdiode Df, wobei an seine drei Phasen φι, ψ2, ψ3 passende
Taktspannungen synchron mit den Taktspa.inungen der Phasen Φι, Φ2, Φ3 der Matrix angelegt werden. Während
derselben Zeit sperren die gemäß der Erfindung vorgesehenen Einrichtungen die Verschiebung längs
der m— 1 anderen Register, in denen das Bild weiterhin integriert und gespeichert wird.
Die zum Leeren eines Registers erforderliche Zeit ist ausreichend kurz, um zu vermeiden, daß der in diesem
Register gespeicherte Bildteil gestört wird Die anderen Register werden selbstverständlich nicht gestört, da in
ihnen keine Verschiebung stattfindet
Die Erfindung wird nunmehr ins einzelne gehend im Rahmen einer Art der Ausführung der Einrichtunger
zur Steuerung der registerweisen Verschiebung beschrieben.
Eine weitere Betrachtung der Fig. 1, 2 und 3 zeigi
eine Leiterbahn Gi, G2... Gn, die jedes Register R1..
Rm bedeckt und von seinen Elektroden durch eine Isolierschicht 4 isoliert ist Diese Leiterbahnen sine
beispielsweise Aluminiumstreifen, wenn das abzutastende Bild auf die freie Seite des Substrats 1 projiziert wird
wenn es durch diese Streifen hindurchprojiziert wird, st
ist klar, daß sie, ebenso wie die anderen Schichten, dw
zwischen dem Bfld and dem Substrat Gegen, aas einen
transparenten oder hafbtransparenten Lehermateria
hergestellt werden müssen. Die Schicht 4 ist beispieis
¥670
weise ein Oxid, welches auf der Gesamtheit der Matrix thermisch hergestellt wird; in diesem Fall bestehen die
Elektroden E\\...Enz aus einem hochwarmfesten Metall,
beispielsweise aus polykristallinem Silicium.
Wie Fig.3 zeige, wird eine an die Leiterbahn G\ des
auf diese Weise auf der Matrix durch die Gesamtheit der Bahnen G\ bis Gngebildeten Gitters das Potential Vsder
Grenzfläche 5 in den Zwischenräumen zwischen den Elektroden steuern. Man kann durch Verändern dieses
Potentials die Verschiebung längs des Registers blockieren oder in Gang setzen, was anhand von F i g. 4
erläutert wird.
In Fig.4 sind schematisch bei fa^die Elektroden Ew.
E\2, En ... in einer Schnittansicht längs eines Registers
(wie in Fig.3) dargestellt, wobei zur übersichtlicheren
Darstellung in der Figur der Halbleiter, die verschiedenen Oxidschichten und die Leiterbahn G\ weggelassen
sind.
Bei (b), (c), (d), (e) und (f) sind Kurven der Änderung
des Potentials V5 an der Grenzfläche S zwischen Siliciumdioxid und Silicium in Abhängigkeit von der
Strecke χ längs des Registers dargestellt. Diese Kurven entsprechen: bei (b) und (c) dem NichtVorhandensein
einer Verschiebung und bei (d) bis (f) verschiedenen
Zeitpunkten einer Verschiebung.
Zur Erzielung der Potentialkonfiguration der Kurve (b) legt man die Leiterbahn Ci an eine derartige
Sperrspannung VCb. daß die Grenzflächenpotentiale
Vsc in den Zwischenräumen zwischen den Elektroden
auf dem Referenzpotential und beispielsweise auf 0 Volt sind. Die Grenzflächenpotentiale unter den verschiedenen
Elektroden sind durch die an die Phasen Φι, Φ2 und
Φι angelegten Spannungen festgelegt. Die Wahl dieser Spannungen erfolgt im Prinzip gemäß den bereits
klassischen Regeln der Ladungsverschiebeanordnungen. Tatsächlich ist sie hier ein wenig verschieden.
