DE2304380C3 - Electrodes with a Delafossit surface - Google Patents

Electrodes with a Delafossit surface

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Description

2525th

3030th

Für zahlreiche elektrochemisch? Reaktionen, wie die Elektrolyse von Solen, Chlorwasserstoffsäure und Sulfaten, die Elektroplattierung, elektrolytische Gewinnung, elektrolytische Herstellung von Metallpulvern, elektrolytische Reinigung, elektrolytische Beizung und elektrochemische Erzeugung von elektrischer Kraft werden nichtverbrauchbare Anoden benötigt Bisher sind Graphitanoden für solche Zwecke verwendet worden, insbesondere für die Elektrolyse von Solen und die Elektrolyse von Chlorwasserstoffsäure. In jüngerer Zeit sind für solche Verfahren Elektroden entwickelt worden, die eine geeignete elektrisch leitende Grundlage oder Substrat und einen elektrokatalytischen Überzug darauf besitzen. Typischerweise bilden solche elektrokatalytische Überzüge die Metalle der Platingruppe, wie z. B. Platin, Osmium, Iridium, Ruthenium, Palladium und Rhodium und ihre Oxide.For numerous electrochemical? Reactions such as the electrolysis of brines, hydrochloric acid and Sulfates, electroplating, electrolytic mining, electrolytic manufacturing of metal powders, electrolytic cleaning, electrolytic pickling and electrochemical generation of electrical power Non-Consumable Anodes Are Required So far, graphite anodes have been used for such purposes especially for the electrolysis of brines and the electrolysis of hydrochloric acid. In younger For such processes, electrodes have been developed which have a suitable electrically conductive base or have a substrate and an electrocatalytic coating thereon. Typically such electrocatalytic coatings the metals of the platinum group, such as. B. platinum, osmium, iridium, ruthenium, Palladium and rhodium and their oxides.

Aus DE-OS 18 16 820 sind Elektroden bekannt, bei denen der elektrokatalytische Überzug mit einer anorganischen Glasur kombiniert ist. Der Nachteil besteht darin, daß dadurch ein Teil der aktiven Elektrodenoberfläche blockiert wird und die Elektroden eine geringere Effizienz aufweisen.From DE-OS 18 16 820 electrodes are known in which the electrocatalytic coating with a inorganic glaze is combined. The disadvantage is that it makes some of the active The electrode surface is blocked and the electrodes are less efficient.

DD-PS 77 963 beschreibt Elektroden mit Oberflächen aus Oxyden der Platinmetallgruppe. Diese Oberflächen weisen eine geringe elektrische Leitfähigkeit auf und sind bei den üblichen Belastungen noch nicht ausreichend beständig gegenüber chemischen Angriffen. boDD-PS 77 963 describes electrodes with surfaces made of oxides of the platinum metal group. These surfaces have a low electrical conductivity and are not yet sufficient with the usual loads resistant to chemical attack. bo

Aufgabe der vorliegenden Erfindung war es, die Nachteile der bekannten Elektroden zu vermeiden und eine Anode zu schaffen, die auch bei hohen Stromdichten eine niedrige Chlorüberspannung aufweist und unter Betriebsbedingungen auch längere Zeiten chemischen Angriffen widersteht.The object of the present invention was to avoid the disadvantages of the known electrodes and to create an anode that has a low chlorine overvoltage and below even at high current densities Resists chemical attack for long periods of time in operating conditions.

Es wurde nun gefunden, daß eine besonders geeignete Anode für die Durchführung von elektrochemischen Reaktionen erhalten wird, wenn eine Delafossitoberfläche auf einem geeigneten elektrisch leitenden Substrat oder Basis aufgebracht wird Delafossite sind Oxide von hoher elektrischer Leitfähigkeit von der stöchiometrisehen FormelIt has now been found that a particularly suitable anode for carrying out electrochemical Reactions is obtained when using a delafossite surface applied to a suitable electrically conductive substrate or base are oxides of Delafossite high electrical conductivity from the stoichiometric formula

ABO2 SUBSCRIPTION 2

wobei in dieser Formel A Platin oder Palladium ist B ist typischerweise Chrom, Kobalt oder Rhodium.where in this formula A is platinum or palladium, B is typically chromium, cobalt or rhodium.

Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist eine Anode gemäß Patentanspruch 1.The present invention relates to an anode according to claim 1.

Die Anoden weisen bei ihrer Verwendung in Elektrolysezellen eine Chlorüberspannung bis zu 033 Volt be! einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 auf.When used in electrolysis cells, the anodes have a chlorine overvoltage of up to 033 volts! a current density of 53.82 amps per dm 2 .

Delafossite schließen auch nichtstöchiometrische Verbindungen ein, die mit den stöchiometrischen Delafossiten isostrukturell sind. Ein geeignetes elektrisch leitendes Substrat ist ein elektrisch leitendes Substrat, das im wesentlichen nicht durch den Elektrolyten angegriffen wird.Delafossite also include non-stoichiometric compounds that are compatible with the stoichiometric Delafossites are isostructural. A suitable electric conductive substrate is an electrically conductive substrate that is essentially not covered by the Electrolytes are attacked.

Wie schon ausgeführt wurde, besitzen die Anoden nach der Erfindung eine Delafossitoberfläche auf einem elektrisch leitenden Substrat Die Delafossite besitzen eine einzigartige Kristallstruktur, die derjenigen des natürlichen Mineral's Delafossit (CuFeO2) ähnlich ist. wobei die geringen Unterschiede in der Kristallstruktur auf die geringfügig verschiedenen Radien der Ionen zurückzuführen sind.As already stated, the anodes according to the invention have a delafossite surface on one electrically conductive substrate The Delafossite have a unique crystal structure, that of the natural mineral's delafossite (CuFeO2) is similar. the small differences in the crystal structure being due to the slightly different radii of the ions are due.

Delafossite ergeben besonders befriedigende Elektrodenmaterialien, da sie eine hohe elektrische Leitfähigkeit, die derjenigen von Metallen vergleichbar ist, mit einer hohen Beständigkeit gegen einen chemischen Angriff, die derjenigen vGn feuerfesten Metalloxiden vergleichbar ist, vereinigen. So liegt z. B. die elektrische Leitfähigkeit von komprimierten Pulvern des Platin- und Palladium-Delafossits in der Größenordnung von etwa 103 bis 10* (Ohm-Zentimetef)-'. Derartige Platin- und Palladium-Delafossite sind zusätzlich auch beständig gegen den Angriff von starken Säuren, wie Königswasser bei 70° C und auch gegen nascierendes Chlor.Delafossite results in particularly satisfactory electrode materials because they combine high electrical conductivity, which is comparable to that of metals, with high resistance to chemical attack, which is comparable to that of refractory metal oxides. So is z. B. the electrical conductivity of compressed powders of platinum and palladium delafossite in the order of about 10 3 to 10 * (ohm-centimeter) - '. Such platinum and palladium delafosites are also resistant to attack by strong acids, such as aqua regia at 70 ° C and also to nascent chlorine.

Die Delafossite sind eine Familie von Oxiden aus zwei oder mehr Metallen, wobei das Oxid eine rhomboedrische Struktur mit einem hexagonalen Kristallhabitus hat, der demjenigen des Minerals Delafossit CuFeOj ähnlich ist. Delafossite können weiterhin dadurch charakterisiert werden, daß ihre Kristalle eine Raumgruppe von 166 haben, eine Shocnflies-Gruppe von Oj j.The Delafossite are a family of oxides made up of two or more metals, the oxide being a rhombohedral Has a structure with a hexagonal crystal habit similar to that of the mineral delafossite CuFeOj is similar. Delafossite can also be characterized by the fact that its crystals form a space group of 166 have a shocnflies group from Oj j.

ein volles Standard-Symbol von Ri-(R, — 3, zwei übera full standard symbol of Ri- (R, - 3, two over

m) und ein internationales Symbol von Rin, (R. Querstrich 3, m). Solche Oxide und ihre Kristallografie sind in der Literatur wiederholt beschrieben worden. m) and an international symbol of Ri n , (R. Querstrich 3, m). Such oxides and their crystallography have been described repeatedly in the literature.

Als allgemeine Regel sind die Delafossite ferner dadurch charakterisiert, daß die A-ionen, die dem Kupfer in dem Mineraldelafossit entsprechen, einen effektiven lonenradius haben, der zwei Sauerstoffkoordinationen entspricht, d. h„ daß die effektiven lonenradien im Bereich von 0,45 bis 0,68 Angström liegen. Im Falle der elektrisch besonders gut leitenden Platin- und Palladium-Delafossite haben die Α-Ionen effektive lonenradien im Bereich von 0,58 bis 0,61 Angström. Die B-Ionen, die den Eisenionen in dern Mineraldelafossit entsprechen, haben einen lonenradius, der einer oetaedrischen Koordination entspricht, d. h., daß die effektiven Atomradien im Bereich von etwa 0,50 bis etwa 1,05 Angströmeinheiten liegen. Der hier benutzteAs a general rule, the Delafossite are further characterized by the fact that the A ions that correspond to the Copper in the mineral delafossite have an effective ionic radius equal to that of two oxygen coordinations corresponds to, d. h "that the effective ion radii range from 0.45 to 0.68 angstroms. In the case of platinum and Palladium delafossite, the Α-ions have effective ion radii in the range from 0.58 to 0.61 Angstroms. the B ions, which correspond to the iron ions in the mineral delafossite, have an ion radius that is one corresponds to oetahedral coordination, d. that is, the effective atomic radii range from about 0.50 to are approximately 1.05 angstrom units. The one used here

\usdruck »effektiver Ionenradius« schließt den äquivalenten Ausdruck »Kristall-Ionenradius« ein.The term "effective ionic radius" closes the equivalent Expression "crystal ionic radius".

CT. Prewitt, R.D. Shannon and D.B. Rogers, Chemistry of Nobfe Metall Oxides, Inorganic Chemistry, Bd. 10 (1971), berichten, daß der synthetische Platin-, Kobalt-Delafossit (PiCoO2) die krystallografische Struktur vom Delafossil-Typ besitzt. Für die Verwendung in den Elektroden nach der Erfindung sind sowohl die stöchiometrischen als auch die nichtstöchiometrischen Platin-Kobali-Delafossite ganz besonders ι ο geeignetCT. Prewitt, RD Shannon and DB Rogers, Chemistry of Nobfe Metall Oxides, Inorganic Chemistry, Vol. 10 (1971), report that the synthetic platinum, cobalt delafossite (PiCoO 2 ) has the crystallographic structure of the Delafossil type. Both the stoichiometric and the non-stoichiometric platinum Kobali Delafossite are particularly suitable for use in the electrodes according to the invention

Die Delafossit-Kristallstruktur und die Relationen zwischen dem Platin-Kobalt-Delafossit, dem Palladium-Delafossit und dem Mineral-DeMossit (CuFeO2) wird durch die Bezugnahme auf die Figuren noch näher erläutert. Die Figuren zeigen folgendes:The delafossite crystal structure and the relations between the platinum-cobalt-delafossite, the palladium-delafossite and the mineral-DeMossite (CuFeO2) explained in more detail by referring to the figures. The figures show the following:

F i g. 1 ist eine grafische Darstellung der Röntgenbeugungswerte, die in der Literatur für das Mineral-Delafossii (CuFeG?) zu finden sind und die in Tabelle I wiedergegeben sind;F i g. 1 is a graph of the X-ray diffraction values found in the literature for the mineral Delafossii (CuFeG?) And the table I are reproduced;

F i g. 2 ist eine grafische Darstellung der Röntgenbeugungswerte, die in der Literatur für Platin-Kobalt-Delafossit (PtCoO?) angegeben und in Tabelle 2 zusammengestellt sind;F i g. Figure 2 is a graph of the X-ray diffraction values reported in the literature for platinum-cobalt-delafossite (PtCoO?) Are given and compiled in Table 2;

F i g. 3 ist eine grafische Darstellung der Röntgenbeugungswerte, die in der Literatur für Palladium-Kobalt-Delafossitoxid (PdCoO?) angegeben und in Tabelle 3 zusammengestellt sind;F i g. Figure 3 is a graph of the X-ray diffraction values reported in the literature for palladium-cobalt delafossite oxide (PdCoO?) Are given and compiled in Table 3;

F i g. 4 ist eine grafische Darstellung der Röntgenbeugungswerte, die in der Literatur für Palladium-Chrom- jo Delafossit (PdCrO?) angegeben und in Tabelle 4 zusammengestellt sind;F i g. Figure 4 is a graph of the X-ray diffraction values reported in the literature for palladium-chromium jo Delafossite (PdCrO?) And in Table 4 are compiled;

Fig.5 ist eine grafische Darstellung der Röntgenstrahlenbeugungswerte, die in der Literatur für Palladium-Rhodium-Delafossit (PdRhO2) angegeben und in Tabelle 5 zusammengestellt sind.FIG. 5 is a graph of the X-ray diffraction values reported in the literature for palladium-rhodium-delafossite (PdRhO 2 ) and summarized in Table 5.

Die F i g. 1 bis 5, die die in der Literatur angegebenen und in den Tabellen 1 bis 5 zusammengefaßten Werte wiedergeben, sind auf den gleichen Maßstab der Abszisse aufgetragen und besitzen eine gemeinsame -to Ordinate. Die Abszisse gibt ///0, das angegebene Verhältnis der Intensität des reflektierten Strahls zu dem einfallenden Strahl an. Die Ordinate d gibt den angegebenen Abstand zwischen den Ebenen an, errechnet aus der später hier noch näher erläuterten a~> Gleichung von Bragg.The F i g. 1 to 5, which reproduce the values given in the literature and summarized in Tables 1 to 5, are plotted on the same scale as the abscissa and have a common -to ordinate. The abscissa indicates /// 0, the specified ratio of the intensity of the reflected beam to the incident beam. The ordinate d indicates the specified distance between the planes, calculated from the a ~> equation by Bragg, which will be explained in more detail later.

F i g. 1 wurde auf Basis der Werte von Salier und Thompson. Phys. Rev., Band 44. Seite 644 (1935), berichtet in A.S.T.M. X-Ray Powder Diffraction File 12-752. und in Tabelle 1 wiedergegeben, erstell·.. Die >t> F i g. 2. 3. 4 und 5 wurden aufgrund der Werte von R. D. Shannon et al.. Inorganic Chemistry, Band 10. Seuen 713. 717 op cit.. und hier in den Tabellen 2. 3. 4 und 5 wiedergegeben, erstellt.F i g. 1 was based on the values from Salier and Thompson. Phys. Rev., Volume 44. Page 644 (1935), reported in A.S.T.M. X-Ray Powder Diffraction File 12-752. and reproduced in Table 1, created · .. The > t> F i g. 2. 3. 4 and 5 were based on the values of R.D. Shannon et al .. Inorganic Chemistry, Volume 10. Seuen 713. 717 op cit .. and here in Tables 2. 3. 4 and 5 reproduced, created.

F i g. 6 ist eine Röntgenstrahlbeugung von Palladium-Kobalt-Delal'ossii (PdCoO2), der für die Verwendung als ein Elektrodenmaterial in Beispiel 1 hergestellt wurde;F i g. 6 is an X-ray diffraction of palladium-cobalt delal'ossii (PdCoO 2 ) prepared for use as an electrode material in Example 1;

Fig. 7 ist eine Röntgenbeugung von Platin-Kobalt-Delafossit (F'tojCooi02), der für die Verwendung als Elektrodenmaterial in Beispiel 2 hergestellt wurde;7 is an X-ray diffraction of platinum-cobalt delafossite (F'tojCooi0 2 ) prepared for use as an electrode material in Example 2;

Fig. 8 ist eine Röntgenbeugung von Platin-Kobalt-Delafossit (PtojCoo.7JjO2), der für die Verwendung als Elektrodenmaterial in Beispiel 3 hergestellt wurde.8 is an X-ray diffraction of platinum-cobalt delafossite (PtojCoo.7JjO 2 ) prepared for use as an electrode material in Example 3.

