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Lichtempfindliches Material für positiv arbeitende
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Photolacke und für die Herstellung von Druckplatten Die Erfindung
betrifft ein verbessertes lichtempfindliches Material für positiv arbeitende Photolacke
und für die Herstellung von Druckplatten auf der Basis eines o-Ch-inondiazidsulfonyl-Gruppen
enthaltenden wasserunlöslichen Polykondensats mindestens eines Phenols mit einem
Aldehyd und ein Verfahren zu dessen Herstellung.
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Es ist bekannt, Kopierschichten für Druckformen zu verwenden, die
als lichtempfindliche Komponente des Photolackes Ester der Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonsäure
enthalten (DT-PS 938 233, DT-PS 865 109). Es sind ferner Kopierschichten bekannt,
die als lichtempfindliches Harz Ester der Naphthochinon-1 >2-diazid-5-sulfonsäure
mit Phenol-Aldehyd- oder Phenol-Keton-Kondensaten, zoBo mit den Novolaken enthalten
(DT-PS 865 860). Diese Beschichtungen weisen aber den Nachteil einer langen Belichtungszeit
und einer relativ niedrigen mechanischen Festigkeit auf.
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Der vorliegenden Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, lichtempfindlichere
Materialien für schnellere Druckplatten zu finden, die gleichzeitig eine gute Haftung
auf den Träger sowie eine gute Filmbildung zeigen und leicht und kostengünstig herstellbar
sind.
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Es wurde nun gefunden, daß die Aufgabe gelöst werden kann mit einem
lichtempfindlichen Material für positiv arbeitende Photolacke und für die Herstellung
von Druckformen auf der Basis eines o-Chinondiazidsulfonyl-Gruppen enthaltenden
wasserunlöslichen
Polykondensats mindestens eines Phenols mit einem Aldehyd, das dadurch gekennzeichnet
ist, daß die Polykondensate neben a) einkondensierten Einheiten mindestens einer
phenolischen Verbindung (A) b) einkondensierte Einheiten mindestens einer im Wellenlängenbereich
von 300 bis 400 nm stark absorbierenden phenolischen Verbindung (B), die bevorzugt
einen molaren Extinktionskoeffizient 6 größer als 103 aufweist, und deren Hydroxyl-
oder Aminogruppen zumindest teilweise zu o-Chinondiazidsulfonsäureester- oder -
amid-Gruppen umgesetzt sind, enthalten.
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Gegenstand der Erfindung ist ferner ein Verfahren zur Herstellung
eines solchen Polykondensats, indem man ein Gemisch der phenolischen Verbindungen
A und 3 mit einem Aldehyd, in einem organischen tösungsmittel in Gegenwart eines
sauren Katalysators kondensiert, bevorzugt bei Temperaturen unter 80°C, d .h. unter
milden Bedingungen.
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Bevorzugte Materialien enthalten im Schnitt etwa als Jede 2. bis jede
154 Phenolkomponente des Polykondensats eine im nahen UV-Bereich stark absorbierende
phenolische Verbindung B, während die anderen Phenolkomponenten meist keinen Chromophor
enthalten, der im Bereich 300 bis 400 nm absorbiert und auch keine o-Ch1nondiazidsulfonyl-Gruppen
enthalten.
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Als phenolische Verbindungen (A3, die bevorzugt im Wellenlängenbereich
von 300 bis 400 nm nicht oder nur wenig absorbieren, seien beispielhaft genannt
Phenol, Hydrochinon, Methoxyphenol, Dimethoxyphenol, Aminophenol, Kresol, Bis(4-hydroxyphenyl)-methan
und Bis (4-hydroxyphenyl)-propan-2,2, von denen die letzten drei genannten phenolischen
Verb in dungen bevorzugt sind.
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Bevorzugte stark absorbierende phenolische Verbindungen (3) sollen
im Wellenlängenbereich von 300 bis 400 nm einen molaren
Extinktionskoeffizienten
6 größer als 103 aufweisen. Bewährt haben sich hierbei mindestens zwei aromatische
Hydroxylgruppen oder mindestens eine aromatische Hydroxylgruppen und mindestens
eine Aminogruppe aufweisende Benzophenone, Phenylbenztriazole oder Phenylcumarone.
Besonders bewährt haben sich Polyhydroxy-benzophenone mit 2 bis 4 aromatischen Hydroxygruppen
wie 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon, Als Beispiel eines bewährten Phenylbenztriazols
sei das 2',4'-Dihydroxyphenyl-2N-benztriazol, als Phenylcumaron-Verbindung das 2',4'-Dihydroxyphenyl-2-cumaron
genannt.