Die Kurven (b)\ix\d fo)entsprechen dem Nichtvorhandensein
einer Verschiebung längs des Registers R\, dp die Leiterbahn G\ zwischen den Elektroden Potentialwälle
erzeugt, die von den Ladungen, die in den unter den Elektroden vorhandenen Potentialmulden gespeichert
sind, nicht überwunden werden können. Sie entsprechen somit einer Integrationsperiode des Bildes
durch das Register R\. Während aber diese Integration stattfindet, ist eines von den m- 1 anderen Registern in
einer Verschiebeperiode. Die an seine Elektroden über die Phasen Φι, Φ2 und Φ3 angelegten Spannungen
schalten somit zwischen zwei Werten um, von denen der eine negativer ist als der andere, damit in dem
betreffenden Register die Verschiebung ermöglicht wird. Das Register R\ wird somit Ladungen in den drei
MOS-Kapazitäten jeder seiner Zellen sammeln und speichern, während üblicherweise allein eine dieser drei
Zellen zur Speicherung dient Man muß somit die negativen Spannungen Vi und V2 wählen, zwischen
denen die Phasen umgeschaltet werden, um gleichzeitig die Verschiebung längs des betreffenden Registers und
die Integration der Ladungen in den anderen Registern zu ermöglichen. Man wählt vorteflhafterweise
\Vi\<\Vi\<\U
wobei Vrdte oben definierte Schweflspannung ist
wobei Vrdte oben definierte Schweflspannung ist
Die Tatsache, daß die Spannung | V,} kleiner ist als die
Spannung |V2| erlaubt, daß die Verschiebung von
Ladungen in dem betreffende Register in zweckmäßiger Weise von den durch die Spannungen V1 gesteuerten
Kapazitäten zu den durch die Spannung V2 gesteuerten benachbarten Kapazitäten erfolgt Die durch die
Spannungen Vi und V2 gesteuerten Grenzflächen S
liegen auf dem Potential VS\ bzw. V52.
Die Tatsache, daß die Spannungen | V7J und | V2| beidi
größer als die Spannung | Vj\ sind, erlaubt, daß dii
Integration und die Speicherung in zweckmäßige Weise in den m-1 Registern ausgeführt werden, in
welchen keine Verschiebung stattfindet, und zwar trotz des Vorhandenseins einer Verschiebung in dem m-ten
Register.
In den Registern, die sich in einer Integrationsperiode befinden, werden nämlich die drei MOS-Kapazitäten
jeder Zelle nacheinander ihre Elektrode auf einem Potential Vi haben, da eines von den m Registern imme
in einem Verschiebungszustand ist. Es ist somi erforderlich, daß die MOS-Kapazitäten, an die da
Potential Vi angelegt ist, die positiven Ladungen bewahren können, die darin gespeichert worden sind.
Aus diesem Grund ist es erforderlich, daß | Vi| > | Vj\ ist
Deshalb werden die positiven Ladungen, die während einer Integration von den Kapazitäten angezogen
worden sind, welche die tiefsten Potentialmulden darstellen, d. h. von denjenigen, die durch die Spannun
gen V2 gesteuert werden, darin bleiben, wenn an diese
Kapazitäten die Spannungen Vi angelegt werden. Die drei Kapazitäten jeder Zelle werden somit Ladungen
integrieren und speichern. Das wird durch die positiven Ladungen dargestellt, die an den Kurven (b) und (c) in
die Potentialmulden eingezeichnet sind, welche unte den drei Elektroden jeder Zelle vorhanden sind.
Wenn es sich darum handelt, die Verschiebung läng eines Registers, beispielsweise längs des Registers Ru in
Gang zu setzen, damit die Informationen, die es enthält das Ausgaberegister Äs füllen, schaltet man die an di
Leiterbahn G\ angelegte Spannung auf einen negativen Wert um, der als Verschiebespannung Vor bezeichne
wird. Der Wert dieser Verschiebespannung Vor häng
von der betreffenden Ausführungsform ab. In allen Fällen soll er so groß sein, daß für das Potential Vsci de
Grenzfläche S in den Zwischenräumen zwischen den Elektroden gilt:
In dem in F i g. 4 dargestellten Fall, in welchem di
klassischen Probleme der Oberflächenzustände nich berücksichtigt sind, weil sie entweder durch zusätzlich
Maßnahmen gelöst sind oder weil beispielsweise di Verschiebung gemäß an sich bekannten Verfahren im
Volumen stattfindet ist VCr derart gewählt, daß gilt Vsgi = Vsi, wie es die Kurve (d) zeigt die dem Anfang
der Verschiebung entspricht. Während diese Spannung Vct an die Leiterbahn G\ angelegt ist liegt an den
Leiterbahnen G2 ... Gn, der anderen Register di
Sperrspannung Vsb an.
