DE250306T1 - Interferometer zur winkelmessung. - Google Patents

Interferometer zur winkelmessung.

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DE250306T1 DE198787401333T DE87401333T DE250306T1 DE 250306 T1 DE250306 T1 DE 250306T1 DE 198787401333 T DE198787401333 T DE 198787401333T DE 87401333 T DE87401333 T DE 87401333T DE 250306 T1 DE250306 T1 DE 250306T1
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Claims (28)

c b 0 &oacgr; &ugr; &ogr; Patentansprüche
1. Planspiegel-Interferometer zur Winkelmessung, umfassend: zwei Planspiegel (70, 71), die relativ zueinander um einen zwischen den beiden Planspiegeln änderbaren Winkel winkelverstellbar sind,
eine Lichtquelle (10), die einen Eingangsstrahl (12) mit zwei stabilisierten, orthogonal polarisierten optischen Frequenzen aussendet;
Mittel (16), die optisch mit dem Eingangsstrahl (12) gekoppelt sind und diesen in zwei getrennte parallele orthogonal polarisierte Eingangsstrahlen (30, 31) umwandeln; Elemente (29, 29A), die optisch im Strahlengang eines der beiden getrennten parallelen orthogonal polarisierten Eingangsstrahlen (30, 31) angeordnet sind und diese in zwei getrennte parallele Strahlen (30, 33) gleicher Polarisation umwandeln;
Elemente (40, 45), die optisch mit den beiden getrennten parallelen gleichpolarisierten Strahlen (30, 33) gekoppelt sind, so daß jeder dieser Strahlen einmal an einem der beiden winkelverstellbaren Planspiegel (70, 71) reflektiert wird unter Erzeugung von zwei parallelen Ausgangsstrahlen (60, 63) gleicher Polarisation;
Elemente (29; 29B), die optisch im Strahlengang eines der beiden getrennten gleichpolarisierten parallelen Ausgangsstrahlen (60, 63) angeordnet sind und diese in zwei getrennte orthogonal polarisierte parallele Ausgangsstrahlen (62, 63) umwandeln;
Mittel (16), die optisch mit den beiden getrennten parallelen orthogonal polarisierten Ausgangsstrahlen (62, 63) gekoppelt sind und diese zu einem einzigen Ausgangsstrahl (80) mit zwei orthogonal polarisierten Frequenzkomponenten umwandeln, wobei eine Phasendifferenz zwischen diesen dem änderbaren Winkel zwischen den beiden Planspiegeln (70, 71) direkt proportional ist;
ein Element (81), das optisch mit dem einzigen Ausgangsstrahl (80) gekoppelt ist und dessen orthogonal polarisierte Komponenten mischt und daraus ein elektrisches Meßsignal
(85) bildet,
5
dadurch gekennzeichnet, daß das Interferometer ferner umfaßt eine Einheit (90), die mit dem elektrischen Meßsignal (85) wirksam gekoppelt ist und aus diesem eine Phasendifferenz extrahiert, wobei Änderungen dieser extrahierten Phasendifferenz (&Dgr;&) Winkeländerungen des änderbaren Winkels (&Dgr;&THgr;) zwischen den beiden Planspiegeln (70, 71) proportional sind,
so daß für das Interferometer eine optische Konfiguration erhalten wird, bei der die Winkelmessungen gegenüber einer dreidimensionalen Verschiebung der Planspiegel äußerst unempfindlich sind.
2. Interferometer nach Anspruch 1, wobei die Lichtquelle (10) den Eingangsstrahl (12) mit zwei stabilisierten orthogonal polarisierten optischen Frequenzen gleichen Werts
, .
aussendet.
3. Interferometer nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Mittel zum Umwandeln des Eingangsstrahls (12) in zwei getrennte parallele orthogonal polarisierte Eingangsstrahlen (30, 31) eine schräge Brechplatte (16) umfassen.
4. Interferometer nach einem der Ansprüche 1-3, wobei die Mittel zum Umwandeln.der beiden getrennten parallelen orthogonal polarisierten Ausgangsstrahlen (62, 63) in einen
einzigen Ausgangsstrahl (80) mit zwei orthogonal polarisierten Frequenzkomponenten eine schräge Brechplatte (16) umfassen.
5. Interferometer nach Anspruch 3 oder 4, wobei jede im System enthaltene schräge Brechplatte (16) eine Gruppe von Bereichen mit Vergütungs-, Polarisierungs- und Hochreflexiohsbeschichtungen aufweist.
0250303
6. Interferometer nach Anspruch 6, wobei jede schräge Brechplatte (16) ein schräges Glassubstrat mit zueinander
parallelen optisch ebenen Flächen aufweist, auf denen die 5
Gruppen von Bereichen und Beschichtungen angeordnet sind.
