DE2545697A1 - Lichtempfindliches material fuer positiv arbeitende photolacke und fuer die herstellung von druckplatten - Google Patents

Lichtempfindliches material fuer positiv arbeitende photolacke und fuer die herstellung von druckplatten

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DE2545697A1 DE19752545697 DE2545697A DE2545697A1 DE 2545697 A1 DE2545697 A1 DE 2545697A1 DE 19752545697 DE19752545697 DE 19752545697 DE 2545697 A DE2545697 A DE 2545697A DE 2545697 A1 DE2545697 A1 DE 2545697A1
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Description

  • Lichtempfindliches Material für positiv arbeitende Photolacke ~rund für die Herstellung von Druckplatten Die Erfindung betrifft ein verbessertes lichtempfindliches Material für positiv arbeitende Photolacke und für die Herstellung von Druckplatten auf der Basis von Polymerisaten mit einer C-C-Hauptkette, die seitenständig gebundene o-Chinondiazidsulfonsäure-ester oder -amid-Gruppierungen enthält0 Es ist bekannt, Kopierschichten für Druckformen zu verwenden, die als lichtempfindliche Komponente des Photolackes Ester der Naphthochinon-1,2-diazidsulfonsäure enthalten (DT-PS 938 233, DT-PS 865 109) Weiterhin sind Kopierschichten bekannt, die als lichtempfindliches Harz Ester der Naphthochinon-1,2-diazidsulfonsäure mit Phenol-Aldehyd oder Phenol-Keton-Kondensaten, zOBo mit den Novolaken (DT-PS 865 860) enthalten0 Aus der DT-OS 2 352 139 sind ferner Kopierschichten aus Vinvlcopolymerisaten bekannt, die seitenständig gebundene o-Naphthochinondiazidsulfonylgruppen enthalten0 Die bekannten Schichten weisen jedoch den Nachteil einer relativ langen Belichtungszeit und befriedigen zum großen Teil auch nicht bezüglich der mit ihnen beim Druck erzielbaren AuflagenhöheO Es wurde nun gefunden, daß lichtempfindliches Material für positiv arbeitende Photolacke und für die Herstellung von Druckplatten auf der Basis von Polymerisaten mit einer C-C-Hauptkette, die seitenständig gebundene o-Chinondiazidsulfonyl-Gruppierungen enthalten, wesentlich lichtempfindlichere und somit schnellere und mechanisch sehr widerstandsfähig4 Druckplatten gibt, wenn die seitenständig gebundenen genannten Gruppierungen in den Polymerisaten hergestellt sind, indem man die Hydroxyl- und/oder Aminogruppen einer Verbindung mit mindestens zwei Hydroxyl- und/oder Aminogruppen, die im Wellenlängenbereich von 300 bis 400 nm stark absorbiert und bevorzugt einen molaren Absorptionskoeffizient £ größer als 103 aufweist, teilweise zu o-Chinondiazidsulfonsäureester- und/oder -amid-Gruppierungen umsetzt und das resultierende noch mindestens eine Hydroxylgruppe oder Aminogruppe aufweisende Reaktionsprodukt R mit reaktiven Gruppen eines Polymerisats verknüpft0 Die erfindungsgemäßen Materialien zeichnen sich somit dadurch aus, daß o-Chinodiazid-sulfonyl-Gruppierungen wie 2,1,5-Diazonapthochinonsulfonyl-Grupplerungen mittels solchen Zwischengliedern seitenständig an eine C-C-Polymerkette gebunden werden, die aus Hydroxyl- und/oder Aminoverbindungen gebildet sind, die im Wellenlängenbereich von 300 bis 400 nm stark absorbieren und bevorzugt dort einen molaren Extinktionskoeffizient £ größer als 103 aufweisen0 Die resultierenden Polymeren haben im allgemeinen einen Gehalt an Diazo-Stickstoff von 1 bis 8 und bevorzugt von 2 bis 6 Gewichtsprozent Bevorzugte Verbindungen für die Bildung der Zwischenglieder sind mindestens 2 aromatische