DE2545957A1 - Lichtempfindliches material fuer positiv arbeitende photolacke und fuer die herstellung von druckplatten - Google Patents

Lichtempfindliches material fuer positiv arbeitende photolacke und fuer die herstellung von druckplatten

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DE2545957A1 DE19752545957 DE2545957A DE2545957A1 DE 2545957 A1 DE2545957 A1 DE 2545957A1 DE 19752545957 DE19752545957 DE 19752545957 DE 2545957 A DE2545957 A DE 2545957A DE 2545957 A1 DE2545957 A1 DE 2545957A1
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders

Description

  • Lichtempfindliches Material für positiv arbeitende
  • Photolacke und für die Herstellung von Druckplatten Die Erfindung betrifft ein verbessertes lichtempfindliches Material für positiv arbeitende Photolacke und für die Herstellung von Druckplatten auf der Basis eines o-Ch-inondiazidsulfonyl-Gruppen enthaltenden wasserunlöslichen Polykondensats mindestens eines Phenols mit einem Aldehyd und ein Verfahren zu dessen Herstellung.
  • Es ist bekannt, Kopierschichten für Druckformen zu verwenden, die als lichtempfindliche Komponente des Photolackes Ester der Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonsäure enthalten (DT-PS 938 233, DT-PS 865 109). Es sind ferner Kopierschichten bekannt, die als lichtempfindliches Harz Ester der Naphthochinon-1 >2-diazid-5-sulfonsäure mit Phenol-Aldehyd- oder Phenol-Keton-Kondensaten, zoBo mit den Novolaken enthalten (DT-PS 865 860). Diese Beschichtungen weisen aber den Nachteil einer langen Belichtungszeit und einer relativ niedrigen mechanischen Festigkeit auf.
  • Der vorliegenden Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, lichtempfindlichere Materialien für schnellere Druckplatten zu finden, die gleichzeitig eine gute Haftung auf den Träger sowie eine gute Filmbildung zeigen und leicht und kostengünstig herstellbar sind.
  • Es wurde nun gefunden, daß die Aufgabe gelöst werden kann mit einem lichtempfindlichen Material für positiv arbeitende Photolacke und für die Herstellung von Druckformen auf der Basis eines o-Chinondiazidsulfonyl-Gruppen enthaltenden wasserunlöslichen Polykondensats mindestens eines Phenols mit einem Aldehyd, das dadurch gekennzeichnet ist, daß die Polykondensate neben a) einkondensierten Einheiten mindestens einer phenolischen Verbindung (A) b) einkondensierte Einheiten mindestens einer im Wellenlängenbereich von 300 bis 400 nm stark absorbierenden phenolischen Verbindung (B), die bevorzugt einen molaren Extinktionskoeffizient 6 größer als 103 aufweist, und deren Hydroxyl- oder Aminogruppen zumindest teilweise zu o-Chinondiazidsulfonsäureester- oder - amid-Gruppen umgesetzt sind, enthalten.
  • Gegenstand der Erfindung ist ferner ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Polykondensats, indem man ein Gemisch der phenolischen Verbindungen A und 3 mit einem Aldehyd, in einem organischen tösungsmittel in Gegenwart eines sauren Katalysators kondensiert, bevorzugt bei Temperaturen unter 80°C, d .h. unter milden Bedingungen.
  • Bevorzugte Materialien enthalten im Schnitt etwa als Jede 2. bis jede 154 Phenolkomponente des Polykondensats eine im nahen UV-Bereich stark absorbierende phenolische Verbindung B, während die anderen Phenolkomponenten meist keinen Chromophor enthalten, der im Bereich 300 bis 400 nm absorbiert und auch keine o-Ch1nondiazidsulfonyl-Gruppen enthalten.
  • Als phenolische Verbindungen (A3, die bevorzugt im Wellenlängenbereich von 300 bis 400 nm nicht oder nur wenig absorbieren, seien beispielhaft genannt Phenol, Hydrochinon, Methoxyphenol, Dimethoxyphenol, Aminophenol, Kresol, Bis(4-hydroxyphenyl)-methan und Bis (4-hydroxyphenyl)-propan-2,2, von denen die letzten drei genannten phenolischen Verb in dungen bevorzugt sind.
