DE2326334B2 - Photographic material with an antistatic, electrically conductive metal layer - Google Patents

Photographic material with an antistatic, electrically conductive metal layer

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Description

Die Erfindung betrifft ein photographisches Material nit einem hydrophoben dielektrischen Schichtträger, liner antistatisch wirkamen, elektrisch leitfähigen t/lctallschicht mit einem Oberfläehenwiderstand von veniger als 10'-' Ohm pro Quadrat, die durch Oxidation η eine vergleichsweise weniger leifühigc Schicht einer 'ergleichsweise geringeren optischen Dichte überführen" ist, mindestens einer strahlungsempfindlichen Schicht sowie gegebenenfalls Haft-, Zwisehen- und/oder Deckschichten.The invention relates to a photographic material with a hydrophobic dielectric layer support, liner antistatic, electrically conductive metallic layer with a surface resistance of less than 10'- 'ohms per square caused by oxidation η a comparatively less conductive layer 'transfer comparatively lower optical density " is, at least one radiation-sensitive Layer and optionally adhesive, intermediate and / or cover layers.

Es ist bekannt, daß in photogruphischen Aufzeichnungsmaterialien mit mindestens einer strahlungsempfindlichen Emulsionsschicht, die auf einem dielektrischen Schichtträger angeordnet ist, die Anhäufung statischer Ladungen auf dem Schichtträger zu unerwünschten Effekten führen kann, wenn eine Entladung erfolgt, wobei die unerwünschten Effekte in der Regel in einer Verschleierung der Emulsionsschicht in der Umgebung der Entladung bestehen. Die Anhäufung statischer Ladungen wirkt sich insbesondere im Falle von Rollfilmen nachteilig aus, welche keine Gelatine-Schutzschichten oder Papierzwischenschichten aufweisen, was häufig der Fall bei Rollfilmen ist, die ein besonders geringes Gewicht aufweisen sollen, oder im Falle von Rollfilmen, die für einen Schnellentwicklungsprozcß bestimmt sind.It is known that in photographic recording materials with at least one radiation-sensitive emulsion layer which is deposited on a dielectric Layer support is arranged, the accumulation of static charges on the layer support undesirable Effects can result if a discharge occurs, the undesirable effects usually being in consist of obscuring the emulsion layer in the vicinity of the discharge. The accumulation Static charges have a particularly disadvantageous effect in the case of roll films which do not have protective gelatin layers or have intermediate paper layers, which is often the case with roll films that contain a should have particularly low weight, or in the case of roll films, for a fast development process are determined.

Es ist daher allgemein bekannt, z. B. aus dem Buch von P. Glafkides, »Photographic Chemistry«, Verlag Fountain Press, London, Band I, 1958, Seile 473, photographische Aufzeichnungsmaterialien durch Zusatz von antistatisch wirksamen organischen Verbindungen oder anorganischen Salzen antistatisch auszurüsten. It is therefore well known, e.g. B. from the book by P. Glafkides, "Photographic Chemistry", Verlag Fountain Press, London, Volume I, 1958, Seile 473, to make photographic recording materials antistatic by adding antistatic organic compounds or inorganic salts.

Es ist ferner bekannt, z. B. aus der GB-PS i 09 659, zur Ableitung elektrostatischer Ladungen oder zur Verhinderung der Ausbildung elektrostatischer Ladungen auf dielektrischen photographischen Schichtträgern dünneIt is also known e.g. B. from GB-PS i 09 659, thin to dissipate electrostatic charges or to prevent the formation of electrostatic charges on dielectric photographic substrates

JO Metallschichten zu verwenden, die eine ausreichend hohe Leitfähigkeit aufweisen, um die Ausbildung hoher lokalisierter statischer Ladungen zu verhindern. Gegenüber der Verwendung von organischen Verbindungen und anorganischen Salzen haben derartige dünneJO metal layers to be used, which one is sufficient have high conductivity to prevent the build-up of high localized static charges. Opposite to the use of organic compounds and inorganic salts have such thin

i'y Metallschichten zwei wesentliche Vorteile. Einmal ist ihre antistatische Wirksamkeil beträchtlich größer und zum anderen ist ihre Wirksamkeit im Gegensatz zur Wirksamkeit der organischen Verbindungen und anorganischen Salze feuchtigkeitsunabhängig, so daß i'y metal layers have two major advantages. On the one hand, their antistatic effective wedge is considerably greater and, on the other hand, their effectiveness, in contrast to the effectiveness of organic compounds and inorganic salts, is independent of moisture, so that

κι sie ihre Wirkung auch in äußerst trockener Atmosphäre entfalten können. Nachteilig an den metallischen antistatischen Schichten ist jedoch, daß sie, wenn sie in Form dünner Schichten einer Dicke von weniger als einigen wenigen 100 Α-Einheiten verwendet werden,κι they can develop their effect even in an extremely dry atmosphere. The disadvantage of the metallic Antistatic layers, however, is that when they are in the form of thin layers of a thickness of less than a few 100 Α units are used,

•r> leicht beim Aufbewahren oxidiert werden, so daß ihre Leitfähigkeit und somit ihre antistatischen Eigenschaften rasch verlorengehen. Wird demgegenüber eine solche Metallschicht in einer ausreichenden Dicke erzeugt, um eine Abnahme der Leitfähigkeit zu• r> easily oxidized during storage, so their Conductivity and thus its antistatic properties are quickly lost. In contrast, it becomes a such a metal layer is produced in a thickness sufficient to cause a decrease in conductivity

w vermeiden, so führt diese erhöhte Dicke zu einem unerwünschten Anstieg der optischen Dichte. Des weiteren hat sich gezeigt, daß manche Metalle mit photographischen Schichten unter einer Verschleierung Metalle und Desensibilisierung der Schichten reagierenAvoid w, this increased thickness leads to an undesirable increase in optical density. Of It has also been shown that some metals with photographic layers under a fog Metals and desensitization of the layers react

Vt und daß einige Metalle, ζ. B. Wismut und Mangan, in unerwünschter Weise mit den Schichtlrägern reagieren können. Ein weiterer Nachteil der Verwendung metallischer, antistatisch wirksamer Schichten besteht darin, daß, wird ein Schichtträger mit einer frisch darauf Vt and that some metals, ζ. B. bismuth and manganese can react in an undesirable manner with the layer supports. Another disadvantage of using metallic, antistatic layers is that, if a layer support is freshly on it

W) niedergeschlagenen antistatischen Metallschicht aufgespult, die Metallschicht häufig auch an der anderen Seite des Schichtträgers anhaftet, so daß die Metallschicht zu einem Blockieren führen kann, d. h. einer Verhinderung eines störungsfreien Abspulens des Filmschichtlrägers.W) coiled down antistatic metal layer, the metal layer often adheres to the other side of the substrate, so that the metal layer too can lead to blocking, d. H. a prevention of trouble-free unwinding of the film support.

hri wobei die Metallschicht beim Abspulen oftmals von einer Seite des Schichtträgers auf die andere Seite übertragen werden kann.h r i whereby the metal layer can often be transferred from one side of the substrate to the other side during unwinding.

Ks ist des weiteren bekannt, die verschiedenstenKs is also known to be the most diverse

optischen Artikel, ζ. I). Linsen und l.insensysieme. Fenster und Windschutzscheiben, unter Verwendung von Metall- und Melallhaiogenidsehichlen herzustellen. So ist es beispielsweise aus der US-PS 33 30 681 bekannt, die Reflexion von plastischen optischen Gegenständen durch Verwendung einer Metallschicht i;nd einer Metallhalogenidschichl zu vermindern. Aus üer US-PS 28 "32 41 "3 ist es des weiteren bekannt, durch inniges Vermischen von Metallen und Metall.'ialogei ':- den Schichten auf Kieselsäure- oder Silikat-Oberflächen /u erzeugen, die eine erwünschte Leitfähigkeil aufweisen und auf den Oberflächen haften.optical article, ζ. I). Lenses and l.insensysieme. Windows and windshields, made using metal and melal halide sharks. For example, it is known from US-PS 33 30 681, the reflection of plastic optical Objects by using a metal layer and a metal halide layer. the end üer US-PS 28 "32 41" 3 it is also known by Intimate mixing of metals and metal. 'Dialogei': - the layers on silica or silicate surfaces / u that have a desired conductivity wedge and adhere to the surfaces.

Aufgabe der Erfindung war es, ein photographisches Aufzeichnungsmaterial mit einer zur Ableitung elektrostatischer Ladungen bestimmten Metallschicht anzugeben, dessen Metallschicht sieh (a) bei der Lagerung nicht oxidiert, jedoch (b) bei der Entwicklung des Materials durch Oxidation in eine Schicht von vergleichsweise geringer Dichte überführt wird.The object of the invention was to provide a photographic recording material with an electrostatic discharge Specify charges specific metal layer, whose metal layer does not see (a) during storage oxidized, however (b) in the development of the material by oxidation into a layer of comparatively low density is transferred.

Der Erfindung lag die Erkenntnis zugrunde, daß die gesiellle Aufgabe mil einem Sclticltlensyslcni gelöst werden kann, das mindestens aus zwei Schichten besteht, nämlich mindestens einer elektrisch leillähigen Metallschicht, die durch Oxidation in einen weniger leitfähigen, optisch weniger dichten Zustand überführt werden kann und einer schützenden Metallfluoridschicht, welche die Oxidation der elektrisch leitfähigen Schicht in der Atmosphäre verhindern oder mindestens vermindern kann und welche für oxidierende wäßrige Lösungen permeabel isi und somit die Oxidation der elektrisch leitfähigen Schicht ermöglicht.The invention was based on the knowledge that the All tasks are solved with one system that consists of at least two layers, namely at least one electrically conductive Metal layer which is transformed into a less conductive, less optically dense state through oxidation can be and a protective metal fluoride layer, which the oxidation of the electrically conductive Can prevent or at least reduce layer in the atmosphere and which for oxidizing aqueous Solutions are permeable and thus enable the oxidation of the electrically conductive layer.

Gegenstand der Erfindung ist somit ein phoiographisches Material mit einem hydrophoben dielektrischen Schichtträger, einer antistatisch wirksamen, elektrisch leitfähigen Metallschicht mit einem Oberflächenwiderstand von weniger als 10'-' Ohm pro Quadrat, die durch Oxidation in eine vergleichsweise weniger leitfähige Schicht einer vergleichsweise geringeren optischen Dichte überführbar ist, mindestens einer strahlungsempfindlichen Schicht sowie gegebenenfalls Haft-, Zwischen- und/oder Deckschichten, das dadurch gekennzeichnet ist. daß mindestens die dem Schichtträger abgewandte Seite der elektrisch leitfähigen Schicht mit einer für oxidierende wäßrige Lösungen pcrmeablen Schutzschicht aus Magnesium-, Calcium-, Barium-, Cerium- oder Natriumaluminiumfluoridschicht bedeckt ist.The subject of the invention is thus a photographic one Material with a hydrophobic dielectric layer support, an antistatic, electrically conductive metal layer with a surface resistance of less than 10'- 'ohms per square passing through Oxidation into a comparatively less conductive layer of a comparatively less optical one Density can be transferred, at least one radiation-sensitive layer and, if necessary, adhesive, intermediate and / or cover layers, which is characterized. that at least the support remote side of the electrically conductive layer with a permeable for oxidizing aqueous solutions Protective layer of magnesium, calcium, barium, cerium or sodium aluminum fluoride layer covered is.

Das Natriumaluminiumfluorid ist auch unter der Bezeichnung Cryolit (NajAIFt,) bekannt.Sodium aluminum fluoride is also known under the name Cryolite (NajAIFt,).

Vorzugsweise soll die elektrisch leitfähige Schicht einen Oberflächenwiderstand von weniger als I080hm pro Quadrat aufweisen.The electrically conductive layer should preferably have a surface resistance of less than 10 8 ohms per square.

Die aus einer Metallfluoridschicht bestehende Schutzschicht verhindert eine Oxidation der leitfähigen Metallschicht während der Aufbewahrung des Materials bis zu dessen Verwendung, ist dabei jedoch für wäßrige oxidierende Lösungen permeabel, so daß die elektrisch leitfähige Schicht durch Oxidation in einen optisch weniger dichten Zustand überführt werden kann, wenn das photographische Material in einer üblichen wäßrigen photographischen Arbeitslösung behandelt wird, beispielsweise einem Bleich- und/oder Unterbrecherbad oder einer Entwickler- oder Fixierlösung.The protective layer consisting of a metal fluoride layer prevents oxidation of the conductive ones Metal layer during storage of the material until it is used, but is for aqueous oxidizing solutions permeable, so that the electrically conductive layer by oxidation in an optically less dense state can be converted if the photographic material in a usual aqueous photographic working solution is treated, for example a bleach and / or break bath or a developing or fixing solution.

Es hat sich gezeigt, daß nicht etwa nur Bleichlösungen oxidierend wirken, sondern auch Unierbrecherbäder sowie Fixier- und Entwicklerlösungen. Ganz offensichtlich wird die Oxidation der elektrisch leitlähigen Metallschicht durch die in tier, Lösungen und Butlern vorhandenen llydroxyliunen eingeleitet. Im Falle der Verwendung von Aluminiumschiirhtcn beisielsweise treten als Oxidationsprodukte Aluminalionen (AK).. ) auf.It has been shown that not only bleaching solutions have an oxidizing effect, but also unbreaking baths as well as fixing and developer solutions. Obviously, the oxidation of the electrically conductive Metal layer through the in tier, solutions and butlers existing llydroxyliunen initiated. In case of Use of aluminum shutters, for example occur as oxidation products aluminum ions (AK) ..) on.

