DE2440486B2 - Optisches Speichermaterial mit einer Speicherschicht, deren Struktur durch äußere Strahlung veränderbar ist - Google Patents
Optisches Speichermaterial mit einer Speicherschicht, deren Struktur durch äußere Strahlung veränderbar istInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein optisches Speichermaterial mit einer Speicherschicht, deren Struktur durch äußere
Strahlung veränderbar ist, für permanente punktweise bzw. holographische Speicherung von Informationen,
wobei das Speichermaterial drei Schichten aufweist, von denen eine Schicht, z. B. durch Materialverdampfung,
optisch erkennbar geändert wird.
Unter einem optischen Speichermateria! versteht man ein Material, in dem unter Lichteinwirkung eine
Änderung eines physikalischen Parameters (z. B. der Absorption oder des Brechungsindizes) erzeugt werden
kann, die zumindest einige Minuten lang erhalten bleibt und die zum Auslesen durch erneute Belichtung erkannt
werden kann.
Wenn es möglich ist die Zustandsänderung wieder rückgängig zu machen, ohne das Material zu zerstören,
spricht man von löschbarer Speicherung. Die Speicherung heißt nichtlöschbar oder permanent, wenn die
erzeugte Änderung ohne Zerstörung des Materials nicht is wieder verschwindet.
In einem solchen Schreib-Lese-Material kann die Information beliebig oft ausgelesen werden. Schreib-Lese-Speichermaterialien
werden vor allem für Festkörper in Computern (programmable readonly memory)
oder zu Archivierungszwecken verwendet. Sie können jedoch auch dann vorteilhaft zur zeitlich
begrenzten Zwischenspeicherung eingesetzt werden, wenn sie in großen Mengen und preisgünstig zur
Verfügung stehen und leicht ausgewechselt werden können.
Aus der DE-OS 15 74 687 sind die einleitend erwähnten optischen Speicherschichten bekannt Jedoch
werden hier die Strukturänderungen durch den Laserstrahl selbst erzeugt, was auch für den aus der
DE-OS 20 26 805 bekannten Aufzeichnungsträger gilt.
Lichtempfindlichere Photoplatten benötigen andererseits einen komplizierten Entwicklungs- und Fixierungsprozeß und scheiden daher für praktische Anwendungen
in Datenspeichern aus.
Die Erfindung baut auf den bekannten optischen Speicherverfahren auf, nämlich auf der durch Lichteinwirkung
erzeugten Abtragung bzw. Verdampfung von dünnen Metallschichten. Wie in »Appl. Phys.Lett. 15,45
(1969): J. J. Amodei, R. S. Mezrich, Holograms in thin bismuth films« erläutert, geht der Speichervorgang
so vor sich, daß durch eine kurzzeitige aber sehr intensive Beleuchtung mit einem Laserstrahl eine dünne
Metallschicht lokal so stark erhitzt wird, daß sie teilweise oder ganz verdampft. Dieses Verfahren eignet
sich sowohl für die punktweise als auch für die holographische Speicherung.
Der Vorteil der bekannten Verfahren liegt darin, daß nach dem innerhalb von wenigen Mikrosekunden
erfolgten Verdampfungsvorgang ohne jeden Entwicklungs- oder Fixierungsproezß die Information permanent
gespeichert ist und sofort ausgelesen werden kann. Nachteilig ist jedoch, daß eine hohe Laserleistung zum
Verdampfen benötigt wird. Laser hoher Leistung aber sind teuer und für praktische Anwendungen in
Datenspeichern zu kompliziert.
Aufgabe der Erfindung ist es, intensitätsschwache Lichtquellen bzw. Laser verwenden und sehr definierte
kleine Punkte, d. h. Speicherzellen erzeugen zu können.
Gelöst wird diese Aufgabe dadurch, daß eine photoleitende Schicht zwischen Deckschichten angeordnet
ist, deren eine die Speicherschicht ist, deren Struktur bei örtlicher Belichtung der photoleitenden
Schicht durch einen zwischen den Deckschichten an dieser Stelle möglichen und erzeugten exzessiven
h5 Wärmestrom, z. B. durch Materialverdampfung geändert
wird.
Die Lagerung des Speichermaterials sowohl vor als auch nach dem Schreibvorgang ist völlig unkritisch.