Die kristiillografischen Einheiten von Platin- und Palladium-Delafossit geben eine einmalige Familie von b5 Röntgenstrahlbeugungen, die durch Peaks bei »d« Abständen von 5,9072 bis 6,0229 Angström, 2,9728 bis ini37 Anzström. ein -Doublet mit einem Abstand zwischen den Peaks von 0,06 bis 0,07 Angstrom mit den; ersten Peak bei 2,4260 bis 23609 Angstrom und dem zweiten Peak des Doublets bei 2,5884 bis 2,5141 Angström, einem Peak bei 2,1460 bis 2,2643 Angström und einem anderen Peak bei 1,6483 bis 1,7104 Angström charakterisiert sind. Für das Mineraldelafossit sind nur Werte von 2 θ Grad im Überschuß von etwa 30° bekannt, d.h. für d Abstände von weniger als 2,86 Angström. Das Mineraldelafossit (CuFeO?) hat das Doublet bei 2,58 und 2,508 Angström und die Peaks bei 2,238 und 1,658 Angström. Die Unterschiede in den Ergebnissen der Röntgenstrahlbeugung zwischen den einzelnen Mitgliedern der Delafossitfamilie ist auf die geringfügig verschiedenen Kationenradien zurückzuführen. The crystallographic units of platinum and palladium delafossite give a unique family of b5 X-ray diffractions represented by peaks at "d" spacings from 5.9072 to 6.0229 angstroms, 2.9728 to i37 angstroms. a doublet with a spacing between peaks of 0.06-0.07 Angstroms with the; first peak at 2.4260 to 23609 Angstroms and the second peak of the doublet at 2.5884 to 2.5141 Angstroms, one peak at 2.1460 to 2.2643 Angstroms and another peak at 1.6483 to 1.7104 Angstroms are. For the mineral delafossite only values of 2 θ degrees in excess of about 30 ° are known, ie for d distances of less than 2.86 angstroms. The mineral delafossite (CuFeO?) Has the doublet at 2.58 and 2.508 angstroms and the peaks at 2.238 and 1.658 angstroms. The differences in the results of X-ray diffraction between the individual members of the delafossite family are due to the slightly different cation radii.

Für das Mineral Delafossit (CuFeO?/ sind in Tabelle 1 und in F i g. 1 die Werte der Röntgenstrahlbeugung angegeben bzw. grafisch dargestellt. Die Ergebnisse der Röntgenstrahlbeugung bei DelafossLen von Metallen der Platingruppe sind in den Tabellen 2 iis 5 und den grafischen Darstellungen der F i g. 2 bis 5 wiedergegeben. Es wird noch einmal darauf hingewiesen, daß die Werte für die Tabellen 1 bis 5 und die grafischen Darstellungen 1 bis 5 der Literatur entnommen sind. Diese Figuren sind idealisiert und zeigen Familienbeziehungen und -trends. Aus den F i g. 1 bis 5 ist kein Grundton und keine Regellosigkeit zu entnehmen, die normalerweise bei Röntgenstrahluntersuchungen auftreten. For the mineral delafossite (CuFeO? / Are in Table 1 and in Fig. 1 the values of the X-ray diffraction are given or shown graphically. The results of the X-ray diffraction on DelafossLen of platinum group metals are shown in Tables 2 through 5 and in Figs graphic representations of FIG. 2 to 5 reproduced. It is pointed out again that the Values for Tables 1 to 5 and the graphs 1 to 5 are taken from the literature. These figures are idealized and show family relationships and trends. From the F i g. 1 to 5 is no Fundamental tone and no randomness that normally occurs in x-ray examinations.

Bei der Beobachtung und bei der Aufzeichnung von Röntgenstrahluntersuchungen werden Proben des Delafossitpulvers Röntgenstrahlen aus einem Kupfertarget unterworfen. Die Methoden für eine solche Untersuchung sind im Kapitel des Buches von Klug und Alexander, X-Ray Diffraction Procedures, John Wiley & Sons. Inc, New York (1954), Seiten 235 bis 318, insbesondere Seiten 270 bis 318, und bei N e w f i e 1 d , X-Ray Diffraction Methods, John Wiley & Sons, Inc., Nev-· York (1966), Seiten 177 bis 207, beschrieben.When observing and recording X-ray examinations, samples of the delafossite powder are subjected to X-rays from a copper target. The methods for such an investigation are in the chapter of the book by Klug and Alexander, X-Ray Diffraction Procedures, John Wiley & Sons. Inc, New York (1954), pages 235 to 318, in particular pages 270 to 318, and in N ewf i e 1 d, X-Ray Diffraction Methods, John Wiley & Sons, Inc., Nev- York (1966), Pages 177 to 207.

Wie Klug und Alexander und auch N e w f i e I d angeben, werden Röntgenstrahlen von einer Wellenlänge von 1,5405 Angstrcmeinheiten veranlaß!, auf eine Probe des zu untersuchenden Pulvers aufzutreffen. Die Röntgenstrahlen werden durch eine Probe gebeugt. Die gebeugten Röntgenstrahlen sind bei bestimmten Winkeln (0) besonders intensiv, was zur Ausbildung von Peaks in den Blättern des Diffraktometers oder von Linien in fotografischen Beugungsaufnahmen führt.Like Klug and Alexander and also N e w f i e I d state, X-rays are emitted at a wavelength of 1.5405 angstroms! to a To hit the sample of the powder to be examined. The X-rays are diffracted by a sample. the Diffracted X-rays are particularly intense at certain angles (0), which leads to the formation of Peaks in the leaves of the diffractometer or of lines in diffraction photographs.

Diffraktionswerte werden bei der Röntgenuntersuchung mit Hilfe eines Diffraktometers erhalten, das eine direkte Ablesung in 2 Θ hat. Der Wert (180° minus 2 Θ) ist der Winkel zwischen dem einfallenden Strahl und dem reflektierten Strahl.Diffraction values are obtained in the X-ray examination with the help of a diffractometer, the one has a direct reading in 2 Θ. The value (180 ° minus 2 Θ) is the angle between the incident ray and the reflected beam.

Tabelle 1 zeigt die Diffraktionswerte def Röntgenanalyse für das Mineral-Delafossit (CuFeO2). Besonders beachtenswert ist das Doublet bei 2,58 und 2.508 Angström und die "eaks bei 2,233 und 1,658 Angström.Table 1 shows the diffraction values from the X-ray analysis for the mineral delafossite (CuFeO 2 ). Particularly noteworthy is the doublet at 2.58 and 2.508 Angstroms and the eaks at 2.233 and 1.658 Angstroms.

Für die Diffraktionswerte der Röntgenuntersüchung von pulverförmigen Delafössiten von Metallen der Platingruppe lassen sich einige Gemeinsamkeiten feststellen. Zuerst ist ein besonders starker Peak bei einem Wert von »d« etwa 5,9072 bis 6,0229 zu beobachten. Dann U» in den F i g. 2 bis 5 festzustellen, daß ein starkes Doublet vorkommt, wobei die Peaks voneinander durch etwa 0,06 bis etwa 0,07 Angström getrennt sind mit größeren Trennungen der Peaks und größeren Unterschieden in den Intensitäten bei Delafössiten der Platingruppe mit größeren Elementar-For the diffraction values of the X-ray examination of powdery delafessites of metals of the platinum group, some similarities can be established. First, a particularly strong peak can be observed at a value of "d" about 5.9072 to 6.0229. Then U »in FIG. 2 to 5 that a strong doublet occurs, the peaks being separated from one another by about 0.06 to about 0.07 Angstroms with larger separations of the peaks and larger differences in the intensities in delafessites of the platinum group with larger elementary

zellen und enger aneinanderliegenden Peaks und von nahezu gleicher Intensität für Delafossite der Platingruppe mit einer kompakteren Elementarzelle.cells and closely spaced peaks and of nearly equal intensity for delafossite of the platinum group with a more compact unit cell.

Für den Platin-Kobalt-Delafossit (PtCoO2) liegen die Peaks des Doublets bei 2,4260 und 2,3609 Angström. Für den Palladium-Kobalt-Delafossit (PdCoO2) liegen die beiden Peaks des Doublets bei etwa 2,4272 und 2,3616 Angström, wogegen beim Palladium-Chrom-Delafossit die beiden Peaks bei 2,5065 und 2,4375 Angström und für Palladium-Rhodium-Delafossit (PdRhOj) die beiden Peaks bei etwa 2,5884 und 2,5141 Angström liegen. Beachtenswert ist auch der zunehmende Unterschied in der Intensität zwischen den beiden Gliedern des Doublets beim Fortgang von den Delafossiten mit der kompakteren zu denjenigen mit den weniger kompakten Elementarzellen. Der erste Peak des Doublets entspricht einem Abstand zwischen den Ebenen von eiwa 2,42 Angstrom (PtGjO2) bis etwa 2,58 Angstrom (PdRhO2). wogegen der zweite Peak einem Abstand zwischen den Ebenen von etwa 2,36 Angström (PtCoO:) Μ bis etwa 2,51 Angström (PdRhOj) entspricht.For the platinum-cobalt delafossite (PtCoO 2 ) the peaks of the doublet are at 2.4260 and 2.3609 angstroms. For palladium-cobalt delafossite (PdCoO 2 ), the two peaks of the doublet are around 2.4272 and 2.3616 angstroms, whereas for palladium-chromium delafossite the two peaks are 2.5065 and 2.4375 angstroms and for palladium -Rhodium delafossite (PdRhOj) the two peaks are around 2.5884 and 2.5141 Angstroms. Also noteworthy is the increasing difference in intensity between the two members of the doublet as the delafossites progress from the more compact unit cells to those with the less compact unit cells. The first peak of the doublet corresponds to a distance between the levels of about 2.42 Angstroms (PtGjO 2 ) to about 2.58 Angstroms (PdRhO 2 ). whereas the second peak corresponds to a distance between the planes of about 2.36 Angstroms (PtCoO :) Μ to about 2.51 Angstroms (PdRhOj).

Fernerhin ist ein starker Peak bei etwa 2,1460 bis etwa 2,2644 Angstrom festzustellen. Dieser Peak liegt bei etwa 2,14 Angström für die kompaktere Elementarzelle von Platin-Kobalt-Delafossit, bei einem Abstand von 2.1448 Angström für Palladium-Kobalt-Delafossit (PdCoO2), bei einem Abstand von 2,2088 für Palladium-Chrom-Delafossit (PdCrO:) und bei 2.26 Angström für die geringfügig \ oniger kompakte Elementarzellc von Platin-Rhodium-Delafossit (PtRhO2).There is also a strong peak at about 2.1460 to about 2.2644 Angstroms. This peak is around 2.14 Angstroms for the more compact unit cell of platinum-cobalt delafossite, at a distance of 2.1448 angstroms for palladium-cobalt delafossite (PdCoO 2 ), and at a distance of 2.2088 for palladium-chromium delafossite (PdCrO :) and at 2.26 Angstrom for the slightly more compact unit cell of platinum-rhodium-delafossite (PtRhO 2 ).

Von Interesse ist auch ein schwaches Doublet im Bereich von 2.0185 und 1,9814 Angström mit Intensitäten von 0,30 bis 0,40 für den kompakteren Platin-Kobalt-Delafossit. In dem Ausmaß, wie die Elementarzelle in ihrer Größe zunimmt, wird dieses spezielle Doublet stärker ausgebreitet und weniger intensiv. Für den nur geringfügig weniger kompakten Palladium-Kobalt-Delafossit tritt das Doublet bei »rf« Abständen von 2,0165 bzw. 1.9715 Angström auf, wobei das schwächere der beiden Glieder eine Intensität von etwa 0,15 hat. Für den -to Palladium-Chrom-Delafossit (PdCrO2) hat das schwächere der beiden Glieder des Doublets eine Intensität von etwa 0,02 und das Doublet tritt bei 2,0753 bzw. 2,0089 Angström auf. Für den noch weniger kompakten Palladium-Rhodium-Delafossit (PdRhOj) treten die Glieder des Doublets bei 2.1198 und 2,0038 Angström auf. wobei sie beide Intensitäten von weniger als 0,05 haben.Also of interest is a faint doublet in the range of 2.0185 and 1.9814 angstroms with intensities of 0.30 to 0.40 for the more compact platinum-cobalt delafossite. As the unit cell increases in size, this particular doublet becomes more spread out and less intense. For the only slightly less compact palladium-cobalt delafossite, the doublet occurs at "rf" intervals of 2.0165 and 1.9715 angstroms, with the weaker of the two members having an intensity of about 0.15. For the -to palladium-chromium-delafossite (PdCrO 2 ) the weaker of the two members of the doublet has an intensity of about 0.02 and the doublet occurs at 2.0753 and 2.0089 angstroms, respectively. For the even less compact palladium-rhodium-delafossite (PdRhOj), the terms of the doublet occur at 2.1198 and 2.0038 angstroms. both having intensities less than 0.05.

Für die mehr kompakten Kristalle der Delafossite der Platingruppe existiert ein Peak bei etwa 1,76 bis 1,81 Angström. Dieser Peak liegt für Platin-Kobalt-Delafossit (PtCoOj) bei etwa 1.7655 und hat eine Intensität von etwa 030. Für den Palladium-Kobalt-Delafossit wird der Peak bei einer Entfernung der Ebenen von etwa 1.7616 Angström beobachtet und besitzt eine intensität von etwa 030. Für den geringfügig weniger kompakten Palladium-Chrom-Delafossit (PdCrO2) tritt der Peak bei etwa 1,8084 Angström auf und hat eine Intensität von weniger als 0,05.For the more compact crystals of the delafossite of the platinum group, a peak exists at about 1.76 to 1.81 angstroms. For platinum-cobalt delafossite (PtCoOj), this peak is about 1.7655 and has an intensity of about 030. For palladium-cobalt delafossite, the peak is observed at a distance of the planes of about 1.7616 angstroms and has an intensity of about 030 For the slightly less compact palladium-chromium delafossite (PdCrO 2 ), the peak occurs at about 1.8084 angstroms and has an intensity of less than 0.05.

Tabelle 1Table 1

Röntgenstrahluntersuchung eines
Pulvers aus Kupfer-Eisen-Delafossit
(CuFeO2)
X-ray examination of a
Powder of copper-iron delafossite
(CuFeO 2 )

1/I0 1 / I 0

2,508
2,238
2,083
1,902
1,658
1,512
1,434
1,336
1,295
1,253
1,184
1,119
1,108
1,040
0,984
0,965
2.508
2.238
2.083
1.902
1.658
1.512
1.434
1.336
1.295
1.253
1.184
1.119
1.108
1.040
0.984
0.965

100 25100 25

Tabelle 2Table 2

Röntgenstrahluntersuchung von Platin-Kobalt-Delafossit (PtCoO2)X-ray examination of platinum-cobalt-delafossite (PtCoO 2 )

dd 1/I0 1 / I 0

5,9450 2,9728 2,4260 2,3609 2,1460 2,0185 1,9814 1,7655 1,6483 1,4856 1,4415 1,4135 1,3751 1,3513 1,27645.9450 2.9728 2.4260 2.3609 2.1460 2.0185 1.9814 1.7655 1.6483 1.4856 1.4415 1.4135 1.3751 1.3513 1.2764

90 100 70 90 70 30 40 30 60 20 40 30 15 10 3090 100 70 90 70 30 40 30 60 20 40 30 15 10 30

Tabelle 3Table 3

Röntgenstrahluntersuchung eines Pulvers von Palladium-Kobalt-Delafossit (PdCoO2)X-ray examination of a powder of palladium-cobalt-delafossite (PdCoO 2 )

d ///n d /// n

2,86 2,582.86 2.58

35 1835 18th 2,9072 2,9559 2,4272 2,36? 6 2,1448 2,0165 1,9713 1,7616 1.6445 1,4788 1,4373 1,4149 1,3762 1,3474 1,27622.9072 2.9559 2.4272 2.36? 6th 2.1448 2.0165 1.9713 1.7616 1.6445 1.4788 1.4373 1.4149 1.3762 1.3474 1.2762

45 90 80 100 85 15 50 30 85 35 70 65 15 15 6545 90 80 100 85 15 50 30 85 35 70 65 15 15 65

Tabelle 4Table 4

Röntgenstrahluntersuchung eines
Pulvers von Palladium-Chrom-Delarossit (PdCrO2)
X-ray examination of a
Palladium-Chromium-Delarossite (PdCrO 2 ) powder

dd l/lol / lo

6,02296.0229 2020th l/lol / lo 3,01373.0137 6565 55 2.50652.5065 3030th 9090 2,43752.4375 100100 1010 2,20882.2088 4040 100100 2,07532.0753 22 9595 2,00892.0089 1010 55 ,8084, 8084 55 22 1,68641.6864 3030th 8585 1,JU/**1, JU / ** CC.
JJ
1515th
1,47221.4722 1515th 7070 1,46141.4614 2020th 8585 1,37911.3791 22 8080 1,31511.3151 1515th 6060 Tabelle 5Table 5 Röntgenstrahluntersuchung von PalX-ray examination of Pal ladium-Rhodium-Delafossitladium-rhodium-delafossite (PdRhO2)(PdRhO 2 ) (I(I. 6,02096.0209 3,01303.0130 2,58842.5884 2,51412.5141 2,26442.2644 2,11982.1198 2,00882.0088 1,71041.7104 1.50711.5071 1,48741.4874 1,51061.5106 1,35031.3503 1,29451.2945

Schließlich ist noch zu den Röntgenuntersuchungen auf einen Peak von mittlerer Intensität bei etwa 1.6453 bis etwa 1.7104 Angström hinzuweisen. Dieser Peak hat eine Intensität von etwa 030 für Palladium-Chrom-Delafossit und von etwa 0,85 für Palladium-Kobalt-Delafossit (PdCoO2) und Palladium-Rhodium-Delafossit (PdRhO2). Er liegt bei 1.6453 Angström für Platin-Kobalt-Delafossit (PtCoO2). bei etwa 1,6445 Angström für Palladium-Kobalt-Delafossit, bei etwa 1,6864 Angström für Palladium-Chrom-Delafossit und bei etwa 1.7104 Angström für Palladium-Rhodium-Delafossii.Finally, with regard to the X-ray examinations, a peak of medium intensity at around 1.6453 to around 1.7104 Angstroms should be pointed out. This peak has an intensity of about 030 for palladium-chromium delafossite and of about 0.85 for palladium-cobalt-delafossite (PdCoO 2 ) and palladium-rhodium delafossite (PdRhO 2 ). It is 1.6453 Angstroms for platinum-cobalt-delafossite (PtCoO 2 ). at about 1.6445 angstroms for palladium-cobalt delafossite, at about 1.6864 angstroms for palladium-chrome delafossite and at about 1.7104 angstroms for palladium-rhodium delafossii.