Die Erfindung ermöglicht somit die Herstellung photographischer Materialien, die vor der Akkumulation lokalisierter statischer Ladungen geschützt sind, wobei bei Verwendung der photographischen Materialien nach dem Entwicklungsprozeß photographische Bilder erhalten werden können, welche in ihrer Qualität nicht durch die hohe optische [Dichte metallischer, antistatisch wirksamer Schichten beeinträchtigt werden.The invention thus enables photographic materials to be prepared prior to accumulation localized static charges are protected when using the photographic materials after the developing process, photographic images can be obtained which are in quality are not impaired by the high optical density of metallic, antistatic layers.

Die elektrisch leilfähige Schicht kann aus einem beliebigen elektrisch leillähigen Metall bestehen, welches durch Inkontaktbringen unit einer wäßrigen photographischen Arbeitslösung für die photosensitive Emulsionsschicht oder die photosensitive!! Emulsionsschichten durch Oxidation in einen optisch weniger dichten Zustand überführt werden kann. Dabei ist unwesentlich, ob das Oxidationsprodukl selbst eine geringere optische DieltIe hat oder ob die Verminderung der optischen Dichte der Schicht dadurch erzielt wird, daß das Oxidationsprodukt durch Einwirkung der photographischen Arbeitslösung gelöst wird oder mindestens teilweise in Lösung geht.The electrically conductive layer can consist of any electrically conductive metal, which unit is brought into contact with an aqueous photographic working solution for photosensitive Emulsion layer or the photosensitive !! Emulsion layers can be converted into an optically less dense state by oxidation. It is irrelevant whether the oxidation product itself is a has lower optical density or whether the reduction the optical density of the layer is achieved in that the oxidation product by the action of photographic working solution is dissolved or at least partially goes into solution.

Als besonders vorteilhafte Metalle zur Herstellung der elektrisch leitlähigen Schichten haben sich Mangan, Wismut, Kupfer, Aluminium und Silber erwiesen, da sie leicht durch Oxidation in einen Zustand geringerer optischer Dichte überführt werden können, wenn sie in Form dünner Schichten vorliegen. Da die elektrisch leitfähige Schicht in allen Fällen, z. IJ. wenn das photographische Material aufgespult ist, durch die schützende Schicht von der strahltingsempfindlichcn Kolloidschicht gelrennt ist. können zur Erzeugung der leitfähigen Schicht auch Metalle verwendet werden, welche in nachteiliger Weise mit der Kolloidschicht reagieren würden und insbesondere solche Metalle, die. würden sie alleine verwendet, zu einer Verschleierung oder Desensibilisierung der strahlungsempfindlichen Kolloidsehichi führen würde.Manganese, Bismuth, copper, aluminum and silver were found to be easily oxidized to a lesser state optical density can be converted if they are in the form of thin layers. Since the electric conductive layer in all cases, e.g. IJ. when the photographic material is wound through the The protective layer is separated from the radiation-sensitive colloid layer. can be used to generate the conductive layer metals are also used, which adversely affect the colloid layer would react and especially those metals that. if they were used alone, for a disguise or desensitization of the radiation-sensitive colloidal hichi.

Erfindungsgemäß ist es auch möglich, eine zweite schützende Schicht zwischen Schichtträger und elektrisch leitfähiger Schicht anzuordnen. In diesem Falle kann zur Erzeugung der elektrisch leitfähigen Schicht auch ein Metall verwendet werden, welches, würde es allein oder direkt auf den Schichtträger aufgetragen, mit diesem reagieren würde. So können beispielsweise zur Erzeugung der elektrisch leitfähigen Schicht Metalle wie Mangan und Wismut verwendet werden, obgleich diese beiden Metalle bekanntlich lichtempfindliche Silberhalogenidemulsionen zu verschleiern vermögen, wenn sie in direkten Kontakt mit entsprechenden Emulsionsschichten gebracht werden, und welche in unerwünschter Weise mit aus Polymeren aufgebauten Filmschichtträgern reagieren, wenn sie direkt auf diese aufgetragen werden.According to the invention it is also possible to have a second protective layer between the substrate and the electrical to arrange conductive layer. In this case, the electrically conductive layer can be produced a metal can also be used, which, if it were applied alone or directly to the substrate, with would react to this. For example, metals can be used to produce the electrically conductive layer how manganese and bismuth are used, although these two metals are known to be photosensitive Silver halide emulsions are able to obscure when they are in direct contact with the corresponding Emulsion layers are brought, and which in an undesirable manner with built up from polymers Film substrates react when applied directly to them.

Um einen ausreichenden Schutz vor der Anhäufung statischer Elektrizität zu gewährleisten, hat es sich als erforderlich erwiesen, daß die elektrisch leitfähige Schicht einen Oberflächenwiderstand von weniger als I01- Ohm pro Quadrat aufweist. Vorzugsweise soll sie einen Widerstand von weniger als IOH Ohm pro Quadrat haben.In order to ensure adequate protection against the accumulation of static electricity, it has been found necessary that the electrically conductive layer has a surface resistance of less than 10 1 - ohms per square. Preferably, it should have a resistivity of less than IO H ohms per square.

Uni sicherzustellen, daß überall ein Oberflächeiiwiderstand von weniger als 10s Ohm pro Quadrat erreicht wird, hat es sich als vorteilhaft erwiesen, wenn die leilfähige Schicht einen Gesamtoberfläeheinvider-To ensure that a surface resistance of less than 10 s ohms per square is achieved everywhere, it has proven to be advantageous if the conductive layer covers a total surface area.

stand von weniger tils 10"' Ohm pro Quadrat aufweist. Mil elektrisch leitfähigen Schichten eines Oberflächcnwitlcrstandes von weniger als 10"' Ohm pro Quadrat lassen sich besonders gleichmäßig photographische Reproduktionen erhalten, ohne daß optische Veränderungen erkennbar werden, welche auf lokalisierte Entladungen elektrostatischer Ladungen zurückzuführen sind.stood by less tils 10 "'ohms per square. With electrically conductive layers having a surface resistance of less than 10 "ohms per square Particularly uniform photographic reproductions can be obtained without optical changes which can be traced back to localized discharges of electrostatic charges are.

Der Oberflächenwiderstand der Schichten kann durch Messen des Widerstandes zwischen zwei parallel zueinander angeordneten Elektroden gleicher Länge, deren Abstand voneinander ihrer Länge entspricht, bestimm! werden. (Vergl. hierzu das Buch von Maissei und G la ng »Handbook of Thin Film Technology«, Verlag McGraw-Hill (1970), Seiten 13-5 bis 13-7.) Da eine Erhöhung der Länge der Elektroden zu einer Verminderung des Widerstandes führt, und zwar um einen Betrag, der gleich ist dem Betrag, durch welchen der Oberflächcnwidersiand durch Vergrößerung des Abstandcs zwischen den Elektroden um ein entsprechendes Inkremcnt erhöht wurde, ist offensichtlich, daß die Eleklrodcnlänge und Elektrodenabstand nicht materiell sind, solange sie gleich sind. Infolgedessen ist der Oberflächcnwidersiand, ausgedrückt in Ohm pro Quadrat, ein Widersland, ermittelt für den speziellen Fall,indem Elektrodcnlänge und Elektrodenabstand identisch und infolgedessen sich gegenseitig auslöschende Parameter sind.The surface resistance of the layers can by measuring the resistance between two parallel electrodes of the same length, whose distance from each other corresponds to their length, determine! will. (See the book by Maissei and Gong “Handbook of Thin Film Technology ", McGraw-Hill Verlag (1970), pages 13-5 to 13-7.) Since an increase in the length of the electrodes leads to a decrease in resistance, and by an amount equal to the amount by which the surface contradicts itself through enlargement the distance between the electrodes has been increased by a corresponding increment, it is evident that that the length of the electrode and the distance between the electrodes are immaterial as long as they are the same. Consequently is the surface resistance, expressed in ohms per square, a contradiction, determined for the special case by adding the length of the electrode and the distance between the electrodes identical and consequently are mutually canceling parameters.

Die elektrisch leitfähigc Metallschicht ist vorzugsweise nicht dicker, als zur Erzielung der erwünschten l.eitfähigkeilseigensehaflen erforderlich ist. Derartige Leitfähigkeiten lassen mil Melallschiehtcn einer Dicke von unter 100 "A, vorzugsweise unter 50 "A, erhallen. Der Grund dafür, daß die Schichtstärke der elektrisch leitfähigen Schicht begrenzt werden soll, je nach dem im Einzelfalle verwendeten speziellen Metall, beruht darauf, daß das elektrisch leitfähige Metall und/oder eines oder mehrere seiner Oxidationsprodukte in die wäßrige pholographischc Arbcilslösung eintreten kann, die sowohl /ur Entwicklung der strahliingsempfinillichen Kolloidsehiehl als auch gleichzeitig zur Verminderung der optischen Dichte der leilfühigen Schicht verwendet werden kann. Durch Begrenzung der Dicke der elektrisch leilfähigen Schichten wird die Menge an Metall, die in die Arbcits- oder Enlwicklungslösiing eintreten kann, begrenzt und die Wirksamkeit und Lebensdauer der Arbcits- oder Entwicklungslösung entsprechend verlängert. Obgleich an sich die Dicke der elektrisch leitfähigen Schicht weit über 100 A liegen kann, je nach dem im Einzelfalle verwendeten Metall und/oder dem anfallenden Oxidationsprodukt, die in die phoiographischen Arbeitslösungen eintreten können, sowie dem Volumen und der erwünschten Reinheit der Arbeilslösung, hat sich doch gczeigl, daß in der Regel Schichidicken von über 1000 Λ nicht erforderlich oder zweckmäßig sind.The electrically conductive metal layer is preferred not thicker than is necessary to achieve the desired conductive wedge properties. Such Conductivities leave layers of a thickness below 100 "A, preferably below 50" A. The reason that the layer thickness of the electrical conductive layer should be limited, depending on the im Individual cases used special metal, based on the fact that the electrically conductive metal and / or one or more of its oxidation products can enter the aqueous pholographic Arbcilslösung, the both / ur development of the radiation-sensitive Colloids and at the same time to reduce the optical density of the conductive layer can be used. By limiting the thickness of the electrically conductive layers, the amount of Metal that is in the work or development solution can occur, limited and the effectiveness and lifespan of the work or development solution extended accordingly. Although the thickness of the electrically conductive layer is well over 100 Å can, depending on the metal used in the individual case and / or the resulting oxidation product, the photographic working solutions can occur, as well as the volume and the desired purity of the Work solution, it has been shown that as a rule Layer thicknesses of over 1000 Λ are not required or appropriate.

Es war überraschend festzustellen, daß zur Lösung tier der Erfindung zugrundeliegenden Aufgabe schlitzende Schichten verwendet werden können, welche die elektrisch leitfähigen Schichten vor einer Oxidation während der Lagerung und der Verwendung /u schülzen vermögen und welche ties weiteren eine Oxidation tier elektrisch leilfähigen Schichten unter Überführung derselben in eine optisch weniger dichte l'orm im Verlaufe lies photogriiphischen Entwicklungsprozesses mittels wäßriger I .ösiingen ermöglichen.It was surprising to note that end of the slot to the solution animal of the invention, the underlying object of layers can be used which are capable / u schülzen the electrically conductive layers from oxidation during storage and use and which ties further oxidation animal electrically leilfähigen layers by transferring the same In an optically less dense norm in the course of the photographic development process was made possible by means of aqueous solutions.

Die aus ι.\ί·\^ genannten lluunilcu bestehenden Schutzschichten sollen vorzugsweise eine Duke \oii weniger als 500 A aufweisen, insbesondere eine Dick von weniger als 50 A. und zwar insbesondere dam wenn eine Aufbewahrung ties phoiographischen Auf Zeichnungsmaterials vor Entwicklung oder Behandlung in einer wäßrigen oxidierenden Lösung zu erwarten is Die Dichte tier Meiallfluoridschichlen kann bei de Aufbewahrung elwas zunehmen. Als besonders vorteil halt hat sich die Verwendung von Melallfliioridschich ten einer Schichtdicke von weniger als 50 Λ erwieset die in allen Rillen leicht von wäßrigen oxidierender Lösungen durchdrungen werden können. Verbleiben tli schützenden Melalihalogenidschichlen im entwickelter phoiographischen Material, so haben tliese zweckmäßig optische Dichten von weniger als 0.5 und situ, vorzugsweise praktisch transparent, ti. h. haben optisch Dichlcn von weniger als 0.01. In den hallen, in denen di Schutzschicht im Verlaufe des phoiographischen Ent w'icklungsprozcsscs vollständig einlernt wird, was in allgemeinen der Rill ist, beeinflußt die optische Dicht der Schutzschicht this entwickelte phoiograpliisch Material nicht.The protective layers consisting of ι. \ Ί · \ ^ mentioned lluunilcu should preferably have a Duke \ oii less than 500A, in particular a thickness of less than 50A, especially if a storage of the photographic drawing material before development or treatment in An aqueous oxidizing solution is to be expected. The density of the metal fluoride layers can increase somewhat when stored. The use of Melallfliioridschich th a layer thickness of less than 50 Λ has proven to be particularly advantageous, which can easily be penetrated by aqueous oxidizing solutions in all grooves. If protective melali halide layers remain in the developed photographic material, these advantageously have optical densities of less than 0.5 and situ, preferably practically transparent, ti. H. have an optical density of less than 0.01. In halls in which the protective layer is completely learned in the course of the photographic development process, which is generally the groove, the optical density of the protective layer does not affect the developed photographic material.