In einer ersten Zeit der Verschiebung, welches die be
(d) dargestellte ist werden die in den drei MOS-Kapazi·
täten jeder Zelle gespeicherten Ladungen in ein unc derselben Kapazität zusammengefaßt, und zwar it
derjenigen Kapazität deren Potentialmulde am tiefster ist — hier unter den Elektroden En, E22,... E&.
in einer zweiten Zeit wenn die Spannungen VJ und
umschalter, wobei die Phase Φ2 von V2 auf Vj geht
während die Phase Φί von Vj auf V2 geht und die Phase
Φι auf Vi bleibt, erfolgt die Übertragung normal läng!
des Registers Ru wobei die Ladungen von den an die
Phase Φ2 angeschlossenen Elektroden unter diejenige!
gehen, die an die Phase Φ3 angeschlossen sind, Kurvei
(e) und (Ql Danach wird die Phase Φι von Vj auf V
umgeschaltet während die Phase Φ2 von V2 auf V
609582/34
>■/
¥670
umgeschaltet wird, wobei die Ladungen dann unter die
mit der Phase Φ\ verbundenen Elektroden gehen usw.
Eine Steuereinrichtung 5, beispielsweise ein Schieberegister mit mStufen, legt an alle Leiterbahnen G\ ...
Gn, mit Ausnahme einer Leiterbahn die Spannung Van
an, welche die Blockierung der Verschiebungen längs der entsprechenden Register bewirkt. Jede der m Stufen
des Registers 5 legt der Reihe nach an die Leiterbahn, die sie steuert, die Verschiebespannung Vor an. Die
Umschaltung der Verschiebespannung von einer Leiterbahn zur nächsten des Gitters Gi... G1n erfolgt mit einer
Taktfrequenz, die von der Dauer T der Elementarverschiebung eines linearen Registers abhängt, d. h. von der
Dauer der Verschiebung von einer MOS-Kapazität zur nächsten, und von der Anzahl der Zellen des Registers.
Zu diesem Zweck arbeitet der Eingang 6 des Schieberegisters 5, der diese Umschaltung steuert, mit
dem Taktgeber synchron, der die Umschaltung der Phasen Φι, Φϊ und Φι steuert.
Die Maßnahmen, die oben beschrieben worden sind und die darin bestehen, die Verschiebungen längs der
Register mit Hilfe eines leitenden Gitters zu blockieren oder in Gang zu setzen, das mit unterschiedlichen
Spannungen vorgespannt ist, weisen eine gewisse Anzahl zusätzlicher Vorteile auf, welche die Bildaufnahmeanordnungen
nach der Erfindung besonders interessant machen.
Während der Verschiebung sind nämlich die Zwischenräume zwischen den Elektroden durch dieses
Gitter passend vorgespannt und ein klassisches Problem der ladungsgekoppelten Anordnungen, nämlich das des
Potentialwalls aufgrund dieser Zwischenräume stellt sich nicht mehr. Die Elektroden können also mit
ausreichendem Abstand voneinander und insbesondere mit einem Abstand von mehr als 3 μιη angeordnet
werden, wobei es sich um eine Abmessung handelt, die in derartigen Anordnungen gewöhnlich kritisch ist.
Daraus resultiert eine Vereinfachung bei der Herstellung der Matrix, da die Photogravüretoleranzen viel
größer sein können.