7. Interferometer nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Mittel zur Umwandlung des Eingangsstrahls (12) in zwei getrennte parallele orthogonal polarisierte Eingangsstrahlen (30, 31)
und die Mittel zur Umwandlung der beiden getrennten parallelen orthogonal polarisierten Ausgangsstrahlen (62, 63) in einen einzigen Ausgangsstrahl (80) eine einzige gemeinsame schräge Brechplatte (16) umfassen, die zueinander parallele optisch ebene Flächen hat, auf denen erste und zweite Grup-
pen von Bereichen mit Vergütungs-, Polarisierungs- und Hochreflexionsbeschichtungen (21A, 27A, 23A, 25A) angeordnet sind, wobei die Mittel zum Umwandeln der beiden Ausgangsstrahlen (62, 63) in den einzigen Ausgangsstrahl (80) die erste Gruppe von Breichen und Beschichtungen auf der
schrägen Brechplatte (16) umfassen, die ferner eine zweite Gruppe von Bereichen mit Vergütungs-, Polarisierungs- und Hochreflexionsbeschichtungen (21B, 27B, 23B, 25B) umfaßt, wobei die zweite Gruppe von Bereichen und Beschichtungen die Eingangsstrahl-Umwandlungsmittel umfaßt.
8. Interferometer nach einem der Ansprüche 4-7, wobei die Brechplatte (16) Mittel aufweist, um die Phasendifferenz [S) zwischen den beiden orthogonal polarisierten Frequenzkomponenten zu bilden entsprechend dem folgenden Ausdruck:
&dgr; =
4nhn
sin(a-26)\2
&eegr; /
mit h = Dicke der Brechplatte (16), &eegr; = Brechzahl der Brechplatte, &Lgr;= Wellenlänge der Lichtquelle (10) für den Eingangsstrahl, CX = Einfallswinkel des Eingangsstrahls auf der Brechplatte, und &thgr; = Neigungswinkel der beiden Planspiegel (70, 71) in bezug aufeinander.
9. Interferometer nach Anspruch 8, wobei die Winkeländerung &Dgr;&thgr; für geringe Änderungen des Neigungswinkels definiert ist durch den Ausdruck:
sina
&eegr;&lgr;&ngr;'1 - _
&Lgr;&thgr; = — &Lgr;&dgr;
4nh sin2a
mit &Dgr;&dgr;~ = Änderung der genannten Phasendifferenz.
10. Interferometer nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zum Umwandeln des Eingangsstrahls
(12) in zwei getrennte parallele orthogonal polarisierte Eingangsstrahlen (30, 31) eine Strahlteilungs/Strahlknickeinheit (116A; 116) umfassen und daß die Mittel zum Umwandeln der Ausgangsstrahlen (62, 63) in einen einzigen Ausgangsstrahl (80) mit zwei orthogonal polarisierten Fre-
quenzkomponenten eine Strahlteiler/Strahlknickeinheit (116B; 116) umfassen.
11. Interferometer nach Anspruch 10, wobei die Strahlteiler/Strahlknickeinheit eine erste und eine zweite Gruppe
von Bereichen mit Vergütungs- und Polarisierungsbeschichtungen umfaßt, wobei die Eingangsstrahl-Umwandlungseinheit die erste Gruppe von Bereichen und Beschichtungen umfaßt und die Mittel zum Umwandeln der beiden getrennten parallelen orthogonal polarisierten Ausgangsstrahlen (62, 63) in den einzigen Ausgangsstrahl (80) die zweite Gruppe von Bereichen und Beschichtungen umfassen.
12. Interferometer nach Anspruch 11, wobei die Strahlteiler/Strahlknickeinheit aus zwei gesonderten Strahlteiler/-Strahlknickelementen (116A, 116B) besteht.
13. Interferometer nach Anspruch 12, wobei die ersten und
zweiten Bereiche von Polarierungsbeschichtungen unterschiedliche Abschnitte einer gemeinsamen Polarisierungsbeschichtung umfassen, wobei die Strahlteiler/Strahlknickeinheit ein gemeinsames Strahlteiler/Strahlknickelement 10
(116) umfaßt, um den Eingangsstrahl und den Ausgangsdstrahl in dem Planspiegel-Interferometer zur Winkelmessung umzuwandeln.
14. Interferometer nach Anspruch 13, wobei die gemeinsame Strahlteiler/Strahlknickeinheit (116) Strahleintritts- und -austrittsflachen umfaßt und die ersten und zweiten Bereiche mit Vergütungsbeschichtungen sich auf diesen Eintrittsund Austrittsflächen befinden.
15. Interferometer nach einem der Ansprüche 12-14, wobei
jedes Strahlteiler/Strahlknickelement (116A, 116B; 116) ein Rechtwinkelprisma (125A, 125B; 125) und ein Rhomboidprisma (122A, 122B; 122) umfaßt.
16. Interferometer nach Anspruch 15, wobei die Strahlteiler/Strahlknickeinheit Mittel umfaßt, die für die beiden orthogonal polarisierten Frequenzanteile die genannte Phasendifferenz &ogr; nach Maßgabe des Ausdrucks:
■innk
5 =
\/2 &lgr;
bilden, mit h = Dicke des Rhomboidprismas, &eegr; = Brechzahl des Rhomboidprismas, A= Wellenlänge der Eingangsstrahl-Lichtquelle und &thgr; = Neigungswinkel der beiden Planspiegel
(70, 71) relativ zueinander. 5
17:. Interferometer nach Anspruch 16, wobei die Winkeländerung &Dgr;&THgr; für geringe Änderungen des Neigungswinkels &thgr; definiert ist durch den Ausdruck:
&Dgr;&thgr; - 2Mnh
mit &Dgr; ^ = Änderung der Phasendifferenz S. 15
18. Interferometer nach einem der Ansprüche 1-17, wobei die Mittel zum Umwandeln der beiden getrennten parallelen orthogonal polarisierten Eingangsstrahlen (30, 31) in die beiden getrennten parallelen gleichpolarisierten Eingangs-
strahlen (30, 33) eine &lgr;/2-Phasenplatte (29A; 29) umfassen.
19. Interferometer nach einem der Ansprüche 1-18, wobei die Mittel zum Umwandeln der beiden getrennten parallelen gleichpolarisierten Ausgangsstrahlen (60, 63) in die beiden
getrennten parallelen orthogonal polarisierten Ausgangsstrahlen (62, 63) eine 7l/2-Phasenplatte (29B; 29) umfassen.
20. Interferometer nach einem der Ansprüche 1-19, wobei die
Mittel, die eine einmalige Reflexion jedes der beiden ge-
trennten parallelen gleichpolarisierten Strahlen (30, 33) an jedem der beiden winkelverstellbaren Planspiegel (70, 71) bewirken, einen Polarisationsstrahlteiler (40) und einen Retroreflektor (45) umfassen.
21. Interferometer nach Anspruch 20, wobei die Mittel, die eine einmalige Reflexion jedes der getrennten parallelen gleichpolarisierten Strahlen an jedem der beiden winkelverstellbaren Planspiegel (70, 71) bewirken, ferner eine
&Lgr;/4-Phasenplatte (44) umfassen.
22. Interferometer nach einem der Ansprüche 1-21, wobei die Mittel zur Bildung des elektrischen Meßsignals (85) einen
Polarisator (81) zum Mischen der orthogonalen Komponenten 10
des einzelnen Ausgangsstrahls umfassen.
23. Interferometer nach Anspruch 22, wobei die Mittel zur Bildung des elektrischen Meßsignals (85) ferner eine lichtelektrische Zelle (83) umfassen.
24. Interferometer nach einem der Ansprüche 1-23, wobei einer der beiden winkelverstellbaren Planspiegel (70, 71) ortsfest ist und einen Referenzspiegel (71) bildet und der andere der beiden Planspiegel kippbar ist zur Bildung des
änderbaren Winkels (&THgr;) zwischen den beiden trennbaren Planspiegeln.
25. Interferometer nach einem der Ansprüche 1-24, wobei sämtliche Strahlen in einer einzigen Ebene liegen.
26. Interferometer nach Anspruch 25, wobei sämtliche Strahlen optische Strahlen sind und sämtliche optischen Strahlen in einer einzigen Ebene liegen.
27. Interferometer nach einem der Ansprüche 1-24, wobei
sämtliche Strahlen optische Strahlen sind und diese optischen Strahlen in mehreren Ebenen liegen, wobei ein bestimmter optischer Strahl in einer bestimmten Ebene liegt.
28. Interferometer nach einem der Ansprüche 1-27, wobei die Lichtquelle (10) einen Laser umfaßt.
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Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4881815A (en) * 1988-07-08 1989-11-21 Zygo, Corporation Linear and angular displacement measuring interferometer
US4859066A (en) * 1988-07-08 1989-08-22 Zygo Corporation Linear and angular displacement measuring interferometer
US4881816A (en) * 1988-07-08 1989-11-21 Zygo, Corporation Linear and angular displacement measuring interferometer
US5064289A (en) * 1989-02-23 1991-11-12 Hewlett-Packard Company Linear-and-angular measuring plane mirror interferometer
US4883357A (en) * 1989-03-01 1989-11-28 Zygo Corporation Dual high stability interferometer
DE69017159T2 (de) * 1989-12-11 1995-08-10 Konishiroku Photo Ind Laser-interferometrischer Messapparat.
US5106192A (en) * 1990-03-16 1992-04-21 Eastman, Inc. Polarization insensitive absolute interferometeric method and apparatus for measuring position angular bearing and optical paths
US5270793A (en) * 1990-12-27 1993-12-14 Jenoptik Gmbh Symmetrical carrier frequency interferometer
DE4135959C2 (de) * 1991-10-31 1994-01-20 Leica Ag Heerbrugg Verfahren zur Messung der Neigungen von Grenzflächen in einem optischen System