Hydroxyl- und/oder Aminogruppen aufweisende Benzophenone, Phenylbenztriazole oder Phenylæ cumaronee Besonders bewährt haben sich Polyhydroxybenzophenone mit 2 bis 4 aromatischen Hydroxygruppen wie 2,2v,4s4V-Tetrahydroxybenzophenon0 Die Verknüpfung der o-Chinondiazidsulfonyl-Gruppen mit den die Zwischenglieder bildenden stark absorbierenden Hydroxyl-und/oder Aminoverbindungen erfolgt zweckmäßiger durch Umsetzung eines Teiles der Hydroxyl- und/oder Aminogruppen mit einem o-Chinondiazidsurfonylhalogenids insbesondere einem Sulfonylchlorid wie dem 2,1,5-Diazonaphthochinonsulfochlorid, wobei die Verbindungen unter Bildung von o-Chinondiazidsulfonsäure- es ter- oder -amid-Gruppierungen verknüpft werden zu einem Reaktionsprodukt R, das jedoch noch mindestens eine Hydroxyl-oder Aminogruppe aufweisen SOllo Gut geeignete Reaktionsprodukte R entsprechend den Benzophenonderivaten, Phenylbenztriazolderivaten oder Phenylcumaronderivaten HR1 wobei R1 sein kann: worin bedeuten: R11, R12 = -H, -OH, -OSO2Y R13 R14, R16 = -H, -OH, -OCH3, -OCOCH3, -O-SO2Y R15 = -H, -Alkyl, -Aryl R17 = -H, -CH3 R18 - -H, -CH3, -OH, -O-SO2Y und 1 bis 4, bevorzugt 2 der Substituenten R1l, R12, R13 R14 R16 und R18 -OSO2Y darstellen0 R11 und R12 sowie R13, R und R16 können jeweils gleiche oder verschiedene Substituenten der genannten Art sein0 Die hydroxyl- oder aminogruppenhaltigen Reaktionspartner R wie die oben formelmäßig wiedergegebenen Produkte HR werden sodann als seitenständige Gruppierungen in ein Polymeres mit einer C-C-Hauptkette eingeführt, indem man sie mit einem Polymeren umsetzt, das reaktive Gruppierungen aufweist, bevorzugt solche die mit Hydroxylgruppen und/oder Aminogruppen reagieren0 Gruppierungen dieser Art sind beispielsweise Carboxylgruppen, Sulfonsäuregruppen, SSurehalogenid-, Epoxy~ Isocyanat und bevorzugt Anhydridgruppen0 Es ist jedoch auch möglich, die Reaktionsprodukte R mit zoBo Hydroxyl- oder Aminogruppen enthaltenden Polymeren zu verknüpfen unter Mitwirkung von Verbindungen, die mindestens 2 mit den OHr oder NH2-Gruppen reagierenden Gruppen aufweisen, wie Diisocyanate oder Diepoxiden Als Beispiele von Polymeren seien genannt Copolymerisate von Acrylsäure, Methacrylsäure, Acrylsäurechlorid, Glycidyl(meth)-acrylat, Vinylisocyanat, Maleinsäuredialkylestern und besonders des Maleinsäureanhydrids0 Bevorzugt als Polymere für die Umsetzung mit den Reaktionsprodukten R sind Copolymerisate des Maleinsäureanhydrids mit Styrol, Vinylalkyläthern und insbesondere Vinylisobutyläthern sowie bevorzugt mit Isobuten, deren K-Werte nach Ho Fikentscher (Cellulosechemie 13 (1932), 60), gemessen als 1 gewichtsprozentige Lösung in Cyclohexanon, etwa 20 bis 100 betragen0 Bevorzugte Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymerisate haben dabei K-Werte von 50 bis 1009 bevorzugte Vinylalkyläther-Maleinsäureanhydrid-Copolymerisate und Isobuten-Maleinsäureanhydrid-Copolymerisate K-Werte von 30 bis 70o Bei Anwendung von Naleinsäureanhydrid-Copolymeren hat es sich als vorteilhaft erwiesen, wenn in dem mit dem Reaktionsprodukt R verknüpften Maleinsäureanhydrid-Copolymerisat durch weitere Umsetzung mit einer Hydroxyl- und/oder Aminoverbindung Anhydridgruppen in Halbester- bzw. Halbamidgruppen umgesetzt sind. Dies ist vorteilhaft durch anschließende Umsetzung mit niederen Alkoholen wie Methanol oder Äthanol oder Monoaminen wie ethylamin oder Diäthanolamin zu erreichen.