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Bei den erfindungsgemäßen Materialien dienen phenolische Verbindungen
der vorstehenden Art (B) zur Herstellung des Polykondensats, deren Hydroxyl- oder
Aminogruppen zumindest teilweise zu o-Chinondiazidsulfonsäureester- oder -amid-Gruppen
umgesetzt sind. Es sollte im Mittel mindestens eine Hydroxyl- oder Aminogruppe zu
einer o-Chinondiazidsulfonsäureester-Gruppe oder o-Chinondiazidsulfonsäureamid-Gruppe
umgesetzt sein. Zweckmäßigerweise sollte jede 2. bis 15. und bevorzugt jede 4. bis
10. phenolische Komponente des Polykondensats mindestens eine o-Chinondiazidsulfonyl-Gruppe,
d.h. lichtempfindliche Phenolkomponente aufweisen.
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Die Verknüpfung der o-Chinondiazidsulfonyl-Gruppen mit den stark absorbierenden
phenolischen Verbindungen (B) erfolgt zweckmäßigerweise durch Umsetzung eines Teiles
der Hydroxyl-und/oder Aminogruppen mit einem o-Chinondiazidsulfonylhalogenid, insbesondere
einem Sulfonylchlorid wie dem 2,1,5Die azonaphthochinonsulfochlorid, wobei die Verbindungen
unter Bildung von o-Chinondiazidsulfonsäure-ester- oder -amid-Gruppierungen verknüpft
werden zu einem Reaktionsprodukt R, das bevorzugt noch mindestens eine Hydroxylgruppe
aufweisen soll.
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Gut geeignete Reaktionsprodukte R entsprechen den Benzophenonderivaten,
Phenylbenztriazolderivaten oder Phenylcumaronderivaten HR1 wobei R1 sein kann:
worin bedeuten: 11 12 = -H, -OH, -OS02Y R13 R14 R16 = -H, -OH, -OCH3, -OCOCH3, -O-SO2Y
R15 = -H, -Alkyl, -Aryl R17 = -H, -CH3 R18 , -H, -CH3, -OH, -O-S02Y
und 1 bis X, bevorzugt 2 der Substituenten Rt1, R12, R13, R14, und und R18 -OSO2Y
darstellen. R11 und R12 sowie R13, R14 und R16 können jeweils gleiche oder verschiedene
Substituenten der genannten Art sein.
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Die hydroxyl- und gegebenenfalls aminogruppenhaltigen Reaktionsprodukte
R wie die oben formelmäßig wiedergegebenen Produkte HR1 1sind lichtempfindlich.
Sie werden dann zusatz men mit einer phenolischen Verbindung (A), die bevorzugt
nicht oder nur wenig im Wellenlängenbereich von 300 bis 400 nm absorbiert, in einem
organischen Lösungsmittel gelöst und in Gegenwart eines sauren Katalysators mit
einem Aldehyd kondensiert Das molare Verhältnis zwischen dem
lichtempfindlichen
Reaktionsprodukt R mit o-Chinondiazidsulfonyl-Gruppen und den phenolischen Verbindungen
(A) wird je nach der gewünschten Lichtempfindlichkeit des Polykondensats gewählt
und beträgt zweckmäßigerweise etwa 1 : 1 bis 14 und bevorzugt etwa 1 : 4 bis 10o
Als organische Lösungsmittel für die Polykondensation seien genannt Methyläthylketon,
Tetrahydrofuran und insbesondere 1.4-Dioxan. Die Konzentration der Lösung an den
Reaktanten beträgt mit Vorteil etwa 30 bis 60 und insbesondere 50 bis 60 GewO%O
Als Aldehyde, im allgemeinen in einer Menge von 1 bis 1,5, bevorzugt 1,1 bis 1,3
Mol pro Mol phenolischer Verbindungen für die Reaktion eingesetzt, werden mit Vorteil
in Form von durch Säuren zu einem Aldehyd spaltbaren Verbindungen wie Paraldehyd,
Trioxan oder Paraformaldehyd verwandt Bevorzugt ist Paraformaldehyd Als saure Katalysatoren
eignen sich für die Polyreaktion primär in dem verwandten organischen Lösungsmittel
lösliche Säuren Bevorzugt ist p-Toluolsulfonsäure Zur Polykondensation wird das
Reaktionsgemisch dann einige Zeit, zweckmäßig etwa 1 Stunde, auf eine Temperatur
unter etwa 80°C und bevorzugt auf etwa 50 bis 70 C erwärmt, wobei eine starke Viskositätserhöhung
eintritt. Mit Vorteil wird die Reaktion dann durch Zusatz einer alkoholischen Lauge
hinreichender Konzentration zur weitgehenden Neutralisation des sauren Katalysators
abgestoppt, was sehr gut durch Zusatz einer etwa 2- bis 5-fachen Menge Methanol,
in dem eine der Katalysatorsäure fast äquivalente Menge Natriumhydroxid gelöst ist,
erfolgen kann.