Ein weiterer Vorteil betrifft das Problem der »Oberflächenzustände«, d. h. der Fangstellen, die an der
Grenzfläche Szwischen Siliciumdioxid und Silicium sehr schnell einen Teil der Ladungen der Information
während der Verschiebungen einfangen können und sie sehr langsam wieder freigeben, während die Verschiebungen
fortgesetzt werden, wodurch der Verschiebungswirkungsgrad gesenkt wird.
Es ist bislang bekannt, diese Oberflächenzustände unter den Elektroden ständig zu sättigen, indem ein
»Bodensa'z« von Ladungen mit Hilfe eines elektrischen
Einganges in die Register eingegeben wird. Indem die Elektroden der Register immer derart vorgespannt
werden, daß unter diesen Elektroden eine Raumladung aufrechterhalten wird, sättigen dort die Ladungen des
Ladungsbodensatzes ständig die Oberflächenzustände. Dagegen werden in den Zwischenräumen oder »gaps«
zwischen den Elektroden die Oberflächenzustände nicht gesättigt, da es dort keinen ständigen Ladungsboden
satz gibt
In den Matrizen nach der Erfindung weisen auch die
Zwischenräume zwischen den Elektroden der Register während der Verschiebungen Raumladungszonen auf.
und zwar dank der Leiterbahnen G\... Gn, die durch die
Verschiebespannung Vgt negativ vorgespannt sind. Sie können sogar, wenn die Spannung Vgt im Absolutwert
größer ist als die SchweHspannong Vr, Inversionsschichten aufweisen, die in der Lage sind, positive Ladungen
festzuhalten. Es ist auf diese Weise möglich, die Oberflächenzustände nicht nur unter den Elektroden,
sondern auch zwischen ihnen zu sättigen, was anhand von F i g. 5 deutlich werden wird.
Zu diesem Zweck erlaubt ein an sich herkömmlicher elektrischer Eingang, der in Fig.3 schematisch durch
die Diode 10 und die Torschaltung Il dargestellt ist, in
jedes Register Grundladungen ζ\>
einzugeben. Bevor die Abtastung eines Bildes ausgeführt wird, bringt man alle
ίο Leiterbahnen Ci ... Gn, auf das Verschiebepotential
Vct, welches hier im Absolutwert größer als die Schwellspannung Vt ist, und durch Aufsteuern der
Torschaltung 11 läßt man die Grundladungen Qo passieren. Die Verschiebung längs aller Register wird
derart gesteuert, daß sie mit diesen Grundladungen gefüllt werden. Man steuert außerdem die Torschaltung
11. die ein Register mit Grundladungen Q0 speist,
jedesmal dann auf, wenn man eine Verschiebung längs dieses Registers veranlaßt.
Nachdem die vorangehende Operation des Füllens der Register mit Grundladungen ausgeführt worden ist,
geht man zu der Abtastung des Bildes über, wie oben beschrieben. Wenn die Gitterstreifen G, ... Gn, an der
Sperrspannung VGb liegen. Kurve (c) von F i g. 5, gehen
die zuvor in der Inversionsschicht der Zwischenräume
zwischen den Elektroden gespeicherten Ladungen der Grundladungen in die Raumladungszonen unter den
Elektroden. Die MOS-Kapazitäten speichern so nicht nur die Ladungen Q5, die dem abgetasteten Bild
entsprechen, sondern auch die Grundladungen Ob-Wenn die Verschiebung längs eines Registers in Gang
gesetzt ist, Kurve (d) von F i g. 5, werden die dem Bild entsprechenden Ladungen Qs unter den Elektroden
zusammengefaßt, welche die tiefsten Potentialmulden aufweisen, während Ladungen Q0 in die Potentialmulden
gehen, die unter den Zwischenräumen zwischen den Elektroden durch das Gitterpotential VGt erzeugt
worden sind.
Wenn danach die Verschiebung fortgesetzt wird,
Kurven (e) und (Q, wobei die Oberflächenzustände
überall einschließlich zwischen den Elektroden durch Ladungen Qp gesättigt sind, werden die die Informationen
kennzeichnenden Ladungen vollständig verschoben.
