DE2354719A1 - Anordnung zur temperaturstabilisierung - Google Patents
Anordnung zur temperaturstabilisierungInfo
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Description
" LIGENT IA
Patent-Verwaltungs-GmbH ·.
6000 Prankfurt (Main)-. 7O1 Theodor-Stern-Kai-Ί
Patent-Verwaltungs-GmbH ·.
6000 Prankfurt (Main)-. 7O1 Theodor-Stern-Kai-Ί
Ulm (Donau), 2p. Oktober 1973
PT-UL/Kö/rß UL 75/127
"Anordnung zur Temperaturstabilisierung"
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Temperaturstabilisierung
von auf einem nichtleitenden Träger nach Art einer
Dickfilm- oder Dünnfilmtechnik aufgebrachten elektrischen
Bauelementen,
Dickfilm- oder Dünnfilmtechnik aufgebrachten elektrischen
Bauelementen,
Bei vielen elektrischen Schaltungen ist es vorteilhaft, die
Bauteiletemperaturen konstant zu halten, um die Betriebs—
parameter der einzelnen Komponenten zu stabilisieren. Besonders angebracht ist eine Temperaturstabilisierung bei frei-
parameter der einzelnen Komponenten zu stabilisieren. Besonders angebracht ist eine Temperaturstabilisierung bei frei-
und - _
schwingenden Oszillatoren im UKW-ilikrovrellenbereich, da
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— ρ —
- 2 - UL 73/127
alle bekannten Bauelemente» die zur Erstellung eines Oszillators notwendig sind, in ihren.···Eigenschaften temperaturabhängig
sind, und somit die Frequenz des Oszillators beeinflussen, Bisher hat man dazu alle Bauelemente eines Oszillators
in einem Gehäuse angeordnet, dessen Innentemperatur temperatnrrstabilisiert wurde. Dieser Aufwand ist recht hoch,
und beeinflußt den Preis einer solchen Anordnung.
Aus der DT-AS 1 002 471 ist eine elektronische Vorrichtung
mit einem Halbleiter, z. B. einem Transistor oder einer Germaniumdiode, der an der Innenwand des den Halbleitereinschließenden
Gehäuses untergebracht ist, bekannt, bei der ein oder mehrere einen Peltiereffekt hervorrufende Leiterpaare
zwecks Kühlung des Gehäuses und des Halbleiters in thermischen Kontakt mit der betreffenden Wand stehen. In
einer solchen Anordnung kann eine effektvolle Kühlung des Halbleiterelements erreicht werden, jedoch erst bei grösseren
Strömen. Dabei soll der Halbleiterstrom gleichzeitig als Versorgungsstrom für das Peltierelement ausgenutzt werden. Bei höheren Frequenzen ist damit eine solche Anordnung
nicht einsetzbar, da die Peltierstruktur Tiefpaßcharakter
hat. Außerdem ist eine spezielle Gestaltung des Halbleiter-
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λ 235 kl 1.9
-3 - ■'.... ..HL· 73/1-27 '
gehäuses erforderlich. . . . : - ;
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine
Anordnung zur Temperaturstabilisierung zu schaffen, mit der
nicht nur ein einzelnes Bauelement, sondern eine ganze Schaltung
temperaturkonsjfeant gehalten werden kann. Bei einer Anordnung
der Eingangs genannten Art wird: diese Aufgabe gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß auf der den Bauelementen
abgewandten Seite des Trägers ein Heizkörper angeordnet ist,
dessen Erwärmung regelbar ist. Vorzugsweise "besteht der Heizkörper
aus einer auf dem Träger aufgebrachten niederohmigen
ViderStandsschicht, die vorteilhaft in Bahnen/etwa mäanderförmig,verlegt
ist. Mit einer" solchen Anordnung wird eine gleichmäßige Erwärmung de s die ge samte Schaltung tragenden
Substrats erreicht.. Auf diesem kann ein Temperaturfühler :
angeordnet werden, mit dessen Hilfe die -Wärmeentwicklung
des Heizkörpers steuerbar ist. So ist es denkbar, mittels
des Temperaturfühlers den Stromdurchgang durch die Widerstandsschicht zu beeinflussen, womit die Wärmeleistung regelbar
ist. Wenn es darauf ankommt, nur.einen Teil des Substrats
in der Temperatur zu stabilisieren, dann kann der
Heizkörper auch nur auf einem Teil der Trägeroberfläche vorgesehen werden. Durch entsprechende Ausbildung der Wider-
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- M- - UL 73/127
es
stan&sschicht ist/auch, möglich» lokal wählbare Temperaturen einzustellen. Ein weiterer Vorteil der erfindungsgemäßen Anordnung ist darin begründet, daß "bei kleinerem Raumbedarf
gegenüber herkömmlichen Anordnungen kürzere Kegelzeiten erreicht werden. Außerdem können durch eine geeignete Struktur der Heizschicht bereits bestehende Wärmequellen»wie etwa Transistoren oder Widerstände, umgangen werden. Hervorzuheben ist außerdem die einfache und billige Herstellungsmöglichkeit in Siebdrucktechnik bei guter Reproduzierbarkeit bei Serienproduktion.