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Der danach wieder relativ dünnflüssige Ansatz läßt sich einfach durch
langsames Eingießen unter Rühren in eine ilberschüssige Menge an Wasser aufarbeiten,
wobei die erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Polykondensate in gut filtrierbarer
Form in Ausbeuten von nahezu 100 % der Theorie ausfallen.
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Es war überraschend, daß sich die erfindungsgemäßen Polykondensate,
die bevorzugt ein mittleres Molekulargewicht von etwa 1.000 bis 10~000 aufweisen,
unter so milden und schonenden Bedingungen rasch und einfach herstellen lassen,
so daß die sonst manchmal eintretende Dunkelfärbung und teilweise Zersetzung gänzlich
unterbleibt und die Materialien besonders geeignet als Beschichtungsmaterial für
Offsetdruckplatten sind.
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Recht geeignete Polykondensate lassen sich mit der schematischen folgenden
Formel wiedergeben:
wobei dds Verhältnis von n zu m etwa 1 bis 15 sein kann und p eine Zahl zwischen
1 und 100 sein kann Bevorzugte Polykondensate haben ein Molekulargewicht von etwa
1,000 bis 30000.
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Ferner bedeuten R2, R# = H und R3 und R5 (gleich oder verschieden)
= Hs C1-C#-Alkyl oder C5-C8-Aryl> bevorzugt H X stellt den einkondensierten Rest
der phenolischen Verbindung A wie oben näher angegeben dar und Y den 2inkondensierten
Rest der lichtempfindlichen Reaktionsprodukte R bzw.
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HR wie bereits näher besprochen. Natürlich ist es möglich, daß verschiedene
phenolische Verbindungen A und verschiedene Reaktionsprodukte R im Polykondensat
einkondensiert sind.
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Jie bevorzugten erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Materialien sind
in Wasser und in schwachen wäßrigen Basen unlöslich, löslich sind sie dagegen in
vielen organischen Lösungsmitteln wie Aceton, Methyläthylketon, Dioxan, Dimethylformamid,
Äthylglykol oder in Gemischen dieser Lösungsmittel.
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Mit den Lösungen der erfindungsgemäßen Photolacke können nach einem
der üblichen Verfahren Aluminiumfolien oder auch andere Trägermaterialien mit einer
Beschichtung versehen werden. Durch die bildmäßige Belichtung unter einem Rasterpositiv
werden die Stellen der beschichteten Folien, die vom Licht getroffen werden, in
einer abgestimmten Entwicklerlösung löslich, während die unbelichteten Stellen unlöslich
sind und auf der Trägerfolie
zurückbleiben. Die hydrophile Oberfläche
des Trägers ist dann an den Stellen mit der oleophilen Beschichtung bedeckt, die
beim Druckprozeß die fette Druckfarbe annehmen, während der hydrophile Bilduntergrund
durch den, durch das Feuchtwerk aufgetragenen, Wasserfilm geschützt wird und keine
Druckfarbe annehmen kann Die erfindungsgemäßen Materialien bzw Beschichtungsmassen
zeichnen sich gegenüber bisher bekannten Systemen durch eine höhere Lichtempfindlichkeit
bei guter Filmbildung und guter Haftung auf üblichen Trägermaterialien, wie Aluminium,
anodisiertem, silikatisiertem Aluminium oder Chrom, aus. Ein besonderer Vorteil
der erfindungsgemäßen Photolacke ist es, daß sie es gestatten, den Veresterungsgrad
bzw Amidierungsgrad des phenolischen Grundkörpers mit der o-Chinondiazidsulfonsäure,
der sich im Diazostickstoffgehalt bzw Stickstoffgehalt des Materials quantitativ
zeigt, bis auf einen Diazostickstoffgehalt von 0,5 Gew, zu senken und dennoch noch
lichtempfindliche Materialien zu erhaltene Dadurch ist eine besonders kostengünstige
Herstellung lichtempfindlicher Beschichtungsmaterialien möglich Die lichtempfindlichen
Polykondensate dieser Erfindung ergeben bei ihrer Verwendung als Beschichtungsmaterialien
für Offsetdruckplatten schnell verarbeitbare Druckplatten, die Drucke hoher Qualität
liefern Die in den nachstehenden Beispielen angegebenen Teile und Prozente beziehen
sich, soweit nicht anders angegeben, auf das Gewicht Volumenteile verhalten sich