Es wird nun noch einmal auf die chemische Natur der Delafossite eingegangen. Die Delafossite sind Oxide oder Oxyverbindungen von zwei oder mehreren Metallen und entsprechen der folgenden allgemeinen FormelThe chemical nature of the Delafossite will now be discussed again. The delafossite are oxides or oxy compounds of two or more metals and are generally as follows formula

ABO2 SUBSCRIPTION 2

Bei der Betrachtung dieser Formel ist zu berücksichtigen, daß auch nichtstöchiometrische Verbindungen, die Fehlstellen in ihren Strukturen besitzen, gemäß der Erfindung gebraucht werden können. Solche nichtstöchiometrischen Delafossite mit Fehlern in ihrer Struktur haben die Formel AxBZ)2, wobei entweder χ oder yoder beide kleiner als 1 sind und z.B. etwa 0,070 bis 1,00 betragen können. Derartige Delafossite lassen sich bei der Erfindung ebenfalls mit guter Wirkung verwenden.When considering this formula, it must be taken into account that non-stoichiometric compounds which have defects in their structures can also be used according to the invention. Such non-stoichiometric delafosites with errors in their structure have the formula A x BZ) 2 , where either χ or y or both are less than 1 and can be, for example, about 0.070 to 1.00. Such delafosites can also be used to good effect in the invention.

Das in der Formel mit A wiedergegebene Metallion kann ein beliebiges einwertiges Metallion mit einem effektiven lonenradius von etwa 0,45 Angströmeinheiten bis etwa 0,68 Angströmeinheiten sein. Derartige einwertige Ionen sind Palladium (Pd+) mit einem effektiven Ionenradius von etwa 0,59 Angström und Platin (Pt+) mit einem effektiven lonenradius von etwa 0,60 Angström. In dem gleichen Delafossitkristall können auch zwei oder mehrere solcher einwertigen Kationen vorkommen. Die bevorzugten Delafossite sind diejenigen, bei denen das einwertige Kation einen effektiven Ionenradius von etwa 0,58 bis 0,61 Angström besitzt, wie z. B. Palladium (+ 1) und Platin (+ 1).The metal ion represented by A in the formula can be any monovalent metal ion with an effective ionic radius of about 0.45 Angstrom units to about 0.68 Angstrom units. Such monovalent ions are palladium (Pd + ) with an effective ionic radius of about 0.59 angstroms and platinum (Pt + ) with an effective ionic radius of about 0.60 angstroms. Two or more such monovalent cations can also exist in the same delafossite crystal. The preferred delafosites are those in which the monovalent cation has an effective ionic radius of about 0.58 to 0.61 angstroms, such as e.g. B. Palladium (+ 1) and platinum (+ 1).

Das in der Formel durch B wiedergegebene Kation ist am häufigsten Chrom, Kobalt und Rhodium. B ist typischerweise ein dreiwertiges Kation mit einem effektiven lonenradius von etwa 0,50 Angström bis etwa 1,05 Angström und meistens etwa 0,50 Angström bis etwa 0,89 Angström. Die bevorzugten dreiwertigen Kationen sind diejenigen mit einem effektiven lonenradius von etwa 0,50 bis etwa 0,70 Angström, wie z. B.The cation represented by B in the formula is most commonly chromium, cobalt and rhodium. Are you typically a trivalent cation with an effective ionic radius of about 0.50 Angstroms to about 1.05 angstroms and mostly about 0.50 angstroms to about 0.89 angstroms. The preferred trivalent cations are those with an effective ionic radius from about 0.50 to about 0.70 angstroms, such as e.g. B.

Kobalt (Co3 + ) mit einem effektiven lonenradius von etwa 0,52 Angström, Chrom (Cr3 + ) mit einem effektiven Ionenradius von 0,62 Angström und Rhodium (Rh3 + ) mit einem effektiven lonenradius von etwa 0,70 Angström.Cobalt (Co 3 +) with an effective ionic radius of about 0.52 Angstroms, chromium (Cr 3 +) with an effective ionic radius of 0.62 Angstroms and rhodium (Rh 3 +) with an effective ionic radius of about 0.70 Angstroms.

Die Platin-Delafossite schließen die stöchiometrische Sauerstoffverbindung von Platin und Kobalt mit der Delafossitstruktur (PtCoO2) und auch die nichtstöchiometrischen Sauerstoffverbindungen von Platin und Kobalt mit der Delafossitstruktur ein. DerartigeThe platinum delafosites include the stoichiometric oxygen compounds of platinum and cobalt with the delafossite structure (PtCoO 2 ) and also the non-stoichiometric oxygen compounds of platinum and cobalt with the delafossite structure. Such

J5 nichtstöchiometrische Delafossite haben die FormelJ5 non-stoichiometric Delafossite have the formula

Pt1 Co1 O2 Pt 1 Co 1 O 2

wobei η einen Wert zwischen 0,5 und 0,8 hat.where η has a value between 0.5 and 0.8.

Als zusätzliche Bestandteile können in den Delafossi-As additional components in the Delafossi

ten, insbesondere in den Platin-Delafossiten, kleine Mengen von anderen Metallionen vorkommen, wie z. B.ten, especially in the platinum delafossites, small ones Amounts of other metal ions occur, such as. B.

Ionen von Scandium, Titan, Vanadin, Chrom, Mangan. 4j Eisen, Kobalt oder Nickel. Wenn dies der Fall ist, hat der Delafossit folgende Formel:Ions of scandium, titanium, vanadium, chromium, manganese. 4j iron, cobalt or nickel. If so, the Delafossit following formula:

Pt,Co,M02 Pt, Co, M0 2

wobei χ etwa 0,70 bis 1.00 ist./etwa 0,70 bis 1.00 und ζ wzniger als 0,11 ist. Typischerweise ist ζ etwa 0,004 bis etwa 0,11. und M ist Sc, Ti, V, Cr. Mn, Fe, Co oder Ni.where χ is about 0.70 to 1.00 / about 0.70 to 1.00 and ζ is less than 0.11. Typically, ζ is about 0.004 to about 0.11. and M is Sc, Ti, V, Cr. Mn, Fe, Co or Ni.

Der Platin-Kobalt-Delafossit.derals Eleklrodenobeffläche gemäß dieser Erfindung besonders geeignet ist, hat die FormelThe platinum-cobalt delafossite, which is an electrode surface particularly useful in accordance with this invention has the formula

" Pt, Co, O1 "Pt, Co, O 1

I - π I - "II - π I - "I

in der η einen Wert von etwa 0,50 bis etwa 0.8 hat.
bo Palladium-Delafossite, die als Elektrodenoberfläche besonders geeignet sind, entsprechen der Formel
in which η has a value from about 0.50 to about 0.8.
bo palladium delafossite, which is particularly suitable as an electrode surface, corresponds to the formula

PdMO2 PdMO 2

wobei M Kobail, Chrom, Rhodium oder eine Mischung davon ist. Beispiele von ganz besonders gut geeigneten Palladium-Delafossiten sind Palladium-Kobalt-Delafossit (PdCoO2), Palladium-Chrom-Delafossit (PdCrO2), Pailadium-Rhodium-Delafossit (PdRhO2).where M is cobail, chromium, rhodium, or a mixture thereof. Examples of very particularly suitable palladium delafossites are palladium-cobalt delafossite (PdCoO 2 ), palladium-chromium delafossite (PdCrO 2 ), and palladium-rhodium delafossite (PdRhO 2 ).

Die Anoden nach der Erfindung stellen in den meisten Fällen ein elektrisch leitendes Substrat oder Basisglied mit einer Delafossitoberfläche dar. Bei einer derartigen Ausbildungsform der Erfindung ist der Delafossit in direktem Kontakt mit dem Basisglied und dem ElektrolytenThe anodes of the invention in most cases provide an electrically conductive substrate or base member with a delafossite surface. In such an embodiment of the invention, the delafossite in FIG direct contact with the base member and the electrolyte

Außerdem können die Platin- und Palladium-Delafossite dazu verwendet werden, um einen elektrisch leitenden Überzug auf der elektrisch leitenden Basis oder Substrat zu bilden, wobei die Delafossitoberfläche to einen weiteren äußeren Überzug von einem geeigneten elektrokatalytischen Material, wie z. B. einem Spinell besitzt, wie dieser z. B. in der US-PS 37 11 382 offenbart ist. Statt des Spinells kann auch ein Perowskit oder eine Perowskit-Bronze verwendet werden, wie dieses z. B. in der vorgängigen DE-OS 22 10 065 offenbart ist. Alternativ können als äußerer Überzug über den Delafossitüberzug andere elektrokatalytische Materialien verwendet werden, wie Ruthenate, Ruthenide, Rhodite, Rhodate.In addition, the platinum and palladium delafossite can be used to generate an electrical to form a conductive coating on the electrically conductive base or substrate, the delafossite surface to a further outer coating of a suitable electrocatalytic material, e.g. B. a spinel owns how this z. B. in US-PS 37 11 382 disclosed is. Instead of the spinel, a perovskite or a perovskite bronze can be used, such as this z. Am the previous DE-OS 22 10 065 is disclosed. Alternatively, as an outer coating over the Delafossit coating other electrocatalytic materials can be used, such as ruthenates, ruthenides, Rhodite, Rhodate.

Fernerhin ist es möglich, zwischen der Delafossitoberfläche und dem Elektrolyten eine poröse Schicht eines im wesentlichen nicht reaktionsfähigen Materials, wie Titandioxid, Vanadinoxid, Tantaloxid. Wolframoxid, Nioboxid, Hafniumoxid, Zirkonoxid, Siliciumdioxid anzuordnen. Durch derartige äußere Überzüge wird die mechanische Beständigkeit der Delafossitoberfläche noch weiter verbessert. Außerdem bilden die porösen äußeren Überzüge eine große Oberfläche für katalytische Reaktionen der an der Elektrode gebildeten Produkte oder der Ausgangsstoffe. Bevorzugt werden diese äußeren Oxidüberzüge »in situ« gebildet, wie dieses später noch näher erläutert wird.It is also possible to have a porous layer between the delafossite surface and the electrolyte a substantially non-reactive material such as titanium dioxide, vanadium oxide, tantalum oxide. Tungsten oxide, Arrange niobium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, silicon dioxide. Such outer coatings will mechanical resistance of the Delafossit surface even further improved. In addition, the porous outer coatings provide a large surface area for catalytic reactions of those formed on the electrode Products or raw materials. These outer oxide coatings are preferably formed "in situ", as this will be explained in more detail later.

Mit den Delafossitmaterialien können verschiedene Stoffe gemischt werden. So kann man z. B. leitfähige Materialien, wie Perowskiie, Perowskii-Bfönzen, Metalle der Platingruppe, Oxide der Platingruppe und gemischte Carbide, Nitride, Oxide und Boride, die gegenüber dem Elektrolyten beständig sind, in Mischung mit dem Delafossit verwenden. Derartige Materialien können zugegen sein, um eine bessere Leitfähigkeit oder Reaktionsfähigkeit zu ergeben. Alternative Materialien sind die Oxide von Titan, Tantal, Niob, Hafnium, Wolfram, Aluminium, Vanadin, Silicium und anderen filmbildenden Metallen. Auch diese Zusatzstoffe verbessern die Haltbarkeit der Delafossite. Um die Delafossitteilchen an das Substrat zu binden, können beliebige Oxide benutzt werden, die »in situ« während der Herstellung der Oberfläche gebildet werden und die im wesentlichen gegenüber dem Elektrolyten nieht reaktionsfähig sind.Different fabrics can be mixed with the Delafossit materials. So you can z. B. conductive Materials such as Perowskiie, Perowskii-Bfönzen, metals the platinum group, platinum group oxides and mixed carbides, nitrides, oxides and borides, the are resistant to the electrolyte, use in a mixture with the Delafossit. Such Materials can be present to give better conductivity or reactivity. Alternative materials are the oxides of titanium, tantalum, niobium, hafnium, tungsten, aluminum, vanadium, silicon and other film-forming metals. These additives also improve the shelf life of the Delafossite. To bind the delafossite particles to the substrate, any oxide can be used that is "in situ" are formed during manufacture of the surface and which are substantially opposite to that Electrolytes are not reactive.

Die Anoden mit einem Delafossitüberzug nach der Erfindung schließen zwar auch eine Elektrode ein, die im ganzen aus Delafossit besteht, doch werden solche Elektroden aus wirtschaftlichen Gründen normalerweise nicht verwendet werden. Bevorzugt sind deshalb Anoden nach der Erfindung, die eine Delafossitoberfläche bzw. Überzug auf einem geeigneten elektrisch leitenden Substrat besitzen. Die Delafossitoberfläche kann nur 8 Angström dick sein. Aus praktischen Gründen wird aber mit einer Delafossitoberfläche gearbeitet, die mindestens eine Stärke oder Dicke von 1,52 Mikron hat, wobei Stärken von mindestens 3,81 bis 5,08 Mikron bevorzugt sind. Die Deiafossiioberfiächen brauchen aber nicht stärker zu sein als etwu 635 bis 7,62 es Mikron. Es kann zwar ein Delafossitüberzug verwendet werden, der stärker als 7,62 Mikron ist, z.B. 2032 Mikron, ohne daß dabei irgendwelche nachteiligenThe anodes with a Delafossit coating according to the invention also include an electrode which consists entirely of delafossite, but such electrodes are usually used for economic reasons Not used. Therefore, anodes according to the invention which have a delafossite surface are preferred or coating on a suitable electrically conductive substrate. The delafossite surface can only be 8 angstroms thick. For practical reasons, however, a Delafossit surface is used worked that has a thickness or thickness of at least 1.52 microns, with thicknesses of at least 3.81 to 5.08 microns are preferred. The deiafossi surfaces but need not be stronger than about 635 to 7.62 Micron. A delafossite coating thicker than 7.62 microns, e.g. 2032, can be used Microns without incurring any detrimental effects

Wirkungen zu beobachten sind, doch wird auch kein weiterer Vorteil durch die Benutzung so starker Überzüge erreicht.Effects can be observed, but no further benefit becomes so strong through use Coatings achieved.

Unter einem »geeigneten elektrisch leitenden Substrat oder Basis« wird ein Substrat mit einem spezifischen elektrischen Widerstand innerhalb der wirtschaftlichen Grenzen gemeint, wobei dieses Substrat auch noch im wesentlichen nicht reaktionsfähig mit dem Elektrolyten und den Produkten der Elektrolyse sein soll. Bei der Elektrolyse von Solen soll z. B. ein geeignetes elektrisch leitendes Substrat nicht mit Lösungen von Natriumhydroxid oder Natriumchlorid reagieren und auch durch naszierendes Chlor nicht angegriffen werden.A "suitable electrically conductive substrate or base" means a substrate with a electrical resistivity within the economic limits meant with this substrate also still essentially non-reactive with the electrolyte and the products of electrolysis should be. In the electrolysis of brines, for. B. does not use a suitable electrically conductive substrate Solutions of sodium hydroxide or sodium chloride react, and also do not react with nascent chlorine to be attacked.

Geeignete elektrisch leitende Substrate sind z. 3. Gleichrichter-Ventilmetalle. Die Gleichrichtermetalle sind solche Metalle, die einen Oxidfilm unter anodischen Bedingungen ausbilden. Zu den Gieichrichtermeiaiien gehören z. B. Titan, Tantal, Niob, Hafnium, Wolfram. Aluminium, Zirkon, Vanadin und ihre Legierungen. In den meisten Fällen werden aus wirtschaftlichen Gründen Titan oder Titanlegierungen als Substrat für das Basisglied der Elektroden bei dieser Erfindung benutzt. Es können jedoch auch andere Materialien angewandt werden, wie Graphit oder Kohle. Man kann auch ein Laminat eines Gleichrichtermetalls mit einem weniger teuren Metall, wie Eisen oder Stahl, mit einem Delafossätüberzug auf dem Gleichrichtermetall benutzen. Suitable electrically conductive substrates are, for. 3. Rectifier valve metals. The rectifier metals are those metals that form an oxide film under anodic conditions. To the judges belong e.g. B. titanium, tantalum, niobium, hafnium, tungsten. Aluminum, zirconium, vanadium and their alloys. In In most cases, for economic reasons, titanium or titanium alloys are used as the substrate for the base member of the electrodes used in this invention. However, other materials can also be used can be used, such as graphite or carbon. One can also laminate a rectifier metal with a use less expensive metal, such as iron or steel, with a delafosate coating on the rectifier metal.