stan&sschicht ist/auch, möglich» lokal wählbare Temperaturen einzustellen. Ein weiterer Vorteil der erfindungsgemäßen Anordnung ist darin begründet, daß "bei kleinerem Raumbedarf
gegenüber herkömmlichen Anordnungen kürzere Kegelzeiten erreicht werden. Außerdem können durch eine geeignete Struktur der Heizschicht bereits bestehende Wärmequellen»wie etwa Transistoren oder Widerstände, umgangen werden. Hervorzuheben ist außerdem die einfache und billige Herstellungsmöglichkeit in Siebdrucktechnik bei guter Reproduzierbarkeit bei Serienproduktion.
Die Erfindung sei anhand der in den Zeichnungen dargestellten
Ausführungsbeispiele näher erläutert.
Figur 1 zeigt einen Aufbau einer Schaltung in Dünn- oder
Dickfilmtechnik ohne Rückleiter auf der Gegenseite des Substrats , bei der die Erfindung Anwendung finden kann. Figur2 zeigt einen ähnlichen Aufbau jedoch in Mikrostriptechnik,
bei den die Erfindung Anwendung finden kann.
Dickfilmtechnik ohne Rückleiter auf der Gegenseite des Substrats , bei der die Erfindung Anwendung finden kann. Figur2 zeigt einen ähnlichen Aufbau jedoch in Mikrostriptechnik,
bei den die Erfindung Anwendung finden kann.
Die Figuren 3 und M- zeigen Schaltbilder für die temperaturregelung
mit Hilfe der Heizschicht, die Figuren 5, 6, 7 und 8 zeigen in Draufsicht vorteilhafte .Strukturen für eine Heiz-
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- 5 - UL.73/127"
schicht "bei einer Anordnung gemäß der Erfindung.
Bei einer Dünn- oder Dickfilmschaltung gemäß Figur 1 sind
auf einem isolierenden Träger 3» Bauelemente 1, z. B. Chipkondensatoren^und
Leiterbahnen 2 aufgebracht. Die Bauelemente 1 sollen in ihrer Temperatur stabilisiert werden. Zu
diesem 2weck ist auf der Rückseite, das heißt der den Bauelementen
1 angewandten Seite des Trägers 3 ei^e Heizschicht
4- angeordnet, die eine Temperatur erzeugt, welche regelbar
ist. Ein Aufbau in Mikrostriptechnik gemäß Figur 2 unterscheidet
sich vom vorgenannten Beispiel nur dadurch, daß auf der Unterseite des Trägers 3, cLsls heißt der dem Bauelement Λ gegenüberliegenden Seite des Trägers 3;eine metallische Schicht
6 angebracht ist. Wird bei 'einem solchen Aufbau eine Heizschicht 4- gemäß der vorliegenden Erfindung angebracht, so
ist durch eine zwischen der Metallschicht-6 und der Heizschicht
4 angeordnete Isolierschicht 5 dafür Sorge zu tragen,
daß es zwischen der Heizschicht 4 und der" Metallschicht
6 keinen Kurzschluß gibt.
Die Temperaturregelung kann .auf aktive oder passive Art erfolgen.
Dies sei an Hand der Figuren ^-irnä. 4 näher erläutert.