'Durch die Parameter-Steuerung ist auch eine Lagerung
bei starker Beleuchtung möglich. Ferner ist das Speichermaterial homogen, und die Herstellung ist mit
einfachen und bekannten Technologien möglich, wobei die Lichtempfindlichkeit Werte erreicht, die mit denen
von Photoplatten vergleichbar ist
Bei dem in der Zeichnung schematisch dargestellten Ausführungsbeispiel eines Materialschichtaufbaues
kann der Einschreibvorgang folgendermaßen verlaufen:
Zunächst wird an einer Stelle 1, wo Material einer absorbierfinden Schicht 2 verdampft werden soll, eine
photoleitende Schicht 3 belichtet. In diesem Bereich 1' wird dann die photoleitende Schicht 3 elektrisch leitend,
während die unbelichteten Bereiche einen hohen Widerstand aufweisen. In diesem Zustand wird über
eine transparente Schicht 4 und die Speicherschicht 2 ein kurzer kräftiger Stromimpuls aus einer Stromquelle
5 zugeführt Dieser bewirkt eine Erhitzung der photoleitenden Schicht 3 und der Schicht 2 an der
beleuchteten Stelle 1. Bei genügend großem Temperaturanstieg erreicht man, daß die angrenzende
Speicherschicht 2 an dieser Stelle örtlich verdampft. Dabei liegt der Schmelzpunkt der photoleitenden
Schicht 3 weit über dem Verdampfungspunkt der Speicherschicht 2.
Mit diesem Verfahren wird die Erhöhung der Lichtempfindlichkeit also dadurch erreicht, daß die zum
Erhitzen benötigte Energie nicht aus dem Laserlicht, sondern aus einer Stromquelle 5 bezogen wird. Eine
Stromquelle entsprechender Leistung ist natürlich einfacher und billiger zu realisieren als ein Laser hoher
Leistung. In einer praktischen Realisierung kann z. B. die Speicherschicht 2 aus einer dünnen Schicht aus
Wismut, Indium oder Zink, die photoleitende Schicht 3 aus Cadmiumsulfid oder Selen und die Transparente,
einem Substrat 7 aufliegende Schicht 4 in bekannter Weise aus einem Gemisch von Zinndioxyd und Indium
bestehen. Mit Cadmiumsulfid-Photoleitern lassen sich Lichtempfindlichkeiten erreichen, die mit der Lichtempfindlichkeit
von Photoplatten vergleichbar sind. Zum Beispiel reicht für das Schalten von dünnen Cadmiumsulfid-Photoleiterschichten
eine Energie von 10~2 Wsec/mm2 aus, was bedeutet, daß z. B. ein Punkt von
10 μπι Durchmesser durch einen fokussierten Laserstrahl
mit nur einem Mikrowatt Leistung innerhalb einer
Belichtungszeit von 100 μsec in den leitfähigen Zustand
geschaltet werden kann. Zum Verdampfen von dünnen Wismutschichten genügt, wie experimentell ermittelt
wurde, etwa eine Energie von 1 mj/mm2. Diese muß du'ch den Stromimpuls innerhalb etwa einer Mikrosekunde
zugeführt werden, um ein Auseinanderfließen der erzeugten Wärme zu verhindern. Für die Verdampfung
eines Bereichs von 10 μπι hat damit die Stromquelle
eine Leistung von etwa 10 mW zur Verfügung zu stellen. Diese Leistung kann ohne Schwierigkeiten durch eine
Stromquelle geliefert werden, die ebenfalls Impulse abgibt, deren Frequenz der Schreibfrequenz des
Laserstrahls entspricht.
Die Speicherschicht 2 kann prinzipiell auch aus anderen Materialien bestehen, in denen durch thermische
Energie eine bleibende Zustandsänderung erzeugt werden kann, die optisch erkennbar ist Optisch
erkennbar bedeutet aber, daß eine Änderung der Absorption, der Reflektion oder des Brechungsindex
erzielt werden muß. Zum Beispiel können dünne Farbstoffschichten benutzt werden, die ihre Farbe durch
kurzzeitige Erhitzung verändern (z. B. durch chemische Oxydation usw.). Farbstoffe, die derartige Umschlagpunkte
besitzen, werden z. B. für Temperaturmeßzwekke benutzt. Auch kann z. B. an dünne kristalline oder
amorphe Schichten gedacht werden, die unter Wärmeeinfluß ihre Struktur ändern, z. B. von kristallin in
amorph oder umgekehrt Ein solches Material ist z. B. aufgedampftes Arsentrisulfid. Auch könnte ein »damage«-Effekt
in Phosphoren ausgenutzt werden. Phosphore besitzen besonders niedrige Schmelz- und Verdampfungspunkte.