  • Bevorzugte stark absorbierende phenolische Verbindungen (3) sollen im Wellenlängenbereich von 300 bis 400 nm einen molaren Extinktionskoeffizienten 6 größer als 103 aufweisen. Bewährt haben sich hierbei mindestens zwei aromatische Hydroxylgruppen oder mindestens eine aromatische Hydroxylgruppen und mindestens eine Aminogruppe aufweisende Benzophenone, Phenylbenztriazole oder Phenylcumarone. Besonders bewährt haben sich Polyhydroxy-benzophenone mit 2 bis 4 aromatischen Hydroxygruppen wie 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon, Als Beispiel eines bewährten Phenylbenztriazols sei das 2',4'-Dihydroxyphenyl-2N-benztriazol, als Phenylcumaron-Verbindung das 2',4'-Dihydroxyphenyl-2-cumaron genannt.
  • Bei den erfindungsgemäßen Materialien dienen phenolische Verbindungen der vorstehenden Art (B) zur Herstellung des Polykondensats, deren Hydroxyl- oder Aminogruppen zumindest teilweise zu o-Chinondiazidsulfonsäureester- oder -amid-Gruppen umgesetzt sind. Es sollte im Mittel mindestens eine Hydroxyl- oder Aminogruppe zu einer o-Chinondiazidsulfonsäureester-Gruppe oder o-Chinondiazidsulfonsäureamid-Gruppe umgesetzt sein. Zweckmäßigerweise sollte jede 2. bis 15. und bevorzugt jede 4. bis 10. phenolische Komponente des Polykondensats mindestens eine o-Chinondiazidsulfonyl-Gruppe, d.h. lichtempfindliche Phenolkomponente aufweisen.
  • Die Verknüpfung der o-Chinondiazidsulfonyl-Gruppen mit den stark absorbierenden phenolischen Verbindungen (B) erfolgt zweckmäßigerweise durch Umsetzung eines Teiles der Hydroxyl-und/oder Aminogruppen mit einem o-Chinondiazidsulfonylhalogenid, insbesondere einem Sulfonylchlorid wie dem 2,1,5Die azonaphthochinonsulfochlorid, wobei die Verbindungen unter Bildung von o-Chinondiazidsulfonsäure-ester- oder -amid-Gruppierungen verknüpft werden zu einem Reaktionsprodukt R, das bevorzugt noch mindestens eine Hydroxylgruppe aufweisen soll.
  • Gut geeignete Reaktionsprodukte R entsprechen den Benzophenonderivaten, Phenylbenztriazolderivaten oder Phenylcumaronderivaten HR1 wobei R1 sein kann: worin bedeuten: 11 12 = -H, -OH, -OS02Y R13 R14 R16 = -H, -OH, -OCH3, -OCOCH3, -O-SO2Y R15 = -H, -Alkyl, -Aryl R17 = -H, -CH3 R18 , -H, -CH3, -OH, -O-S02Y und 1 bis X, bevorzugt 2 der Substituenten Rt1, R12, R13, R14, und und R18 -OSO2Y darstellen. R11 und R12 sowie R13, R14 und R16 können jeweils gleiche oder verschiedene Substituenten der genannten Art sein.
  • Die hydroxyl- und gegebenenfalls aminogruppenhaltigen Reaktionsprodukte R wie die oben formelmäßig wiedergegebenen Produkte HR1 1sind lichtempfindlich. Sie werden dann zusatz men mit einer phenolischen Verbindung (A), die bevorzugt nicht oder nur wenig im Wellenlängenbereich von 300 bis 400 nm absorbiert, in einem organischen Lösungsmittel gelöst und in Gegenwart eines sauren Katalysators mit einem Aldehyd kondensiert Das molare Verhältnis zwischen dem lichtempfindlichen Reaktionsprodukt R mit o-Chinondiazidsulfonyl-Gruppen und den phenolischen Verbindungen (A) wird je nach der gewünschten Lichtempfindlichkeit des Polykondensats gewählt und beträgt zweckmäßigerweise etwa 1 : 1 bis 14 und bevorzugt etwa 1 : 4 bis 10o Als organische Lösungsmittel für die Polykondensation seien genannt Methyläthylketon, Tetrahydrofuran und insbesondere 1.4-Dioxan. Die Konzentration der Lösung an den Reaktanten beträgt mit Vorteil etwa 30 bis 60 und insbesondere 50 bis 60 GewO%O Als Aldehyde, im allgemeinen in einer Menge von 1 bis 1,5, bevorzugt 1,1 bis 1,3 Mol pro Mol phenolischer Verbindungen für die Reaktion eingesetzt, werden mit Vorteil in Form von durch Säuren zu einem Aldehyd spaltbaren Verbindungen wie Paraldehyd, Trioxan oder Paraformaldehyd verwandt Bevorzugt ist Paraformaldehyd Als saure Katalysatoren eignen sich für die Polyreaktion primär in dem verwandten organischen Lösungsmittel lösliche Säuren Bevorzugt ist p-Toluolsulfonsäure Zur Polykondensation wird das Reaktionsgemisch dann einige Zeit, zweckmäßig etwa 1 Stunde, auf eine Temperatur unter etwa 80°C und bevorzugt auf etwa 50 bis 70 C erwärmt, wobei eine starke Viskositätserhöhung eintritt. Mit Vorteil wird die Reaktion dann durch Zusatz einer alkoholischen Lauge hinreichender Konzentration zur weitgehenden Neutralisation des sauren Katalysators abgestoppt, was sehr gut durch Zusatz einer etwa 2- bis 5-fachen Menge Methanol, in dem eine der Katalysatorsäure fast äquivalente Menge Natriumhydroxid gelöst ist, erfolgen kann.
  • Der danach wieder relativ dünnflüssige Ansatz läßt sich einfach durch langsames Eingießen unter Rühren in eine ilberschüssige Menge an Wasser aufarbeiten, wobei die erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Polykondensate in gut filtrierbarer Form in Ausbeuten von nahezu 100 % der Theorie ausfallen.
  • Es war überraschend, daß sich die erfindungsgemäßen Polykondensate, die bevorzugt ein mittleres Molekulargewicht von etwa 1.000 bis 10~000 aufweisen, unter so milden und schonenden Bedingungen rasch und einfach herstellen lassen, so daß die sonst manchmal eintretende Dunkelfärbung und teilweise Zersetzung gänzlich unterbleibt und die Materialien besonders geeignet als Beschichtungsmaterial für Offsetdruckplatten sind.
  • Recht geeignete Polykondensate lassen sich mit der schematischen folgenden Formel wiedergeben: wobei dds Verhältnis von n zu m etwa 1 bis 15 sein kann und p eine Zahl zwischen 1 und 100 sein kann Bevorzugte Polykondensate haben ein Molekulargewicht von etwa 1,000 bis 30000.
  • Ferner bedeuten R2, R# = H und R3 und R5 (gleich oder verschieden) = Hs C1-C#-Alkyl oder C5-C8-Aryl> bevorzugt H X stellt den einkondensierten Rest der phenolischen Verbindung A wie oben näher angegeben dar und Y den 2inkondensierten Rest der lichtempfindlichen Reaktionsprodukte R bzw.
  • HR wie bereits näher besprochen. Natürlich ist es möglich, daß verschiedene phenolische Verbindungen A und verschiedene Reaktionsprodukte R im Polykondensat einkondensiert sind.
  • Jie bevorzugten erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Materialien sind in Wasser und in schwachen wäßrigen Basen unlöslich, löslich sind sie dagegen in vielen organischen Lösungsmitteln wie Aceton, Methyläthylketon, Dioxan, Dimethylformamid, Äthylglykol oder in Gemischen dieser Lösungsmittel.
  • Mit den Lösungen der erfindungsgemäßen Photolacke können nach einem der üblichen Verfahren Aluminiumfolien oder auch andere Trägermaterialien mit einer Beschichtung versehen werden. Durch die bildmäßige Belichtung unter einem Rasterpositiv werden die Stellen der beschichteten Folien, die vom Licht getroffen werden, in einer abgestimmten Entwicklerlösung löslich, während die unbelichteten Stellen unlöslich sind und auf der Trägerfolie zurückbleiben. Die hydrophile Oberfläche des Trägers ist dann an den Stellen mit der oleophilen Beschichtung bedeckt, die beim Druckprozeß die fette Druckfarbe annehmen, während der hydrophile Bilduntergrund durch den, durch das Feuchtwerk aufgetragenen, Wasserfilm geschützt wird und keine Druckfarbe annehmen kann Die erfindungsgemäßen Materialien bzw Beschichtungsmassen zeichnen sich gegenüber bisher bekannten Systemen durch eine höhere Lichtempfindlichkeit bei guter Filmbildung und guter Haftung auf üblichen Trägermaterialien, wie Aluminium, anodisiertem, silikatisiertem Aluminium oder Chrom, aus. Ein besonderer Vorteil der erfindungsgemäßen Photolacke ist es, daß sie es gestatten, den Veresterungsgrad bzw Amidierungsgrad des phenolischen Grundkörpers mit der o-Chinondiazidsulfonsäure, der sich im Diazostickstoffgehalt bzw Stickstoffgehalt des Materials quantitativ zeigt, bis auf einen Diazostickstoffgehalt von 0,5 Gew, zu senken und dennoch noch lichtempfindliche Materialien zu erhaltene Dadurch ist eine besonders kostengünstige Herstellung lichtempfindlicher Beschichtungsmaterialien möglich Die lichtempfindlichen Polykondensate dieser Erfindung ergeben bei ihrer Verwendung als Beschichtungsmaterialien für Offsetdruckplatten schnell verarbeitbare Druckplatten, die Drucke hoher Qualität liefern Die in den nachstehenden Beispielen angegebenen Teile und Prozente beziehen sich, soweit nicht anders angegeben, auf das Gewicht Volumenteile verhalten sich zu Teilen wie Liter zu Kilogramm Die angegebenen Molekulargewichte der Polykondensate wurden bestimmt nach der dampfdruckosmometrischen Methode in Dimethylformamid als Ujsungsmittel Beispiel 1 la) Herstellung des lichtempfindlichen Reaktionsproduktes R 1 Teil 2>2'Tetrahydroxybenzophenonmonoessigsäureester wird in 10 Teilen Dioxan gelöst und mit der zur Veresterung von 2 OH-Gruppen erforderlichen zweifach äquivalenten Menge an o-Chinondiazidsulfonsäurechlorid versetzt, Bei 300C wird ein 1,5-fach molarer Überschuß von Triäthylamin als tertiäre Base langsam zugegeben und danach der Ansatz 2 Stunden lang bei 300C gehalten, Die Reaktionslösung wird filtriert und dann in ein 8-faches Volumen Wasser langsam eingegossen, wobei durch Zusatz wässriger Salzsäure der pH-Wert zwischen 3 und 6 gehalten wird. Es fällt die gelb gefärbte Diazoverbindung aus, die abgenutscht, neutral gewaschen und bei 50°C im Volumen getrocknet wird. Die Ausbeute beträgt etwa 92 % der Theorie.
  • lb) Herstellung eines lichtempfindlichen Phenolharzes 70 Teile des gemäß Beispiel la) hergestellten Di(2,1,5-diazonaphthochinonsulfonsäure)-monoessigsäureesters des 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenons werden in 270 Volumenteilen Dioxan gelöst, 210 Teile Bisphenol A werden zugesetzt und gelöst, danach werden 30 Teile Paraformaldehyd und 4 Teile p-Toluolsulfonsäure zugegeben. Die auf etwa 55 % eingestellte Lösung wird etwa 60 Minuten auf 6000 erhitzt, wobei eine starke Viskositätserhöhung eintritt. Dann wird die Reaktion durch Zusatz der 4-fachen Menge Methanol, in dem eine der Katalysatorsäure etwa 0,95-fach äquivalente Menge Natriumhydroxid gelöst ist, unterbrochen. Die Aufarbeitung der nun wieder relativ dünnflüssigen Reaktionslösung erfolgt durch Eingießen unter starkem Rühren und in dünnem Strahl in das 8-fache Volumen Wasser. Dabei fällt das erfindungsgemäße lichtempfindliche Phenolharz (Molekulargewicht 1880) in gut filtrierbarer Form in einer Ausbeute von 98 % der Theorie aus.