Alternativ kann Titanhydrid oder ein anderes elektrisch leitendes, anodisch beständiges Hydrid als elektrisch leitendes Substrat bei der Elektrode dieser Erfindung benutzt werden. Ein solches Hydrid kann der einzige Bestandteil des Substrats sein oder es kann in Form eines ebenen Gebildes auf dem anderen MaterialAlternatively, titanium hydride or another electrically conductive, anodically stable hydride can be used as electrically conductive substrate can be used in the electrode of this invention. Such a hydride can be the sole component of the substrate or it can be in the form of a flat structure on the other material

n: n:

auiticgcii.auiticgcii.

Alternativ kann das Hydrid eine Hydridoberfläche eines Metalls sein, z. B. eines Titansubstrats min einer Titanhydridschicht zwischen dem metallischen Substrat und der Delafossitoberfläche..Alternatively, the hydride can be a hydride surface of a metal, e.g. B. a titanium substrate min one Titanium hydride layer between the metallic substrate and the delafossite surface.

Bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung wird eine Schicht eines elektrisch leitenden Materials, das eine bessere Leitfähigkeit als der Delafossit besitzt und gegenüber dem Elektrolyten beständig ist, zwischen dem Delafossit und dem Substrat angeordnet. Eine derartige Zwischenschicht kann aus einem Metall der Platingruppe gebildet sein, wie z. B. aus metallischem Ruthenium, Rhodium, Palladium,Osmium, Iridium, Platin oder ihren Legierungen. Besonders geeignete Legierungen für diesen Zweck sind z. B. Platin-Palladium-Legierungen, insbesondere diejenigen, die etwa 3 bis etwa 15 Gew.-% Platin enthalten, ferner Platin-iridium-Legierungen, besonders diejenigen, die etwa 2 bis etwa 50 Gew.-% Iridium enthalten. Alternativ kann eine solche Zwischenschicht ein Oxid von einem Metall der Platingruppe sein, wie z. B. Ruthenoxid (RuO2), Rhodiumoxid (Rh2O3), Palladiumoxid (PdO2), Osmiumoxid (OsO2), Iridiumoxid (Ir2O3). Platinoxid (PtO2) oder Mischungen davon. Derartige Mischungen können Mischungen von Platinoxid und Palladiumoxid einschließen, die etwa 3 bis etwa 15 Gew.-% Platinoxid enthalten, oder Platinoxid- und Iridiumoxid-Mischungen, die etwa 2 bis etwa 50 Gew.-% Iridiumoxid enthalten. In Verbindung mit den Metallen der Platingruppe oder ihren Oxiden können zusätzlich noch Oxide von anderen Metallen verwendet werden, wie die Oxide von Titan, Zirkon, Hafnium, Vanadin, Niob, Tantal, Wolfram und Aluminium. Wenn solche Zwi-In a preferred embodiment of the invention, a layer of an electrically conductive material, which has a better conductivity than the delafossite and is resistant to the electrolyte, is arranged between the delafossite and the substrate. Such an intermediate layer may be formed from a platinum group metal such as e.g. B. of metallic ruthenium, rhodium, palladium, osmium, iridium, platinum or their alloys. Particularly suitable alloys for this purpose are, for. B. platinum-palladium alloys, especially those containing about 3 to about 15 wt .-% platinum, also platinum-iridium alloys, especially those containing about 2 to about 50 wt .-% iridium. Alternatively, such an intermediate layer may be an oxide of a platinum group metal such as e.g. B. ruthenium oxide (RuO 2 ), rhodium oxide (Rh 2 O 3 ), palladium oxide (PdO 2 ), osmium oxide (OsO 2 ), iridium oxide (Ir 2 O 3 ). Platinum oxide (PtO 2 ) or mixtures thereof. Such mixtures can include mixtures of platinum oxide and palladium oxide containing from about 3 to about 15 weight percent platinum oxide or platinum oxide and iridium oxide mixtures containing from about 2 to about 50 weight percent iridium oxide. In connection with the metals of the platinum group or their oxides, oxides of other metals can also be used, such as the oxides of titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, tungsten and aluminum. When such conflicts

schenschicii'.en vorhanden sind, haben sie normalerweise eine Stärke von etwa 0,51 bis etwa 3,05 Mikron, wobei Stärken von etwa 1,52 bis 3,05 Mikron bevorzust sind. Die Zwischenschichten können aber auch dünner sein und beispielsweise nur eine Stärke von 0,13 Mikron haben, wenn sie gleichmäßig aufgetragen sind, so daß sie porenfreien Überzug ergeben. Ferner ist es möglich, auch dickere Zwischenschichten zu benutzen, doch ist dieses nicht mit einem wesentlichen Vorzug verbunden. Wenn bei einer Anode mit einer Delafossitoberfläche auf einem Substrat das Substrat mit dem Delafossit unter Bildung einer elektrisch isolierenden Sperre nach längeren Betnebszeiten bei hohen Stromdichten reagiert, kann zwischen das Substrat und dem Delafossit eine Schicht eines weniger reaktionsfähigen Materials, das gegenüber dem Elektrolyten widerstandsfähiger ist als das Substrat, angeordnet werden. IJnter weniger reaktionsfähigen Materialien werden Materialien verstanden, die keine elektrisch isolierende Sperre bilden oder bei der Bildung einer solchen Sperre mitwirken, wenn sie zwischen dem Delafossit und dem Substrat angeordnet werden. Solche weniger reaktionsfähigen Materialien können die schon genannten Edelmetalle oder ihre Oxide sein. Alternativ können als weniger reaktionsfähige Materialien Platin-Kobalt-Delafossit (PiCoO2), Palladium-Chrom-DelafoGsit (PdCrO2) oder Palladium-Rhodium-Delafossit (PdRhO2) verwendet werden, um eine Zwischenschicht zwischen einem Palladium-Kobalt-Delafossit (PdCoO2) Überzug und einem Titansubstrat zu ergeben. Wenn solche Zwischenschichten benutzt werden, haben sie normalerweise eine Stärke von 0,51 bis 3,05 Mikron, wobei Stärken von !,52 bis 3,05 Mikron bevorzugt sind. Wenn die Zwischenschichten gleichmäßig aufgetragen werden und porenfrei sind, können sie auch dünner sein, z. B. 0,13 Mikron stark. Dickere Überzüge sind auch möglich. Die Anoden mit Delafossitoberflächen nach der Erfindung lassen sich für beliebige elektrochemische Verfahren mit einer nicht verbrauchbaren Elektrode verwenden. Unter »nicht verbrauchbar« ist zu verstehen, daß die Elektrode durch den Elektrolyten nicht aufgelöst wird und nicht an der entgegengesetzten Elektrode wieder abgelagert wird. Die Elektroden nach der Erfindung können z. B. für die Elektrolyse von Solen, Sulfaten, Chlorwasserstoffsäure, Phosphaten benutzt werden. Alternativ sind die Elektroden bei Verfahren geeignet, bei denen Kationen auf einer Kathode abgelagert werden, wie z. B. bei der elektrolytischen Gewinnung von Metallen, elektrolytischen Raffination. Elektroplattierung. Elektrophorese, elektrolytischen Reinigung und elektrolytischen Beizung. Aus entsprechenden Lösungen können Kupfer, Nickel. Eisen, Mangan, Messing, Bronze. Cadmium. Gold, Indium, Silber, Zinn. Zink, Kobalt, Chrom und ähnliche Metalle auf Kathoden elektroplattiert werden. Alternativ kann man Metallpulver herstellen, indem man Kationenauslösung auf einer geeigneten Kathode bei Verwendung der Anoden nach dieser Erfindung abscheidet. Die Elektroden nach der Erfindung können ferner für die elektrolytische Reinigung von wäßrigen Lösungen, von Natriumphosphat, Natriumcarbonat benutzt werden. Ferner kann man die elektrolytische Beizung von geeigneten Materialien, die kathodisch gegenüber den Anoden nach der Erfindung sind, dazu verwenden, um organische Verbindungen elektrolytisch zu oxidieren. So kann man z. B. die elektrolytische Oxidation von Propylen zu Propylenoxid od^r ProDvlenelvcol mit den Elektroden nach dieser Erfindung durchführen. Außerdem kann man Metallbauwerke, wie Schiffskörper, kathodisch unter Verwendung der Anoden nach dieser Erfindung schützen.
Zusätzlich kann die Anode nach dieser Erfindung in Brenstoffzellen verwendet werden. Bei der Benutzung der Elektrode mit dem Delafossitüberzug in Brennstoffzellen werden diese Elektroden für den Fluß des Elektrolyten durchlässig sein. Eine derartige Elektrolytpermeabilität kann durch ein elektrisch leitendes
schenschicii'.en are present, they will normally be from about 0.51 to about 3.05 microns thick, with thicknesses from about 1.52 to 3.05 microns being preferred. The intermediate layers can, however, also be thinner and, for example, only have a thickness of 0.13 microns if they are applied evenly so that they result in a pore-free coating. It is also possible to use thicker intermediate layers, but this is not associated with any significant advantage. If, in the case of an anode with a delafossite surface on a substrate, the substrate reacts with the delafossite to form an electrically insulating barrier after prolonged use at high current densities, a layer of a less reactive material that is more resistant to the electrolyte can be placed between the substrate and the delafossite the substrate. Less reactive materials are understood to mean materials that do not form an electrically insulating barrier or that do not help to form such a barrier when placed between the delafossite and the substrate. Such less reactive materials can be the noble metals already mentioned or their oxides. Alternatively, when less reactive materials, platinum-cobalt Delafossit (Picoo 2), palladium-chromium DelafoGsit (PdCrO 2) or palladium-rhodium Delafossit (PdRhO 2) are used to form an intermediate layer between a palladium-cobalt Delafossit (PdCoO 2 ) coating and a titanium substrate. When such interlayers are used, they typically have a thickness of 0.51 to 3.05 microns with thicknesses of 1.52 to 3.05 microns being preferred. If the intermediate layers are applied evenly and are pore-free, they can also be thinner, e.g. B. 0.13 microns thick. Thicker coatings are also possible. The anodes with Delafossit surfaces according to the invention can be used for any electrochemical process with a non-consumable electrode. By "non-consumable" is meant that the electrode is not dissolved by the electrolyte and is not redeposited on the opposite electrode. The electrodes according to the invention can, for. B. be used for the electrolysis of brines, sulfates, hydrochloric acid, phosphates. Alternatively, the electrodes are useful in processes in which cations are deposited on a cathode, such as e.g. B. in the electrolytic extraction of metals, electrolytic refining. Electroplating. Electrophoresis, electrolytic cleaning and electrolytic pickling. From appropriate solutions can copper, nickel. Iron, manganese, brass, bronze. Cadmium. Gold, indium, silver, tin. Zinc, cobalt, chromium and similar metals can be electroplated onto cathodes. Alternatively, metal powder can be prepared by depositing cationic release on a suitable cathode using the anodes of this invention. The electrodes according to the invention can also be used for the electrolytic cleaning of aqueous solutions, of sodium phosphate, sodium carbonate. Furthermore, the electrolytic pickling of suitable materials, which are cathodic with respect to the anodes according to the invention, can be used to oxidize organic compounds electrolytically. So you can z. B. carry out the electrolytic oxidation of propylene to propylene oxide or ProDvlenelvcol with the electrodes according to this invention. In addition, metal structures such as hulls can be cathodically protected using the anodes of this invention.
In addition, the anode of this invention can be used in fuel cells. When using the electrode with the delafossite coating in fuel cells, these electrodes will be permeable to the flow of the electrolyte. Such an electrolyte permeability can be achieved by an electrically conductive

ίο poröses Substrat mit einem darauf abgelagerten Delafossitmateria! erreicht werden oder durch eine Dispersion von Delafossitteilchen in einem geeigneten inerten Medium oder durch andere in der Technik bekannte Verfahren.ίο porous substrate with a deposited on it Delafossitmateria! can be achieved or by a dispersion of Delafossite particles in a suitable inert medium or by other methods known in the art.

Die Anoden nach der Erfindung lassen sich herstellen, indem man den Delafossil synthetisiert und nachher auf einem geeigneten elektrisch leitenden Substrat oder Träger aufträgt. Delafossite lassen sich durch Oxidation bei niedrigen Temperaturen und hohen Drücken, wieThe anodes according to the invention can be made by synthesizing the Delafossil and subsequently on it a suitable electrically conductive substrate or carrier. Delafossite can be removed by oxidation at low temperatures and high pressures, like

z. B. durch eine hydrothermale Reaktion, herstellen. Außerdem kann man sie auch durch Oxidation bei hohen Temperaturen und hohen Drücken durch Feststoffumsetzungen und durch Oxidation bei niedrigen Temperaturen und niedrigen Drücken in einem oxidierenden Flußmittel erhalten. Alternativ ist es möglich, Delafossite bei niedrigem Druck und niedrigen Temperaturen in einer Anionenaustausch-Reaktion herzustellen.z. B. by a hydrothermal reaction. They can also be oxidized high temperatures and high pressures due to solid reactions and due to oxidation at low Temperatures and low pressures in an oxidizing flux. Alternatively it is possible to delafossite at low pressure and low temperatures in an anion exchange reaction to manufacture.

Delafossite, die bei der vorliegenden Erfindung geeignet sind, können z. B. durch die Verfahren, die in folgenden Literaturstellen beschrieben sind, hergestellt werden: R. D. Shannon et al., Chemistry of Noble Metal Oxides, 1. Syntheses and Properties of ABO2 Delafossite Compounds, Inorganic Chemistry, Band 10, Seite 713 (1971); US-PS 34 98 931; US-PS 35 14 414 und US-PS 34 14 371.Delafossite useful in the present invention can e.g. B. by the methods which are described in the following references: RD Shannon et al., Chemistry of Noble Metal Oxides, 1. Syntheses and Properties of ABO 2 Delafossite Compounds, Inorganic Chemistry, Volume 10, page 713 (1971) ; U.S. Patent 3,498,931; U.S. Patent 35 14 414 and U.S. Patent 34 14 371.

Hydrothermale Synthesen von Delafossit werden bei relativ niedriger Temperatur unter oxidierenden Bedingungen durchgeführt. Die hydrothermale Methode kannHydrothermal syntheses of Delafossite are carried out at relatively low temperature under oxidizing conditions carried out. The hydrothermal method can

4u z. B. zur Herstellung von Platin-Kobalt-Delafossiten, der Kupfer-Delafossite und der Silber-Delafossite verwendet werden. Die Methode verlangt die .'Erwärmung von zwei Oxiden in Wasser in einem verschlossenen inerten Rohr, wie z. B. ein Platin- oder Goldrohr (bei hohem Druck, z. B. etwa 3000 Atmosphären und einer Temperatur von etwa 500 bis 7000C für etwa 24 Stunden).4u z. B. be used for the production of platinum-cobalt delafossites, the copper delafossite and the silver delafossite. The method requires the .'Erwärmung of two oxides in water in a sealed inert tube, such as. B. a platinum or gold tube (at high pressure, z. B. about 3000 atmospheres and a temperature of about 500 to 700 0 C for about 24 hours).

Die Platin-, Palladium-Delafossite können bei relativ niedrigen Drücken und niedrigen Temperaturen in einer Reaktion hergestellt werden, die durch einen Austausch von Ionen und die Bildung von einem festen oder geschmolzenen Salz als Nebenprodukt charakterisiert ist. Bei dieser Methode werden das Halogenid von Platin, Palladium und das Oxid des zweiten Metalls unter Bildung von Delafossit und eines Halogenids des zweiten Metalls umgesetzt. Alternativ kann das Halogenid oder das Metall und das Halogenid des ersten Metalls und eine Lithiumoxiverbindung des zweiten Metalls (wie Lithiumchromat, Lithiumkobaltat oder Lithiumrhodat) unter Bildung von Delafossit und Lithiumhalogenid umgesetzt werden.The platinum, palladium delafossite can be at relative low pressures and low temperatures are produced in a reaction by an exchange characterized by ions and the formation of a solid or molten salt as a by-product is. This method uses the halide of platinum, palladium and the oxide of the second metal reacted to form delafossite and a halide of the second metal. Alternatively, it can Halide or the metal and the halide of the first metal and a lithium oxide compound of the second metal (such as lithium chromate, lithium cobaltate or lithium rhodate) to form delafossite and Lithium halide are implemented.

Die Anionenaustauschreaktion wird in einem evakuierten verschlossenen Siliciumdioxidrohr bei einer Temperatur von etwa 500 bis etwa 8000C durchgeführt.The anion exchange reaction is carried out in an evacuated sealed silica tube at a temperature of about 500 to about 800 0 C.