F i g. 6 zeigt schematisch in einer Schnittansicht längs eines Registers, beispielsweise längs des Registers Ru
eine Abwandlung der Matrix nach der Erfindung, die sich von der von F i g. 3 durch die Geometrie ihrer
Oxidschicht 4 unterscheidet. F i g. 7 dient zur Erläute-
rung ihrer Betriebsweise.
Es handelt sich hier, wie in dem Fall von Fig.4, um
Ladungsverschieberegister, in welchem man Oberflächenzustände nicht berücksichtigt, beispielsweise wenn
es sich abermals um Register mit Ladungsverschiebung
im Volumen handelt, die manchmal auch als Register
»mit vergrabenem Kanal« bezeichnet werden, bei weichen diese Oberflächenzustände keinen Einfluß auf
die Verschiebung haben.
men zwischen den Elektroden Inversionsschichten aufrechtzuerhalten, und man kann Verschiebungen
vornehmen, indem an die Leiterbahn des betreffenden Registers, beispielsweise an die Leiterbahn Gi des
Registers R1, die an die Phasen Φι, Φ2 und Φ3 angelegte
Spannung umgeschaltet wird, wie in den Fig.6 and 7
dargestellt.
In einer ersten Zeit die mit den beiden vorangehenden Fällen identisch ist, ist das Potential der Leiterbahn
Ci das Sperrpotential Vco, Kurve (b).
Während einer Zeit, die der Zusammenfassung der Ladungen unter den midieren Elektroden der Zellen,
d. h. unter denjenigen Zellen, die mit der Phase Φ2
verbunden sind, Kurve (c), und der Verschiebung der Ladungen dieser Elektroden zu den mit der Phase Φι
verbundenen Elektroden entspricht, Kurven (d) und (e), wird das Potential der Leiterbahn G\ in jedem Zeitpunkt
das Potential der Phase Φ2 sein. Da keine Ladung
zurückbleibt, wie es in F i g. 5 der Fall war, wird auf diese Weise die Dynamik der Anordnung vergrößert, welche
Informationen mit größerer Amplitude abtasten kann, Außerdem, und im Gegensatz zu dem, was sich in der
Anordnung von Fig. 4 ergeben würde, ist die Verschiebung gleichmäßiger als in Fig.4, da das
Potential der Grenzfläche S des Zwischenraumes
zwischen den Elektroden zwischen zwei Kapazitäten, zwischen denen die Verschiebung erfolgt, immer
zwischen den Potentialen der Grenzflächen 5 dieser beiden Kapazitäten liegt.
Wenn es sich darum handelt, die Ladungen der mit der Phase Φ3 verbundenen Elektroden zu den mit der
Phase Φ\ verbundenen Elektroden zu verschieben,
Kurven (V^ und (g), wird das Potential der Leiterbahn G\
auf die Phase Φ3 umgeschaltet, so daß gilt VCi = V<Z>3
usw.
Zur Erzielung einer solchen Arbeitsweise ist die Matrix in der in Fig.6 dargestellten Weise aufgebaut.
Die die Gitterstreifen G\ ... Gm bildende Aluminiumschicht
ist in den Zwischenräumen zwischen den Elektroden von dem Halbleiter 1 durch dieselbe
Oxidschicht 2 wie die Elektroden des Registers getrennt.
Hierzu 4 Blatt Zeichnungen
Claims (8)
1. Mit Ladungsverschiebung arbeitende Bildaufnahmeanordnung mit einer Matrix aus m Spalten
mit jeweils η ladungsgekoppelten Zellen, wobei jede Spalte ein lineares Schieberegister mit optischem
Eingang bildet und Einrichtungen zum Ingangsetzen der Verschiebung längs des Registers enthält,
dadurch gekennzeichnet, daß, da die Verschiebungsingangsetzeinrichtungen den m Registern
(R\ ... Rm) gemeinsam sind, die mRegister
jeweils Einrichtungen zur Sperrung der Verschiebungsingangsetzeinrichtungen enthalten, wobei die
Sperreinrichtungen von m—\ Registern so gesteuert werden, daß die Verschiebung längs der
/n—lRegister gesperrt wird, und wobei die Sperreinrichtungen
des m-ten Registers so gesteuert werden, daß die Verschiebung längs des m-ten
Registers ausgeführt werden kann; und daß Einrichtungen vorgesehen sind zum sequentiellen Entnehmen
der in den π Zellen jedes der m Register enthaltenen η Informationen im gleichen Maße wie
die m Verschiebungen, die unabhängig voneinander längs der m Register ausgeführt werden.