  • Konstitutionen von 4 recht geeigneten Typen von erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Materialien für Beschichtungsmassen sind nachstehend wiedergegeben: Typ D Dabei bedeuten: R1 bevorzugt die vorstehend formelmäßig wiedergegebenen Reste aus den Reaktionsprodukten HR , R2, R3 (gleich oder verschieden) = -H, -CH3, -C6H5 R4, R5 (gleich oder verschieden) = -H, -CH3, -OCH2CH(CH3)2, -OCH3, -Cl, -OCOCH3 R6 = -H, OCH3, -OC2H5, OC3H7, 8 -°C4H9, 8 R R 8 , R9 (gleich oder verschieden) = -H, -CONH2, -COOC2H5.
  • In den Typen A und B ist mit Vorteil R2, R4 und R5 = -H oder R2, R2, R3, R4 : H und R5 = -OCHCH(CH3)2 oder R3 3 -C6H5 und bevorzugt R2, R = H und R3, R5 =CH3. oder -OCH3 m, n, o, p bedeuten beliebige ganze Zahlen, die zweckmäßigerweise durch Variation der Reaktionsparameter so gewählt werden, daß 1. Polymere mit K-Werten zwischen 20 und 100 erhalten werden, 2. das molare Verhältnis der Gruppen R1 zu unumgesetzten Anhydridgruppen (Typ A) bzw. zu Gruppen R6 (Typen B, C und D, wobei bevorzugt R6 = OCH3, OC2H5 oder OC3H7) 0,2 bis 10, bevorzugt 0,2 bis 1 beträgt, und 3. der Diazo-Stickstoff-Gehalt der Polymeren 1 bis 8, bevorzugt 2 bis 6 Gew.% beträgt.
  • Die angegebenen Strukturelemente (Typen A, B, C, D) bedeuten nicht, daß es sich stets um alternierende Copolymere handelt, vielmehr können m, n und o in jeder Struktureinheit unterschiedliche Zahlenwerte darstellen0 Die bevorzugten erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Materiat lien sind in Wasser und in schwachen wäßrigen Basen unlöslich - löslich sind sie dagegen in vielen organischen Lösungse mitteln wie zoBo Aceton, Methyläthylketon, Dioxan, Dimethylformamid, Äthylglykol oder in Gemischen dieser Lösungsmittel0 Mit den Lösungen der erfindungsgemäßen Photolacke können nach einem der üblichen Verfahren Aluminiumfolien oder auch andere Trägermaterialien mit einer Beschichtung versehen werden0 Durch die bildmäßige Belichtung unter einem Rasterpositiv werden die Stellen der beschichteten Folien, die vom Licht getroffen werden, in einer abgestimmten Entwicklerlösung löslich, während die unbelichteten Stellen unlöslich sind und auf der Trägerfolie zurückbleiben0 Die hydrophile Oberfläche des TräX gers ist dann an den Stellen mit der oleophilen Beschichtung bedeckt, die beim Druckprozeß die fette Druckfarbe annehmen, während der hydrophile Bilduntergrund durch den, durch das Feuchtwerk aufgetragenen, Wasserfilm geschützt wird und keine Druckfarbe annehmen kann0 Die erfindungsgemäßen Materialien bzw0 Beschichtungsmassen zeichnen sich gegenüber bisher bekannten Systemen durch eine höhere Lichtempfindlichkeit sowie durch eine höhere mechanische Festigkeit und eine verbesserte Haftung auf üblichen Trägermaterialien wie zO Bo Aluminium, anodisiertem, silikatisiertem Aluminium oder Chrom aus0 Ein weiterer Vorteil der erfindungsgemäßen Beschichtungsmasse liegt in deren außerordentlich hoher Resistenz gegenüber üblichen Ätzmitteln wie zOBo wäßrige Lösungen von Kalziumchlorid/Phosphorsäure oder Zinkohlorid-Salzsåure, wie sie beispielsweise bei der Verarbeitung von Mehrmetalldruckplatten (zoBo auf Basis Eisen/ Kupfer/Ohrom oder Messing/Ohrom) üblich sind0 Die in den nachstehenden Beispielen angegebenen Teile