Die als Nebenprodukt erhaltenen Halogenidsalze werden nach der Bildung des Delafossits durch Auslagen, z. B. mit Wasser, entfernt Falls metallisches Platin oder Palladium zurückbleibt oder falls das ChloridThe halide salts obtained as a by-product are passed through after the delafossite is formed Expenses, e.g. B. with water, removed If metallic platinum or palladium remains or if the chloride

des Edelmetalls zurückbleibt, werden disse Rückstände durch Auslaugen mit einem geeigneten Lösungsmittel, wie z.B. Bromwasserstoffsäure oder Königswasser, entfernt.of the precious metal remains, these residues become by leaching with a suitable solvent such as hydrobromic acid or aqua regia, removed.

Delafossite können auch durch Diffusion von feingepulverten gemischten Oxiden bei hohen Temperaturen hergestellt werden. Die Platin- und Palladium-Delafossite erfordern eine Temperatur oberhalb von 7000C und einen Druck von etwa 3000 Atmosphären, um den Delafossit durch eine Umsetzung im festen Zustand zu erhalten.Delafossite can also be made by diffusing finely powdered mixed oxides at high temperatures. The platinum and palladium delafossite require a temperature above 700 ° C. and a pressure of about 3000 atmospheres in order to obtain the delafossite through a reaction in the solid state.

Der nach einer dieser Methoden hergestellte Delafossit kann entweder als solcher für eine Elektrode verwendet werden oder bevorzugt als Oberfläche oder Oberzug einer Elektrode aus einem geeigneten Basisoder Substratmaterial dienen.The delafossite produced by one of these methods can either be used as such for an electrode can be used or preferably serve as a surface or coating of an electrode made of a suitable base or substrate material.

In der Regel ist das elektrisch leitende Basis- oder Substratmaterial ein Gleichrichtermetall, wie Titan. Ein derartiges Substrat kann in der Form eines flachen, plattenartigen Gebildes vorliegen oder es kann auch die Form einer perforierten Platte oder eines expandierten Gitterwerks haben. Alternativ kann es in Form von feinen Drähten, Stäben oder anderen Formen vorliegen, wobei solche Formen den Abfluß der gebildeten Gase aus dem Volumen zwischen der Anode und der Kathode in Räume hinter die Anode erlauben.Typically, the electrically conductive base or substrate material is a rectifier metal such as titanium. A Such a substrate can be in the form of a flat, plate-like structure or it can also be the In the form of a perforated plate or an expanded latticework. Alternatively, it can be in the form of fine wires, rods or other shapes are present, such shapes allowing the outflow of the gases formed from the volume between the anode and the cathode into spaces behind the anode.

Wenn ein Titanglied als Substratmaterial verwendet wird, kann man dieses Titanglied für seine Benutzung als Elektrode dadurch vorbereiten, daß man vor der Ablagerung des Delafossitüberzugs eine Entfettung und danach eine Ätzung vornimmt. Die Entfettung kann durch beliebige bekannte Methoden erfolgen, z. B. unter Verwendung von Detergentien, Schleifmitteln oder organischen Entfettungsmitteln. Dann kann das entfettete Titansubstrat mit Fluorwasserstoffsäure, Chlorwasserstoffsäure oder ähnlichen Materialien geätzt werden. Die Ätzung dient dazu, um den natürlicherweise vorkommenden Oxidfilm zu entfernen und ihn durch einen dünnen Hydridfilm zu ersetzen.When a titanium member is used as a substrate material, that titanium member can be used for its use as a Prepare the electrode by degreasing and then an etch is carried out. Degreasing can be done by any known method, e.g. More colorful Use of detergents, abrasives or organic degreasing agents. Then the degreased titanium substrate can be etched with hydrofluoric acid, hydrochloric acid, or similar materials. The etching is used to remove the naturally occurring oxide film and through it to replace a thin film of hydride.

Der Delafossit kann in verschiedener Weise auf die geätzte Titanoberfläche aufgetragen werden. So kann man z. B. eine Aufschlämmung des Delafossits in einem Lösungsmittel, wie Äthanol, Butanol, Benzylalkohol, Phenol, Benzol, Cumol herstellen. Eine derartige Aufschlämmung kann man auf die Titanoberfläche, z. B. mit dem Pinsel oder der Bürste, auftragen. Nach jedem Aufstrich erwärmt man zur Zersetzung oder Verflüchtigung des Lösungsmittels. Die Aufschlämmung kann zusätzlich noch feinteilige Materialien enthalten, wie Silicium, Titan, Zirkon, Hafnium. Vanadin, Niob, Tantal, Molybdän, Wolfram oder andere Materialien, die in der Lage sind, »in situ« während des Vorgangs der Verdampfung oder Zersetzung des Lösungsmittels ein Oxid zu bilden. In der Regel wird als derartiges feinverteiltes Material ein Chlorid verwendet, wie z. B. Titantrichlorid.The delafossite can be applied to the etched titanium surface in various ways. So can one z. B. a slurry of delafossite in a solvent such as ethanol, butanol, benzyl alcohol, Manufacture phenol, benzene, cumene. Such a slurry can be applied to the titanium surface, e.g. B. Apply with a paintbrush or a brush. After each spread, heat is applied to decompose or volatilize the solvent. The slurry can additionally contain finely divided materials, such as Silicon, titanium, zirconium, hafnium. Vanadium, niobium, tantalum, molybdenum, tungsten or other materials used in the Are capable of "in situ" during the process of evaporation or decomposition of the solvent To form oxide. As a rule, a chloride is used as such a finely divided material, such as e.g. B. Titanium trichloride.

Alternativ kann man eine Aufschlämmung herstellen aus Delafossit, einem Metall, einem organischen Lösungsmittel wie Äthanol, Butanol, Benzylalkohol, Phenol, Benzol, Cumol, Polyen und einer Siliciurhdioxidverbindung oder einer Metallverbindung, die in dem organischen Lösungsmittel löslich oder dispergicrbar ist, wie z. B. ein Resinat. Eine derartige Aufschlämmung kann auf das Titan aufgestrichen werden, wobei man z. B. etwa 4 bis etwa 8 Aufstriche verwendet und nach jedem Aufstrich erwärmt, um die organischen Bestandteile zu zersetzen oder zu verflüchtigen. Alternativ können für das Aufbringen desAlternatively, a slurry can be made from delafossite, a metal, an organic one Solvents such as ethanol, butanol, benzyl alcohol, phenol, benzene, cumene, polyene and one Silicon dioxide compound or a metal compound, which is soluble or dispersible in the organic solvent, such as. B. a resinate. Such a one Slurry can be brushed onto the titanium using e.g. B. about 4 to about 8 spreads used and warmed after each spread to break down or volatilize the organics. Alternatively, for the application of the Delafossits auf das Substrat aber auch andere Methoder verwendet werden, wie das Verbinden durch Verpressen oder die kathodische Elektrophorese.Delafossits on the substrate but also other methods can be used, such as joining by pressing or cathodic electrophoresis.

Bei den vorstehenden Verfahren für das Oberzieher des Titansubstrats mit dem Delafossit wurde die Verwendung einer Titan- oder einer Silicium verbindung angegeben, doch sind derartige Verbindungen für da* Funktionieren der Elektrode nicht erforderlich. Die Oxidationsprodukte von solchen Verbindungen, wieIn the above procedures for the top pull of the titanium substrate with the delafossite, the Use of a titanium or a silicon compound indicated, but such compounds are for * Function of the electrode is not required. The oxidation products of such compounds as

to z. B. Titandioxid oder Siliciumdioxid, verleihen jedoch der Delafossitoberfläche eine zusätzliche physikalische Festigkeit und Dauerhaftigkeit Alternativ können Oxide von Zirkon, Hafnium, Vanadin, Niob, Tantal Molybdän oder Wolfram auf der Oberfläche deito z. B. titanium dioxide or silicon dioxide, however, confer Alternatively, the delafossite surface can provide additional physical strength and durability Oxides of zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, molybdenum or tungsten on the surface of the dei Elektrode »in situ« hergestellt werden, um die Beständigkeit und Dauerhaftigkeit der Eiektrodenoberfläche zu verbessern.Electrode can be manufactured "in situ" in order to improve the resistance and durability of the electrode surface.

Die Erfindung wird in den folgenden Beispielen noch näher erläutertThe invention is explained in more detail in the following examples

Beispiel 1example 1

Man stellt eine aus einem Titansubstrat, einem Oberzug aus einem Palladium-Kobalt-Delafossil (PdCoO2) und einer zwischen dem Titan und demOne is made of a titanium substrate, a cover made of a palladium-cobalt-Delafossil (PdCoO 2 ) and one between the titanium and the Delafossit eingelegten Schicht aus metallischem Platin bestehende Elektrode her.Delafossit inlaid layer of metallic platinum existing electrode.

Den Delafossit stellt man aus 2,6642 g Palladiumchlorid (PdCI2) und 2,2482 g Kobaltoxid auf die Weise her, daß man das Chlorid und das Oxid gründlich mahlt, inThe Delafossit is made from 2.6642 g of palladium chloride (PdCl 2 ) and 2.2482 g of cobalt oxide in such a way that the chloride and the oxide are thoroughly ground in ein 2 Stunden luftleer gesaugtes Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 10 mm und einer Länge von 12,7 cm füllt und darin 1 Stunde auf 1100C erhitzt, worauf man das Quarzrohr verschließt Dann erhitzt man das verschlossene Quarzrohr auf 85O0C, hält es 15a 2 hour evacuated sucked quartz tube of an outer diameter of 10 mm, filling a length of 12.7 cm and heated therein for 1 hour at 110 0 C, followed by closing the quartz tube is then heated the sealed quartz tube at 85O 0 C, keeping it 15th Minuten bei dieser Temperatur, läßt die Temperatur dann auf 7000C absinken und setzt das Erhitzen bei dieser Temperatur 65 Stunden fort. Man schabt das entstandene Produkt von der Quarzwand ab, mahlt es gründlich, wäscht es zweimal bei 25°C mit 200 mlMinutes at this temperature, the temperature is then allowed to drop to 700 ° C. and heating is continued at this temperature for 65 hours. The resulting product is scraped off the quartz wall, it is ground thoroughly, and it is washed twice at 25 ° C. with 200 ml Wasser, dann mit Aceton und trocknet es. Man erhält 2,4 g eines grauen metallischen Produkts mit einer Teilchengröße im Bereich von 0,03 bis 03 und von 1 bis 7 Mikron.Water, then with acetone and dry it. You get 2.4 g of a gray metallic product with a particle size in the range from 0.03 to 03 and from 1 to 7 Micron.

Man untersucht dieses Pulver durch RöntgenstreuungThis powder is examined by X-ray diffraction

in einem Philips-Diffraktometer. Für die Röntgenröhre verwendet man eine Spannung von 35 Kilovolt und eine Stromstärke von 15 Milliampere, für den Detektor eine Spannung von 1265 Volt. Man verwendet die Strahlung eines Kupfertargets und arbeitet mit einer Divergenzin a Philips diffractometer. For the X-ray tube a voltage of 35 kilovolts and a current of 15 milliamps are used, one for the detector Voltage of 1265 volts. The radiation from a copper target is used and a divergence is used blende von 1°, einer Strahlblende von 0,1524 mm und einer Streublende von Γ. Man läßt den Detektor mit einer Zeitkonstanten von 2 Sekunden bei 2Θ — 2' pro Minute und den Prüfkörper bei 2Θ - Γ pro Minute rotieren. Man erhält die in der folgenden Tabelle (6) und in F i g. 6 gezeigten Meßwerte.aperture of 1 °, a beam aperture of 0.1524 mm and a diffusion aperture of Γ. The detector is allowed to rotate with a time constant of 2 seconds at 2Θ - 2 ' per minute and the test specimen at 2Θ - Γ per minute. The following table (6) and in FIG. 6 measured values shown.

Tabelle 6Table 6

5,925 4,572 3,448 2,957 2,566 2,440 2,3625.925 4,572 3.448 2.957 2.566 2,440 2.362

40 5 540 5 5

9090

1010

6060

100100

Fortsetzungcontinuation

2,252
2,148
1,759
1,646
1,480
1,438
1,415
1,350
1,325
1,277
1,273
2.252
2.148
1.759
1.646
1,480
1.438
1.415
1,350
1.325
1.277
1.273

4040

1010

5050

1010

2020th

3030th

20
20 einer Elektrolysendauer von 816 Stunden hat sie eine Spannung von 3,92 Volt und eine Chlorüberspannung von 033 Volt
20th
After an electrolysis period of 816 hours, it has a voltage of 3.92 volts and a chlorine overvoltage of 033 volts

Beispiel 2Example 2

Man stellt aus einem Titansubstrat und dem Delafossit PtOiCoOiO2 als Überzugsschicht eine Elektrode her.
Das Delafossit stellt man durch Anionenaustausch aus
An electrode is produced from a titanium substrate and the Delafossite PtOiCoOiO 2 as a coating layer.
The delafossite is exhibited by an anion exchange

ίο Platirichlorid, Kobaltoxid (CoO) und Kobaitoxid (Co3O4) her. Die Kobaltoxide verwendet man in Form eines aus 03048 g Co3O4 und 0,1274 g CoO bestehenden Gemisches. Sie haben die Form eines Pulvers mit einer Korngröße von weniger als 325 Maschen. Man zerstößt sie in einem Mörser zu noch größerer Feinheit Man gibt das Pulvergemisch in ein Quarzrohr von einem.5»-ßeren Durchmesser von 10 mm und einer Länge von 10,!6 cm, saugt dieses luftleer, verschließt es, erhitzt es auf 7000C und hält es 25 Stunden bei dieser Temperatur. Manίο platinum chloride, cobalt oxide (CoO) and cobalt oxide (Co 3 O 4 ). The cobalt oxides are used in the form of a mixture consisting of 03048 g Co 3 O 4 and 0.1274 g CoO. They are in the form of a powder with a grain size of less than 325 mesh. They pounds in a mortar to even greater size, the powder mixture you are in a quartz tube of einem.5 "-ßeren diameter of 10 mm and a length of 10! 6 cm, this sucks evacuated, it closes, it heated to 700 0 C and keeps it at this temperature for 25 hours. Man

Man wäscht einen Titanstreifen von einer Länge von 14.6 cm. einer Breite von 9,5 mm und einer Stärke von 3,175 mm mit einem unter dem Warenzeichen »Comet« 20 erhält eine aus einem schwarzen fuiver und heiibiauen handelsüblichen schleifmittelhaltigen Haushaltsreini- Kristallen bestehende Mischphase. Man zermahlt dieses gungsmittel, spült ihn in destilliertem Wasser, taucht ihn Material, füllt es in ein anderes Quarzrohr, saugt dieses 3 eine Minute lang in 1%ige Flußsäure ein und legt ihnA titanium strip 14.6 cm long is washed. a width of 9.5 mm and a thickness of 3.175 mm with one under the trademark »Comet« 20 receives one from a black fuiver and hot water commercially available household cleaning crystals containing abrasives. One grinds this up agent, rinsing it in distilled water, dipping it into material, filling it into another quartz tube, sucking it 3 one minute in 1% hydrofluoric acid and places it

0C 0 C

dann 23 Stunden in 12 η-Salzsäure von 27C then in 12 η hydrochloric acid at 27 ° C. for 23 hours

Man stellt eine Lösung von 10 g eines als Metall berechneten 7,5 Gew.-% Platin enthaltenden Platinresinats vom Typ Engelhard »0-5X« in 9 g Toluol her und trägt diese Lösung in drei Schichten auf den geätzten Tiranstreifen auf. Jeweils nach dem Auftragen der beiden ersten Schichten erhitzt man den Streifen mit einer Geschwindigkeit von 500C in 5 Minuten auf 5000C und halt ihn 10 Minuten bei dieser Temperatur. Nach dem Aufbringen der dritten Schicht erhitzt man den Streifen mit einer Geschwindigkeit von 50°C in 5 Minuten auf eine Temperatur von 5500C. Auch bei dieser Temperatur hält man ihn 10 Minuten.A solution of 10 g of a platinum resinate of the Engelhard "0-5X" type, calculated as metal, containing 7.5% by weight of platinum is prepared in 9 g of toluene and this solution is applied in three layers to the etched tiran strip. In each case after application of the first two layers of heating the strip at a rate of 50 0 C in 5 minutes at 500 0 C and hold it for 10 minutes at this temperature. After application of the third layer by heating the strip at a rate of 50 ° C in 5 minutes at a temperature of 550 0 C. In this temperature is maintained it for 10 minutes.