US5317383A (en) * 1992-09-18 1994-05-31 Shell Oil Company Array retroreflector apparatus for remote seismic sensing
US5289434A (en) * 1992-09-18 1994-02-22 Shell Oil Company Retroreflector apparatus for remote seismic sensing
US5327216A (en) * 1992-09-18 1994-07-05 Shell Oil Company Apparatus for remote seismic sensing of array signals using side-by-side retroreflectors
US5408318A (en) * 1993-08-02 1995-04-18 Nearfield Systems Incorporated Wide range straightness measuring stem using a polarized multiplexed interferometer and centered shift measurement of beam polarization components
US5404222A (en) * 1994-01-14 1995-04-04 Sparta, Inc. Interferametric measuring system with air turbulence compensation
US5991033A (en) * 1996-09-20 1999-11-23 Sparta, Inc. Interferometer with air turbulence compensation
US6498680B1 (en) * 1996-10-29 2002-12-24 Chorum Technologies Lp Compact tunable optical wavelength interleaver
US6031610A (en) 1997-10-06 2000-02-29 Pacific Scientific Instruments Company Multi-lobe pump for particle counters
US6407861B1 (en) * 1999-04-06 2002-06-18 Adc Telecommunications, Inc. Adjustable optical circulator
US6271923B1 (en) * 1999-05-05 2001-08-07 Zygo Corporation Interferometry system having a dynamic beam steering assembly for measuring angle and distance
WO2001088468A1 (en) * 2000-05-17 2001-11-22 Zygo Corporation Interferometric apparatus and method
US6876451B1 (en) * 2000-08-25 2005-04-05 Zygo Corporation Monolithic multiaxis interferometer
WO2003036223A1 (en) * 2001-10-19 2003-05-01 Zygo Corporation Interferometers for measuring changes in optical beam direction
JP2004212205A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Olympus Corp 角度検出装置、光信号スイッチシステムおよび情報記録再生システム
JP2005117051A (ja) * 2003-10-09 2005-04-28 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
US7310152B2 (en) * 2004-03-03 2007-12-18 Zygo Corporation Interferometer assemblies having reduced cyclic errors and system using the interferometer assemblies
US7298493B2 (en) 2004-06-30 2007-11-20 Zygo Corporation Interferometric optical assemblies and systems including interferometric optical assemblies
US7027162B2 (en) * 2004-08-16 2006-04-11 Lau Kam C System and method for three-dimensional measurement
DE102014214839A1 (de) * 2014-07-29 2016-02-04 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Interferometer
CN105222726B (zh) * 2015-07-07 2018-12-07 西安交通大学 基于多次通过二分之一波片的光强法滚转角测量装置及方法
US10330460B2 (en) * 2017-06-13 2019-06-25 Raytheon Company Calibration method and system for a fast steering mirror
US10670391B2 (en) 2018-10-26 2020-06-02 Northrop Grumman Systems Corporation Confocal optical protractor
US11448732B2 (en) 2019-05-21 2022-09-20 Northrop Grumman Systems Corporation Frequency modulated scanning LIDAR with 360 degrees field of view
US11531111B2 (en) 2019-05-21 2022-12-20 Northrop Grumman Systems Corporation 360 degrees field of view scanning lidar with no movable parts
US11555891B2 (en) 2019-05-21 2023-01-17 Northrop Grumman Systems Corporation Methods for large angle field of view scanning LIDAR with no movable parts
RU2766054C1 (ru) * 2020-04-26 2022-02-07 Китайский Университет Горного Дела И Технологии Устройство и способ определения угла коромысла врубовой машины на основе оптоволоконных измерений

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3656853A (en) * 1966-11-07 1972-04-18 Hewlett Packard Co Interferometric system
US3458259A (en) * 1966-11-07 1969-07-29 Hewlett Packard Co Interferometric system
US3790284A (en) * 1972-05-08 1974-02-05 Hewlett Packard Co Interferometer system for measuring straightness and roll
US3788746A (en) * 1972-10-02 1974-01-29 Hewlett Packard Co Optical dilatometer
US4717250A (en) * 1986-03-28 1988-01-05 Zygo Corporation Angle measuring interferometer

Also Published As

Publication number Publication date
DE3781837D1 (de) 1992-10-29
US4746216A (en) 1988-05-24
EP0250306A2 (de) 1987-12-23
EP0250306B1 (de) 1992-09-23
JPS62293110A (ja) 1987-12-19
DE3781837T2 (de) 1993-02-11
EP0250306A3 (en) 1989-05-17

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