Gemäß einer Ausgestaltung der Erfindung ist tlit elektrisch leitfähige Schicht direkt an den dielekirischei Schichtträger gebunden und die Schutzschicht befinde sieh direkt auf der elektrisch leitfähigen Schicht. 1 diesem Falle schützt tier Schichtträger eine Oberfläch der elektrisch leilfähigen Schicht, wohingegen dit Schutzschicht die andere Oberfläche tier eleklrisel leitfähigen Schicht schützt.According to one embodiment of the invention, tlit electrically conductive layer directly on the dielectric Layer carrier bound and the protective layer is located directly on the electrically conductive layer. 1 In this case, the layer support protects a surface of the electrically conductive layer, whereas dit Protective layer protects the other surface of the electrically conductive layer.

In den Rillen, in denen der Schichtträger selbst fii Oxidationsmittel permeabel ist und/oder in den Riller in denen tier die elektrisch leitfällige Schicht bildend Stoff mit dem Sehiclitlrägermaterial zu reagieret vermag, hai es sich als vorteilhaft erwiesen, eine zweili Schuizschicht zwischen Schichtträger und leitfähige Schicht anzuordnen. Diese zweite Schutzschicht kam gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung tlei gleichen Aufbau haben wie die erste Schutzschicht. Zi beachten ist dabei, daß, da die erste schützende Schicht für wäßrige oxidierende Lösungen permeabel ist, e nicht erforderlich ist, daß die zweite schützende Schiich in entsprechender Weise permeabel ist. Demzufolg kann die zweite Schutzschicht dicker sein als die erst Schutzschicht, beispielsweise bis zu etwa 1000 Ä Vorzugsweise besitzt sie jedoch eine Schichtdicke voi weniger als 500Λ.In the grooves in which the substrate itself fii Oxidizing agent is permeable and / or in the grooves in which animal forms the electrically conductive layer Substance with the visual carrier material is able to react, it has proven to be advantageous, a two-way To arrange the protective layer between the substrate and the conductive layer. That second layer of protection came according to a further embodiment of the invention tlei have the same structure as the first protective layer. It is important to note that, as the first protective layer is permeable to aqueous oxidizing solutions, e it is not necessary that the second protective layer is permeable in a corresponding manner. As a result, the second protective layer can be thicker than the first Protective layer, for example up to about 1000 Å, but preferably has a layer thickness of voi less than 500Λ.

Die zweite Schutzschicht soll nach Möglichkeil ein optische Dichte von weniger als 0,5 aufweisen. Ii besonders vorteilhafter Weise ist die zweite Schulz schicht, wie die erste, praktisch transparent, ti. Ii. sit weist eine optische Dichte von weniger als 0,01 auf. Is die zweile Schutzschicht aus einem Metallhalogcnit aufgebaut, das im Verlauf des plioiographischei Entwicklungsverfahrcns entfernt werden kann, st beeinflußt die optische Dichte dieser zweiten Schich nicht tlas Aussehen ties Endproduktes.The second protective layer should be used if possible have an optical density of less than 0.5. The second Schulz is particularly advantageous layer, like the first, practically transparent, ti. Ii. sit has an optical density of less than 0.01. Is the double protective layer made of a metal halide built up which can be removed in the course of the plioiographic development process, st The optical density of this second layer does not affect the appearance of the final product.

Der Schichtträger des photographischen Material der Erfindung kann aus irgendeinem tier iiblichei bekannten photograpliisehen Schichtträger bestehen der dielektrisch ist, ti. h. tier einen Oberflächenwitler stand von über mindestens 10" Ohm pro Quadrat, in tie Regel über lO'-'Olim pro Quadrat.aufweist.The support of the photographic material of the invention can be made of any animal species known photographic support are dielectric, ti. H. tier a surface switch stood by at least 10 "ohms per square, in tie Usually about 10 '-' olim per square.

Typische dielektrische Schichtträger, die zur llerslel hing eines photographischen Materials nach tie Erfindung verwendet werden können, sind heispielswei se Schichtträger aus Glas, Papier. Holz, Gummi lint tlergl. Von besonderer Bedeutung sind aus Polymere! aufgebaute Schichtträger und die üblichen bekannleiiTypical dielectric substrates used for llerslel hung a photographic material after tie Invention can be used are hebeispielswei se layers of glass, paper. Wood, rubber lint daily Of particular importance are made of polymers! built-up substrate and the usual known

mit Polymeren beschichteten Schichtträger.polymer-coated substrate.

Typische hydrophobe Polymere, aus denen die Schichtträger pholographischcr Materialien nach der Erfindung aufgebaut sind, sind beispielsweise Celluloseester, ζ. B. Cellulosenitrat und Celluloseacetat, Polyvi- ί nylaeeialpolymcre, Polycarbonate. Polyester, /.. Ii lineare Polyester von bifunklionellen gesättigten und ungesättigten aliphatischen und aromatischen Dicarbonsäuren und bifunktionellen organischen Polyhydroxyverbindungen, ζ. B. mehrwertigen Alkoholen, ζ. Β. κι Polyester aus Alkylcnglykolcn und/oder Glycerin mit Terephthalsäure, Isophthalsäure, Adipinsäure, Maleinsäure, Fumarsäure und/oder Azelainsäure, ferner Polyhalokohlcnwasscrsloffe, ζ. 15. Polyvinylchlorid, und schließlich polymere Kohlenwasserstoffe, ζ. B. Polysty- π rol und Polyolefine, insbesondere Polymere von Olefinen mit 2 bis 20 Kohlenstoffatomen. Die beschriebenen Polymeren können in l'orm von flexiblen Filmschichtträgcrn oder starren Schichtträgern verwendet werden oder zur Beschichtung von Glas, Papier 2» und Polvmer-Sehiehllrägern. Von besonderer Bedeutung sind dabei mit «-Olcfinpolymercn beschichtete Papierschichtträger, z. B. Papierschichtträger, die mit Polyäthylen, Polypropylen oder Älhylen-ßulcn-Mischpolymensalcn beschichtet worden sind. 2r> Typical hydrophobic polymers, from which the support of the photographic materials according to the invention are built up, are, for example, cellulose esters, ζ. B. cellulose nitrate and cellulose acetate, Polyvi- ί nylaeeialpolymcre, polycarbonates. Polyester, / .. Ii linear polyesters of bifunctional saturated and unsaturated aliphatic and aromatic dicarboxylic acids and bifunctional organic polyhydroxy compounds, ζ. B. polyhydric alcohols, ζ. Β. κι polyester from alkylcnglycol and / or glycerol with terephthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, maleic acid, fumaric acid and / or azelaic acid, also polyhalocarbonic acid, ζ. 15. Polyvinyl chloride, and finally polymeric hydrocarbons, ζ. B. Polystyrene π rol and polyolefins, especially polymers of olefins having 2 to 20 carbon atoms. The polymers described can be used in the form of flexible film supports or rigid supports or for coating glass, paper and polymeric film supports. Of particular importance are paper backings coated with-olefin polymer, e.g. B. paper backing that has been coated with polyethylene, polypropylene or Älhylen-ßulcn-Mischpolymensalcn. 2 r >

Ist die Oberfläche des zu beschichtenden .Schichtträgers hydrophob, d.h. zur Verbesserung der Adhäsion der sirahlungscmpfindlichen hydrophilen Kolloidschicht auf einer hydrophoben Schichtlrägcroberflächc, kann es zweckmäßig sein, auf den Schichtträger eine in sog. I luftschicht aufzubringen, bevor die strahlungsempfindlichc Kolloidschidll aufgebracht wird. So hat es sich beispielsweise im KaIIc von Polycstcrschichtträgern, z. B. solchen aus Polyethylenterephthalat, als vorteilhaft erwiesen, auf die Schichtträger eine Haftschicht aus r> einem Tcrpolymcrcn aus Acrylnitril oder einem kurzkcttigen Acrylsäurcalkylcstcr mit weniger als 4 Kohlenstoffatomen im Alkylrcst, einem Vinylidenhalogenid und Acrylsäure, z. B. Acrylnitril oder Mcthylaery-IaI, Vinylidenchlorid und Acrylsäure aufzutragen.Is the surface of the .Layer carrier to be coated hydrophobic, i.e. to improve the adhesion of the water-sensitive hydrophilic colloid layer on a hydrophobic layer inclined surface, it can be useful to apply an in to apply the so-called air layer before the radiation-sensitive colloid membrane is applied. That’s the way it was for example in the KaIIc of Polycstcrschichtträgern, z. B. those made of polyethylene terephthalate, as advantageous It has been proven that an adhesive layer made of a Tcrpolymcrcn made of acrylonitrile or a Short-term acrylic acid alkyl groups with fewer than 4 carbon atoms in the alkyl group, a vinylidene halide and acrylic acid, e.g. B. to apply acrylonitrile or Mcthylaery-IaI, vinylidene chloride and acrylic acid.

Das erfindungsgcmäß verwendete Sohichlcnsyslem aus elektrisch leitfähiger Schicht und Mctallhalogenidschicht kann direkt auf eine solche Haftschicht aufgetragen werden oder aber direkt auf die hydrophobe Polymcrobcrflächc, da die Metalle, welche zur <r> Erzeugung der leitfähigen Schicht verwendet werden, wie auch die Metallhalogenide und Metalloxide, die zur Erzeugung der zweiten Schulzschicht verwendet werden können, fest auf derartigen Schichlträgeroberfläehcn haften. "><iThe Sohichlcnsyslem used according to the invention An electrically conductive layer and a metal halide layer can be applied directly to such an adhesive layer be applied or directly to the hydrophobic polymer surface, since the metals which are used for the <r> Production of the conductive layer can be used, as well as the metal halides and metal oxides, which are used to Producing the second Schulzschicht can be used firmly on such Schichlträgeroberfläehcn be liable. "> <i

Tatsächlich ist überraschend, daß das erfindungsgcmäß verwendete antistatische Sehichtensysiem fest auf hydrophoben Polymeroberflächen haftet.Indeed, it is surprising that the invention The anti-static layer system used adheres firmly to hydrophobic polymer surfaces.

Die elektrisch leitfähigen Schichten und Melallhalogenidschichtcn können nach bekannten Methoden auf γ, clic Schichtträger aufgebracht werden. Als vorteilhaft hat es sich erwiesen, die elektrisch leitfähigen Schichten und .Schutzschichten durch Dainpfbcschichlung im Vakuum auf die Schichträger aufzutragen. Eine Vakiiumdampfbcsehiehtung isl ein leicht diirehzulüh- ι,η mules Verfahren, das es ermöglicht, die .Schichtdicke tier aufzutragenden Schichten genau einzuhalten. Auch ermöglicht eine Vakuumdampfbeseliichtung, dall die Schutzschicht direkt auf die elektrisch lciil'ähigc Schicht aufgetragen werden kann, ohne dall die elektrisch h> leitfähige Schicht der Einwirkung der Atmosphäre ausgesetzt wird. Hierdurch wird die Bildung einer oxiclischen Schicht auf tier Oberfläche tier elektrisch leitfähigen Schicht vermieden, ist doch bekannt, dall gewisse Metalle, insbesondere Aluminium, wenn sie der Einwirkung von Luft ausgesetzt werden, licht oxidischc Schichten bilden. Derartige oxidischc Schichten können jedoch die Oxidation der elektrisch lcillähigen Schicht zwecks Reduzierung ihrer optischen Dichte stören. So können beispielsweise antistatische Aluminiumsehichtcn, welche ohne eine schützende Schicht verwendet werden, nicht leicht von dielektrischen Schichtträgern entfernt oder transparent gemacht werden, und zwar auch dann nicht, wenn sie in Kontakt mit wäßrigen alkalischen Lösungen eines pH-Wertes von über 11 gebracht werden. Im Gegensalz hierzu können elektrisch leitfähige Schichten aus Aluminium, die durch Vakuumbcdampfung eines Schichtträger erhalten wurden und die mi ι einer selektiv pcrmcablen Schutzschicht nach der Erfindung beschichtet worden sind, ohne daß die Aluminiumschicht der Einwirkung von Luft ausgesetzt wurde, leicht und schnell durchsichtig gemacht werden unter Verwendung üblicher wäßriger alkalischer Arbeitslösungen mit einem pH-Wert von über 9, jedoch weniger als 11. Dies bedeutet, daß die Leichtigkeit, mit welcher die optische Dichte der elektrisch leitfähigen Schicht vermindert werden kann, dadurch begünstigt wird, daß man eine Ausbildung von Oberflächenoxiden verhindert.The electrically conductive layers and metal halide layers can be applied to γ, clic layer supports by known methods. It has proven to be advantageous to apply the electrically conductive layers and protective layers to the layer support by vacuum coating. A Vakiiumdampfbcsehung isl a slightly diirehzuüh- ι, η mules process, which makes it possible to adhere to the .Schichtdicke of the layers to be applied exactly. A vacuum vapor coating also enables the protective layer to be applied directly to the electrically conductive layer without the electrically conductive layer being exposed to the action of the atmosphere. This avoids the formation of an oxide layer on the surface of the electrically conductive layer, as it is known that certain metals, in particular aluminum, form light oxide layers when exposed to the action of air. Such oxidic layers can, however, interfere with the oxidation of the electrically conductive layer in order to reduce its optical density. For example, aluminum antistatic layers which are used without a protective layer cannot be easily removed from dielectric substrates or made transparent, even if they are brought into contact with aqueous alkaline solutions having a pH above 11. In contrast to this, electrically conductive layers of aluminum, which were obtained by vacuum evaporation of a substrate and which have been coated with a selectively permeable protective layer according to the invention, without the aluminum layer being exposed to the action of air, can be made transparent easily and quickly under Use of customary aqueous alkaline working solutions with a pH of more than 9 but less than 11. This means that the ease with which the optical density of the electrically conductive layer can be reduced is promoted by the fact that the formation of surface oxides is prevented .