Man stellt aus 0,5 g des Palladium-Kobali-Delafossits (PdCoOr). 1 g einer durch die Zugabe von 3,4 g Tabelle 7It is made from 0.5 g of the palladium-Kobali delafossite (PdCoOr). 1 g of one by adding 3.4 g Table 7

Titanchlorid (TiCIi) zu 20 g Äthanol hergestellten Titanium chloride (TiCIi) made into 20 g of ethanol

4,5gew.-%igen Titanlösung und 1,0 g Äthanol einen 4u d 4.5 wt .-% titanium solution and 1.0 g of ethanol a 4u d

Schlamm her und trägt hieraus sechs Überzüge mit Mud and carries six coats from it

einem Pinsel auf den wie beschriebenen, Titanstreifen auf. Nach jedem Überzug wird der Streifen auf 100°C erhitzt und 30 Minuten bei dieser Temperatur gehalten. Nach dem Aufbringen des letzten Überzuges erhitzt -n man den Streifen im Vakuum mit einer Geschwindigkeit von 100°Cin 10 Minuten auf 400°C, wonach man ihn 40 Minuten bei dieser Temperatur hält.a brush on the titanium strips as described on. After each coating, the strip is heated to 100 ° C. and held at this temperature for 30 minutes. After the last coat has been applied, the strip is heated in vacuo at one speed from 100 ° C in 10 minutes to 400 ° C, after which it is 40 Holds at this temperature for minutes.

Nach dem Auftragen der letzten Schicht prüft man die Elektrode in einer Becherglas-Chloratzelle. Als in Chloratzellc verwendet man ein 500 ml fassendes Becherglas, das ein·: gesättigte Kochsalzlösung enthält und in dem die mit Platin beschichtete Titankathode durch einen Abstandhalter aus Teflon sich zu der Anode in einem Abstand von 9,5 mm befindet Man führt die 5'> Elektrolyse bei einer Stromdichte von 53.82 Ampere pro dm2 und einer Zellenspannung von 3,5 Volt durch. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 hat die Zelle eine Chlorüberspannung von 0,08 Volt.After applying the last layer, test the electrode in a beaker chlorate cell. As in Chloratzellc, a 500 ml beaker is used which contains a saturated saline solution and in which the platinum-coated titanium cathode is through a Teflon spacer at a distance of 9.5 mm from the anode Electrolysis at a current density of 53.82 amperes per dm 2 and a cell voltage of 3.5 volts. At a current density of 53.82 amperes per dm 2 , the cell has a chlorine overvoltage of 0.08 volts.

Man setzt die Anode in eine laborübliche Chlordiaph- bo ragmazelle ein. Die Zelle hat eine Eisennetzkathode, die von der Anode einen Abstand von 9,5 mm hat und von dieser durch Asbestpapier getrennt ist Man führt die Elektrolyse einer 315 g NaCl pro Liter enthaltenden Kochsalzlösung bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 und einer Temperatur von etwa 9O0C durch. Die Zelle hat am Beginn eine Spannung von 3,64 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,08 Volt Nach Stunden lang luftleer, erhitzt es auf 7100C, hält es 18 Stunden bei dieser Temperatur und danach weitere 15 Stunden bei einer Temperatur zwischen 700 und 7100C, kühlt das Quarzrohr ab und entnimmt ihm das Material. Man zerstößt es in einem Mörser, gibt es in ein 150-ml-Becherglas und setzt ihm 100 ml Wasser zu. Man filtriert den erhaltenen Schlamm bei 25° C durch einen Filtertrichter aus gesintertem Glas. Den unlöslichen Rückstand wäscht man zweimal mit 25 ml Wasser und dann mit Aceton. Man erhält einen grau-schwarzen Feststoff, den man, wie in Beispiel 1 beschrieben, durch Röntgenstreuung untersucht. Man erhält ein Röntgendiagramm mit den in der Tabelle 7 und F i g. 7 gezeigten Meßwerten.The anode is placed in a laboratory chlorodiaphoboragma cell. The cell has an iron net cathode which is at a distance of 9.5 mm from the anode and separated from it by asbestos paper. The electrolysis of a saline solution containing 315 g of NaCl per liter is carried out at a current density of 53.82 amperes per dm 2 and one Temperature of about 9O 0 C through. The cell has a voltage of 3.64 volts and a chlorine overvoltage of 0.08 volts After hours evacuated at the beginning, it was heated to 710 0 C, keeping it for 18 hours at this temperature and then for another 15 hours at a temperature between 700 and 710 0 C, cools the quartz tube and removes the material from it. You crush it in a mortar, put it in a 150 ml beaker and add 100 ml of water. The sludge obtained is filtered through a sintered glass filter funnel at 25 ° C. The insoluble residue is washed twice with 25 ml of water and then with acetone. A gray-black solid is obtained which, as described in Example 1, is examined by X-ray scattering. An X-ray diagram is obtained with the values shown in Table 7 and FIG. 7 measured values shown.

I/kI / k

5,901
3,292
2,968
2,428
2,364
2,146
2,077
2,020
1,979
1,764
1,648
1,549
1,445
1,441
1,414
1,374
1,350
1,321
1,277
5,901
3.292
2.968
2,428
2,364
2.146
2.077
2.020
1,979
1.764
1.648
1,549
1.445
1.441
1.414
1.374
1,350
1.321
1.277

90 10 100 30 70 4090 10 100 30 70 40

5 10 80 10 405 10 80 10 40

60 20 1060 20 10

5 105 10

S 10S 10

Man reinigt einen Titanstreifen von einer Länge von 14,6 cm, einer Breite von 9,5 mm und einer Stärke von 3,175 mm mit dem Haushaltsreinigungsmittel »Comet«, ätzt ihn 5 Minuten in einer 2volumenprozentigen Flußsäurelösung und danach 22 Stunden bei 27°C in 1n n-Salzsäure.A titanium strip 14.6 cm long, 9.5 mm wide and 3.175 mm thick is cleaned with the household cleaning agent "Comet", etched for 5 minutes in a 2 percent by volume hydrofluoric acid solution and then for 22 hours at 27 ° C 1 n n hydrochloric acid.

Man stellt aus 0,25 g des oben beschriebenen Platin-Kobalt-Delafossits (PUwComCH 0,5 g einer 4,2gew.-%igen Lösung von Titanchlorid (TiCb) in Äthanol und 0,5 g Äthanol einen Schlamm her und trägt hieraus mit einem Pinsel fünf Oberzüge auf den Titanstreifen auf. Nach jedem der Oberzüge 1 bis 4 erhitzt man den Streifen auf 1000C, wobei man ihn 30 Minuten lang hält. Nach dem Auftragen des letzten Oberzuges erhitzt man den Streifen in einem luftleeren Rohr dann auf 500° C Auch bei dieser Temperatur hält man ihn 30 Minuten.A sludge is produced from 0.25 g of the above-described platinum-cobalt delafossite (PUwComCH 0.5 g of a 4.2% by weight solution of titanium chloride (TiCb) in ethanol and 0.5 g of ethanol and is carried along with it heating a brush five top coatings on the titanium strip on. After each of the upper trains 1 to 4 to the strip to 100 0 C, keeping it for 30 minutes. After the application of the final top coating by heating the strip in a vacuum tube then to 500 ° C It is kept at this temperature for 30 minutes as well.

Man prüft die Elektrode zuerst in einer Becherglaszelle. Als Becherglaszelle verwendet man ein 40OmI fassendes Becherglas. Dieses enthält die zu prüfende Anode und, durch einen Abstandhalter aus Teflon 9,5 mm von dieser entfernt, eine platinierte Titankathode. Als Elektrolyt verwendet man eine gesättigte Kochsalzlösung, die pro Liter 315 g Kochsalz enthält. Nach 18 Stunden zeigt die Elektrode eine Spannung von 3.15 Volt bei siner Stromdichte von 26,91 Ampere pro dm2 und eine Spannung von 3,8 Volt bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 beträgt die Spannung gegen eine Kalomelelektrode 1,12 Volt und die Chlorüberspannung 0,06 Volt.The electrode is first tested in a beaker cell. A 40OmI beaker is used as the beaker cell. This contains the anode to be tested and a platinum-coated titanium cathode, 9.5 mm away from it through a Teflon spacer. A saturated saline solution is used as the electrolyte, which contains 315 g of saline per liter. After 18 hours, the electrode shows a voltage of 3.15 volts with a current density of 26.91 amps per dm 2 and a voltage of 3.8 volts with a current density of 53.82 amps per dm 2 . At a current density of 53.82 amperes per dm 2 , the voltage against a calomel electrode is 1.12 volts and the chlorine overvoltage is 0.06 volts.

Man setzt die Elektrode dawi in eine laborübliche Chlordiaphragmazelle ein. Die Zelle enthält eine Eisennetzkathode, die sich zu der Anode in einem Abstand von 9,5 mm befindet und von dieser durch Asbestpapier getrennt gehalten wird. Bei einer Stromdichte von 53,»2 Ampere pro dmJ und einer Temperatur des Elektrolyten von 90" C hat \'\e Zelle am Beginn eine Spannung von 338 Volt -jnd eine Chlorüberspannung von 0,06 Volt. Nach einem Betriel von 104 Tagen hat die Zelle eine Spannung von 3,70 Volt und eine Chlorüber-Spannung von 0,08 Volt.The electrode is then placed in a laboratory chlorine diaphragm cell. The cell contains an iron mesh cathode which is located at a distance of 9.5 mm from the anode and is kept separated from it by asbestos paper. At a current density of 53 "2 amps per dm J and a temperature of the electrolyte of 90" C \ hat '\ e cell at the beginning of a voltage of 338 volts -jnd a chlorine overvoltage of 0.06 volts. After a Betriel of 104 days the cell has a voltage of 3.70 volts and a chlorine overvoltage of 0.08 volts.

Beispiel 3Example 3

Man stellt aus einem Titansubstrat und dem Delafossit Pt<wCoo.73j02 als Überzugsschicht eine Elektrode her.An electrode is made from a titanium substrate and the Delafossite Pt <wCoo.73j0 2 as a coating layer.

Man stellt das Platin-Kobalt-Delafossit nach dom Anionenaustauschverfahren auf die Weise her, daß man 5.322 g Platinchlorid (PtCI2). 13622 g Kobaltoxid (CojOO und 0.882 g Kobaltoxid (CoO) durch Mahlen auf eine Korngröße von weniger als 325 Maschen zerkleinern niischi. das Gemisch in ein Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 12 mm und einer Länge von 12,7 cm einfüllt, das Rohr 2 Stunden bei 25°C und 16 Stunden bei 125°C luftleer saugt und dann verschließt. Danach erhitzt man das das Pulver enthaltende Rohr auf 70O0C, hält es 70 Stunden bei dieser Temperatur, kühlt es dann rasch auf Raumtemperatur ab, worauf man es öffnet. Sein Inhalt besteht aus einem grauen metallischen Feststoff, festen blauen Kristallen und einem grünen Feststoff. Man zerkleinert das Gesamtprodukt durch Mahlen auf eine Korngröße von weniger als 325 Maschen, füllt das zerkleinerte Produkt in ein zweites Quarzrohr von einem äußeren Durehmesser von 12 mm und einer Länge von 12,7 cm( μ saugt das Rohr 1 Stunde bei 25°C und 3 Stunden bei 135°C luftleer, verschließt es, erhitzt es auf 7000C und hält es 47 Stunden bei dieser Temperatur. Hiernach kühlt man es auf Raumtemperatur ab und öffnet es. Es enthält blaue und grüne Kristalle an seinem abgekühlten Ende und außerdem einen grauen metallischen Feststoff. Man zerkleinert den grauen metallischen Feststoff auf eine Korngröße von weniger als 325 Maschen, wäscht zweimal bei 25°C mit je 25 ml destilliertem Wasser, dann zweimal mit Aceton und trocknet bei 70°C. Danach hält man das Pulver 16 Stunden bei 25°C unter Vakuum. Man untersucht den erhaltenen leichten grauen kristallinen metallischen Stoff röntgenspektroskopisch auf die im Beispiel 1 beschriebene Weise. Das Röntgendiagramm ist in Fig.8 dargestellt. Es ist, von nur geringen Unterschieden abgesehen, mit dem aus der Literatur von Delafossit PtO1SCo0JO2 bekannten Röntgendiagramm im wesentlichen identisch.The platinum-cobalt delafossite is produced by the anion exchange process in such a way that 5,322 g of platinum chloride (PtCl 2 ) are added. Crush 13622 g of cobalt oxide (CojOO and 0.882 g of cobalt oxide (CoO) by grinding to a grain size of less than 325 meshes). Pour the mixture into a quartz tube with an outer diameter of 12 mm and a length of 12.7 cm, tube 2 sucks evacuated hours at 25 ° C and 16 hours at 125 ° C and then closes. After heating the powder tube containing at 70o 0 C, it holds 70 hours at this temperature, it cools then rapidly to room temperature, after which it Its contents consist of a gray metallic solid, solid blue crystals and a green solid. The total product is comminuted by grinding to a particle size of less than 325 mesh, the comminuted product is filled into a second quartz tube with an outer diameter of 12 mm and a length of 12.7 cm sucks the tube 1 hour at 25 ° C and 3 hours at 135 ° C deflated, it closes, it is heated to 700 0 C, keeping it at this temperature for 47 hours. Hiernac h you cool it down to room temperature and open it. It contains blue and green crystals on its cooled end and also a gray metallic solid. The gray metallic solid is comminuted to a grain size of less than 325 meshes, washed twice at 25 ° C. with 25 ml of distilled water each time, then twice with acetone and dried at 70 ° C. The powder is then kept under vacuum at 25 ° C. for 16 hours. The light gray crystalline metallic substance obtained is examined by X-ray spectroscopy in the manner described in Example 1. The X-ray diagram is shown in Fig. 8. Apart from only minor differences, it is essentially identical to the X-ray diagram known from the Delafossit PtO 1 SCo 0 JO 2 literature.

Man ätzt den Titanstreifen wie im Beispiel 1 beschrieben und trägt darauf aus einem Schlamm, der aus 0,25 g des Platin-Kobalt-Delafossits, 0,50 g einer als Metall berechnet 4,2 Gew.-% Titan enthaltenden Titanresinatlösung, 0,19 g Toluol und 0,06 g Phenol besteht, fünf Oberzugsschichten auf. Man erhitzt die Schichten 1 bis 4 mit einer Geschwindigkeit von 5O0C in 10 Minuten auf 425° C und die fünfte Schicht ebenfalls mit einer Geschwindigkeit von 50°C in 10 Minuten auf 5000C Alle Schichten hält man 10 Minuten bei ihrer jeweiligen Höchsttemperatur.The titanium strip is etched as described in Example 1 and carried on it from a sludge composed of 0.25 g of platinum-cobalt delafossite, 0.50 g of a titanium resinate solution calculated as the metal containing 4.2% by weight of titanium, 0, 19 g of toluene and 0.06 g of phenol consists of five coating layers. Heating the layers 1 to 4 at a rate of 5O 0 C in 10 minutes to 425 ° C, and the fifth layer is also at a rate of 50 ° C in 10 minutes to 500 0 C All of the layers is maintained for 10 minutes at their respective maximum temperature .

Man prüft die erhaltene Elektrode auf die im Beispiel 1 beschriebene Weise in einer Becherglas-Chlorzelle. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 und einer Temperatur des Elektrolyten von 6O0C hat die Zelle eine Chlorüberspannung von 0,07 Volt und gegen eine Kalomelelektrode eine Elektrodenspannung von 1,125VoItThe electrode obtained is tested in the manner described in Example 1 in a beaker chlorine cell. At a current density of 53.82 amps per dm 2 and a temperature of the electrolyte of 6O 0 C, the cell has a chlorine overvoltage of 0.07 volts, and against a calomel electrode, an electrode voltage of 1,125VoIt

Man setzt die Anode dann in eine laborübliche Chlordiaphragrr.azelle von der im Beispiel 1 beschriebenen Art ein und führt die Elektrolyse ebenfalls wie im Beispiel 1 beschrieben bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 durch. Die Zelle hat am Beginn eine Spannung von 3,65 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,07 Volt. Nach einer Dauer der Elektrolyse von 744 Stunden hat die Zelle eine Spannung von 3,85 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,28 Volt.The anode is then placed in a laboratory chlorine diaphragm cell of the type described in Example 1 and the electrolysis is also carried out as described in Example 1 at a current density of 53.82 amperes per dm 2 . The cell initially has a voltage of 3.65 volts and a chlorine overvoltage of 0.07 volts. After 744 hours of electrolysis, the cell has a voltage of 3.85 volts and a chlorine overvoltage of 0.28 volts.

Beispiel *. Example *.