zu Teilen wie Liter zu Kilogramm Die angegebenen Molekulargewichte der Polykondensate
wurden bestimmt nach der dampfdruckosmometrischen Methode in Dimethylformamid als
Ujsungsmittel Beispiel 1 la) Herstellung des lichtempfindlichen Reaktionsproduktes
R 1 Teil 2>2'Tetrahydroxybenzophenonmonoessigsäureester wird in 10 Teilen Dioxan
gelöst und mit der zur Veresterung von 2 OH-Gruppen erforderlichen zweifach äquivalenten
Menge
an o-Chinondiazidsulfonsäurechlorid versetzt, Bei 300C wird ein 1,5-fach molarer
Überschuß von Triäthylamin als tertiäre Base langsam zugegeben und danach der Ansatz
2 Stunden lang bei 300C gehalten, Die Reaktionslösung wird filtriert und dann in
ein 8-faches Volumen Wasser langsam eingegossen, wobei durch Zusatz wässriger Salzsäure
der pH-Wert zwischen 3 und 6 gehalten wird. Es fällt die gelb gefärbte Diazoverbindung
aus, die abgenutscht, neutral gewaschen und bei 50°C im Volumen getrocknet wird.
Die Ausbeute beträgt etwa 92 % der Theorie.
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lb) Herstellung eines lichtempfindlichen Phenolharzes 70 Teile des
gemäß Beispiel la) hergestellten Di(2,1,5-diazonaphthochinonsulfonsäure)-monoessigsäureesters
des 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenons werden in 270 Volumenteilen Dioxan gelöst,
210 Teile Bisphenol A werden zugesetzt und gelöst, danach werden 30 Teile Paraformaldehyd
und 4 Teile p-Toluolsulfonsäure zugegeben. Die auf etwa 55 % eingestellte Lösung
wird etwa 60 Minuten auf 6000 erhitzt, wobei eine starke Viskositätserhöhung eintritt.
Dann wird die Reaktion durch Zusatz der 4-fachen Menge Methanol, in dem eine der
Katalysatorsäure etwa 0,95-fach äquivalente Menge Natriumhydroxid gelöst ist, unterbrochen.
Die Aufarbeitung der nun wieder relativ dünnflüssigen Reaktionslösung erfolgt durch
Eingießen unter starkem Rühren und in dünnem Strahl in das 8-fache Volumen Wasser.
Dabei fällt das erfindungsgemäße lichtempfindliche Phenolharz (Molekulargewicht
1880) in gut filtrierbarer Form in einer Ausbeute von 98 % der Theorie aus.
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Ic) Herstellung von Flachdruckplatten 200 Teile des gemäß Beispiel
Ib hergestellten Phenolharzes werden in 1.800 Teilen eines Methyläthylketon-Dioxan-Gemisches
(Volumenverhältnis 3 : 1) unter Zusatz von 0,1 % fein dispergiertem eFanalblau B
supra-Farbpigment (CI 42595:2) (Handelsprodukt der BASF Aktiengesellschaft
)
gelöst. Mit dieser Lösung werden im Tauchverfahren bei einer Ziehgeschwindigkeit
von 60 cm/Min je eine eloxierte und eine mechanisch aufgerauhte Aluminiumplatte
des Formats 507 x 570 mm beschichtet, wobei ein Flächengewicht von 0,95 bzw. 0,87
g Feststoff/m2 erzielt wird, Die so hergestellten vorbeschichteten Offsetplatten
werden nach dem Trocknen unter einer gerasterten Bildvorlage in einem handelsüblichen
Kopierrahmen belichtet, wobei eine Belichtungszeit von nur 45 Sek, bzwo 35 Sek optimal
war (Xenon-Impuls-Lampe 8.000 W, Abstand 135 cm). Die Entwicklung erfolgt durch
Üb erwischen der Platten mit einer auf einen pH-Wert von 11,5 abgepufferten 5 %-igen
wäßrigen Trinatriumphosphatlösung. Eine Entwicklungszeit von 30 Sek ist ausreichend,
Die so hergestellte Offsetplatte, die einen guten Kontrast zwischen druckenden und
nicht druckenden Partien aufweist, wird mit Wasser abgespült, zur Neutralisation
letzter Alkalispuren mit 1 %-iger wässriger Phosphorsäure behandelt, abermals gewaschen
und mit einer der handelsüblichen Gummierungen versehen. Der letzte Arbeitsgang,
der bei dem anodisierten Blech auch entfallen kann, schützt die hydrophilen Partien
der Druckplatte vor Oxidation und erleichtert dem Drucker die Einrichtearbeit an
der Druckmaschine. Mit der so hergestellten Druckplatte werden an einer KOR-Druckmaschine
der Firma Heidelberger Druckmaschinen AG, Heidelberg, 75.000 (anodisiertes Aluminiumblech)
bzw. 35.000 Abzüge (gerauhtes Aluminiumblech) hergestellt. Die gute Druckbildwiedergabe
verändert sich während des gesamten Auflagendrucks praktisch nicht.