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- 6 - UL 73/127
Bei der passiven Regelung (Fig. 3) werden außer der Widerstandsschicht
E^ ein oder mehrere Kaltleiter Ep ebenfalls auf
der Rückseite des Trägers 3 aufgebracht. Diese sind mit der Viderstandsschicht E^ in Serie geschaltet. Da ein Kaltleiter
einen mit steigender Temperatur höheren Widerstand annimmt, kann er zur Stromherabsetzung des Heizkreises dienen und für
konstante Temperatur des Trägers 3 sorgen. Bei den heute -verwendeten
Widerstandspas.ten ist gewährleistet, daß IL von der
Temperatur nahezu unabhängig ist. Bei einer aktiven Eegelung (Fig. 4) werden an einer oder mehreren Stellen NTC-Widerstände
aufgedruckt, die ihren Widerstand mit steigender Temperatur verkleinern . Hierdurch läßt sich z. B. der Arbeitspunkt
eines Transistors, dessen Basisspannungsteiler einen NTC-Widerstand
enthält, verschieben. Die am Kollektor des Transistors auftretende Spannungsänderung kann Je nach Bedarf verstärkt
und darm eihem Eegeltransistor E zugeführt werden. In den Figuren
3 und 4- ist Ug jeweils die Versorgungsspannungsquelle
für den Heizkreis.
Bei beiden Eegelmethoden können die temperaturabhängigen Widerstände
in mehrere Teilwiderstände aufgeteilt werden. Die Formgebung der Widerstandsschicht kann den jeweiligen Erfor-
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-7 -. ; ' til 73/127
dernissen angepaßt werden. So zeigt z. B. Figur 5 eine gleichmäßige Belegung mit einer Heizwiderstandsscüicht 4a, die von
zwei Kaltleiterschichten 4b eingerahmt ist. Figur 6 zeigt eine
gleichmäßige Belegung mit einem NTC-Widerstand 4b, eingerahmt von der Heizwiderstandsschicht 4a.. Die Figur 7 zeigt
eine Mäanderbelegung des Substrats unter Berücksichtigung
zusätzlicher Wärmequellen 4c. Figur 8 schließlich zeigt eine gleichmäßige Belegung mit einer Aussparung in der Heizschicht 4a in der Umgebung der Wärmequelle 4c. .
Zur Erhöhung der Kurzzeitstabilität kann ein zusätzliches
Gehäuse von Vorteil sein* Dieser Aufwand wird Jedoch nur in
Extremfällen getrieben werden. Es muß dann dafür gesorgt werden,
daß die der Schaltung eigenen Wärmequellen,- wie Transistoren, Widerstände und mit die elektrischen Verlusten behafteten
Bauteile, nicht ausreichen, den Träger hoher.als die Solltemperatur des Heizkreises zu erwärmen, damit für die—Temperaturregelung noch genügend Reserve vorhanden ist.
- 8 —
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Claims (6)
1. /Anordnung zur Temperaturstabilisierung von auf einem nichtleitenden Träger nach Art einer Dickfilm·^ oder Dunnfilmtechnik
aufgebrachten elektrischen Bauelementen, dadurch gekennzeichnet,
daß auf der den Bauelementen abgewandten Seite des Trägers ein Heizkörper angeordnet
ist, dessen Erwärmung regelbar ist.
2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
der Heizkörper aus einer auf dem Träger aufgebrachten niederohmigen
Viderstandsschicht besteht.
3. Anordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Widerstandsschicht in Bahnen vorzugsweise mäanderförmig
aufgebracht ist.
4. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
auf dem Träger eine Temperaturfühler angeordnet ist, mit dessen Hilfe die Wärmeentwicklung des Heizkörpers steuerbar
ist.
- 9 509820/0.475
- 9--■"". UL 73/127
5. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
ein Heizkörper nur auf einem Teil der Trägeroberfläche vorgesehen ist.
6. Anordnung nach Anspruch 2, dadurchι gekennzeichnet, daß
die Viderstandsschicht eine solche vom Kaltleitertyp ist.
509820/0475
Leerseite
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19732354719 DE2354719A1 (de) | 1973-11-02 | 1973-11-02 | Anordnung zur temperaturstabilisierung |
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