Man stellt aus einem Titansubstrat und dem Palladium-Rhodium-Delafossit (PdRhO2) als Überzugsschicht eine Elektrode her. Den Delafossit stellt man nach dem Anionenaustauschverfahren aus Lithiumrhodanat (LiRhO2). metallischem Palladium und Palladiumchlorid (PdCl2) her. Das Lithiumrhodanat (LiRhO2) gewinnt man aus Rhodiumoxid (Rh2Os) und Lithiumcarbonat (Li2COj). Rhodiumoxid (Rh2Oj) erhält man, wenn man Rhodiumchlorid (RhCI3 · 3 H2O) 42 Stunden bei 7900C unter Luftzufuhr erhitzt. Zur Herstellung von Lithiumrhodat zermahlt man das Rhodiumoxid, mischt davon 1,0367 g mit 03660 g Lithiumcarbonat (Li2COj). gibt das Pulvergemisch in eine Alundum-Schale, erhitzt es auf 10400C, hält es 66 Stunden bei dieser Temperatur, zerkleinert das erhaltene Produkt auf eine Konngröße von weniger als 325 Maschen und prüft sie röntgenspektroskopisch. Das erhaltene Röntgendiagramm ist mit dem aus der Literatur von Lithiummanganat (LiMnO2) bekannten Röntgendiagramrti im wesentlicher identisch. An electrode is produced from a titanium substrate and the palladium-rhodium delafossite (PdRhO 2) as a coating layer. The Delafossit is made from lithium rhodanate (LiRhO 2 ) using the anion exchange process. metallic palladium and palladium chloride (PdCl 2 ). The lithium rhodanate (LiRhO 2 ) is obtained from rhodium oxide (Rh 2 Os) and lithium carbonate (Li 2 COj). Rhodium oxide (Rh 2 O j) is obtained when one of rhodium chloride (RhCl 3 · 3 H 2 O) was heated for 42 hours at 790 0 C in an air stream. To produce lithium rhodate, the rhodium oxide is ground and 1.0367 g of it is mixed with 03660 g of lithium carbonate (Li 2 COj). is the powder mixture in a Alundum shell, it is heated to 1040 0 C, keeping it for 66 hours at this temperature, the product obtained is comminuted to a Could size of less than 325 mesh and checks röntgenspektroskopisch. The X-ray diagram obtained is essentially identical to the X-ray diagram known from the literature on lithium manganate (LiMnO 2).

Man stellt den Delafossit auf die Weise her, diiß man 1,0817 g Lithiumrhodanat (LiRhO2), 0,4068 g metallisches Palladium und 0,6672 g Palladiumchlorid (PdCI2) mischt, das Gemisch durch Mahlen zerkleinert, das Pulver in ein Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 9 mm und einer Länge von 12,7 cm füllt, das Rohr 1 Stunde bei 25°C und 3 Stunden bei 110°C luftleer saugt, das Rohr dann schließt, auf 790°C erhitzt und 75 Stunden bei dieser Temperatur hält.Adjust the delafossite on the way forth diiß to 1.0817 g Lithiumrhodanat (LiRhO 2), 0.4068 g of metallic palladium and 0.6672 g of palladium chloride (PdCl 2) are mixed, crushed the mixture by milling the powder in a quartz tube of an outer diameter of 9 mm and a length of 12.7 cm, the tube is vacuumed for 1 hour at 25 ° C and 3 hours at 110 ° C, the tube then closes, heated to 790 ° C and 75 hours at this Temperature.

J9J9

Man zermahlt das erhaltene Produkt, gibt es in ein zweites Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 9 mm und einer Länge von 12,7 cm, saugt das Rohr luftleer, erhitzt es auf 1800C, hält es 18 Stunden bei dieser Temperatur, verschließt es, erhitzt es auf 775° C and hält es bei dieser Temperatur 48 Stunden. Man wäscht das erhaltene Produkt viermal mit destilliertem Wasser und einmal mit Aceton.The product obtained is ground, placed in a second quartz tube with an outer diameter of 9 mm and a length of 12.7 cm, the tube is vacuumed, heated to 180 ° C., kept at this temperature for 18 hours, and closed , heats it to 775 ° C and holds it at that temperature for 48 hours. The product obtained is washed four times with distilled water and once with acetone.

Man reinigt und ätzt einen 143 cm langen, 9,5 mm breiten und 3,175 mm starken Titanstreifen wie in Beispiel 1 beschrieben und streicht darauf vier Schichten aus einem Schlamm, hergestellt aus 0,2 g des Palladium-Rhodium-Delafossits (FdRhO2), 0.4 g eines als Metall berechnet 4,2 Gew.-% Titan enthaltenden Titanresinats, 0,05 g Phenol und 0,15 g Toluol, mit einem Pinsel auf. is Nach jedem der Überzüge 1 bis 3 erhitzt man den Streifen mit einer Geschwindigkeit von 500C in 10 Minuten auf 4500C, worauf man ihn 10 Minuten bei dieser Temperatur hält Nach dem Auftragen der letzten Schicht erhitzt man ihn, ebenfalls mit einer Geschwindigkeit von 500C in 10 Minuten, auf 5000C Au^h bei dieser Temperatur hält man den Streifen 10 Minuten.A titanium strip 143 cm long, 9.5 mm wide and 3.175 mm thick is cleaned and etched as described in Example 1 and four layers of a sludge made from 0.2 g of palladium-rhodium delafossite (FdRhO 2 ) are painted on it, 0.4 g of a titanium resinate containing 4.2% by weight of titanium, 0.05 g of phenol and 0.15 g of toluene, with a brush. After each of the coatings 1 to 3, the strip is heated at a rate of 50 ° C. in 10 minutes to 450 ° C., whereupon it is kept at this temperature for 10 minutes. After the last layer has been applied, it is heated, likewise at one rate from 50 ° C. in 10 minutes, to 500 ° C. at this temperature, the strip is kept for 10 minutes.

Man prüft die so hergestellte Elektrode als Anode wie beschrieben in einer Becherglas-Chloratzelle. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 und einer Temperatur des Elektrolyten von 60° C hat die Elektrode eine Chiorüberspannung von 0,07 Volt.The electrode produced in this way is tested as an anode as described in a beaker chlorate cell. At a current density of 53.82 amperes per dm 2 and a temperature of the electrolyte of 60 ° C., the electrode has a chlorine overvoltage of 0.07 volts.

Man setzt die Anode in eine laborübliche Chlordiaphragmazelle der im Beispiel 1 beschriebenen Art ein und führt die Elektrolyse-wie in Beispiel 1 beschrieben jo bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 durch. Am beginn hat die Zelle eine Spannung von 3,69 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,07 Volt. Nach einer Elektrolyse von 1320 Stunden hat die Zelle eine Spannung von 3,71 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,15 Volt.The anode is placed in a laboratory chlorine diaphragm cell of the type described in Example 1 and the electrolysis is carried out as described in Example 1 at a current density of 53.82 amperes per dm 2 . At the beginning the cell has a voltage of 3.69 volts and a chlorine overvoltage of 0.07 volts. After 1320 hours of electrolysis, the cell has a voltage of 3.71 volts and a chlorine overvoltage of 0.15 volts.

Beispiel 5Example 5

Man jtellt aus einem Titansubstrai und dem Palladium-Chrom-Delafossit (PdCrO2) als Überzug!;-schicht eine Elektrode her. Den Delafossit stellt man nach dem Anionenaustauschverfahren aus Palladiummetall, Palladiumchlorid und Lithiumchromat her. Man gewinnt Lithiumchromat durch das Umsetzen von Lithiumc3rbonat (Li2CO3) mit Ch;omoxid (Cr2O3). Man zermahlt hierzu ein Gemisch aus 3,6945 g Lithiumcarbonat (Li2CO3) und 7,6010 g Chromoxid (Cr2O3). gibt das Pulver in eine Alundum-Schale und erhitzt es darin 4 Stunden auf 33O0C und 12 Stunden auf 93O0C. Man zermahlt das erhaltene Produkt, erhitzt es danach 23 Stunde.i auf 93O0C. zermahlt es wieder und erhitzt es-23 Stunden auf 10400C. Man zermahlt das erhaltene dunkelgrüne Produkt und untersucht es, wie im Beispiel 1 beschrieben, röntgenspektroskopisch. Nach seinem Röntgendiagramm hat es die gleiche Kristallform wie das LiMnO2.An electrode is made from a titanium substrate and the palladium-chromium delafossite (PdCrO 2 ) as a coating! Delafossit is made from palladium metal, palladium chloride and lithium chromate using the anion exchange process. Lithium chromate is obtained by reacting lithium carbonate (Li 2 CO 3 ) with chromium oxide (Cr 2 O 3 ). For this purpose, a mixture of 3.6945 g of lithium carbonate (Li 2 CO 3 ) and 7.6010 g of chromium oxide (Cr 2 O 3 ) is ground. is the powder in an alundum crucible and heated up, it in 4 hours at 33O 0 C and 12 hours at 93O 0 C. The product obtained is grind it thereafter heated to 93O 0 C. 23 Stunde.i grind it again and heated it -23 hours 1040 0 C. it grinds the dark green product obtained and analyzed, as described in example 1, röntgenspektroskopisch. According to its X-ray diagram, it has the same crystal form as LiM n O 2 .

Man stellt aus 1,8190 g Lithiumchromat (LiCrO2), 1.0670 g Palladiummetall und 1,7761 g Palladiumchlorid (PdCl2) durch Mahlen ein Pulver mit einer Korngröße von weniger als 325 Maschen her, gibt das Pulvergemisch in ein Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 10 mm und einer Länge von 12,7 cm. saugt das Rohr 16 Stunden bei 130°C luftleer, verschließt es, erhitzt es 46 Stunden auf 800°C und kühlt es. Man zermahlt das erhaltene Produkt, füllt es in ein zweites Quarzrohr von eineit, äußeren Durchmesser von 10 mm und einer Länge von 12,7 cm, saugt das Quarzrohr 5 Stunden bei 130°C luftleer, verschließt es und erhitzt es 64 Stunden auf 8000C, was bedeutet, daß insgesamt 110 Stunden auf 800° C erhitzt wirdA powder with a particle size of less than 325 mesh is prepared from 1.8190 g of lithium chromate (LiCrO 2 ), 1.0670 g of palladium metal and 1.7761 g of palladium chloride (PdCl 2 ) by grinding, and the powder mixture is placed in a quartz tube with an outer diameter of 10 mm and a length of 12.7 cm. vacuum the tube evacuated for 16 hours at 130 ° C, seal it, heat it to 800 ° C for 46 hours and cool it. It grinds the product obtained, it is filled into a second quartz tube of CUSTOMER UNIT, mm outer diameter of 10 and a length of 12.7 cm, the quartz tube sucks 5 hours at 130 ° C air empty, closes it, and heated in 64 hours 800 0 C, which means that it is heated to 800 ° C for a total of 110 hours

Man zermahlt das erhaltene Produkt auf eine Korngröße von weniger als 325 Maschen, wäscht es bei 25°C mit destilliertem Wasser, wäscht es danach noch zweimal mit Aceton bei 25° C und trocknet es.The product obtained is ground to a grain size of less than 325 meshes, and it is washed 25 ° C with distilled water, then washes it twice more with acetone at 25 ° C and dries it.

Man reinigt und ätzt einen Titanstreifen von einer Länge von 14,6 cm, einer Breite von 9,5 mm und einer Stärke, von 3,175 mm auf die im Beispiel 1 beschriebene Weise.A titanium strip measuring 14.6 cm in length, 9.5 mm in width and one in width is cleaned and etched Thickness, of 3.175 mm in the manner described in Example 1.

Man stellt eine Lösung von 10 g eines als Metall berechnet 7,5 Gew.-% Platin enthaltenden Platinresinats vom Typ Engelhard »0-5X« in 9 g Toluol her, so daß die Lösung 3,9 Gew.-% als Metall berechnetes Platin enthält und bringt aus dieser Lösung vier Überzüge auf den Titanstreifen auf. Man erhitzt den Streifen jeweils nach dem Aufbringen der Überzüge 1 bis 3 mit einer Geschwindigkeit von 500C in 5 Minuten auf 400"X und nach dem Aufbringen des vierter.-Überzuges, mit einer Geschwind^z.eit von 500C in 10 Minuten, auf 50O0C und hält ihn ir jedem Faii ΊΟ Minuten bei der jeweiligen Höchsttemperatur.A solution of 10 g of a platinum resinate of the Engelhard "0-5X" type, calculated as metal, containing 7.5% by weight of platinum, is prepared in 9 g of toluene, so that the solution is 3.9% by weight of platinum, calculated as metal contains and applies four coatings to the titanium strip from this solution. Heating the strip in each case after the application of the coatings 1 to 3 at a rate of 50 0 C in 5 minutes at 400 "X, and after the application of vierter.-coating, with a Geschwind ^ z.eit of 50 0 C in 10 Minutes, to 50O 0 C and keeps it every fai minutes at the respective maximum temperature.

Man stellt aus 0,2 g des Palladium-Chrom-Delafossits (PdCrO2), 0,4 g eines als Metall berechnet 4,2 Gew.-% Titai·. enthaltenden Titanresinats, 0,05 g Phenol und 0,15 g Toluol einen Schlamm her und trägt daraus mit einem Pinsel vier Überzugsschichten auf den Titanstreifen auf. Man erhitzt die Elektrode jeweils nach dem Aufbringen der Überzüge 1 bis 3 mit einer Geschwindigkeit von 500C in 10 Minuten auf 45O0C und nach dem Aufbringen des letzten Überzuges, ebenfalls mit einer Geschwindigkeit von 500C in 10 Minuten, auf 5000C und hält sie in jedem Fall 10 Minuten bei der jeweiligen Höchsttemperatur.0.2 g of the palladium-chromium delafossite (PdCrO 2 ), 0.4 g of 4.2% by weight of titanium, calculated as the metal, are made. containing titanium resinate, 0.05 g of phenol and 0.15 g of toluene and applies four layers of coating to the titanium strip with a brush. Heating the electrode in each case after the application of the coatings 1 to 3 at a rate of 50 0 C in 10 minutes at 45O 0 C and after application of the last coating, also at a rate of 50 0 C in 10 minutes, to 500 0 C and keeps it in any case for 10 minutes at the respective maximum temperature.

Man prüft die Elektrode dann als Anode in einer Becherglas-Chloratzelle wie im Beispiel 1 beschrieben. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 hat die Anode 0,05 Volt.The electrode is then tested as an anode in a beaker chlorate cell as described in Example 1. At a current density of 53.82 amps per dm 2 , the anode has 0.05 volts.

Beispiel 6Example 6

Man stellt mit einem Titansubstrat, einer hierauf aufgetragenen Platinschicht, einer weiteren Schicht aus dem Platin-Kobak-Delafossil (PlojiCoojjO;) und einer diese Schicht bedeckenden Schicht aus porösem Titandioxid eine Elektrode her.A further layer is exhibited with a titanium substrate with a layer of platinum applied to it the platinum Kobak Delafossil (PlojiCoojjO;) and one this layer covering the layer of porous titanium dioxide produced an electrode.

Man stellt den Platin-Kobalt-Delafossit auf die Weise durch die Umsetzung von Platinchlorid (PtCl2) mit Kobalt(ll+ IllJ-oxid (Co3O4) und Kobalt(ll)-oxid (CoO) her, daß man 7,9842 g Platinchlorid (PtCI2), 3.6123 g Kobalt(II+ III)-oxid (Co3O4) und 1,124! g Kobalt(II)-oxid (CoO) in einem Mörser zu einem Pulver mit einer Korngröße von weniger als 325 Maschen zerstößt und misciit, das Pulver in ein Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 10 mm und eine Länge von 12,7 cm füllt und darin im Vakuum 18 Stunden auf 1300C erhitzt, worauf man das Rohr verschließt.The platinum-cobalt delafossite is produced by the reaction of platinum chloride (PtCl 2 ) with cobalt (II + IIIJ oxide (Co 3 O 4 ) and cobalt (II) oxide (CoO), so that 7.9842 g of platinum chloride (PtCl 2 ), 3.6123 g of cobalt (II + III) oxide (Co 3 O 4 ) and 1.124 g of cobalt (II) oxide (CoO) are crushed in a mortar to a powder with a grain size of less than 325 mesh and misciit, the powder is filled into a quartz tube with an outer diameter of 10 mm and a length of 12.7 cm and heated in a vacuum to 130 ° C. for 18 hours, after which the tube is closed.

Man erhitzt das verschlossene Quarzrohr 46 Stunden auf 7000C, nir>mt das entstandene Produkt aus dem Quarzrohr heraus, mahlt es, gibt es in ein zweites Quarzröhf von einem äußeren Durchmesser von 10 mm und einer Länge von 12,7 cm, erhitzt das Rohr im Vakuum 8 Stunden auf 1300C, verschließt es und erhitzt es dann 64 Stunden auf 700°C.Heating the sealed quartz tube 46 hours 700 0 C, nir> mt, the resulting product from the quartz tube out, it grinds, there are in a second Quarzröhf of an outer diameter of 10 mm and a length of 12.7 cm, heating the tube in a vacuum for 8 hours 130 0 C, closes it, and then heated in 64 hours 700 ° C.