und Prozente beziehen sich, soweit nicht anders angegeben, auf das Gewicht0 Volumenteile verhalten sich zu Teilen wie Liter zu Kilogramm Die angegebenen K-Werte wurden bestimmt nach Ho Fikentscher, Cellulosechemie 13 (1932) 600 Beispiel 1 Herstellung eines lichtempfindlichen Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymeren: 13,6 Teile Z,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon und 20 Teile 2,1,5-Diazonaphtochinonsulfochlorid werden in 200 Volumenteilen Dioxan gelöst0 Es werden kann unter Rühren 10 Volumenteile Triäthylamin zugesetzt, wobei die langsame Zugabe so eingestellt wird, daß eine Temperatur von 30°C nicht überschritten wird0 Der Ansatz wird dann 30 Minuten bei 30°C gehalten und danach werden 12 Volumenteile Acetanhydrid und in der oben angegebenen Art weitere 10 Volumenteile Triäthylamin zugegeben0 60 Minuten nach Zugabe der letzten Base werden dem bei 300 C gehaltenen Ansatz 62 Teile eines Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymeren in Form einer 5 % Lösung in Aceton (K-Wert 60) und erneut bei 30 0C 30 Volumenteile Triäthylamin0 Nachdem der Ansatz weitere 120 Minuten bei 300 C gehalten wird, wird er filtriert und das lichtempfindliche Copolymere durch langsames Eingeben in Wasser bei einem pHzWert von 3 bis 6 ausgefällt0 Es werden 90 Teile (95 % doTho) eines gelben faserigen Polymeren erhalten0 Analyse: 63,4 % C; 4,8 % H; 27,2 % 0; 2,1 % N; 2,2 % So Beispiel 2 Herstellung eines lichtempfindlichen Styrol-Maleinsäurehalbester-Copolymeren: 13,6 Teile 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon und 20 Teile 2,1,5-Diazonaphtochinonsulfochlorid werden in 200 Volumenteilen Dioxan gelöst0 Es werden dann wie in Beispiel 1 näher angegeben unter Rühren zugesetzt; 1) 10 Volumenteile Triäthylamin (die Temperatur von 30 0C soll nicht überschritten werden), 2) 30 Minuten bei 300C nach Zusatz der Base 12 Volumenteile Acetanhydrid, 3) 10 Volumenteile Triäthylamin, 14) 60 Minuten (bei 30°C) nach Zusatz der letzten Base 35 Teile eines Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymeren in Form einer 5 %igen Lösungen in Aceton (K-Wert 60), sowie 5) 10 Volumenteile Triäthylamin, 6) 120 Minuten bei 30°C nach Zusatz der letzten Base 100 Volumenteile n-Propanol sowie 7) 10 Volumenteile Triäthylamin0 Der Ansatz wird weiter 30 Minuten bei 30 0C gehalten, dann wird die Reaktionslösung filtriert und das lichtempfindliche Styrol/Maleinsäurehalbester-Copolymere durch langsames Ein= geben in Wasser bei einem pH-Wert von 3 bis 6 ausgefällt0 Es werden 62 Teile, das sind 85 % doTho eines intensiv gelb gefärbten Polymeren erhalten0 Beispiel 3 Herstellung eines lichtempfindlichen Vinylisobutyläther/Maleins äurehalb es ter-Copolymeren: 13,6 Teile 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon und 20 Teile 2,1,5-Diazonaphthochinonsulfochlorid werden in 200 Volumenteilen Dioxan gelöst0 Es werden dann wie in Beispiel 1 näher angegeben unter Rühren zugesetzt: 1) 10 Volumenteile Triäthylamin (die Temperatur wird bei 300C gehalten), 2) 30 Minuten (bei 30°C) nach Zusatz der Base 12 Volumenteile Acetanhydrid, 3) 10 Volumenteile Triäthylamin, 4) 60 Minuten (bei 30°C) nach Zusatz der letzten Base 20 Teile eines Vinylisobutyläther/Maleinsäureanhydrid-Copolymerisats