DE2456560B2 - Beugungsgitter mit veränderlicher Gitterkonstante - Google Patents
Beugungsgitter mit veränderlicher GitterkonstanteInfo
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Description
Die (Erfindung betrifft ein Beugungsgitter, das an
einem /u piezoelektrischer Wirkung fähigen Träger angebracht ist. bei dem zwei einander abgcwancltc
flächen mit elektrisch leitenden Armaluren verschen sind, wobei durch Anlegen einer veränderlichen
Spannung zwischen diesen Armaturen ein elektrisches leid veränderlicher Stärke erzeugt wird, das durch
piezoelektrische Wirkung eine entsprechende Veränderung der Gilterkonstanten hervorruft.
Es ist bereils vorgeschlagen worden, ein Beugungsgitter
und ein piezoelektrisches Element miteinander zu einer Vorrichtung zu verbinden, die einen Modulator
bildet und einen piezoelektrischen Krislall aufweist, wobei an einer spiegelnden Fläche des Kristalls ein
Beugungsgitter eingesehnilten ist und der Krislall mit Hilfe von zwei Elektroden erregt wird, die an zwei
andere Flächen des Kristalls angelegt sind, welche einander abgewandt sind und auf der eingeschnittenen
bzw. gravierten Fläche senkrecht stehen. Diese ältere Vorrichtung dient dazu, die charakteristische Konstante
des Beugungsgitters um einen Millclwerl schwingen zu lassen, wobei die Modulation des Intervall:, zwischen
den Cjiii'jrstrichen eine entsprechende Modulation
eines durch das Beugungsgitter abgebeugten Lichtbündels hervorruft.
Zur Erregung des Kristalls dieser älteren Vorrichtung ist die Anwendung einer sehr hohen elektrischen
Spannung in der Größenordnung von 10 000 V erforderlich.
Wenn eine solche Vorrichtung auch als Modulator für bestimmte Zwecke geeignet sein kann, so ist .sie es nicht
als handelsübliche Vorrichtung zum Verändern der ι ο Konstanten eines Beugungsgitters für Anwendungsfälle,
die sehr unterschiedlich sein können, da sie eine elektrische Spannung erfordert, die nicht allgemein zur
Verfügung steht.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein ι. Beugungsgitter der eingangs beschriebenen Gattung zu
schaffen, bei dem die Veränderung der Gitterkonstanten mit einer niedrigen elektrischen Spannung von
beispielsweise 300 V erzielbar ist.
Diese Aufgabe ist bei einem Beugungsgitter der jo genannten Art erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß
das Gitter an einer der genannten zwei Flächen des
Trägers angebracht ist, d. h. an einer der Flächen des Trägers, die eine der Armaturen trägt, mit denen das
Gitter erregt wird.
>-. Das Gitter läßt sich durch direktes Gravieren einer
Fläche des Trägers herstellen, jedoch wird die Ausbildung des Gitters in einer an einer Fläche des
Trägers angebrachten Schicht bevorzugt.
Diese Schicht ist beispielsweise eine Aluminiumbejn
Schichtung oder eine andere metallische Auflage, die ebenfalls eine der Armaturen bildet und in der das
Gitter durch Gravieren hergestellt wird.
Eine abgewandelte Ausbildungsform weist eine Schicht aus photopolymerisierbarem Harz oder aus
η einem anderen lichtempfindlichen Material auf, in der das Gitter nach einem an sich bekannten holographischen
Verfahren ausgebildet ist.
Dieses Gitter kann eine Gittckopie sein.
Die Armatur, die an derselbe; Fläche des Trägers in angebracht ist wie das Gitter, kann das Giticr selbst sein
oder eine metallische Auflage.
Die Erfindung bielel Vorteile für alle Anwcndungsfäl-Ic
der Beugungsgitter, wo es nützlich sein kann, die Gitterkonstanie zu verändern, beispielsweise bei Vcrii
wendung als Deflcktor, Kuppler bzw. Schalter, Modulator, Analysator.
Die Erfindung wird im folgenden anhand schemaiischer
Zeichnungen mehrerer Ausführungsbeispiele mil wcilcrcn Einzelheiten erläutert. In der Zeichnung zeigt
Vi F i g. 1 einen Schnitt durch ein Beugungsgitter in einer erfindungsgemäßen Ausbildungsform,
Vi F i g. 1 einen Schnitt durch ein Beugungsgitter in einer erfindungsgemäßen Ausbildungsform,
Fi g. 2 einen Schnitt durch ein ßeugungsliiicr in einer
anderen Ausbildungsform nach der Erfindung,
fig. J eine schematisierte Darstellung einer (iiiter-
·,·. aufsicllung bei Benutzung des Beugungsgitters als Dcflektor, und
Fig. 4 bis b Kurvendiagramme über die Änderung
des Ablenkungswinkels als Funktion der Veränderung der Gitterkonslanien mit einer (iilleraufslellung wie in
„,ι Fig. J diirgestelll, für die Einfallswinkel 75", H2,T und
90".
Der in F i g. I dargestellte Träger ist von einer piezoelektrisch wirkenden dünnen Platte oder l.umcllc
I gebildet, die an einer ihrer llauptfliichen I·/ eine
h, elektrisch leitende Auflage 2 aufweist. An der gegenüberliegenden lliiuptflächc \b des piezoelektrischen
Materials I ist eine elektrisch leitende und reflektierende metallische Schicht 1 angebracht, deren
freie Fläche durch mechanische Behandlung in ein Gitter 4 umgestaltet wurde.