2. Anordnung nach Anspruch 1, bei der die Zellen der Register aus MlS-Kapazitäten bestehen, die
durch die leitenden Elektroden (Ew, En, ...)
festgelegt sind, welche auf einer Isolierschicht (2) gebildet sind, die ihrerseits auf einem Halbleitersubstrat
(1) ruht, wobei die Elektroden Teil der Verschiebungsingangsetzeinnchtungen sind und gestatten,
längs der Register die elek.rischen Ladungen zu verschieben, welche durch die Lichtinformationen
erzeugt worden sind, die sie empfangen; bei der die m Register (R] ... Rm) auf demselben
Halbleitersubstrat (1) angeordnet sind; und bei der Einrichtungen (3) vorgesehen sind zum Isolieren der
in einem Register erzeugten Ladungen von den in den benachbarten Registern erzeugten Ladungen,
dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtungen zum Sperren der Einrichtungen zum Ingangsetzen der
Verschiebung längs jedes Registers aus Einrichtungen bestehen zum Steuern des Potentials (Vsc) der
Grenzfläche zwischen Halbleiter und Isolator in den Zwischenräumen zwischen den Elektroden der
verschiedenen Register, wobei diese Einrichtungen das Potential auf einen Wert bringen, der die
Verschiebung, die normalerweise durch die gemeinsamen Elektroden in Gang gesetzt wird, in m-\
Registern sperrt, und das Potential auf einen Wert bringen, der die Ausführung der Verschiebung in
dem /?j-ten Register gestattet.
3. Anordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtungen zum Steuern des
Grenzflächenpotentials der Zwischenräume zwitchen den Elektroden der in Register ein leitendes
Gitter enthalten, welches aus m Leiterbahnen (G\... Gm)besteht, die jeweils auf jedem der m Register (R\
■ ■ ■ Rm) gebildet sind, welche zuvor mit einer Schicht
(2) aus einem Isoliermaterial überzogen worden sind, wobei die Leiterbahnen des Gitters in der Lage sind,
die von ihnen gesteuerten Grenzflächen der Zwischenräume zwischen den Elektroden der
Register auf vorbestimmte Potentiale zu bringen, wenn an sie Taktspannungen angelegt sind.
4. Anordnung nach Anspruch 3, gekennzeichnet durch Einrichtungen zur Steuerung des Gitters, die
an m—\ seiner Leiterbahnen eine Sperrspannung (Vcb) anlegen, welche die Potentiale der Grenzfläche
der Zwischenräume zwischen den Elektroden der entsprechenden m— 1 Register auf den Wert
bringt, der die Verschiebungen sperrt, und die an die
m-te Leiterbahn eine Verschiebespannung (Vct)
anlegen, welche die Grenzflächenpotentiale der Zwischenräume zwischen den Elektroden des
entsprechenden Registers auf den Wert bringt, der die Verschiebung gestattet, wobei die Einrichtungen
zum Steuern des Gitters die Verschiebespannung (Vct) nacheinander an jede der m Leiterbahnen des
Gitters während einer Zeit anlegen, die von der Anzahl π der Zellen der Register und von der
iS Verschiebungszeit in einer Zelle abhängig ist
5. Anordnung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtungen zum Steuern des
Gitters ein Schieberegisters (5) mit m Stufen und m Ausgängen enthalten, die jeweils mit einer der
m Leiterbahnen des Gitters verbunden sind.