in Form einer 5 %eigen Lösung in Dioxan (K-Wert 45), sowie 5) 10 Volumenteile Triäthylamin, 6) 120 Minuten bei 300C nach Zusatz der letzten Base 100 Volumenteile n-Butanol sowie 7) 10 Volumenteile Triäthylamin0 Der Ansatz wird weitere 30 Minuten bei 300C gehalten, danach wird die Reaktionslösung filtriert und das lichtempfindliche umgesetzte Vinylisobutyläther/Maleinsäurehalbester-Copolymere durch langsames Eingeben in Wasser bei einem pH-Wert von 3 bis 6 ausgefällt0 Es werden 35 Teile, das sind 65 % doTho des Copolymeren erhalten0 Analyse: 57,1 % C; 4,4 % H; 28,5 % 0; 4,3 % N; 5,0 % So Beispiel 14 Darstellung eines lichtempfindlichen Isobuten/Maleinsäurehalb ester-Copolymeren: 13,6 Teile 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon und 39 Teile 2,1,5-Diazonaphthochinonsulfonsäurechlorid werden in 210 Volumenteilen Dioxan gelöst0 Es werden dann wie in Beispiel 1 näher angegeben unter Rühren zugesetzt: 1) 15 Volumenteile Triäthylamin (die Temperatur wird bei 300C gehalten), 2) 30 Minuten (bei 30°C) nach Zusatz der Base 8,5 Teile eines Isobut en/Maleins äureanhydrid-Copolymerisats als 5 %ige Lösung in Aceton (K-Wert 56), sowie 3) 15 Volumenteile Triäthylamin, 4) 120 Minuten (bei 30°C) nach Zusatz der letzten Base 100 Volumenteile Methanol sowie 5) 15 Volumenteile Triäthylamin0 Der Ansatz wird weitere 30 Minuten bei 300 C gehalten und danach wird die Reaktionslösung filtriert, und das lichtempfindliche umgesetzte Isobuten/Maleinsäurehalbester-Copolymere durch langsames Eingeben in Wasser bei einem pH-Wert von 3 bis 6 ausgefällt0 Es werden 48,8 Teile eines gelben pulvrigen Polymeren erhalten, das sind 87 % doTho Analyse: 54,9 % C; 3,6 % H, 27,0 % O, 6,9 % N; 7,5 % 5 Beispiel 5 Herstellung von Offsetdruckplatten mit Hilfe eines erfindungsgemäßen Photolackes: 200 Teile eines lichtempfindlichen Vinylisobutyläther/Maleinsäurehalbester-Copolymeren hergestellt analog Beispiel 3 mit einem Stickstoff-Gehalt von 3,5 % werden in 1800 Teiles eines Methyläthylketon/Dioxan-Gemischs (Volumenverhältnis 3 : 1) unter Zusatz von 0,2 % Malachitgrün gelöst0 Mit dieser BO-sung werden im Tauchverfahren bei einer Ziehgeschwindigkeit von 60 cm/Minute sowohl eine anodisierte als auch eine mechanisch aufgerauhte Aluminiumplatte im Format 50,7 x 57 cm beschichtet, wobei Auftragsmengen von 0s4 bzw0 o,8 g Feststoff pro m­ erzielt werden0 Die so hergestellten vorbeschichteten Offsetplatten werden nach dem Trocknen unter einer gerasterten Bildvorlage in einem handelsüblichen Kopierrahmen belichtet, wobei bei beiden Platten eine Belichtungszeit von nur 1 Minute und 30 Sekunden optimal ist (Xenon-Impuls-Lampe 8000 W, Abstand 135 com)0 Die Entwicklung erfolgt durch überwischen der Platten mit einer auf einen pH-Wert 11,5 abgepufferten wäßrigen 5 %eigen Trinatriumphosphatlösung0 Eine Entwicklungszeit von 30 Sekunden ist ausreichend0 Bei vorbeschichteten Positiv-Offsetplatten des Handels ist unter gleichen Bedingungen eine 2,5 bis 5-faehe Belichtungszeit erforderlich0 Die so hergestellte Offsetplatte, die einen guten Kontrast zwischen druckenden und nichtdruckenden Partien aufweist, wird mit Wasser abgespült, zur Neutralasation letzter Alkalispuren mit 5 %iger Phosphorsäure behandelt, abermals