Die strahlungsempfindliche Schicht kann unter Verwendung von einem oder mehreren hydrophilen, wasscrpcrmeablcn Kolloiden hergestellt werden, die natürlichen oder synthetischen Ursprungs sein können. Typische hydrophile Kolloide zur Herstellung der strahlungscmpfindliehen Kolloidschicht sind beispielsweise Proteine, z. B. Gelatine und Gclatincderivate, Cellulosederivate, Polysaccharide, z. B. Dextran, Gummiarabicum und dergl., sowie solche synthetischen Polymeren wie in Wasser lösliche Polyvinylverbindungcn, z. B. Polyvinylpyrrolidon und Acrylamidpolymcre.The radiation-sensitive layer can be made using one or more hydrophilic, water-permeable colloids are produced, which can be of natural or synthetic origin. Typical hydrophilic colloids for producing the radiation-sensitive colloid layer are, for example Proteins, e.g. B. gelatin and Gclatincderivate, cellulose derivatives, polysaccharides, z. B. dextran, gum arabic and the like, as well as synthetic polymers such as water-soluble polyvinyl compounds, z. B. polyvinyl pyrrolidone and acrylamide polymers.

Zum Aufbau der strahlungsempfindlichcn Kolloidschicht können des weiteren übliche bekannte hydrophile Kolloide gemeinsam mit solchen synthetischen Polymeren verwendet werden, welche zur Dimensionsstabiiität der sirahlungscmpfindlichen Kolloidsehicht beitragen. Derartige synthetische Polymere werden beispielsweise in den US-Patentschriften 3142 568, 31 93 386, 30 62 674, 32 20 844, 32 87 289 und 34 11 911 beschrieben. Als besonders wirksame, die Dimensionsstabilität der Kolloidschichtcn erhöhende Polymere haben sich in Wasser unlösliche Polymere aus Alkylacrylaten und Alkylmethacrylalen, Acrylsäure, Sulfoalkylacrylalen oder Sulfoalkylnicthacrylalcn erwiesen, ferner Polymere mit qucrvcrnctztcndcn Zentren, welche eine Härtung oder ein Allern der Polymeren erleichtern, ■/.. B. des aus der US-Patentschrift 34 88 708 bekannten Typs, und ferner solche, welche wiederkehrende Sulfobctaincinhcitcn aufweisen, wie sie z. B. aus tier kanadischen Patentschrift 7 74 054 bekannt sind.To build up the radiation-sensitive colloid layer, it is also possible to use conventional, known hydrophilic colloids together with synthetic polymers which contribute to the dimensional stability of the radiation-sensitive colloid layer. Such synthetic polymers are described, for example, in US Pat. Nos. 3,142,568, 3,193,386, 3,062,674, 32 20 844, 32 87 289 and 34 11 911. Particularly effective polymers which increase the dimensional stability of the colloid layers have proven to be water-insoluble polymers made from alkyl acrylates and alkyl methacrylals, acrylic acid, sulfoalkyl acrylals or sulfoalkyl nicthacrylals, as well as polymers with cross-linked centers which facilitate curing or curing of the polymers, ■ / .. B. of the type known from US Pat. No. 3,488,708, and also those which have recurring Sulfobctaincinhcitcn, as z. B. from animal Canadian patent 7 74 054 are known.

Die hydrophilen Kolloide können in üblicher bekannter Weise mittels organischer oder anorganischer llärlungsmiticl gehärtet werden. Zur Härtung können beispielsweise allein oiler in Kombination mii .'innndcr aus Aldehyden beistehende llärtungsmillcl verwendet werden oder auch sog. blockierte Aldehyde, wie sie in der US-Patentschrift .!2 12 76Ί beschrieben werden, ferner Ketone, C'aiboxylsäureilerivale und Carbonsäurederivate, Sulfonates!er. Sulfony!halogenide und Vinylsulfonylälher, wie sie beispielsweise aus tier US-Patentschrift J5 J 4 644 bekannt sind, und aktiveThe hydrophilic colloids can be prepared in a conventional manner by means of organic or inorganic llärlungsmiticl be hardened. For hardening For example, oil alone in combination with hardening mills made from aldehydes can be used can be used or so-called. Blocked aldehydes, as described in US Pat. No. 2 12 76Ί are, furthermore ketones, C'aiboxyläurilerivale and Carboxylic acid derivatives, sulfonates! Er. Sulfony halides and vinylsulfonyl ethers such as are known, for example, from US Pat. No. J5 J 4,644, and active ones

Halogenverbindungen, ferner Epoxyverbindungen, Aziridine, aktive Olefine, Isocyanate, Carbodiimide, ferner polymere Härtungsmittel, z. B. oxidierte Polysaccharide, z. B. Dialdehydstärke und Oxyguargum und dergleichen.Halogen compounds, also epoxy compounds, aziridines, active olefins, isocyanates, carbodiimides, also polymeric curing agents, e.g. B. oxidized polysaccharides, z. B. dialdehyde starch and oxyguar gum and the like.

Die strahlungsempfindliche hydrophile Kolloidschicht kann eine der üblichen bekannten, zur Herstellung strahlungsempfindlicher photographischer Aufzeichnungsmaterialien verwendeten, strahlungsempfindlichcn Verbindungen enthalten. Bei der strahlungscmpfindlichcn Schicht kann es sich dabei um eine panchromatische oder orthochromatische Schicht handeln oder eine Schicht, die beispielsweise nur gegenüber Röntgenstrahlen empfindlich ist oder nur gegenüber ausgewählten Teilen des elektromagnetischen Spektrums. The radiation-sensitive hydrophilic colloid layer may be any of the usual known ones for Radiation-sensitive photographic recording materials used in the manufacture of radiation-sensitive photographic recording materials Connections included. The radiation-sensitive layer can be a Panchromatic or orthochromatic layer act or a layer that for example only opposite X-rays are sensitive to or only to selected parts of the electromagnetic spectrum.

Ein pholographisches Material nach der Erfindung kann des weiteren nur eine einzige strahlungsempfindliche Kolloidschicht aufweisen, d. h. eine Kolloidschicht, in der eine lichtempfindliche Verbindung dispergiert ist, gegebenenfalls mit üblichen bekannten Zusätzen, wie sie üblicherweise zur Herstellung photographischer strahlungsempfindlicher Emulsionsschichten verwendet werden. Andererseits kann das photographische Material nach der Erfindung eine Vielzahl von Kolloidschichlen aufweisen, wobei gilt, daß sämtliche oder nur ein Teil der Schichten eine strahlungsempfindliche Verbindung enthalten können. Dies bedeutet, daß beispielsweise die dem Schichtträger oder der hierauf aufgetragenen Haftschicht am nächsten liegende hydrophile Kolloidschicht nicht unbedingt eine strahlungsempfindliche Verbindung enthalten muß, sondern daß vielmehr diese strahlungsempfindliche Verbindung in einer oder mehreren Schichten enthalten sein können, die über einer solchen hydrophilen Kolloidschicht angeordnet sind. So kann das photographische Material nach der Erfindung beispielsweise aus einem für die Farbphotographie bestimmten photographischen Aufzeichnungsmaterial bestehen, bei dem bekanntlich eine Vielzahl strahlungsempfindlicher Kolloidschichtcn auf einem Schichtträger angeordnet sind, welche gegenüber bestimmten Abschnitten des sichtbaren Spektrums sensibilisiert sind. Außer derartigen Schichten können noch zusätzliche Zwischen- oder Deckschichten vorhanden sein, welche keine strahlungsempfindlichen Verbindungen enthalten. So kann in typischer Weise die hydrophile Kolloidschicht, welche auf die Haftschicht aufgetragen worden ist, z. B. auf eine aus einem Tcrpoylmeren aufgebaute Haftschicht, selbst keinerlei strahlungsempfindliche Verbindungen enthalten. Typische hydrophile Kolloidschichten, welche auf einen hydrophoben Schichtträger aufgetragen werden können oder auf eine Haftschicht auf diesem Schichtträger und welche keine strahlungsempfindliche Verbindungen enthalten, beispielsweise kein Silberhalogenid, können beispielsweise aus Lichthofschutzschichten bestehen oder Keime enthaltenden Schichten, z. 15. Bildempfangsschichten, wie sie im Rahmen üblicher chemischer Übertragungsverfahren angewandt werden, oder Farbstoffbeizmitlelschiehten und dergleichen.Furthermore, a pholographic material according to the invention can only have a single radiation-sensitive material Have a colloid layer, d. H. a colloid layer in which a photosensitive compound is dispersed, optionally with customary known additives, such as those customarily used for the production of photographic products radiation-sensitive emulsion layers are used. On the other hand, the photographic material according to the invention have a plurality of colloid layers, it being understood that all or only a part of the layers can contain a radiation-sensitive compound. This means that, for example, the the hydrophilic colloid layer closest to the substrate or the adhesive layer applied to it does not necessarily have to contain a radiation-sensitive compound, but rather this one radiation-sensitive compound can be contained in one or more layers that are above such a hydrophilic colloid layer are arranged. So the photographic material after the Invention, for example, from a photographic recording material intended for color photography exist in which, as is known, a large number of radiation-sensitive colloid layers on one Layer supports are arranged, which are opposite to certain sections of the visible spectrum are sensitized. In addition to such layers, additional intermediate or top layers can also be present which do not contain any radiation-sensitive compounds. Typically the hydrophilic colloid layer which has been applied to the adhesive layer, e.g. B. on one of one Tcrpoylmeren built-up adhesive layer, itself does not contain any radiation-sensitive compounds. Typical hydrophilic colloid layers which can be applied to a hydrophobic layer support or an adhesive layer on this support and which does not contain any radiation-sensitive compounds contain, for example no silver halide, can for example consist of antihalation layers or layers containing nuclei, e.g. 15. image receiving layers, as used in standard chemical transfer processes, or dye stains and the same.

Die strahlungsempfindlichen Verbindungen, die zur Herstellung der photographisehen Materialien nach der Erfindung verwendet werden können, können aus den verschiedensten Verbindungen bestehen, die gegenüber elektromagnetischer Strahlung empfindlich sind. Typische strahkingsempfindliche Verbindungen sind beispielsweise Silbersalze, insbesondere Silberhalogenide, und Zinkoxid.The radiation-sensitive compounds which are used for the preparation of the photographic materials according to Invention can be used can consist of a wide variety of compounds, the opposite are sensitive to electromagnetic radiation. Typical compounds sensitive to radiation are, for example Silver salts, especially silver halides, and zinc oxide.

Die sirahluiiLTseinnfindlichen Schichten eines iiholographischen Materials nach der Erfindung können jedoch beispielsweise auch aus Schichten aus einem strahlungsempfindlichen Polymeren aufgebaut sein./. B. einem photoempfindlichen Polycarbonatharz. Dies -> bedeutet, daß auch polymere strahlungsempfindliche Verbindungen zum Aufbau der strahlungsempfindlichen Schichten verwendet werden können.The sirahluiiLTsensitive layers of a iiholographic Material according to the invention can, for example, also consist of layers of one radiation-sensitive polymers be built./. B. a photosensitive polycarbonate resin. this -> means that also polymeric radiation-sensitive compounds to build the radiation-sensitive Layers can be used.

Von besonderer Bedeutung sind photographische Materialien nach der Erfindung auf Basis von .Silberha-Of particular importance are photographic materials according to the invention based on .Silberha-

κι logeniden, insbesondere solche mit mindestens einer Silberha logeiiidemulsionsschicht. Die Silberhalogen id emulsionssehichlen können dabei das Silberhalogenid in Form von Silberchlorid-, Silberbromid-, Silberbromidjodid-, Silberchloridbromid-, Silbcrchloridjodid- oderκι logeniden, especially those with at least one silver halide emulsion layer. The silver halides are emulsion shells can use the silver halide in the form of silver chloride, silver bromide, silver bromide iodide, Silver chlorobromide, silver chloride iodide or

r> Silbcrchloridbromidjodidkrislallen oder Mischungen hiervon enthalten. Bei den zur Herstellung der Emulsionsschichten verwendeten Emulsionen kann es sich um grobkörnige oder feinkörnige Emulsionen handeln, die nach üblichen bekannten Methodenr> Silver chlorobromide iodide crystals or mixtures included. In the case of the emulsions used to produce the emulsion layers, it can are coarse-grained or fine-grained emulsions, which are made by customary known methods

>o hergestellt werden können. Dies bedeutet, daß es sich bei den Emulsionen beispielsweise um sogenannte Einfacheinlaufemulsionen handeln kann, wie sie beispielsweise von Trivelli und Smith in der Zeitschrift »The Photographic Journal«, Bd. LXXIX.> o can be produced. This means that it is the emulsions can be, for example, so-called single enema emulsions, such as those used, for example by Trivelli and Smith in the The Photographic Journal, Vol. LXXIX.