6. Anordnung nach einem der Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß jedes der m Register
einen elektrischen Eingang (10, 11) hat, der ihm während jeder Verschiebung elektrische Grundla-
*5 gen (Qo) liefert, die zum Sättigen der Oberflächenzustände
der Grenzfläche zwischen dem Halbleiter und dem Isolator des Registers dienen.
7. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtungen zum
sequentiellen Entnehmen der in den η Zellen jedes Registers enthaltenen Informationen im gleichen
Maß wie die Verschiebung des Registers ein lineares Ausgabeschieberegister (Rs) enthalten, welches auf
demselben Substrat wie die m Register der Matrix angeordnet ist und m Zellen enthält, welche die
jedes der m Register der Matrix verlassenden Ladungen aufnehmen und sie zu einer Ausgangseinrichtung
("DJ leiten.
8. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die linearen Schieberegister
3-Phasen-Register sind.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7435146 | 1974-10-18 | ||
FR7435146A FR2288373A1 (fr) | 1974-10-18 | 1974-10-18 | Dispositif image a transfert de charges |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2546664A1 DE2546664A1 (de) | 1976-04-22 |
DE2546664B2 true DE2546664B2 (de) | 1977-01-13 |
DE2546664C3 DE2546664C3 (de) | 1977-08-25 |
Family
ID=
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2288373A1 (fr) | 1976-05-14 |
GB1518176A (en) | 1978-07-19 |
FR2288373B1 (de) | 1978-03-24 |
JPS5165526A (de) | 1976-06-07 |
US4009333A (en) | 1977-02-22 |
DE2546664A1 (de) | 1976-04-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3344090C2 (de) | ||
DE2600962C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung der Überstrahlung bei Halbleiterbildwandlern | |
DE2107022C3 (de) | ||
DE2919522A1 (de) | Ladungsuebertragungs-bauelement | |
DE3220958A1 (de) | Fluessigkeitskristall-matrixanzeigeanordnung | |
DE3345215C2 (de) | Festkörper-Bildaufnahmewandler | |
DE69637152T2 (de) | Festkörperbildaufnahmevorrichtung und Verfahren zur Steuerung | |
DE2533404A1 (de) | Mit ladungsuebertragung arbeitende bildaufnahmeeinrichtung | |
DE69111343T2 (de) | Bilddetektor mit Grossformat-Pixels. | |
DE2210303A1 (de) | Aufnehmer zum Umwandeln eines physikalischen Musters in ein elektrisches Signal als Funktion der Zeit | |
DE3521917C2 (de) | Festkörper-Bildsensor | |
DE3039264A1 (de) | Festkoerper-bildabtastvorrichtung und deren ladungsuebertragungsverfahren | |
DE2252148C3 (de) | Ladungsgekoppelte Halbleiteranordnung und Verfahren zu ihrem Betrieb | |
DE2201028A1 (de) | Feldeffekt-Speicherelement | |
DE2816259A1 (de) | Analog-digital-wandler in form einer ladungsgekoppelten halbleiterschaltung | |
DE2638976A1 (de) | Ladungsuebertragungsanordnung | |
DE2933412B2 (de) | Festkörper-Abbildungsvorrichtung | |
DE3105910C2 (de) | ||
DE2813225A1 (de) | Halbleitervorrichtung fuer eine umwandlung zwischen analog- und digitalsignalen | |
DE69737642T2 (de) | Festkörperbildsensor, Steuerungsverfahren und Verwendung desselben in einer Kamera | |
DE2734409B2 (de) | Bildaufnahmegerät in CCD-Bauweise | |
DE2543615A1 (de) | Regenerierstufe fuer ladungsverschiebeanordnungen | |
DE2546664B2 (de) | Mit ladungsverschiebung arbeitende bildaufnahmeanordnung | |
DE2800893C2 (de) | Verfahren zum Betreiben eines ladungsgekoppelten Halbleiterbauelements und ladungsgekoppeltes Halbleiterbauelement zur Durchführung des Verfahrens | |
DE2500909A1 (de) | Verfahren zum betrieb einer ladungsverschiebeanordnung nach dem charge-coupled-device-prinzip (bccd) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |