DE2537599C3 - Verfahren zur Herstellung einer Signalspeicherplatte - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer SignalspeicherplatteInfo
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Description
Die [Erfindung he/jcht sich auf ein Verfahren au
Herstellung einer Signalspeichcrplatte entsprechend dein Oberbegriff des i lätipianspruchsi
Ein Verfahren dieser Art ist aus der DE-OS 222.128« bekannt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe kugrunde, das Verfahren gemäß dein Oberbegriff des Hütipfanspruchs
so weiterzubilden, daß es einfach ausführbar ist und zu befriedigenden Ergebnissen führt.
Diese Aufgabe wird durch die im kennzeichnenden Teil des Hauptanspruchs angegebenen Maßnahmen
gelöst.
Unter mattiertem Kohlenstoff ist dabei eine Kohlenstoffschicht zu verstehen, die keine glänzende, sondern
eine mattierte, d. h. eine z. B. mechanisch leicht aufgerauhte Oberfläche besitzt.
ίο Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind
in den Unteransprüchen beschrieben.
Die Kunststoffmembran wird vorzugsweise durch eine Schicht aus einer Lösung eines Kunststoffmaterials
gebildet. Das keimbildende Material dient zur Bildung einer Oberfläche, die mit der wäßrigen Triglycinsulfatlösung
benetzt werden kann, und begünstigt zugleich die Kristallisation aus der wäßrigen Triglycinsulfatlösung.
Bei Anwendung einer gleichmäßigen V:hicht aus μ keimbildendem Material wird das gewünschte Muster
keimbildenden Materials, das durch das Triglycinsulfat kontaktiert werden muß, mittels eines Photolacks
definiert. Die Schicht aus keimbildendem Material weist vorzugsweise eine Dicke von 10 bis 50 nm auf.
2ϊ Die Membran beseht z. B. aus einer Polyimidfolie,
einer Parylenfolie oder einer Polyacrylonitrilfolie. Polyimidfolien
sind wegen ihrer Temperaturstabilität zu bevorzugen. Die Schicht aus elektrisch leitendem Material
besteht z. B. aus Aluminium, Titan oder einer Nickel-Chrom-Legierung und wird durch Verdampfen
gebildet.
Nachstehend werden zwei Ausführungsbeispiele des Verfahrens nach der Erfindung näher erläutert.
J1J Ausführungsbeispiel I
Eine gläserne Mikroskop-Abdeckplatte (Dicke 0,1 mm und Durchmesser 19 mm) wird durch Bedampfen
mit einer Magnesiumfluoridschicht mit einer Dicke von 20 nm überzogen. Eine Polyamidharzlösung
wird dadurch hergestellt, daß 2 Volumenteile Drahtlack mit 1 Volumenteil N-Methyl-2-pyrrolidon
gemischt werden. Auf der Abdeckplatte wird ein Tropfen dieser Lösung angebracht und, indem 1 Minute
lang die Platte in Luft bei Zimmertemperatur
Vi schnell rotiert wird, wird darauf eine Schicht der Lösung
angebracht. Die Schicht wird durch Rotation mit einer Geschwindigkeit von (SOOO Umdrehungen/min
unter einer Haartrocknungshaube 1 Minute lang auf eine Höchsttemperatur von 70° C getrocknet. Die so
Vi gebildete Kunststoffmembran mit einer Dicke von
100 bis l.SOnni wird dadurch ausgehärtet, daß sie
während einer halben Stunde bei einer Temperatur Vt-I 300' C in Luft getrocknet wird.
Fun Ring au., rostfreiem Stahl mit einer Dicke von
Γι 0,5 mm und einem Durchmesser von l'Jmni wird
dann an der Kunststoffmenihran festgeklebt. Eine Aliiminiiini-Elektrodenschieht mit einer Dicke von
3(1 nm wird auf die freie Oberfläche der Kunslstoffmembraii
auigedampft und dann der von dem Ring
ho eingeschlossene Raum mit einer Schicht aus Photolack
ausgefüllt; diese Schicht wird dann getrocknet. Die Abdeckplatte wird dann vorsichtig von dem Cian/xn
dadurch entfernt, daß das Glas iii eine wäßrige Lösung
Von 40 Völ.% Fluorwasserstoffsäure eingetaucht
h» wird. Die Magiicsiumfluoridschicht wird in Wasser
gewaschen, getrocknet und dann mit einer Schicht aus Plicitoiack mit einer Dicke von 3 |im bedeckt. Diese
Plicsfolaeksehicht wird getrocknet und dann mit ultra-
violettem Licht belichtet, um nach Entwicklung ein Musler zu erhalten, das aus einem Raster mit Linien
mit einer Dicke von 2 μηι besteht, die Quadrate von 25 μιη X 25 μπι der Magnesiumfluoridschicht voneinander
trennen. Die belichtete Photolackschicht wird dann entwickelt.
Eine wäßrige Triglycinsulfatlösung wird dadurch heFgesteIIt,daß 40 g Triglycinsulfat in 100 ml entionisiertem
Wasser gelöst werden. Ein Tropfen dieser Lösung wird auf die Magnesiumfluoridschicht und die
verbliebenen Teile der Photolackschicht aufgebracht. Das Ganze wird eine halbe Minute lang mit einer Geschwindigkeit
von 1500 Umdrehungen/min unter einer Haartrocknungshaube rotiert, wobei eine Höchsttemperatur
von 70° C erreicht wird, um die Triglycinsulfatlösung über die von Photolack freien
Quadrate der Magnesiumfluoridschicht auszubreiten, auf denen quadratische Teile aus polykristallinem Triglycinsulfat
gebildet werden.
Die Photolackschicht im Inneren des Ringes und die verbliebenen Teile der Photolackschicht auf der
Magnesiumfluondschicht werden dadurch entfernt, daß das Ganze in einer gesättigten Lösung von Triglycinsulfat
in Aceton gewaschen wird. Diese gesättigte Lösung wird statt Aceton verwendet, um zu verhindern,
daß das Mosaik aus Trigylcinsulfat etwa durch in Aceton vorhandenes Wasser gelöst wird.
Ausführungsbeispiel II
Eine gläserne Mikroskop-Abrieckplatte wird mit einer ausgehärteten Schicht aus Polyimidharz gemäß
Beispiel I mit einer Dicke von 100 bis 150 nm überzogen,
die die Kunsiatoffmembran bildet. Ein Ring aus
rostfreiem Stahl mit einer Picke ν η 0,5 mm und einem
Durchmesser von 19 mm wird dann an der Kunststoffmembran festgeklebt. Der von dem Ring
eingeschlossene Raum wird mit einer Schicht Photolack ausgefüllt; diese Schicht wird getrocknet. Dann
wird die Abdeckplatte vorsichtig von dem Ganzen da-
durch entfernt, daß das Glas in eine wäßrige Lösung von 40 VoI.% Fluorwasserstoffsäure eingetaucht
wird. Das Ganze wird gewaschen und getrocknet, und dann wird eine Aluminiumschicht mit einer Dicke von
30 nm auf die freie Oberfläche der Kunststoffmem-
to bran aufgedampft. Eine Schicht aus Photolack mit einer
Dicke von 3 μίτι wird auf der Aluminiumschicht angebracht. Diese Schicht wird anschließend getrocknet
und dann ultraviolettem Licht ausgesetzt, um nach Entwicklung ein Muster eines Rasters mit Linien mit
li einer Dicke von 2 μίτι zu bilden, die Quadrate von
25 X 25 μιη voneinander trennen. Die belichtete Photoiackschicht wird dann entwickelt.
Ein Tropfen der wäßrigen Triglycinsulfatlösung nach Beispiel I wird auf der Aluminiumschicht und
den verbliebenen Teilen der Photolackschicht angebracht. Das Ganze wird dann mit einer Geschwindigkeit
von 1500 Umdrehungen/min eine halbe Minute lang unter einer Haartrocknungshaube rotiert, wobei
eine Höchsttemperatur von 70° C erreicht wird, um die Triglycinsulfatlösung über die freigelegten Quadrate
der Aluminiumschicht zu verteilen, auf denen sich quadratische Teile aus polykristallinem Triglycinsulfat
bilden.
Die Photolackschicht im Inneren des Ringes und
jo die verbliebenen Teile der Photolackschicht auf der
Aluminiumschicht werden dadurch entfernt, daß das Ganze mit einer gesättigten Lösung von Triglycinsulfat
in Aceton gewaschen wird. Bei der so hergestellten Signalspeicherplatte dient die Aluminiumschicht als
Ji Elektrodenschicht.
Claims (7)
1. Verfahren zur Herstellung einer Signalspeicherplatte für eine Infrarot-Bildaufnahmeröhre,
bei dem auf einer Kunststoffmembran ein Mosaik diskreter Gebiete aus Triglycinsulfat angebracht
wird, dadurch gekennzeichnet, daß eine wäßrige Triglycinsulfatlösung mit einer Oberflüche
einer auf der Membran gebildeten Schicht aus keimbildendem Material wie Aluminium, Titan,
mattiertem Kohlenstoff, Magnesiumfluorid, In2O5-SnO1, Aluminiumoxid oder Siliciumoxid in
Kontakt gebracht und aus dieser Lösung Triglycinsulfat auskristallisiert wird, wobei die Schicht
aus keimbildendem Material mit einem dem gewünschten Mosaik diskreter Gebiete entsprechenden
Muster versehen ist.
2. Verfahren nach Anspruch I, dadurch gekennzeichnet,
daß das keimbildende Material eine zusammenhängende Schicht bildet und die genannte
Oberfläche teilweise mit einem weiteren Material so überzogen wird, daß die einzelnen Gebiete
des gewünschten Mosaikmusters festgelegt werden.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß Jas weitere Material ein Photolack
ist.
4. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß das weitere Material nach
dem Anbringen der Gebiete aus Triglycinsulfat entfernt wird, um zwischen benachbarten Gebieten
aus Triglycinsulfat Spalte zu bilden.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht aus keimbildendem
Material in diskrete Gebiete aufgeteilt wird, die dem gewünschten Mosaik diskreter Gebiete aus
Triglycinsulfat entsprechen.
(i. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die Membran mit einer besonderen zusammenhangenden Schicht aus elektrisch
leitendem Material versehen wird, die auf derjenigen Fläche allgebracht wird, die der die Schicht
aus keimbildendem Material tragenden Fläche gegenüberliegt.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die
Kunststoffmembran auf einer Oberfläche eines ersten festen Trägers gebildet wird, der entfernt
wird, bevor das Mosaik aus Triglycinsulfat auf die Kunststoffmembran aufgebracht wird.
H. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß /wischen der Membran und
dem Träger die Schicht aus kcimbildendem Mate- ί\ζ\ angebracht wird.
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