  • Ic) Herstellung von Flachdruckplatten 200 Teile des gemäß Beispiel Ib hergestellten Phenolharzes werden in 1.800 Teilen eines Methyläthylketon-Dioxan-Gemisches (Volumenverhältnis 3 : 1) unter Zusatz von 0,1 % fein dispergiertem eFanalblau B supra-Farbpigment (CI 42595:2) (Handelsprodukt der BASF Aktiengesellschaft ) gelöst. Mit dieser Lösung werden im Tauchverfahren bei einer Ziehgeschwindigkeit von 60 cm/Min je eine eloxierte und eine mechanisch aufgerauhte Aluminiumplatte des Formats 507 x 570 mm beschichtet, wobei ein Flächengewicht von 0,95 bzw. 0,87 g Feststoff/m2 erzielt wird, Die so hergestellten vorbeschichteten Offsetplatten werden nach dem Trocknen unter einer gerasterten Bildvorlage in einem handelsüblichen Kopierrahmen belichtet, wobei eine Belichtungszeit von nur 45 Sek, bzwo 35 Sek optimal war (Xenon-Impuls-Lampe 8.000 W, Abstand 135 cm). Die Entwicklung erfolgt durch Üb erwischen der Platten mit einer auf einen pH-Wert von 11,5 abgepufferten 5 %-igen wäßrigen Trinatriumphosphatlösung. Eine Entwicklungszeit von 30 Sek ist ausreichend, Die so hergestellte Offsetplatte, die einen guten Kontrast zwischen druckenden und nicht druckenden Partien aufweist, wird mit Wasser abgespült, zur Neutralisation letzter Alkalispuren mit 1 %-iger wässriger Phosphorsäure behandelt, abermals gewaschen und mit einer der handelsüblichen Gummierungen versehen. Der letzte Arbeitsgang, der bei dem anodisierten Blech auch entfallen kann, schützt die hydrophilen Partien der Druckplatte vor Oxidation und erleichtert dem Drucker die Einrichtearbeit an der Druckmaschine. Mit der so hergestellten Druckplatte werden an einer KOR-Druckmaschine der Firma Heidelberger Druckmaschinen AG, Heidelberg, 75.000 (anodisiertes Aluminiumblech) bzw. 35.000 Abzüge (gerauhtes Aluminiumblech) hergestellt. Die gute Druckbildwiedergabe verändert sich während des gesamten Auflagendrucks praktisch nicht.
  • Beispiel 2 2a) Herstellung eines lichtempfindlichen Phenolharzes Analog den Angaben in Beispiel lb) wird ein Polykondensat aus 35,5 Teilen Di(2,1,5-diazonaphthochinonsulfonsäure)-ester des 2,2' ,4,4'-Tetrahydroxybenzophenons> 180 Teilen Bisphenol A, 39 Teilen Paraformaldehyd, 4,5 Teilen p-Toluolsulfonsäure in 210 Volumenteilen Dioxan hergestellt Das Phenolharz (Molekulargewicht 1720) wird in einer Ausbeute von 96 % der Theorie erhalten 2b) Herstellung von Flachdruckformen 200 Teile des gemäß Beispiel 2a) hergestellten lichtempfindlichen Phenolharzes werden in wo 800 Teilen eines Methyläthylketon-Dioxan-Gemisches (Volumenverhältnis 3 : 1) unter Zusatz von 0,1 % Neu-Fuchsin (CoIo 42520) als Farbstoff gelöst. Mit der Lösung werden im Tauchverfahren bei einer Ziehgeschwindigkeit von 60 cm/Min je eine eloxierte und eine mechanisch aufgerauhte Aluminiumplatte des Formats 507 x 570 mm beschichtet, wobei ein Flächengewicht von 1,01 bzw. 0,93 g Feststoff/m erzielt wird. Die so beschichteten Offsetplatten werden wie in Beispiel lc) angegeben belichtet, wobei Belichtungszeiten von 30 Sek bzw, 25 Sek optimal sind, Die Entwicklung erfolgt durch Uberwischen der Platten mit einer auf einen pH-Wert von 11>5 abgepufferten 5 %-igen wäßrigen Trinatriumphosphatlösung. Bei vorbeschichteten Positiv-Offset-Platten des Handels ist unter sonst gleichen Bedingungen die 6 bis 12-fache Belichtungszeit erforderlich.
  • Nach der in Beispiel lc) beschriebenen Behandlung werden mit den Druckplatten auf einer Druckmaschine der Firma Heidelberger Druckmaschinen AG, Heidelberg, 750000 (an odisiertes Aluminiumblech) bzw, 35.000 (gerauhtes Aluminiumblech) Drucke hergestellt. Es werden stets einwandfreie Abzüge erhalten.