gewaschen und mit einer der handelsüblichen Gummierungsmittel gummierte Der letzte Arbeitsgang, der bei dem eloxierten Blech auch entfallen kann, schützt die hydrophilen Partien der Druckplatte vor Oxidation und erleichtert dem Drucker die Einrichtearbeit an der Druckmaschine Mit der so hergestellten Druckplatte werden an einer KOR-Druckmaschine der FaO Heidelberger Druckmaschinen AG, Heidelberg, 100 000 (eloxiertes Blech) bzw0 50 000 (gerauhtes Blech) Drucke hergestellt. Die gute Druckbildwiedergabe verändert sich während des gesamten Auflagedruckes praktisch nicht0 Beispiel 6 Herstellung von Offsetdruckplatten mit Hilfe eines erfindungsgemäßen Photolackes: 300 Teile eines lichtempfindlichen Vinylisobutyläther/Maleinsäurehalbester Copolymeren, hergestellt analog Beispiel 3s jedoch mit einem Stickstoff-Gehalt von nur 2,8 %, werden in 1800 Teilen eines Methyläthylketon/Dioxan-Gemischs tVolumenverhältnis 3 : 1) gelöst Mit dieser Lösung werden im Tauchverfahren bei einer Ziehgeschwindigkeit von 60 cm/Minute je eine Bimetallplatte auf Basis Messing/Chrom und eine Trimetallplatte auf Basis Schwarzblech/Kupfer/Chrom im Format 50,7 x 57 cm beschichtet, wobei bei beiden Blechen ein Beschichtungsgewicht von 1,6 g Feststoff pro m­ erreicht wird Die so hergestellten vorbeschichteten Mehrmetallplatten werden nach dem Trocknen unter einer gerasterten Bildvorlage in einem handelsüblichen Kopierrahmen belichtet0 Es ist eine Belichtungszeit von etwa 1 bis 1,5 Minuten erforderlich (Xenon Impuls-Lampe 8000 W, Abstand 135 com)0 Die Entwicklung erfolgt durch Üb erwischen der Platten mit einer auf einen pH»Wert von 9,5 abgepufferten 5 %eigen Lösung von Triäthanolamin in Wasser, wobei eine Entwicklungszeit von 45 Sekunden auss reicht0 Die so hergestellte Platte kann nach dem Trocknen ohne weitere Behandlung mit einer der handelsüblichen Chromätzen geätzt werden0 Das an den nicht vom Licht getroffenen Stellen erhalten geblieben lichtempfindliche Vinylisobutyläther/Maleinsäurehaltester-Copolymere ergibt einen guten optischen Kontrast zur freigelegten Chromoberfläche und ermöglicht so eine manuelle Korrektur, die evtlO erforderlich ist, um unerwünschte Schichtteile zu entfernen, wie sie zoBo durch Schattenwurf der Filmränder oder durch Staub teile entstehen können0 Die nach der Entwicklung stehengebliebenen Bildteile bilden bei dem nachfolgenden Atzvorgang die Atzschablone, doho sie schützen die Chromschicht an den später nichtdruckenden Stellen vor dem Angriff des Ätzmittels0 Die so hergestellten geätzten Mehrmetall-Druckplatten werden dann durch zweimaliges Üb erwischen mit einem mit Äthylglykol getränkten Wattebausch entschichtetO Nach dem üblichen Gummierungsvorgang werden sie auf einer KOR-Druckmaschine angedruckt; Es werden Drucke von hoher Qualität erhalten0 Hauptvorteile der so hergestellten Mehrmetall-Druckplatten gegenüber konventionellen Mehrmetalldruckplatten, die mit Hilfe einer Plattenschleuder in der Druckers; selbstbeschichtet werden und mit Chromaten sensibilisiert werden, sind eine bessere Resistenz gegenüber dem Ätzmittel, eine höhere Lichtempfindlichkeit, die gleichmäßigeren Rasterflächen, die leichte und schnelle Entschichtung (Zeitbedarf bei 50,7 x 57 cm etwa 30 Sekunden).