Mai 1939, Seiten 330—338. beschrieben "werden, oder um sogenannte Doppeleinlaufemulsionen, z. B. sogenannte Lippmannemulsionen, ferner ammoniakalischc Emulsionen oder in Gegenwart von Thiocyanatcn oder Thioäthern gereifte Emulsionen, wie sie beispielsweise in den US-Patentschriften 22 22 264, 33 20 069 und 32 71 157 beschrieben werden. Ferner können zur Herstellung der erfindungsgemäßen photographisehen Materialien Emulsionen vom Negativtyp verwendet werden wie auch direktpositive Emulsionen, wie sieMay 1939, pp. 330-338. described ", or so-called double enema emulsions, e.g. B. so-called Lippmann emulsions, also ammoniacal Emulsions or emulsions ripened in the presence of thiocyanates or thioethers, such as those for example in U.S. Patents 2,222,264, 3,320,069, and 3,271,157. Furthermore, for For the preparation of the photographic materials of the present invention, negative-type emulsions are used are like direct positive emulsions like them

r> beispielsweise in den US-Patentschriften 2184 013, 25 41 472, 35 01 307, 25 63 785, 24 56 953 und 28 61 885 sowie der britischen Patentschrift 7 23 019 und. der französischen Patentschrift 15 20 821 beschrieben werden. r> for example in US Patents 2,184,013, 25 41 472, 35 01 307, 25 63 785, 24 56 953 and 28 61 885 and British Patent 7 23 019 and. the French patent 15 20 821 can be described.

■in Die zur Herstellung der photographisehen Materialien nach der Erfindung verwendeten Silberhalogenidemulsionen können in üblicher bekannter Weise mit chemischen Sensibilisierungsmitteln sensibilisiert werden, beispielsweise mit aus reduzierenden Verbindun-■ in the production of the photographic materials According to the invention used silver halide emulsions can in a conventionally known manner with chemical sensitizers, for example with reducing compounds

•Γ) gen bestehenden Sensibilisierungsmitteln, Schwefel-, Selen- oder Tellurverbindungen oder Gold-, Platinoder Palladiumverbindungen oder Kombinationen hiervon. • Γ) against existing sensitizers, sulfur, Selenium or tellurium compounds or gold, platinum or palladium compounds or combinations thereof.

Die strahlungsempfindlichen Schichten können desThe radiation-sensitive layers can des

r,ii weiteren die üblichen bekannten Zusätze enthalten, wie sie üblicherweise in strahlungsempfindlichen Schichten photographiseher Aufzeichnungsmalerialien enthalten sind. So können die photographisehen Emulsionsschichten beispielsweise sog. Entwicklungsmodifizierungsmii- r , ii further contain the customary known additives as are customarily contained in radiation-sensitive layers of photographic recording materials. For example, the photographic emulsion layers can be so-called development modifying agents.

v, tel enthalten, ferner Antischleiermittel und Stabilisatoren, schließlich Plastifizierungsmittel und Gleitmittel, optische Aufheller, spektrale Sensibilisierungsmittel und Farbbildner, wie sie beispielsweise in den Abschnitten IV, V, Xl. XIV, XV und XXII des »Product Licensing v, tel contain, furthermore antifoggants and stabilizers, finally plasticizers and lubricants, optical brighteners, spectral sensitizers and color formers, as they are for example in Sections IV, V, Xl. XIV, XV and XXII of the »Product Licensing

ho Index«, IkI. l)2, Dezember 1971, Publikation 9232, aiii Seiten 107—110beschrieben werden.ho index «, IkI. l ) December 2, 1971, publication 9232, aiii pages 107-110.

Wie bereits dargelegt, können die photographisehen Materialien nach der Erfindung mit wäßrigen photographisehen EntwiekliingslÖK'ingen entwickelt werden. BeiAs already stated, the photographic materials according to the invention can be seen with aqueous photographs EntwiekliingslÖK'ingen to be developed. at

ι,-; ilen crfiiulungsgcmill.lcn phoiographischen Materialien kann es sich jedoch auch um solche handeln, welche linier Vermeidung wäßriger Enlwicklungslösungen auf trockenem Wege einwickelt werden können. So kann esι, -; ilen crfiiulungsgcmill.lcn photographic materials However, it can also be a matter of avoiding aqueous developing solutions can be wrapped in a dry way. So it can

sich bei den photographischen Materialien nach der Erfindung beispielsweise auch um solche photographischen Aufzeiehnungsniaterialien auf Silberhalogenidbasis handeln, die zur Aufzeichnung von Auskupicrbildem bestimmt sind, wie sie beispielsweise in ilen US-Patentschriften 23 69 449 und J4 47 927 beschreiben werden. Des weiteren können tue erl'indungsgemüßen photographischen Materialien zur 1 lerstellung von Direkikopierbildern bestimmt sein und einen Aufbau besitzen, wie er beispielsweise aus den US-Patentschriften 30 3,! 682 und 32 87 137 bekannt ist. Schließlich können die erfindungsgemäßen Aufzeiehnungsniaterialien auch solche sein, die sich durch ein sog. Wärmeentwicklungsverfahren entwickeln lassen, z. 13. solche, die eine Oxidations-Reduktions-Bild-crzeugende Kombination mit einem photosensiliven Metallsalz, /.. 13. einem Silbersalz, aufweisen, wie sie beispielsweise aus ilen US-Patentschriften 19 76 302, 31 52 904 und 34 57 07 5 bekannt sind.The photographic materials according to the invention also include, for example, photographic materials Silver halide based recording materials are used for recording Auskupicrbildem are determined, for example, in ilen US patents 23 69 449 and J4 47 927. Furthermore, you can do photographic photography in accordance with the invention Materials for making direct copy images be determined and have a structure, for example, from US Patents 30 3 ,! 682 and 32 87 137 is known. After all, they can Recording materials according to the invention can also be those which are produced by a so-called heat development process let develop e.g. 13. Those which have an oxidation-reduction image-forming combination with a photosensitive metal salt, / .. 13. a silver salt, as they are, for example, from ilen US Patents 19 76 302, 31 52 904 and 34 57 07 5 are known.

Gegebenenfalls können die erfindungsgemiißen photographischen Materialien zusätzlich, d. h. außer einer Metallhalogcnidschieht und einer elektrisch leitfähigen Schicht, noch weitere übliche bekannte antistatisch wirksame oder leitfähige Schichten aufweisen, z. B. Schichten aus oder mit löslichen Salzen, z. 13. Chloriden oder Nitraten, oder ionischen Polymeren, wie sie beispielsweise in den US-Patentschriften 28 61 056 und 32 06 312 beschrieben werden, oder Schichten aus oder mit unlöslichen anorganischen Salzen, z. 13. des aus der US-Palentschrift 34 28 451 bekannten Typs.Optionally, the photographic Materials in addition, d. H. except for a metal halide layer and an electrically conductive one Layer, also have further customary known antistatic or conductive layers, e.g. B. Layers of or with soluble salts, e.g. 13. Chlorides or nitrates, or ionic polymers like them for example in US Patents 28 61 056 and 32 06 312 are described, or layers of or with insoluble inorganic salts, e.g. 13. of the type known from US Pat. No. 3,428,451.

Nach der Exponierung können photographische Materialien nach der Erfindung in typischer Weise in Kontakt mit alkalischen und/oder sauren wäßrigen Lösungen gebracht werden, beispielsweise Entwicklungsbädern, welche zum Zwecke der Silberreduktion von Silberhalogenidemulsionssehiehten angewandt werden und in typischer Weise einen pl I-W'ert von über 9 aufweisen, oder mit Fixierbädern, die zum Zwecke der Lösung von Silberhalogeniden aus den Kolloidschichten verwendet werden und in typischer Weise einen pH-Wert von weniger als 6,0, vorzugsweise weniger als 5,0, aufweisen.After exposure, photographic materials according to the invention can typically be used in Brought into contact with alkaline and / or acidic aqueous solutions, for example developing baths, which are used for the purpose of silver reduction of silver halide emulsion layers and typically a pI value of over 9, or with fixing baths, which are used for the purpose of dissolving silver halides from the colloid layers can be used and typically a pH of less than 6.0, preferably less than 5.0.

Ein wesentliches Merkmal dieser Erfindung ist es, daß die pholographisehen Arbcits- oder Entwicklungslösungen dazu verwende! werden können, um die elektrisch leitfähige Schicht durch Oxidation in eine optisch weniger dichte Schicht zu überführen.An essential feature of this invention is that the pholographic working or developing solutions use for this! can be made to the electrically conductive layer by oxidation in an optically transfer less dense layer.

Während es bisher bekannt war, daß bestimmte metallische antistatische Schichten im Verlaufe des photographischen Entwicklungsprozesses oxidiert werden, ist es überraschend festzustellen, daß auch die erfindungsgemäß verwendeten leitfähigen Schichten in diesen pholographisehen Arbeits- oder Entwicklungslösungen oxidiert werden können, obgleich sie durch die Schutzschicht vor einer l.ufloxidation geschützt werden. While it was previously known that certain metallic antistatic layers in the course of the are oxidized in the photographic development process, it is surprising to find that the conductive layers used according to the invention in these pholographic working or developing solutions can be oxidized, although they are protected from oil oxidation by the protective layer.

Die Art und Weise und tier Grad, bis zu welchem die optische Dichte der elektrisch leitfähigen Schicht vermindert wird, kann verschieden sein, je nachdem, was für eine wäßrige oxidierende Lösung verwendet wird, sowie je nachdem, wie die elektrisch leilfähigc Schicht und die schützende Schicht aufgebaut sind und je nachdem, was für eine Dicke diese Schichten besitzen.The manner and tier degree to which the optical density of the electrically conductive layer is reduced, can be different, depending on what kind of aqueous oxidizing solution is used, as well as depending on how the electrically conductive Layer and the protective layer are built up and depending on what thickness these layers have.

In den meisten Rillen werden sowohl die elektrisch leitfähige Schicht wie auch die Schutzschichten vollständig vom Schichtträger entfernt, so daß das entwickeile photograph ischc Auizeichnungsmaleri.il keinerlei Diehleanslieg aufgrund des antistatischen Schichlensyslems aufweist. Während in manchen Fällen die Schutzschicht selbst durch die verwendete wäßrige oxidierende Lösung gelöst wird, z. 13. kann eine Metallhalogenidschutzschicht durch einen Komplexbildner, z. 13. ein Phosphat, das in der Entwickliings- oder Arbeitslösung enthalten ist, gelöst werden, ist doch anzunehmen, daß in den meisten Fällen die angewandte wäßrige oxidierende Lösung zunächst die Schutzschicht durchdringt und die elektrisch leitfähige Schicht oxidiert. Im Verlaufe der Oxidation der leilfähigen Schicht wird ihre Adhäsion gegenüber dem Schichtträger vermindert, so daß sowohl die Schutzschicht als auch die leilfähige Schicht vom Schichtträger abgetrennt werden.In most of the grooves, both the electrically conductive layer and the protective layers completely removed from the support, so that the developed photograph is a drawing painting Has no Diehleanliege due to the antistatic Schichlen system. While in some cases the protective layer itself is dissolved by the aqueous oxidizing solution used, e.g. 13. can be a Metal halide protective layer by a complexing agent, e.g. 13. a phosphate, which in the development or Working solution is contained, but it can be assumed that in most cases the applied one aqueous oxidizing solution first penetrates the protective layer and the electrically conductive layer oxidized. In the course of the oxidation of the layer capable of splitting, its adhesion to the layer substrate becomes smaller reduced, so that both the protective layer and the splittable layer separated from the substrate will.

Da die Schutzschichten in für Metallhalogenide typischer Weise eine geringe optische Dichte aufweisen, können die Schutzschichten jedoch auch auf dem Schichtträger belassen werden. In derartigen Rillen kann auch die elektrisch leilfähigc Schicht, mindestens zum Teil, auf dem Material in einem oxidierten, optisch wenijer dichten Zustand verbleiben. Verbleibt das Schichtensystem nach Durchführung des pholographisehen Entwicklungsprozesses auf dem Schichtträger, so soll es vorzugsweise eine optische Dichte von weniger als 0,5 aufweisen. In den meisten Fällen wird das Schiehlensystem vollständig entfernt oder praktisch transparent gemacht, d. h. es weist eine optische Dichte von weniger als 0,01 auf.Since the protective layers typically have a low optical density for metal halides, however, the protective layers can also be left on the substrate. In such grooves The electrically conductive layer can also be, at least in part, on the material in an oxidized, optically less dense condition remain. The layer system remains after the pholographic view has been carried out Development process on the substrate, it should preferably have an optical density of less than 0.5. In most cases the Schiehl system is completely removed or practical made transparent, d. H. it has an optical density of less than 0.01.

Ein weiteres überraschendes Merkmal der Erfindung ist, daß bestimmte Metalle, z. 13. Aluminium, die normalerweise nicht oxidierbar sind, wenn sie in direkten Kontakt mit photographischen Arbeits- oder Entwicklungslösungen kommen, leicht durch Oxidation in einen optisch weniger dichten Zustand überführt werden können, wenn sie in Verbindung mit einer Schutzschicht verwendet werden, welche die Oxidation der Metalle, beispielsweise des Aluminiums, in der Luft verhindert.Another surprising feature of the invention is that certain metals, e.g. 13. Aluminum that normally not oxidizable when in direct contact with photographic work or Developing solutions come, easily converted into an optically less dense state by oxidation when used in conjunction with a protective layer that prevents oxidation of metals, for example aluminum, in the air.

Die erlindungsgemäßen photographischen Materialien weisen somit den Vorteil auf. daß sie ein während der Aufbewahrung oder Lagerung stabiles anlislatisches Schiehlensystem aufweisen und daß die optische Dichte dieses Schichtensystems im Verlaufe des Entwicklungsprozesses des photographischen Materials vermindert werden kann, ohne daß hierzu zusätzliche Verfahrensstufen erforderlich sind.The photographic materials according to the invention thus have the advantage. that they are a during have the keeping or storage stable anlislatic Schiehlen system and that the optical Density of this layer system in the course of the development process of the photographic material can be reduced without the need for additional process steps.