  • Beispiel 3 3a) Herstellung eines lichtempfindlichen Phenolharzes Analog den Angaben in Beispiel 1b) wird ein Polykondensat aus 70 Teilen Mono(2,1,5-diazonaphthochinonsulfonsäure)ester des 2' ,4'-Dihydroxyphenyl-2N-benztriazols, 110 Teilen p-Kresol, 30 Teilen Paraformaldehyd, 2 Teilen p-Toluolsulfonsäure in 190 Volumenteilen Dioxan hergestellt Das Phenolharz (Molekulargewicht 1590) wird in einer Ausbeute von 95 % der Theorie erhalten 3b) Herstellung von Flachdruckformen 200 Teile des gemäß Beispiel 3a) hergestellten lichtempfindlichen Phenolharzes werden in 1.800 Teilen eines Methyläthylketon-Dioxan-Gemisches (Volumenverhältnis 3 ~ 1) unter Zusatz von 0,1 % eSudanblau II = Solventblau 35 (Handelsprodukt der BASF Aktiengesellschaft) gelöst. Mit dieser Lösung werden im Tauchverfahren bei einer Ziehgeschwindigkeit von 60 cm/Min je eine eloxierte und eine mechanisch aufgerauhte Aluminiumplatte des Formats 507 x 570 mm beschichtet, wobei ein Flächengewicht von 0,97 bis 0,90 g Feststoff/m2 erzielt wird Die so beschichteten Offsetplatten werden wie in Beispiel lc) angegeben belichtet, wobei Belichtungszeiten von 60 bzw, 50 Sek optimal sind. Die Entwicklung erfolgt durch Überwischen der Platten mit einer auf einen pH-Wert von 11,0 abgepufferten 5 %-igen wäßrigen Trinatriumphosphatlösung.
  • Nach der wie in Beispiel lc) beschriebenen Behandlung werden mit den Druckplatten auf einer Druckmaschine wie in Beispiel Ic) 60.000 (anodisiertes Aluminiumblech) bzw 33.000 (gerauhtes Aluminiumblech) Drucke hergestellt. Es werden stets einwandfreie Abzüge erhalten.
  • Beispiel 4 300 Teile eines lichtempfindlichen Phenolharzes hergestellt gemäß Beispiel 2a) werden in 1.800 Volumenteilen eines Methyläthylketon-Dioxan-Gemisches (Volumenverhältnis 3 : 1 zusammen mit 3 Teilen Malachitgrün BXN (C3I. 42000) (Handelsprodukt der BASF Aktiengesellschaft) und 3 Teilen eines handelsüblichen Silikonöls gelöst. Mit dieser Lösung wird im Tauchverfahren eine Mehrmetallplatte auf Basis Schwarzblech/Kupfer/Chrom des Formates 507 x 570 mm beschichtet, wobei ein Flächengewicht 2 von 2,0 g Feststoff/m erzielt wird (Ziehgeschwindigkeit 90 cm/Min) Die resultierende beschichtete Mehrmetallplatte wird nach dem Trocknen unter einer gerasterten Bildvorlage in einem handelsüblichen Kopierrahmen belichtet, wobei eine Belichtungszeit von ca, 30 Sek optimal ist (Xenon-Impuls-Lampe 8.000 W, Abstand 135 cm). Die Entwicklung erfolgt durch Überwischen der Platte mit einer auf einen pH-Wert von 11,25 abgepufferten 5 %-igen wässrigen Lösung von Trinatriumphosphat, wobei eine Entwicklungszeit von 30 Sek ausreichend ist. Die so hergestellte Platte wird nach dem Trocknen ohne weitere Behandlung mit einer handelsüblichen Chromätze geätzt und dann durch 2-maliges Uberwischen mit einem Wattebausch, der mit Äthylglykol getränkt ist, entschichtet, Nach der üblichen Gummierung wird die Platte auf einer Offsetdruckmaschine angedruckt. Es werden Drucke von hoher Qualität erhalten.
  • Beispiel 5 100 Teile eines gemäß Beispiel lb) hergestellten lichtempfindlichen Phenolharzes und 100 Teile eines alkalilöslichen Bisphenol A-Formaldehyd-Polykondensats vom Novolaktyp werden unter Zusatz von 0,1 % "NeozaponblauFLE = Solventblau 70 (Handelsprodukt der BASF Aktiengesellschaft) gelöst, Mit der Lösung werden im Tauchverfahren bei einer Ziehgeschwindigkeit von 60 cm/Min je eine anodisierte und eine mechanisch aufgerauhte Aluminiumplatte im Format 507 x 570 mm beschichtet, wobei ein Flächengewicht von 1,01 bzw. 0,97 g Feststoff/m­ erzielt wird, Die resultierenden Druckplatten werden wie in Beispiel lc) angegeben belichtet, wobei Belichtungszeiten von 35 Sek bzw.