  • Die hergestellten Mehrmetalldruckplatten sind für extrem hohe Auflagen sowie für wiederkehrende Druckaufträge sehr geeignet0 Beispiel 7 67 Teile eines lichtempfindlichen Isobuten/Maleinsäurehalbester-Copolymeren, hergestellt analog Beispiel 14, mit einem Stickstoff-Gehalt von 6,9 % und 134 Teile (R)Alnovol 329 K (m-Kresol-Formaldehyd-Harz vom Novolaktyp) der FaO Reichold-Albert-Chemie, Wiesbaden, werden in 1800 Teilen eines Methyläthylketon/Dioxan-Gemischs (Volumenverhältnis 3 : 1) unter Zusatz von 0,05 % eines fein dispergierten Blaupigments ((R)Fanalblau B supra) gelöst0 Mit dieser Lösung werden im Tauchverfahren bei einer Ziehgeschwindigkeit von 60 cm/Minute sowohl eine anodisierte als auch eine mechanisch gekörnte Aluminiumplatte im Format 50,7 x 57 cm beschichtet, wobei ein Beschichtungsgewicht von jeweils 0,85 g Feststoff pro m­ erreicht wird0 Die so hergestellten Offsetplatten werden nach dem Trocknen (30 Minuten bei 40°C) unter einer gerasterten positiven Kopiervorlage in einem handelsüblichen Kopierrahmen belichtet0 Die optimale Belichtungszeit beträgt bei dem anodisierten Blech 70 Sekunden, während das mechanisch geraute Blech bereits nach 50 Sekunden optimal belichtet ist (Xenon-Impuls-Brenner 8000 W, Abstand zur Kopiervorlage 135 com)0 Die Entwicklung der Platten erfolgt durch zweimaliges Üb erwischen mit einer 5 %eigen wäßrigen Trinatriumphosphatlösung, die mit einer Puffersubstanz auf einen pH-Wert von 11,5 eingestellt worden isto Die so hergestellten Offsetdruckplatten werden nach dem Abspülen mit Wasser mit einer 1 %eigen wäßrigen Phosphorsäurelösung zur Neutralisation etwaiger Alkalispuren behandelt und dann ohne die sonst üblichen Gummierung auf einer KOR-Druckmaschine der FaO Heidelberger Druckmaschinen AG, Heidelberg, im Auflagendruck eingesetzt0 Die Druckplatten mit dem anodisierten Trägerblech zeigten nach 150 000 Drucken noch keine sichtbaren AbnutzungserscheinungenO Von der Platte mit dem mechanisch gerauten Blech werden 70 000 Drucke hergestellt, wobei erster und letzter Druckbogen praktisch keine Qualitätsdifferenz zeigen0

Claims (6)

  1. PatentansprUche (i3 Lichtempfindliches Material für positiv arbeitende Photolacke und fUr.die Herstellung von Druckplatten auf der Basis von Polymerisaten mit einer C-C-Hauptkette, die seitenständig gebundene o-Chinondiazid-sulfonyl-Gruppierungen enthalten, dadurch gekennzeichnet, daß die seitenständig gebundenen genannten Gruppierungen in den Polymerisaten hergestellt sind, indem man die Hydroxyl- und/oder Aminogruppen einer Verbindung mit mindestens zwei Hydroxyl- und/oder Aminogruppen, die im Wellenlängenbereich von 300 - 400 nm stark absorbiert und bevorzugt einen molaren Extinktionskoeffizielt£ größer als 103 aufweist, teilweise zu o-Chinondiazidsulfonsäureester und/oder -amid-Gruppierungen umsetzt und das resultierende noch mindestens eine Hydroxylgruppe oder Aminogruppe aufweisende Reaktionsprodukt (R) mit den reaktiven Gruppen eines Polymerisats verknüpft
  2. 2. Lichtempfindliches Material gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man das mindestens eine Hydroxyl-und/oder Aminogruppe aufweisende Reaktionsprodukt (R) mit Anhydridgruppen eines Maleinsäureanhydrid-Copolymerisats verknüpft0
  3. 3. Lichtempfindliches Material gemäß Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß in dem mit dem Reaktionsprodukt (R) verknüpften Maleinsäureanhydrid-Copolymerisat durch Umsetzung mit einer Hydroxyl- und/oder Aminoverbindung weitere Anhydridgruppen in Halbester- bzvo Halbamid-Gruppen umgesetzt sind0
  4. 4. Lichtempfindliches Material gemäß einem der Ansprüche 1 biß 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Reaktionsprodukt (R) aus einem mindestens 2 aromatische Hydroxyl- und/oder Aminogruppen aufweisenden Benzophenon, Phenylbenztriazol oder Phenylcumaron durch partielle Umsetzung der Hydroxyl-und /oder Aminogruppen zu o-Chinondiazidsulfonsäureester- und/oder -amid-Oruppierungen hergestellt isto
  5. 5. Lichtempfindliches Material gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Reaktionsprodukt (R) ein Polyhydroxybenzophenon mit 2 bis 4 aromatischen Hydroxygruppen, dessen Hydroxygruppen partiell durch Umsetzung mit einem o-ChinondiazidsulSochlorid verestert wurden, isto
  6. 6. Lichtempfindliches Material gemäß Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Maleinsäureanhydrid-Copolymerisat ein Copolymerisat des Maleinsäureanhydrids mit Isobuten, Vinylisobutyläther oder Styrol isto
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