Die Zeichnung dient der näheren Erläuterung der Erfindung. In den F i g. 1 bis 3 sind photographisehe Materialien nach der Erfindung schematisch im Schnitt vor Durchführung des Entwicklungsprozesses dargestellt. The drawing serves to explain the invention in more detail. In the F i g. 1 to 3 are photographs Materials according to the invention shown schematically in section before carrying out the development process.

Im einzelnen sind dargestellt inIn detail are shown in

Fig. 1 ein photographisches Aufzeichnungsmaterial 1, bestehend aus einem dielektrischen Schichtträger 3, vorzugsweise einem aus einem Polymer bestehenden Filmschichlträger, auf welchen aufgetragen sind: ein Schiehlensystem 5 aus einer elektrisch leilfähigen Schicht 7, die direkt auf den Schichtträger aufgetragen ist, und einer Schutzschicht 9 auf tier elektrisch leilfähigen Schicht und eine Haftschicht Il auf der alitieren Seile des Schichlträgers sowie eine lichtempfindliche Emulsionsschicht 13 über dor Haftschicht II;Fig. 1 shows a photographic recording material 1, consisting of a dielectric layer carrier 3, preferably one consisting of a polymer Film layer carrier, on which are applied: a Schiehl system 5 from an electrically conductive Layer 7, which is applied directly to the substrate, and a protective layer 9 on animal electrical leilable layer and an adhesive layer II on the alitieren ropes of the layer carrier as well as a light-sensitive Emulsion layer 13 over the adhesive layer II;

l; i g. 2 ein pholographisches Aufzeichnungsmaterial 15. das in seinem Aufbau dem in I'ig. I dargestellten Aufzeichnungsmaterial entspricht, mit der Ausnahme jedoch, dal.) eine I lal'lscliichl 17 /wischen der elektrisch leilfähigen Schicht 7 und dem Schichtträger 5 angeordnet ist;l ; i g. 2 a pholographic recording material 15. the structure of which in I'ig. I corresponds to the recording material shown, with the exception, however, that an I lal'lscliichl 17 / is arranged between the electrically conductive layer 7 and the layer carrier 5;

Fig. 3 ein photographisches Aufzeichnungsmaterial 19, welches sich von den Aufzeichiiungsmaierialieii 1 und 15 der F i g. 1 und 2 dadurch unterscheidet, daß die Haftschicht 11 /wischen der Fniulsionsschieht Π und dem Schichtträger 3 lortgela.ssen ist und dall das antistatische .Schichtensystem 21 besteht aus einer elektrisch lcitlähigcn Schicht 23, einer ersten Schutzschicht 25 LiiiLi einer /weiten Schutzschicht 27 zwischen der elektrisch leilfiihigen Schicht und dem Schichtträger. Fig. 3 shows a photographic material 19, which differs from the Aufzeichiiungsmaierialieii 1 and 15 of FIG. 1 and 2 differs in that the Adhesive layer 11 / wipe the emulsion layer Π and the layer support 3 is lortgela.ssen and that Antistatic layer system 21 consists of an electrically conductive layer 23, a first protective layer 25 LiiiLi a / wide protective layer 27 between the electrically conductive layer and the substrate.

Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher veranschaulichen.The following examples are intended to illustrate the invention in more detail.

Beispiel IExample I.

Um die überlegene Stabilität eines erfindungsgemäß verwendeten antistatischen Sehiclitcnsystems im Vergleich zu einer ungeschützten metallischen Manganschicht /.;: veranschaulichen, wurde eine Rolle Polyälhylenterephtlialatfilmschichttriigcr, tier eine übliche I luftschicht aus einem Terpolymcren aus Acrylnitril oder Methylacrylat. Vinylidenchlorid und Acrylsäure aufwies, in eine Vakuumbeschichtungsvorrichtung eingespannt. Gleichzeitig wurde in einen Schmelztiegel der ßcschichtungsvorrichlung Magnesiumfluorid gebracht. Die Vakuumkammer der ßeschiehtungsvorrichtung wurde dann geschlossen und bis zur Frziclung eines Unterdrukkcs von 3,2 χ 10 r' Torr leergcpumpl. Das Magnesiumfluorid wurde dann mittels eines Elcktroncnslrahlcs bis zu einem Punkt aufgeheizt, bei welchem es stark sublimicrtc. Nunmehr wurden Schieber, welche das Schichtträgermaterial vor der Einwirkung des Magncsiumfluorides schützten, geöffnet, worauf das Schielitträgermaterial in einer solchen Geschwindigkeit durch den Magnesiumfluoriddampf gezogen wurde, daß sieh Magnesiumfluorid in einer Dicke von 50 Ä auf dem Schichtträger kondensieren konnte. Nach Beendigung des Besehiehümgsprozesses und Abkühlung des Magncsiumfluoridtiegels wurde der Unterdruck aufgehoben.In order to illustrate the superior stability of an antistatic screen system used according to the invention compared to an unprotected metallic manganese layer, a roll of polyethylene terephthalate film layer was used, a conventional air layer made of a terpolymer of acrylonitrile or methyl acrylate. Vinylidene chloride and acrylic acid, mounted in a vacuum coater. At the same time, magnesium fluoride was placed in a melting pot of the layering device. The vacuum chamber of the separating device was then closed and pumped out until a negative pressure of 3.2 10 r 'Torr was reached. The magnesium fluoride was then heated by means of an electric jet to a point at which it was strongly sublimated. Slides protecting the support material from the action of the magncsium fluoride were now opened, whereupon the support material was drawn through the magnesium fluoride vapor at such a speed that magnesium fluoride could condense on the support to a thickness of 50 Å. After the inspection process had ended and the magnesium fluoride crucible had cooled down, the negative pressure was released.

Nunmehr wurde die eine Magnesiunifluoridsehicht aufweisende Schichlträgerrolle zurückgespult und in den Schmelztiegel pulverförmiges Mangan eingeführt. Daraufhin wurde die Vakuumkammer erneut leer gepumpt, worauf der Schmelztiegel mit dem Manganpulver aufgeheizt wurde. Das Schichtträgcrmatcrial wurde dann wiederum durch die Kammer gezogen, so daß sich auf der Magnesiunifluoridsehicht eine Manganschicht abscheiden konnte. Es wurde eine 60 Ä dicke Manganschicht erzeugt.The layer carrier roll, which has a magnesium fluoride layer, has now been rewound and inserted Powdered manganese was introduced into the crucible. The vacuum chamber then became empty again pumped, whereupon the crucible was heated with the manganese powder. The base material was then pulled through the chamber again so that a layer of manganese is formed on the magnesium fluoride layer could deposit. A 60 Å thick manganese layer was produced.

Die eine Hälfte der Rolle wurde nochmals beschichtet, und zwar mit einer /.weiten MagnesiumfluoriH-schicht einer Dicke von 50 Ä, die auf die Manganschicht aufgetragen wurde.One half of the roll was coated again with a /.wide MagnesiumfluoriH-layer a thickness of 50 Å, which was applied to the manganese layer.

In einem weiteren Versuch wurde eine 60 A dicke Manganschicht direkt auf einen Polyethylenterephthalat filmscn ich t träger au fgct ragen.In a further experiment, a 60 Å thick layer of manganese was applied directly to a polyethylene terephthalate Filmscn i t support carriers on fgct.

Alle beschichteten Trägcrmatcrialicn wiesen einen •Oberflächenwiderstand von weniger als 104 Ohm pro Quadrat auf.All coated carrier materials had a surface resistance of less than 10 4 ohms per square.

Das Mangan, das direkt auf den Schichtträger aufgetragen worden war, war vollständig oxidiert, nachdem das Material über Nacht unter normalen Bedingungen liegen gelassen worden war. Das Schichtträgermaterial mit einer Magncsiiimfluoridschicht und einer hierauf aufgetragenen Manganschichi. die nicht überdeckt worden war, zeigte einen geringen Anstieg des Oberflächenwiderstandes, wenn das Material bei normalen Bedingungen zwei Wochen lang aulbewahrt worden war. wohingegen das Schichlträgermaterial mit der Manganschichi und zwei Magucsiunifluoridschichlen keinerlei Veränderung i\cv Oberlläehcnwiderstandscharakteristika zeigte. Wurden die behandelten Schichtträger 12 Wochen lang einer ivlaliven i.uTileuchtigkeit von 5011A) bei einer Temperatur von 50 'C ausgesetzt, so nahm der Oberflächen- idei stand der mit einer Magncsiuniiluoridschichi überschichtcten Probe etwas zu, doch blieb der Oberllächcnwidcistand unter K)4 Ohm pro Quadrat. Im lalle des Prüflings mit einer Mangan- und einer Magnesiumlluoridschiclil nahm der Oberfläclictiwiderstand auf IO1-1 Ohm pm Quadrat zu, d. li. auf einen solch hohen Wert, daß keine wirksamen antistatischen Eigenschaften mehr vorhanden waren.The manganese that was applied directly to the substrate was completely oxidized after the material was left under normal conditions overnight. The support material with a magnetic fluoride layer and a manganese layer applied to it. which had not been masked showed a small increase in surface resistance when the material was kept under normal conditions for two weeks. whereas the layer carrier material with the manganese layer and two Magucsiunifluoridschichlen showed no change in the surface resistance characteristics. If the treated substrates were exposed for 12 weeks to an intrinsic moisture content of 50 11 A) at a temperature of 50 ° C, the surface ideal of the sample coated with a Magncsiluoridschichi increased somewhat, but the surface surface resistance remained below K) 4 Ohms per square. In the case of the test specimen with a manganese and a magnesium fluoride chloride, the surface resistance increased to 10 1 - 1 ohm pm square, i.e. left to such a high level that effective antistatic properties were no longer present.

In den Fällen, in denen zur Erzeugung der Haflscliichten das Acrylnilrilresle enthaltende Terpolymcr verwendet wurde, lagen die Anfangs-Oberflächenwidcrständc bei weniger als K)1 Ohm pro Quadrat, wohingegen bei Verwendung von 1 laftschichten aus dem Methacrylatreste enthallenden Terpolyniercn Anfangs-Obcrfläclieiiwiderstände von K)1 bis H)4 Ohm pro Quadrat gemessen wurden. Andererseits lieferten die beiden Haftschichten Prüflinge mit vergleichbaren Eigenschaften.In those cases in which the acrylic resin containing terpolymer was used to produce the adhesive, the initial surface resistance was less than K) 1 ohm per square, whereas when using layers of terpolymer containing methacrylate residues, the initial surface resistance was K) 1 to H) 4 ohms per square were measured. On the other hand, the two adhesive layers provided test specimens with comparable properties.

Die beschriebenen antistatischen Schichisysteme lösten sich vollständig in weniger als einer Minute in einer üblichen wäßrigen alkalischen Enlwicklcrlösung eines pH-Wertes von 9 bis 10 und der im folgenden angegebenen Zusammensetzung:The described antistatic coating systems completely dissolved in less than a minute a customary aqueous alkaline developing solution with a pH of 9 to 10 and that below specified composition:

Wasser, etwa 50"C 500 ml
p-Methylaniinophenolsulfai 2,0 g
Water, about 50 "C 500 ml
p-methylaniinophenolsulfai 2.0 g

Natriumsiilfit, entwässert 90,0 g
Hydrochinon 8,0 g
Sodium silicate, dehydrated 90.0 g
Hydroquinone 8.0 g

Natriumcarbonat, Monohydrat 52,5 g
Kaliumbromid 5,0 g
Sodium carbonate, monohydrate 52.5 g
Potassium bromide 5.0 g

Mit kaltem Wasser
aufgefüllt auf 1 Liter
With cold water
made up to 1 liter

In einer weiteren Versuchsreihe wurden auf die nicht mit einer Metallschicht versehene Seile der modifizierten Schichtträger photographisclic Gclatine-Silbcrhalogcnidemulsionsschichtcn aufgetragen. Es zeigte sich, daß die erfindungsgemäß verwendeten antistatischen Scliiclitsystcmc während des Entwicklungsprozesses der belichteten Aufzciehnungsniatcrialicn entfernt wurden, ohne daß der Entwicklungsprozeß gestört wurde oder daß die Qualität der erhaltenen pholographisclien Materialien negativ beeinflußt wurde.In a further series of tests were not on the ropes provided with a metal layer of the modified support photographic Gclatine silver halide emulsion layers applied. It was found that the antistatic scliiclitsystcmc used in the invention during the development process the exposed recordings have been removed, without the development process being disturbed or the quality of the pholographisclien obtained Materials was adversely affected.

Beispiel 2Example 2

Dies Beispiel veranschaulicht die Herstellung eines photographischen Materials unter Verwendung einer elektrisch lcitfähigen Wismutschicht.This example illustrates the preparation of a photographic material using a electrically conductive bismuth layer.