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Beispiel 2 2a) Herstellung eines lichtempfindlichen Phenolharzes Analog
den Angaben in Beispiel lb) wird ein Polykondensat aus 35,5 Teilen Di(2,1,5-diazonaphthochinonsulfonsäure)-ester
des 2,2' ,4,4'-Tetrahydroxybenzophenons>
180 Teilen Bisphenol
A, 39 Teilen Paraformaldehyd, 4,5 Teilen p-Toluolsulfonsäure in 210 Volumenteilen
Dioxan hergestellt Das Phenolharz (Molekulargewicht 1720) wird in einer Ausbeute
von 96 % der Theorie erhalten 2b) Herstellung von Flachdruckformen 200 Teile des
gemäß Beispiel 2a) hergestellten lichtempfindlichen Phenolharzes werden in wo 800
Teilen eines Methyläthylketon-Dioxan-Gemisches (Volumenverhältnis 3 : 1) unter Zusatz
von 0,1 % Neu-Fuchsin (CoIo 42520) als Farbstoff gelöst. Mit der Lösung werden im
Tauchverfahren bei einer Ziehgeschwindigkeit von 60 cm/Min je eine eloxierte und
eine mechanisch aufgerauhte Aluminiumplatte des Formats 507 x 570 mm beschichtet,
wobei ein Flächengewicht von 1,01 bzw. 0,93 g Feststoff/m erzielt wird. Die so beschichteten
Offsetplatten werden wie in Beispiel lc) angegeben belichtet, wobei Belichtungszeiten
von 30 Sek bzw, 25 Sek optimal sind, Die Entwicklung erfolgt durch Uberwischen der
Platten mit einer auf einen pH-Wert von 11>5 abgepufferten 5 %-igen wäßrigen
Trinatriumphosphatlösung. Bei vorbeschichteten Positiv-Offset-Platten des Handels
ist unter sonst gleichen Bedingungen die 6 bis 12-fache Belichtungszeit erforderlich.
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Nach der in Beispiel lc) beschriebenen Behandlung werden mit den
Druckplatten auf einer Druckmaschine der Firma Heidelberger Druckmaschinen AG, Heidelberg,
750000 (an odisiertes Aluminiumblech) bzw, 35.000 (gerauhtes Aluminiumblech) Drucke
hergestellt. Es werden stets einwandfreie Abzüge erhalten.
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Beispiel 3 3a) Herstellung eines lichtempfindlichen Phenolharzes Analog
den Angaben in Beispiel 1b) wird ein Polykondensat aus 70 Teilen Mono(2,1,5-diazonaphthochinonsulfonsäure)ester
des 2' ,4'-Dihydroxyphenyl-2N-benztriazols,
110 Teilen p-Kresol,
30 Teilen Paraformaldehyd, 2 Teilen p-Toluolsulfonsäure in 190 Volumenteilen Dioxan
hergestellt Das Phenolharz (Molekulargewicht 1590) wird in einer Ausbeute von 95
% der Theorie erhalten 3b) Herstellung von Flachdruckformen 200 Teile des gemäß
Beispiel 3a) hergestellten lichtempfindlichen Phenolharzes werden in 1.800 Teilen
eines Methyläthylketon-Dioxan-Gemisches (Volumenverhältnis 3 ~ 1) unter Zusatz von
0,1 % eSudanblau II = Solventblau 35 (Handelsprodukt der BASF Aktiengesellschaft)
gelöst. Mit dieser Lösung werden im Tauchverfahren bei einer Ziehgeschwindigkeit
von 60 cm/Min je eine eloxierte und eine mechanisch aufgerauhte Aluminiumplatte
des Formats 507 x 570 mm beschichtet, wobei ein Flächengewicht von 0,97 bis 0,90
g Feststoff/m2 erzielt wird Die so beschichteten Offsetplatten werden wie in Beispiel
lc) angegeben belichtet, wobei Belichtungszeiten von 60 bzw, 50 Sek optimal sind.