  • 30 Sek optimal sind. Die Platten werden durch Überwischen mit einer auf einen pH-Wert von 11,5 abgepufferten 5 %-igen wässrigen Trinatriumphosphatlösung entwickelt, Nach der in Beispiel Ic) ängegebenen anschließenden Plattenbehandlung werden mit den Druckplatten auf der in Beispiel lc) angegebenen Druckmaschine 70.000 (anodisiertes Aluminiumblech) bzw. 30.000 (gerauhtes Aluminiumblech) Drucke hergestellt. Es werden stets einwandfreie Anzüge erhalten,

Claims (7)

  1. Patentansprüche Lichtempfindliches Material für positiv arbeitende Photolacke und für die Herstellung von Druckformen auf der Basis eines o-Chinondiazidsulfonyl-Gruppen enthaltenden wasserunlöslichen Polykondensats mindestens eines Phenols mit einem Aldehyd, dadurch gekennzeichnet, daß die Polykondensate neben a) einkondensierten Einheiten mindestens einer phenolischen Verbindung (A) b) einkondensierte Einheiten mindestens einer im Wellenlängenbereich von 300 bis 400 nm stark absorbierenden und bevorzugt dort einen molaren Extinktionskoeffizienten 1 größer als 103 aufweisenden phenolischen Verbindung (B), deren Hydroxyl- oder Aminogruppen zumindest teilweise zu o-Chinondiazidsulfonsäureester- oder -amid-gruppen umgesetzt sind, aufweisen.
  2. 2. Lichtempfindliches Material gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß jede 2. bis 15. Einheit an einkondensierten phenolischen Verbindungen eine Einheit einer im Wellenlängenbereich von 300 bis 400 nm stark absorbierenden und bevorzugt dort einen molaren Extinktionskoeffizienten t größer als 103 aufweisenden phenolischen Verbindung (B) ist, bei der mindestens eine Hydroxyl- oder Aminogruppe zu einer o-Chinondiazid-sulfonsäureester- oder -amid-Gruppe umgesetzt ist.
  3. 3. Lichtempfindliches Material gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Molekulargewicht des Polykondensats etwa 1.000 bis 10.000 beträgt.
  4. 4. Verfahren zur Herstellung eines lichtempfindlichen Polykondensats für positiv arbeitende Photolacke und für die Herstellung von Druckformen unter Polykondensation mindestens eines Phenols mit einem Aldehyd, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Gemisch aus a) mindestens einer im Wellenlängenbereich von 300 bis 400 nm nicht oder nur wenig absorbierenden phenolischen Verbindung (A), und b) mindestens einer im Wellenlängenbereich von 300 bis 400 nm stark absorbierenden und bevorzugt dort einen molaren Extinktionskoeffizienten 9 größer als aufweisenden phenolischen Verbindung (B), deren Hydroxyl- oder Aminogruppen zumindest teilweise zu o-Chinondiazid- sulfons äurees t er- oder -amid-Gruppen umgesetzt sind, mit c) einem Aldehyd in einem organischen Lösungsmittel in Gegenwart eines sauren Katalysators polykondensiert.
  5. 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß man als phenolische Verbindung (B) ein mindestens 2 aromatische Hydroxylgruppen aufweisendes Benzophenon, Phenylbenztriazol oder Phenylcumaron kondensiert, desses Hydroxylgruppen zuvor partiell mit einer o-Chinondiazidsulfonsäure verestert wurden.
  6. 6. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß man als phenolische Verbindung (A) ein Kresol oder Bis(4-hydroxyphenyl)propan-2,2 kondensiert
  7. 7. Verwendung eines gemäß einem der Verfahren der Ansprüche 4 bis 6 hergestellten lichtempfindlichen Materials für die Herstellung von Druckformen.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0110214A1 (de) * 1982-11-12 1984-06-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lichtempfindliche Zusammensetzung
EP0561080A1 (de) * 1992-03-16 1993-09-22 Pioneer Electronic Corporation Photoresist für optische Platte und Verfahren zur Herstellung optischer Platten unter Verwendung des Photoresists
US6280910B1 (en) 1992-11-23 2001-08-28 Pioneer Electronic Corporation Photoresist for optical disc and method of preparing optical disc utilizing photoresist

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