Bei der Verwendung eines elektrisch nichtleitenden Materials kann es erforderlich sein, daß eine weitere
elektrisch leitende und transparente Schicht zwischen der photoleitenden Schicht und der Speicherschicht
angeordnet werden muß, um die elektrische Energie zuzuführen. Es ist jedoch auch eine kontaktlose
Energiezuführung mit Hilfe von elektromagnetischer Strahlung höherer Frequenz denkbar. Zum Beispiel
könnte auch das Licht schaltbare Verlustwärme im Photoleiter auch durch eine ihn jeweils durchstrahlende
Mikrowelle im Sinne einer gebündelten HF-Erhitzung erzeugt werden.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (9)
1. Optisches Speichermaterial mit einer Speicherschicht,
deren Struktur durch äußere Strahlung veränderbar ist, für permanente punktweise bzw.
holographische Speicherung von Informationen, wobei das Speichermaterial drei Schichten aufweist,
von denen eine Schicht, ζ. Β. durch Materialverdampfung,
optisch erkennbar geändert wird, dadurch gekennzeichnet, daß eine photoleitende
Schicht (3) zwischen Deckschichten (2, 4) angeordnet ist, deren eine die Speicherschicht (2) ist,
deren Struktur (1) bei örtlicher Belichtung der photoleitenden Schicht (3) durch einen zwischen den
Deckschichten (2,4) an dieser Stelle möglichen und erzeugten exzessiven Wärmestrom, z. B. durch
Materialverdampfung geändert wird.
2. Optisches Speichermaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß an die elektrisch
leitfähigen Deckschichten (2,4) eine Stromquelle (5)
zur Erzeugung des exzessiven Wärmestromes angelegt ist und über die photoleitende Schicht (3)
ein Laserstrahl (6) zur Einleitung des örtlichen Wärmestromflusses geführt ist.
3. Optisches Speichermaterial nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine impulsartige
Stromquelle angelegt ist, deren Impulsfrequenz der Schreibfrequenz des Laserstrahls entspricht.
4. Optisches Speichermaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die photoleitende
Schicht (3) für kontaktlose Mikrowellenerhitzung ausgebildet ist und die örtliche Erhitzung der
Speicherschicht (2) durch einen Laserstrahl (6) einleitbar ist
5. Optisches Speichermaterial nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet,
daß zusätzliche elektrisch leitende transparente Schichten zwischen photoleitender Schicht (3) und
Speicherschicht (2) angebracht sind.
6. Optisches Speichermaterial nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet,
daß die absorbierende Speicherschicht (2) aus Wismut, Indium oder Zink, die photoleitende Schicht
(3) aus Cadmiumsulfid oder Selen und die transparente Schicht (4) aus einem Gemisch von Zinndioxyd
und Indium bestehen.
7. Optisches Speichermaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß als
Speicherschicht (2) eine Farbstoffschicht verwendet ist, deren Farbe temperaturabhängig umschlägt.
8. Optisches Speichermaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß als
Speicherschicht (2) eine kristalline oder amorphe Schicht verwendet ist, deren Struktur sich temperaturabhängig
irreversibel ändert, z. B. Arsentrisulfid.
9. Optisches Speichermaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß als
Speicherschicht (2) eine Phosphorschicht verwendet ist
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE2440486A DE2440486C3 (de) | 1974-08-23 | 1974-08-23 | Optisches Speichermaterial mit einer Speicherschicht, deren Struktur durch äußere Strahlung veränderbar ist |
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DE2440486A DE2440486C3 (de) | 1974-08-23 | 1974-08-23 | Optisches Speichermaterial mit einer Speicherschicht, deren Struktur durch äußere Strahlung veränderbar ist |
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DE2440486B2 true DE2440486B2 (de) | 1978-05-11 |
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Family Applications (1)
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DE2440486A Expired DE2440486C3 (de) | 1974-08-23 | 1974-08-23 | Optisches Speichermaterial mit einer Speicherschicht, deren Struktur durch äußere Strahlung veränderbar ist |
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Country | Link |
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DE (1) | DE2440486C3 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0415764A2 (de) * | 1989-08-30 | 1991-03-06 | Hoechst Celanese Corporation | Tunnel-Rastermikroskop-Speicher unter Verwendung der Fluoreszenz eines Substrates zur Wiedergabe |
EP0415763A2 (de) * | 1989-08-30 | 1991-03-06 | Hoechst Celanese Corporation | Tunnelrastermikroskop unter Verwendung von optischer Fluoreszenz zur Wiedergabe |
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-
1974
- 1974-08-23 DE DE2440486A patent/DE2440486C3/de not_active Expired
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0415764A2 (de) * | 1989-08-30 | 1991-03-06 | Hoechst Celanese Corporation | Tunnel-Rastermikroskop-Speicher unter Verwendung der Fluoreszenz eines Substrates zur Wiedergabe |
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EP0415763A3 (en) * | 1989-08-30 | 1991-10-02 | Hoechst Celanese Corporation | Scanning tunneling microscope utilizing optical fluorescent for reading |
EP0415764A3 (en) * | 1989-08-30 | 1991-10-02 | Hoechst Celanese Corporation | Scanning tunneling microscope memory utilizing optical fluorescence of substrate for reading |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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DE2440486C3 (de) | 1979-01-04 |
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