Die Entwicklung erfolgt durch Überwischen der Platten mit einer auf einen pH-Wert
von 11,0 abgepufferten 5 %-igen wäßrigen Trinatriumphosphatlösung.
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Nach der wie in Beispiel lc) beschriebenen Behandlung werden mit
den Druckplatten auf einer Druckmaschine wie in Beispiel Ic) 60.000 (anodisiertes
Aluminiumblech) bzw 33.000 (gerauhtes Aluminiumblech) Drucke hergestellt. Es werden
stets einwandfreie Abzüge erhalten.
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Beispiel 4 300 Teile eines lichtempfindlichen Phenolharzes hergestellt
gemäß Beispiel 2a) werden in 1.800 Volumenteilen eines Methyläthylketon-Dioxan-Gemisches
(Volumenverhältnis 3 : 1 zusammen mit 3 Teilen Malachitgrün BXN (C3I. 42000) (Handelsprodukt
der BASF Aktiengesellschaft) und 3 Teilen eines handelsüblichen Silikonöls gelöst.
Mit dieser Lösung wird im Tauchverfahren eine Mehrmetallplatte auf Basis Schwarzblech/Kupfer/Chrom
des Formates 507 x 570 mm beschichtet, wobei ein Flächengewicht 2 von 2,0 g Feststoff/m
erzielt wird (Ziehgeschwindigkeit
90 cm/Min) Die resultierende
beschichtete Mehrmetallplatte wird nach dem Trocknen unter einer gerasterten Bildvorlage
in einem handelsüblichen Kopierrahmen belichtet, wobei eine Belichtungszeit von
ca, 30 Sek optimal ist (Xenon-Impuls-Lampe 8.000 W, Abstand 135 cm). Die Entwicklung
erfolgt durch Überwischen der Platte mit einer auf einen pH-Wert von 11,25 abgepufferten
5 %-igen wässrigen Lösung von Trinatriumphosphat, wobei eine Entwicklungszeit von
30 Sek ausreichend ist. Die so hergestellte Platte wird nach dem Trocknen ohne weitere
Behandlung mit einer handelsüblichen Chromätze geätzt und dann durch 2-maliges Uberwischen
mit einem Wattebausch, der mit Äthylglykol getränkt ist, entschichtet, Nach der
üblichen Gummierung wird die Platte auf einer Offsetdruckmaschine angedruckt. Es
werden Drucke von hoher Qualität erhalten.
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Beispiel 5 100 Teile eines gemäß Beispiel lb) hergestellten lichtempfindlichen
Phenolharzes und 100 Teile eines alkalilöslichen Bisphenol A-Formaldehyd-Polykondensats
vom Novolaktyp werden unter Zusatz von 0,1 % "NeozaponblauFLE = Solventblau 70 (Handelsprodukt
der BASF Aktiengesellschaft) gelöst, Mit der Lösung werden im Tauchverfahren bei
einer Ziehgeschwindigkeit von 60 cm/Min je eine anodisierte und eine mechanisch
aufgerauhte Aluminiumplatte im Format 507 x 570 mm beschichtet, wobei ein Flächengewicht
von 1,01 bzw. 0,97 g Feststoff/m erzielt wird, Die resultierenden Druckplatten
werden wie in Beispiel lc) angegeben belichtet, wobei Belichtungszeiten von 35 Sek
bzw.
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30 Sek optimal sind. Die Platten werden durch Überwischen mit einer
auf einen pH-Wert von 11,5 abgepufferten 5 %-igen wässrigen Trinatriumphosphatlösung
entwickelt, Nach der in Beispiel Ic) ängegebenen anschließenden Plattenbehandlung
werden mit den Druckplatten auf der in Beispiel lc) angegebenen Druckmaschine 70.000
(anodisiertes Aluminiumblech) bzw. 30.000 (gerauhtes Aluminiumblech) Drucke hergestellt.
Es werden stets einwandfreie Anzüge erhalten,