Nach dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren wurde auf einen üblichen Cclluloscacetalfilmschichtträger ein Magnesiumfluond-Wistiiut-Magnesiumfluorid-Schichtcnsystem aufgetragen. Dabei wurde das in Beispiel 1 beschriebene Verfahren derart modifiziert, daß die Wismutschicht und die Magncsiuinfluoriddeckschicht nacheinander in einem Bcschichuingsvorgang unter Verwendung von zwei mittels Elektronenstrahlen aufgeheizten Schmelztiegel durchgeführt wurde. Das auf diese Weise hergestellte dünne Filmsehichtlrägermaterial wies eine 50 A dicke Magnesiumfluoridschicht, eine 70 Ä dicke Wismulscliicht und eine 50 Ä dicke Deckschicht aus Magnesiumlluorid auf.Following the procedure described in Example 1, a conventional Cclloscacetal film support a magnesium fluoride-Wistiiut-magnesium fluoride layer system applied. The method described in Example 1 was modified in such a way that that the bismuth layer and the Magncsiuinfluoriddeckschicht sequentially in one coating process using two electron beams heated crucible was carried out. The thin film base material produced in this way had a 50 Å thick magnesium fluoride layer, a 70 Å thick bismuth layer and a 50 Å thick Cover layer made of magnesium fluoride.

Das Schichtensystem erwies sich in üblichen wäßrigen alkalischen Fintwicklerlösungen als nicht löslich doch wurde es in weniger als einer Minute in einemThe layer system proved to be insoluble in conventional aqueous alkaline developer solutions yet it turned into one in less than a minute

2%igen Essigsäure-Unterbrecherbad mit einem pH-Wert von weniger als 6 gelöst.2% acetic acid interrupter bath with a pH value of less than 6 dissolved.

Im frischen Zustand besaß das pholographische Material einen Widerstand von 4,2 χ 103 Ohm pro Quadrat. Nach einer IOwöchken Aufbewahrung bei einer 50%igen relativen Luftfeuchtigkeit und 500C nahm der Oberflächenwiderstand auf 5,0 χ 105 Ohm pro Quadrat zu. Obgleich somit eine gewisse Veränderung des Oberflächenwiderstandes des Schichtensystems erfolgte, ist doch der zuletzt gemessene Oberflächenwiderstand noch so gering, daß ein ausgezeichneter Schutz vor statischen Aufladungen erzielt wird.When fresh, the pholographic material had a resistance of 4.2 10 3 ohms per square. After a IOwöchken storage at a 50% relative humidity and 50 0 C, the surface resistance decreased to 5.0 χ 10 5 ohms per square. Although this resulted in a certain change in the surface resistance of the layer system, the surface resistance measured last is still so low that excellent protection against static charges is achieved.

In einer weiteren Versuchsreihe wurde eine strahlungsempfindliche Gelatine-Silberhalogenidemulsionsschicht auf die der antistatischen Beschichtung entgegengesetzte Seite des Schichtträgers aufgetragen. Das Material ließ sich nach der Belichtung ohne Benachteiligung durch das antistatische Schichtensystem entwikkeln. In a further series of tests, a radiation-sensitive Gelatin-silver halide emulsion layer applied to the side of the substrate opposite the antistatic coating. That After exposure, material could be developed without being disadvantageous from the antistatic layer system.

Beispiel 3Example 3

Dies Beispiel veranschaulicht die Verwendung eines Schichtensystems mit einer leitfähigen Aluminiumschichl. This example illustrates the use of a layer system with a conductive aluminum layer.

Nach dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren wurden auf einen Polyäthylenterephthalatfilmschichttra'ger Aluminiumschichten verschiedener Schichtstärke aufgetragen, worauf auf die erzeugten Aluminiumschichten unmittelbar Magnesiumfluoridschichten aufgetragen wurden. Es wurden dann die Oberflächenwiderstände der beschichteten Materialien ermittelt, worauf Proben der beschichteten Materialien bei einer relativen Luftfeuchtigkeit von 50% und einer Temperatur von 500C aufbewahrt wurden. Nach einer Aufbewahrungsdauer von 3 bzw. 8 Monaten wurden die Oberflächenwiderstände erneut gemessen. Die erhaltenen Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle I zusammengestellt.According to the process described in Example 1, aluminum layers of various thicknesses were applied to a polyethylene terephthalate film carrier, after which magnesium fluoride layers were applied directly to the aluminum layers produced. The surface resistivities of the coated materials were then determined, after which samples were stored the coated material at a relative humidity of 50% and a temperature of 50 0 C. After a storage period of 3 or 8 months, the surface resistances were measured again. The results obtained are summarized in Table I below.

Tabelle ITable I.

Dicke derThickness of the Schichtenlayers FrischesFresh Oberfl iichenwiderstandSurface resistance nachafter 700700 in Äin Ä Materialmaterial in Ohm/Quadratin ohms / square 3 Monaten 8 Monaten3 months 8 months 4 0004,000 AI-AI- MgFz-MgFz- nachafter 100100 2 6002,600 Schichtenlayers SchichtcnLayers I 800I 800 120120 3737 3131 2525th 320320 > 1012 > 10 12 3434 6262 6565 5858 4040 8383 4040 2.0 · 1052.0 105 6666 3838 2525th 2222nd 3535 200200

In der folgenden Tabelle Il sind die zur vollständigen Lösung der Schichtensysteme benötigten Zeiten in Minuten angegeben.In the following table II are the complete Solution of the layer systems, the times required are given in minutes.

Tabelle IlTable Il

Dicke der Schichten in ÄThickness of the layers in Ä

Al-Schichl Al-Schichl

Zur vollständigen Lösung der Schichtensysteme benötigte
Zeit in Minuten
Required for the complete solution of the layer systems
Time in minutes

37
34
40
66
22
50
50
37
34
40
66
22nd
50
50

MgF2-MgF 2 - FrischesFresh 3 Monate altes3 month old Schichtlayer Materialmaterial Materialmaterial 3131 3,53.5 3.53.5 6262 2,52.5 >10,0> 10.0 8383 3,53.5 >10,0> 10.0 3838 5,05.0 5.05.0 3535 1,31.3 1,31.3 5050 3.53.5 5,05.0 - 5,05.0 >10,0> 10.0

Sämtliche Schichtensysteme, mit Ausnahne des Systems mit der dünnsten Aluminiumschieht, wiesen nach 8 Monaten noch einen ausgezeichneten Oberflächenwiderstand auf. Jedoch auch das Schichtensystem mit der dünnsten Aluminiumschieht wies nach 3monatigcr Lagerung noch einen zufriedenstellenden Obcrflächcnwiderstand auf.All layer systems, with the exception of the system with the thinnest aluminum layer, showed after 8 months it still has an excellent surface resistance. But also the layer system with the thinnest aluminum layer, it still had a satisfactory surface resistance after 3 months of storage on.

In weiteren Versuchen wurden Prüflinge der hergestellten Materialien in einer wäßrigen alkalischen Entwicklerlösung der in Beispiel 1 angegebenen Zusammensetzung mit einem pH-Wert von 9 bis 10 und einer Temperatur von 23°C gebildet, und zwar unmittelbar nach ihrer Herstellung und nach einer Jmonatigen Aufbewahrungszeit. In dieser Versuchsreihe wurde ein Schichtträger mit einer ungeschützten Aluminiumschieht einbezogen.In further experiments, test specimens of the materials produced were placed in an aqueous alkaline medium Developer solution of the composition given in Example 1 with a pH of 9 to 10 and a temperature of 23 ° C, immediately after their preparation and after a Jmonth retention period. In this series of experiments a support with an unprotected aluminum sheet was included.

In all den Fällen, in denen die Schutzschicht eine Dicke von weniger als 50 Ä aufwies, war keine erkennbare Zunahme der zur Lösung des Schichtensystems vom Schichtträger erforderlichen Zeitspanne erkennbar. In den Fällen, in denen die Schutzschicht eine Dicke von über 50 Ä aufwies, ergab sich eine geringfügige Zunahme der Zeitspanne, die zur Entfernung des Schichtensystems erforderlich war. Bei einem Vergleich von Materialien mit AluminiumschichtenIn all those cases where the protective layer has a Thickness of less than 50 Å, there was no noticeable increase in the solution of the layer system time required by the layer support recognizable. In those cases where the protective layer greater than 50 Å in thickness, there was a slight increase in the time taken for removal of the layer system was required. When comparing materials with aluminum layers

jo einer gleichen Dicke isl zu beobachten, daß die Schutzschicht die Zeitspanne vermindert, die für die Entfernung der Aluminiumschieht erforderlich ist, und zwar sowohl im Falle eines frischen Materials wie auch im Falle eines 3 Monate lang gelagerten Materials.jo an equal thickness can be observed that the protective layer reduces the time required for the Removal of the aluminum sheet is required, both in the case of a fresh material as well in the case of material stored for 3 months.

J5 Obgleich längere Zeitspannen erforderlich sind, um Schichtensysteme mit Magnesiumfluoridschulzschichten einer Dicke von über 50 Ä vollständig zu entfernen, ergibt sich doch aus Tabelle I, daß diese Schichlensystcme zufriedenstellende Oberflächenwiderstandsweric über längere Zeitspannen hinaus aufweisen und leicht von frischem Material entfernbar sind. Obgleich diese Schichtensysteme des weiteren nicht vollständig in weniger als 10 Minuten nach einer 3monatigen Lagerung entfernt werden, werden ihre optischen Dichten doch beträchtlich innerhalb dieser Zeitspanne vermindert. Entsprechende Ergebnisse" werden dann erhalten, wenn Aluminium auf einem Celluloscaeetatfilmschichtträger niedergeschlagen wird. Da Aluminium nicht mit Filmschichtträgermaterialien reagiert, isl keine schützende Unterschicht zwischen Schichtträger und Aluminiumschieht erforderlich.J5 Although longer periods of time are required to create layer systems with magnesium fluoride Schulz layers a thickness of more than 50 Å can be seen from Table I that this Schichlensystcme exhibit satisfactory surface resistance values over long periods of time and easily are removable from fresh material. Although these layer systems are also not completely in removed less than 10 minutes after a 3 month storage period, their optical properties become However, densities decreased considerably within this period of time. Appropriate results "will then obtained when aluminum on a cellulose acetate film support is knocked down. Since aluminum does not react with film substrate materials, isl no protective sub-layer required between substrate and aluminum.

in einer weiteren Versuchsreihe wurde auf die der antistatischen Beschichtung entgegengesetzte Seite der Schichtträger eine Gelatine-Silberchloridbromidemulsionsschicht aufgetragen. Derartige Aufzcichnungsmaterialien wiesen einen hervorragenden Schutz vor statischen Entladungen auf, da die Oberflächenwiderständc derartiger Materialien unter ΙΟ12 Ohm pro Quadrat lagen. Die pholographischen CharakteristikaIn a further series of tests, a gelatin-silver chlorobromide emulsion layer was applied to the side of the support opposite the antistatic coating. Such recording materials exhibited excellent protection against static discharges, since the surface resistance of such materials was less than 12 ohms per square. The pholographic characteristics

M) wurden durch die Gegenwart des antistatischen Schichtensystems nicht beeinträchtigt und auch nicht du· ?h die Entfernung des antistatischen Schichtensystems. M) were not impaired by the presence of the antistatic layer system and neither were the removal of the antistatic layer system.

(r> B e i s ρ i e I 4 (r> B eis ρ ie I 4

Dies Beispiel veranschaulicht die Verwendung eines antistatisch wirksamen Schichtensystems aus einer leitfähigen Silberschicht und einer Magnesiumfluorid-This example illustrates the use of an antistatic layer system consisting of a conductive silver layer and a magnesium fluoride

Schutzschicht.Protective layer.

In einer Vakuumbeschichiungsvorrichtung, in der das auf das Schichtträgermaterial aufzudampfende Material mittels eines Elektronenstrahls verdampft werden konnte, wurde ein Satz Rollen installiert, um welche ein endloses Band aus einem polymeren Filmschichtträgermaterial geführt werden konnte. Die Rollen ließen sich durch ein Kupplungssystem und ein mechanisches Antriebssystem außerhalb der Vakuumkammer antreiben. Das endlose Band ließ sich dabei hinter einer öffnung in einer Maske fortbewegen, die zwischen der Unterseite des Bandes und dem Behältnis mit dem zu verdampfenden Material angeordnet war. Die Öffnung wurde durch einen Schieber abgedeckt.In a vacuum coating device in which the material to be evaporated onto the substrate material by means of an electron beam A set of rollers was installed around which an endless belt of polymeric film backing material was installed could be performed. The roles could be adjusted by a coupling system and a mechanical one Drive the drive system outside the vacuum chamber. The endless tape left behind one Move the opening in a mask that is between the underside of the tape and the container with the to evaporating material was arranged. The opening was covered by a slider.

Im Falle dieses Beispiels bestand das endlose Band aus einem Polyäthylenterephthalatfilmschichtträger. In den Schmelztiegel der Beschichtungsvorricntung wurde reines Silber eingetragen, worauf die Vakuumkammer auf einen Druck von 3,0 χ 10~5 Torr leergepumpt wurde. Das Silber wurde mittels eines Elektronenstrahles bis zum Verdampfungspunk! erhitzt, worauf der Schichtträger mit einer solchen Geschwindigkeit um die Rollen laufen gelassen wurde, daß jeder Punkt des Schichtträgers die Öffnung 20mal pro Minute passierte. Nachdem der Schieber über der Öffnung geöffnet worden war, wurde das Silber auf dem Schichtträger in einer Schichtdicke von 25 Ä niedergeschlagen. Daraufhin wurde der Schieber wieder geschlossen, worauf nach Abkühlen des Schmelztiegels mit dem Silber die Kammer wieder auf Atmosphärendruck gebracht wurde.In the case of this example, the endless belt consisted of a polyethylene terephthalate film base. In the melting pot of Beschichtungsvorricntung pure silver was added, and then the vacuum chamber was evacuated to a pressure of 3.0 χ 10 -5 Torr. The silver was by means of an electron beam up to the evaporation point! heated, after which the support was allowed to revolve around the rollers at such a speed that each point on the support passed the opening 20 times per minute. After the slide above the opening had been opened, the silver was deposited on the layer support in a layer thickness of 25 Å. The slide was then closed again, whereupon the chamber was brought back to atmospheric pressure after the crucible with the silver had cooled down.