F i g, 2 zeigt eine abgewandelte Ausbildungsform, bei der an der Hauptfläche \b des Kristalls 1 ein
photopolymerisierbares Harz 5 aufgetragen ist, an dessen freier Fläche nach einem holographischen
Verfahren ein Gitter 6 ausgebildet wurde. An dieser freien Fläche ist eine reflektierende und elektrisch
leitende metallische Auflage 7 angebracht
Bei dem einen wie beim anderen Ausführungsbeispiel genügt es zur Veränderung der Gitterkonstanten, wenn
eine veränderliche Spannung in der Größenordnung von 300 V beispielsweise zwischen den von den beiden
elektrisch leitenden Auflagen gebildeten Armaturen angelegt wird. Dies läßt sich mit beliebigen Mitteln
erreichen, z. B. mit den Vorrichtungen, die zur Erzeugung von Ultraschall mittels piezoelektrischen
Kristallen benutzt werden. In der Zeichnung ist die Vorrichtung zur Erregung des Kristalls durch einen
einfachen Block 8 und elektrische Leiter 9 und 10 schematisiert dargestellt.
Fig.3 zeigt einen Anwendungsfall, uei dem ein
Beugungsgitter, wie das in Fig. 1 dargestellte, zur kontinuierlichen oder diskreten Ablenkung eines hochfrequenten
Lichtbündels eingesetzt ist, wobei das Beugungsgitter beispielsweise in einem solchen Anwendungsfall
eine sehr schwache Veränderung der Wellenlänge eines Laserstrahibündcls gestattet.
Ein Beugungsgitter 11 ist so angeordnet, daß ein einfallender Laserstrahl 12 am Beugungsgitter unter
einem Einfallswinkel /x von nahe zwischen 70 und 90°. vorzugsweise von nahe 90" aufirifft. Der abgebeugte
Strahl bildet mit der Normalen Λ/zur Giticrcbene einen
WinkeU'.sodaß
α (sin ix + sinix) =kk,
worin ,/die Gitlcrkonstanlc ist.
Einer relativen Veränderung der Gilterkonstanten von—'durch piezoelektrische Wirkung entspricht eine
Ablenkung der abgebeugten Ordnungen von
(sin \ + sin »') du
cos χ'
cos χ'
Die relative Veränderung ist eine Charakteristik, die nur von der Qualität der piezoelektrischen Wirkung
in abhängig ist, und die Ablenkung ist um so stärker, je
größer der Term
sin χ + sin \
cos \
also je mehr sich λ' 90° nähert.
Zur Erzielung einer maximalen Ablenkung benutzt man in der Praxis vorzugsweise austretende Strahlen,
die einer Winkel nahe 90" bilden.
In Fig.4 bis 6 sind als B .'spiel drei Kurven
eingetragen, die die Veränderung aer Ablenkungswinkels λ' als Funktion der Veränderung der Giuerkonstanten
α eines mit einer Wellenlänge von 6323 Ä in der ersten Ordnung arbeitenden Beugungsgitters /eigen.
Die rinfallswinkel λ betragen beim Beispiel der F i g. 6
90°, 82,5° (Fig. 5) bzw. 75= (F ig. 4), bei Beugungswinkeln
der gleichen Größenordnung. Die Veränderung der Gitterkonstanten des Beugungsgitters wird hervorgerufen
durch eine Änderung der Intensiiät bzw. Stärke des elektrischen Feldes, in dem der piezoelektrische Träger
angeordnet ist. Um ein Platzen oder Brechen der Keramik zu verhüten, wird diese Veränderung auf die
Kurvenabschnitte A-A' beschränkt.
Die Abmessungen des Beugungsgitters können beliebig gewählt sein. Bei diesem Beispiel wird eine
dünne Platte oder Lamelle aus Keramik PTZ 5H mit einer Dicke von 1 mm und einem Durchmesser von
25 mm benutzt. Die Gitterkonstante belügt b00 Striche/mm, und man arbeitet in der fünften Ordnung.
liier/u 2 IJImII
Claims (7)
1. Beugungsgitter, das an einem zu piezoelektrischer Wirkung fähigen Träger angebracht ist, bei
dem zwei einander abgewandte Flächen mit elektrisch leitenden Armaturen versehen sind, wobei
durch Anlegen einer veränderlichen Spannung zwischen diese Armaturen ein elektrisches Feld
veränderlicher Stärke erzeugt wird, das durch piezoelektrische Wirkung eine entsprechende Veränderung
der Gitterkonstanten hervorruft, dadurch
gekennzeichnet, daß das Gitter (4; 6) an einer(lty der genannten zwei Flächen (la, lindes
Trägers (1) angebracht ist
2. Beugungsgitter nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Gitter (4; 6) in einer Schicht
(3; 5) ausgebildet ist, die an einer (linder genannten
zwei Flächen (la, 1 Raufgebracht ist.
3. Beugungsgitter nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht (3) eine metallische
Auflage ist, die eine der genannten Armaturen bildet und in die das Gitter (4) eingraviert ist.
4. Beugungsgitter nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht (5) aus phoiopolymerisierbarem
Harz besteht.
5. Beugungsgitter nach Anspruch I, 2 und 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Gitter (6) mit einer
metallischen Auflage (7) überdeckt ist, die eine der genannten Armaturen bildet.
6. Beugrngsgitter nach einem der Ansprüche 1 bis
5, dadurch gekennzeichnet daß eine der Armaturen durch eirte metallische Aufluge (2) gebildet ist, die auf
der Fläche (\a) des Trägers (1) aufgetragen ist, welche der das Gitter (4; 6) .ragenden Fläche (\b)
abgewandt ist.
7. Beugungsgitter nach einem der Ansprüche 1 bis
6, dadurch gekennzeichnet, daß die Armaturen (23; 2,7) über elektrisch leitende Verbindungen (9, 10) an
eine Quelle (8) elektrischer Energie angeschlossen sind.
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