Nunmehr wurde in den Schmelztiegel Magnesiumfluorid eingeführt, worauf eine Maske derart auf die Öffnung aufgebracht wurde, daß nur die eine Hälfte des Schichtträgers exponiert werden konnte. Die Kammer wurde von neuem auf einen Druck von 3 χ 10-6 Torr leergepumpt, worauf die Hälfte der Breite des Schichtträgermaterials mit einer Magnesiumfluoridschicht einer Schichtdicke von 50 Ä beschichtet wurde.Magnesium fluoride was then introduced into the crucible, whereupon a mask was applied to the opening in such a way that only one half of the substrate could be exposed. The chamber was evacuated again to a pressure of 3 χ 10- 6 Torr, after which half of the width of the substrate material was coated with a magnesium fluoride layer having a layer thickness of 50 Å.

Prüflinge der beschichteten Materialien wurden dann 6 Wochen einer 50%igen relativen Luftfeuchtigkeit bei 500C ausgesetzt. Die im Falle von frischen Materialien und gelagerten Materialien ermittelten Oberflächenwiderstände sind in der folgenden Tabelle III zusammgengestellt. Test specimens of the coated materials were then exposed to 50% relative humidity at 50 ° C. for 6 weeks. The surface resistances determined in the case of fresh materials and stored materials are compiled in Table III below.

Tabelle IIITable III FrischesFresh Lager-EigenschaftenWarehouse properties SchichttypShift type Materialmaterial Nach 6 Wochen langerAfter 6 weeks longer Lagerungstorage Oberflächensurfaces Ober flächenwiderstandSurface resistance widerstand inresistance in in Ohm/Quadratin ohms / square Ohm/QuadratOhms / square 2828 >10i2> 10i2 Nur SilberJust silver 2525th 6060 Ae + MeF2Ae + MeF2

2020th

Beide Abschnitte des beschichteten Polyäthylenterephthalatfilmschichtträgers erwiesen sich als in wäßri- w> gen alkalischen Entwicklerlösungen unlöslich. Jedoch zeigte sich, daß die optische Dichte sowohl der ungeschützten Silberschicht wie auch der durch eine Magnesiumfluorid geschützten Silberschicht leicht durch Einwirkung eines üblichen Bleichbades vermin- μ den werden konnte, beispielsweise eines wäßrigen Natriumferricyanidbleichbades des aus der US-Patentschrift 30 46 129 bekannten Typs.Both sections of the coated polyethylene terephthalate film support were found to be insoluble in aqueous alkaline developer solutions. However, it was found that the optical density slightly vermin- both the unprotected silver film as well as the protected by a magnesium fluoride layer of silver by the action of a conventional bleach bath μ to be able, for example, an aqueous Natriumferricyanidbleichbades of known from US-Patent 30 46 129 type.

Silberhalogenid, das auf dem Filmmaterial während der Behandlung in dem Bleichbad niedergeschlagen wurde, ließ sich leicht unter Verwendung eines üblichen Fixierbades auf Natriumthiosulfntbasis mit einem pH-Wert von weniger als 6, beispielsweise einem Bad der folgenden Zusammensetzung:Silver halide deposited on the film material during treatment in the bleach bath was easily removed using a conventional sodium thiosulfite based fixer with a pH less than 6, for example a bath with the following composition:

IUIU

1515th

Wasser, etwa 50°CWater, about 50 ° C 600 mi600 mi NatriumthiosulfatSodium thiosulfate 240,0 g240.0 g Natriumsulfit, entwässertSodium sulfite, dehydrated 15,0 g15.0 g Essigsäure, 28% igAcetic acid, 28% 48,0 ml48.0 ml Borsäure, kristallinBoric acid, crystalline 7.5 g7.5 g KaliumalumPotassium alum 15,0 g15.0 g Mit kaltem WasserWith cold water aufgefülltauffilled up to 1,0 LiI1.0 LiI

entfernen.remove.

Das Silberhalogenid entstand dabei durch Umsetzung von Natriumbromid des Bleichbades mit dem Silber der leitfähigen Schicht.The silver halide was created by reacting sodium bromide in the bleaching bath with the silver in the conductive layer.

Das antistatische Schichtensystem ließ sich vollständig im Verlaufe eines photographischen Entwicklungsverfahrens entfernen und störte in keiner Weise die optische Dichte des entwickelten photographischen Materials. Die Magnesiumfluoridschutzschicht störte die Lösung des Silbers in den photographischen Arbeitslösungen in keiner Weise.The antistatic layer system could be completely removed in the course of a photographic development process and did not interfere in any way optical density of the developed photographic material. The magnesium fluoride protective layer was a problem the solution of silver in the photographic working solutions in no way.

Beispiel 5Example 5

Nach dem in Beispiel 4 beschriebenen Verfahren wurde auf einen Polyäthylenterephthalatschichtträger ohne Haftschicht eine 60 A dicke Silberschicht aufgetragen. In den mit einem Elektronenstrahl beheizbaren Schmelztiegel wurde Ceriumfluorid eingebracht.Following the procedure described in Example 4 was on a polyethylene terephthalate support A 60 A thick silver layer was applied without an adhesive layer. In the heatable with an electron beam Cerium fluoride was placed in the crucible.

Auf eine halbe Seite des Schichtträgers wurde dann eine 200 Ä dicke Ceriumfluoridschichl aufgedampft.A 200 Å thick cerium fluoride layer was then evaporated onto half a side of the layer support.

In weiteren Versuchen wurden auf Polyäthylentcrephthalatschichtträgern 60 Ä dicke Silberschichten niedergeschlagen, worauf diese mit einer 400 Ä dicken Calciunif!uoridschichl, einer 300 Ä Bariumfluoridschicht oder einer 400 Ä dicken Aluminiumnalriumfluoridschicht (Cryolitschicht) beschichtet wurden.In further experiments were on polyethylene trephthalate substrates 60 Å thick silver layers were deposited, whereupon they were 400 Å thick Calciunif! Uoridschichl, a 300 Å barium fluoride layer or a 400 Å thick aluminum aluminum fluoride layer (Cryolite layer) were coated.

In allen Fällen schützte die Metallfluoriddeckschicht die Silberschicht vor einem Abrieb und vor einem Abbau während der Lagerung.In all cases the metal fluoride topcoat protected the silver layer from abrasion and from abrasion Degradation during storage.

Sämtliche hergestellten Materialien wiesen einen Oberflächenwiderstand von weniger als 10 Ohm pro Quadrat auf, d. h. einen Oberflächenwiderstand, der mehr als ausreichend ist, um dem Material ausgezeichnete antistatische Eigenschaften zu verleihen.All of the materials produced had a surface resistance of less than 10 ohms each Square on, d. H. a surface resistance that is more than sufficient to make the material excellent to impart antistatic properties.

Die Schichtsysteme erwiesen sich in einem Entwickler des in Beispiel i angegebenen Typs ais unlöslich, ließen sich jedoch in weniger als 10 Sekunden in einem Bleichbad der in Beispiel 4 angegebenen Zusammensetzung ausbleichen. Das sich im Bleichbad bildende Silberbromid löste sich in weniger als 5 Sekunden in dem Fixierbad der angegebenen Zusammensetzung.The layer systems proved to be insoluble in a developer of the type specified in Example i, however, could be used in a bleach bath of the composition given in Example 4 in less than 10 seconds bleach. The silver bromide that formed in the bleach bath dissolved in less than 5 seconds the fixer of the specified composition.

In weiteren Versuchen wurden auf Polyäthylenterephthalatschichtträgern in der beschriebenen Weise elektrisch leitfähige Kupferschichten niedergeschlagen sowie Metallfluoridschutzschichten. In allen Fällen wurden Oberflächenwiderstände von unter 105 Ohm pro Quadrat im Falle von frisch beschichtetem und über längere Zeitspannen hinweg aufbewahrtem Material beobachten. Des weiteren ließ sich die optische Dichte dieser Schichtensysteme leicht mittels wäßriger oxidierender photographischer Arbeitslösungen vermindern.In further experiments, electrically conductive copper layers and protective metal fluoride layers were deposited on polyethylene terephthalate carriers in the manner described. In all cases, surface resistivities of less than 10 5 ohms per square were observed in the case of freshly coated material and material stored for long periods of time. Furthermore, the optical density of these layer systems could easily be reduced by means of aqueous oxidizing photographic working solutions.

In einer weiteren Versuchsreihe wurden auf dieIn a further series of tests, the

Schichtträgerseilcn, die nichl beschichtet worden waren, strahlungsempfindliche Kolloidschichten aufgetragen. In allen Fällen erwies sich, daß die erhaltenen photographischen Aufzeiehnungsmuterialien vor statischen Aufladungen ausgezeichnet geschützt waren.Support ropes that have not been coated radiation-sensitive colloid layers were applied. In all cases it was found that the obtained photographic recording materials before static Charges were excellently protected.

Auch wurden die photographische η Eigenschaften der Materialien weder durch das Vorhandensein der antistatisch wirksamen Schichten noch durch die Entfernung dieser Schichten während der Entwicklung der Materialien nachteilig beeinflußt.The photographic properties of the Materials neither by the presence of the antistatic layers nor by the Removal of these layers during the development of the materials is adversely affected.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings

Claims (9)

Patentansprüche:Patent claims: 1. Photographisches Material mit einem hydrophoben dielektrischen Schichtträger, einer untistatisch wirksamen, elektrisch lcitfühigen Metallschicht mit einem Oberflächenwidersland von weniger als lO'-'Ohm pro Quadrat, die durch Oxidation in eine vergleichsweise weniger lcitfühige Schicht einer vergleichsweise geringeren optischen Dichte überführbar ist, mindestens einer sirahlungsempfindlichcn Schicht sowie gegebenenfalls Haft-, Zwischen- und/oder Deckschichten, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens die dein Schichtträger abgewandte Seite der elektrisch leilfähigen Schicht mit einer für oxidierende wäßrige Lösungen permeablen Schutzschicht aus Magnesium-, Calcium-, Barium·, Cerium- oder Nalriumaluminiumfluorid bedeckt ist.1. Photographic material with a hydrophobic dielectric substrate, a non-static, electrically conductive metal layer with a surface contradiction of less than 10 '-' ohms per square, which by oxidation into a a comparatively less conductive layer with a comparatively lower optical density can be transferred is at least one sensitive to radiation Layer and optionally adhesive, intermediate and / or top layers, characterized in that that at least the side of the electrically conductive layer facing away from the layer support with a protective layer made of magnesium, calcium, Barium, cerium or sodium aluminum fluoride is covered. 2. Photographisches Material nach Anspruch I, dadurch gekennzeichnet, da/3 die Metullfluoridschicht eine Dicke von weniger als 500 A, insbesondere weniger als 50 Ä, aufweist.2. Photographic material according to claim I, characterized in that the metal fluoride layer is formed has a thickness of less than 500 Å, in particular less than 50 Å. 3. Photographisches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es zwischen der elektrisch leitfähigen Schicht und dem Schichtträger eine zweite Schutzschicht mit einer optischen Dichte von wenige als 0,5, vorzugsweise von weniger als 0,01, aufweist.3. Photographic material according to claim 1, characterized in that it is between the electrically conductive layer and the support a second protective layer with an optical density of less than 0.5, preferably less than 0.01. 4. Photographisches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es einen Schichtträger aus einem Polyalkylenterephthalat oder Celluloseacetat aufweist.4. Photographic material according to claim 1, characterized in that it is a support comprises a polyalkylene terephthalate or cellulose acetate. 5. Pholographisches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die elektrisch leilfähige Schicht einen Oberflächenwiderstand von weniger als 10" Ohm/Quadrat, insbesondere weniger als 10"' Ohm/Quadrat aufweist.5. Pholographic material according to claim 1, characterized in that the electrically conductive Layer has a surface resistance of less than 10 "ohms / square, especially less than 10 "'ohms / square. 6. Photographisches Material nach Anspruch I, dadurch gekennzeichnet, daß es eine Metallschicht aus Silber, Aluminium, Wismut, Mangan, Kupfer oder Mischungen hiervon aufweist.6. Photographic material according to claim I, characterized in that it is a metal layer of silver, aluminum, bismuth, manganese, copper or mixtures thereof. 7. Photographisches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, da(3 es als strahliingsempfindliche Schicht eine Silbersalzschicht, insbesondere Silberhalogenidemulsionsschieht, aufweist.7. Photographic material according to claim 1, characterized in that (3 it as radiation-sensitive Layer has a silver salt layer, in particular silver halide emulsion layer. 8. Photographisches Material nach Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß es als elektrisch leitfähig Metallschicht eine von Oberflächenoxiden freie Aluminiumschicht und als Metallhalogenidschicht eine Magnesiumfluorid- oder Natriumaluminiumfluoridschicht aufweist.8. Photographic material according to claims 1 to 7, characterized in that it is electrical conductive metal layer an aluminum layer free of surface oxides and as a metal halide layer has a magnesium fluoride or sodium aluminum fluoride layer. 9. Photographisches Material nach Anspruch I, dadurch gekennzeichnet, daß die elektrisch leitfahl· ge Metallschicht eine Dicke von unter lOOOÄ aufweist.9. Photographic material according to claim I, characterized in that the electrically conductive ge metal layer has a thickness of less than 100E.
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