Man nimmt d .s entstandene Produkt aus dem Rohr heraus, wäscht es fünfmal bei 25°C mit destilliertem Wasser, danach zweimal bei 25°C mit Aceton, trocknet es unter Luftzufuhr bei 70°C, zerstößt es in einem Mörser zu einer Korngröße von weniger als 325The resulting product is taken out of the tube, washed five times at 25 ° C with distilled Water, then twice at 25 ° C with acetone, dries air it at 70 ° C, pound it in a mortar to a grain size of less than 325

Maschen und zerkleinert es weiter, indem man es eine Stunde lang in einer handelsüblichen Hammermühle mit einem Hammer aus Borkarbid behandelt.Mesh and shred it further by making it a Treated for one hour in a commercial hammer mill with a hammer made of boron carbide.

Nach einer Untersuchung mit einem Elektronenmikroskop hat das erhaltene Material Korngrößen im Bereich zwischen 0,02 und 7,5 Mikron. Die Korngrößenverteilung liegt innerhalb zweier verschiedener Größenbereiche. In der Hauptsache liegen hierbei die Korngrößen zwischen 0.02 und 0,3 Mikron und zwischen 1,5 und 6,0 Mikron. Im Bereich der feinen Teilchen ist die mittlere Korngröße 0,1 Mikron, im Bereich der größeren Teilchen ist sie 2,5 Mikron.After examination with an electron microscope, the material obtained has grain sizes im Range between 0.02 and 7.5 microns. The grain size distribution lies within two different size ranges. The main grain sizes are between 0.02 and 0.3 microns and between 1.5 and 6.0 microns. In the range of fine particles the mean grain size is 0.1 micron, in the range of larger particles it is 2.5 microns.

Man reinigt und ätzt einen 14,6 cm langen, 9,5 mm breiten und 3,175 mm starken Titanstreifen, wie in Beispiel 1 beschrieben, und streicht darauf acht ij Schichten aus einem 0,25 g des Dclafossits PtosCooaO:, 0,12 g Titantetrachlorid (TiCU) in Butanol, 0,75 g Butanoi und 0,15 g Phenol bestehenden Schlamm auf. Man erhitzt den Streifen nach jedem Überzug mit einer Geschwindigkeit von 5O0C in 5 Minuten auf 425°C. :oA 14.6 cm long, 9.5 mm wide and 3.175 mm thick titanium strip is cleaned and etched, as described in Example 1, and eight layers of 0.25 g of the Dclafossite PtosCooaO: 0.12 g titanium tetrachloride are painted on it (TiCU) in butanol, 0.75 g butanoi and 0.15 g phenol on existing sludge. Heating the strip after each coating at a rate of 5O 0 C in 5 minutes at 425 ° C. :O

Man stellt dann aus Titantetrachlorid (TiCU) in Butanol einen Schlamm her, der, als Metall berechnet, 2,25 Gew.-% Titan enthält und streicht diesen Schlamm in vier Schichten auf die Deiafossitfiäche des Titanstreifens auf. Man erhitzt den Streifen jeweils nach dem Aufbringen der Überzüge 1 bis 3 20 Minuten auf 1100C und danach IC Minuten auf 4250C. Nach dem Aufbringen des letzten Überzuges erhitzt man ihn 20 Minuten auf 11O0C. ind 15 Minuten auf 5000C.A sludge is then prepared from titanium tetrachloride (TiCU) in butanol which, calculated as metal, contains 2.25% by weight of titanium, and this sludge is spread in four layers on the deiafossite surface of the titanium strip. Heating the strip in each case after the application of the coatings 1 to 3 20 minutes 110 0 C and then After the application of the last coating one 20 minutes heating it to 11O 0 C. IC minutes at 425 0 C. ind 15 minutes 500 0 C.

Die auf diese Weise hergestellte Elektrode besteht jo aus einem Titansubstrat als Basis, einer Überzugsschicht aus dem Platin-Kobalt-Delafossit und einer diese bedeckenden äußeren Schicht aus Titandioxid. Man setzt die Elektrode in eine Becherglas-Chloratzelle als Anode ein. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro j; dm· hai die Anöuc eifie Spannung VOiI 1,175 Vöii gcgcil eine Kalomelelektrode und eine Chlorüberspannung von 0,12 Volt.The electrode produced in this way consists of jo of a titanium substrate as a base, a coating layer made of platinum-cobalt-delafossite and one of these covering outer layer of titanium dioxide. Place the electrode in a beaker chlorate cell as a Anode one. At a current density of 53.82 amperes per j; dm · hai the anöuc eifie tension VOiI 1,175 Vöii gcgcil a calomel electrode and a chlorine overvoltage of 0.12 volts.

Beispiel 7Example 7

4040

Man stellt mit einem Titansubstrat als Basis, einem Überzug aus Platin-Kobalt-Delafossit Pto.gCoo.8O2 und einer hierauf aufgetragenen äußeren Schicht aus Titandioxid eine Elektrode her.A titanium substrate is used as the base, a coating of platinum-cobalt-delafossite Pto.gCoo.8O2 and an outer layer of titanium dioxide applied thereon to produce an electrode.

Man reinigt einen 14,6 cm langen, 9,5 mm breiten und 3,175 mm starken Titanstreifen auf die im Beispiel 1 beschriebene Weise, trägt darauf aus einem Schlamm aus 0,5 g des nach Beispiel 6 hergestellten Platin-Kobalt-Delafossits (Pto.eCoo.8O2). 0.25 g Titantetrachlorid (TiCU). 0.75 g Butanol und 0,15 g Phenol sechs Überzüge auf und erhitzt den Streifen nach jedem Überzug zunächst 30 Minuten auf 1100C und dann 15 Minuten auf 400° CA titanium strip 14.6 cm long, 9.5 mm wide and 3.175 mm thick is cleaned in the manner described in Example 1, and is carried out from a sludge of 0.5 g of the platinum-cobalt delafossite produced according to Example 6 (Pto. eCoo.8O2). 0.25 g titanium tetrachloride (TiCU). 0.75 g butanol and 0.15 g of phenol and heated six coatings on the strip after each coating first for 30 minutes 110 0 C and then 15 minutes 400 ° C

Man stellt eine auf das Metall berechnet 2,1 Gew.-% Titan enthaltende Lösung von Titantetrachlorid in Butanol her und trägt aus dieser Lösung vier Überzüge auf die Deiafossitfiäche der Elektrode auf. Nach jedem der Überzüge 1 bis 3 erhitzt man die Elektrode zunächst 20 Minuten auf UO0C und dann 10 Minuten auf 425°C μ Nach dem vierten Überzug erhitzt man sie zunächst 20 Minuten auf 110°Cund dann 15 Minuten auf 5O0°CA solution of titanium tetrachloride in butanol containing 2.1% by weight of titanium based on the metal is prepared and four coatings are applied from this solution to the deiafossite surface of the electrode. After each of the coatings 1 to 3, the electrode is heated first to RO 0 C for 20 minutes and then to 425 ° C for 10 minutes. After the fourth coating, it is first heated to 110 ° C for 20 minutes and then to 50 ° C for 15 minutes

Man prüft die aus dem Titansubstrat, einem Überzug aus dem Piatin-Kobait-Delafossit und einem äußeren Überzug aus porösem Titandioxid bestehende Elektrode wie im Beispiel 1 beschrieben als Anode in einer Becherglas-Chloratzeüe. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 hat die Anode eine Spannung von 1,160 Volt gegen eine Kalomelelektrode und eine Chlorüberspannung von 0,10 Volt.The electrode consisting of the titanium substrate, a coating of the platinum-kobaite-delafossite and an outer coating of porous titanium dioxide is tested as described in Example 1 as an anode in a beaker-chlorate cell. At a current density of 53.82 amperes per dm 2 , the anode has a voltage of 1.160 volts against a calomel electrode and a chlorine overvoltage of 0.10 volts.

Man setzt die Anode in eine laborübliche Chlordiaphragmazelle von der im Beispiel 1 beschriebenen Art ein und führt die Elektrolyse nach Beispiel I bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 durch. Die Zelle hat am Beginn eine Spannung von 374 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,10 Volt. Nach einer Elektrolyse von 74 Tagen hat die Zelle eine Spannung von 3,94 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,17 Volt.The anode is placed in a laboratory chlorine diaphragm cell of the type described in Example 1 and the electrolysis according to Example I is carried out at a current density of 53.82 amperes per dm 2 . The cell initially has a voltage of 374 volts and a chlorine overvoltage of 0.10 volts. After 74 days of electrolysis, the cell has a voltage of 3.94 volts and a chlorine overvoltage of 0.17 volts.

Beispiel 8Example 8

Man stellt mit einem Titansubstrat als Basis, einem Überzug aus dem Platin-Kobalt-Delafossit (Pto.eCoo.8O2) und einer zwischen dem Substrat und dem Delafossitüberzug eingelegten Schicht aus Rutheniumdioxid (RuO2)eine Elektrode her.A titanium substrate is used as a base, a coating made of platinum-cobalt-delafossite (Pto.eCoo.8O2) and a layer of ruthenium dioxide sandwiched between the substrate and the delafossite coating (RuO2) made an electrode.

Man entfettet, reinigt und ätzt einen i4,6cm iangen, 9,5 mm breiten und 3,175 mm starken Titanstreifen auf die im Beispiel 1 beschriebene Weise und streicht darauf mit einem Pinsel fünf Schichten aus einem 1,5 g Rutheniumtrichlorid (RuCI3 ■ 3 H2O) in 9 g Äthanol enthaltenden Schlamm auf. Man trocknet den Streifen nach jedem der ersten vier Überzüge 10 Minuten an der Luft und erhitzt ihn dann unter Luftzufuhr 10 Minuten auf 30O0C. Man trocknet den letzten Überzug zunächst ebenfafli; 10 Minuten an der Luft, erhitzt ihn dann aber 45 Minuten unter Luftzufuhr auf 4500C.A titanium strip 14.6 cm long, 9.5 mm wide and 3.175 mm thick is degreased, cleaned and etched in the manner described in Example 1 and five layers of 1.5 g of ruthenium trichloride (RuCl 3 3 H 2 O) in sludge containing 9 g of ethanol. Dry the strip of any of the first four coatings 10 minutes in air and then heated it at air supply 10 minutes 30O 0 C. drying the final coating initially ebenfafli; 10 minutes in the air, but then heats it to 450 0 C for 45 minutes with a supply of air.

Man stellt aus 0,5 g des Platin-Kobalt-Delafossits (PtojCooÄ) nach Beispiel 6, 1.0 g einer als Metall berechnet 4,2 Gew.-% Titan enthaltenden Lösung von Titantetrachlorid (TiCU) in Butanol, 0,2 g Phenol und einem Tropfen Nonylphenoxypolyoxyäthylenäthanol einen Schlamm her und trägt daraus sechs Überzüge auf den Streifen auf. Nach jedem Überzug erhitzt man den Streifen zunächst 20 Minder, auf !!00C und danr·. 15 Minuten auf 400"C.From 0.5 g of the platinum-cobalt delafossite (PtojCooÄ) according to Example 6, 1.0 g of a solution of titanium tetrachloride (TiCU) in butanol, 0.2 g of phenol and containing 4.2% by weight of titanium, calculated as the metal, is made a drop of nonylphenoxypolyoxyäthylenäthanol produces a sludge and applies it to six coatings on the strip. After each coating, the strip is first heated for 20 minutes, to !! 0 0 C and then. 15 minutes at 400 "C.

Danach überzieht man den Streifen mit einer Schicht aus einer als Metall berechnet 2,1 Gew.-% Titan enthaltenden Lösung von Titantetrachlorid (TiCU) in Butanol und erhitzt ihn zunächst 20 Minuten auf HO0C und dann 15 Minuten auf 5000C. Die nach diesem Verfahren erhaltene Elektrode hat ein gleichmäßig graues Aussehen.The strip is then coated with a layer of a solution of titanium tetrachloride (TiCU) in butanol, calculated as metal, containing 2.1% by weight of titanium and heated first to HO 0 C for 20 minutes and then to 500 0 C for 15 minutes The electrode obtained by this process has a uniform gray appearance.

Man prüft die Elektrode auf die im Beispiel 1 beschriebene Weise als Anode in einer Becherglas-Chloratzelle. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 hat die Anode eine Spannung von 1,147 Volt gegen eine Kalomelelektrode und eine Chlorüberspannung von 0.09 Volt.The electrode is tested in the manner described in Example 1 as an anode in a beaker chlorate cell. At a current density of 53.82 amperes per dm 2 , the anode has a voltage of 1.147 volts against a calomel electrode and a chlorine overvoltage of 0.09 volts.

Man setzt die Elektrode dann als Anode in eine laborübliche Chlordiaphragmazelle von der im Beispiel 1 beschriebenen Art ein und führt die Elektrolyse wie im Beispiel t beschrieben bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 durch. Die Zelle hat am Beginn eine Spannung von 3,60 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,09 Volt. Nach einer Elektrolyse von 936 Stunden hat die Zelle eine Spannung von 3,72 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,07 Volt.The electrode is then inserted as an anode in a laboratory chlorine diaphragm cell of the type described in Example 1 and the electrolysis is carried out as described in Example t at a current density of 53.82 amperes per dm 2 . The cell initially has a voltage of 3.60 volts and a chlorine overvoltage of 0.09 volts. After 936 hours of electrolysis, the cell has a voltage of 3.72 volts and a chlorine overvoltage of 0.07 volts.

Beispiel 9Example 9

Man stellt mit einem Titansubstrat als Basis, einem Überzug aus dem Palladium-Kobalt-Delafossit (PdCoOi) und einer zwischen dem Substrat und dem Delafossitüberzug eingelegten Schicht aus Rutheniumdioxid (R11O2) eine Elektrode her.It is made with a titanium substrate as a base, a coating of palladium-cobalt delafossite (PdCoOi) and a layer of ruthenium dioxide inserted between the substrate and the delafossite coating (R11O2) an electrode.

Man entfettet, reinigt und ätzt einen 14,6 cm längen, 9,5 mm breiten und 3,175 mm starken Titanstreifen aufYou degrease, clean and etch a 14.6 cm long, 9.5 mm wide and 3.175 mm thick titanium strips

die im Beispiel 1 beschriebene Weise und streicht darauf mit einem Pinsel vier Schichten aus einem 1,5 g Rutheniumtrichlorid (RuCI3 · 3 HjO) in 9 g Äthanol enthaltenden Schlamm auf. Man trocknet den Streifen nach jedem der ersten drei Überzüge 10 Minuten an der Luft up<i erhitzt ihn dann in einem luftoffenen Ofen auf eine Temperatur von 3000C, bei der man ihn 10 Minuten hält Man trocknet den Streifen nach dem vierten Überzug ebenfalls 10 Minuten an der Luft, erhitzt ihn dann aber in einem luftoffenen Ofen auf 4500C und hält ihn 45 Minuten bei dieser Temperatur.in the manner described in Example 1 and then with a brush four layers of a sludge containing 1.5 g of ruthenium trichloride (RuCl 3 · 3 HjO) in 9 g of ethanol are applied. Dry the strip of any of the first three coatings 10 minutes in air up <i then heating it in an air-open furnace to a temperature of 300 0 C, holding it at the one 10 minutes, also dries the strip after the fourth coating 10 minutes in air, then heated in an air but it open oven at 450 0 C and holding it for 45 minutes at this temperature.

Man stellt aus 0,2 g des Palladium-Kobalt-Delafossits (PdCoO2) nach Beispiel 1, 0,4 g eines als Metall berechnet 4,2 Gew.-% Titan enthaltenden Titanresinats, 0,15 g Toluol und 0,05 g Phenol einen Schlamm her und trägt daraus sechs Überzüge auf den Titanstreifen auf. Nach jedem der ersten fünf Überzüge erhitzt man den Streifen mit einer Geschwindigkeit von 5O0C in 5 Minuten auf 4250C. Nach dem letzten Überzug erhitzt man den Streifen mit einer Geschwindigkeit von 50° C inFrom 0.2 g of the palladium-cobalt delafossite (PdCoO 2 ) according to Example 1, 0.4 g of a titanium resinate containing 4.2% by weight of titanium, 0.15 g of toluene and 0.05 g are prepared Phenol produced a sludge and applied it to the titanium strip in six coatings. After each of the first five coatings by heating the strip at a rate of 5O 0 C in 5 minutes at 425 0 C. After the last coating is heated to the strip at a rate of 50 ° C in

5 Minuten auf eine Temperatur von 5000C, bei der man ihn 15 Minuten hält.5 minutes to a temperature of 500 ° C., at which it is kept for 15 minutes.

Man setzt die aus einem Titansubstrat, einem Überzug aus dem Palladium-Kobalt-Delafossit und einer zwischen dem Substrat und dem Delafossitüberzug eingelagerten Rutheniumdioxidschicht bestehende Elektrode als Anode in eine Becherglas-Chloratzelle nach Beispiel 1 ein. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 hat die Anode eine Spannung von 1,141 Voll gegen eine Kalomelelektrode und eine Chlorüberspannung von 0,08 Volt.The electrode consisting of a titanium substrate, a coating of palladium-cobalt delafossite and a ruthenium dioxide layer interposed between the substrate and the delafossite coating is inserted as an anode in a beaker chlorate cell according to Example 1. At a current density of 53.82 amperes per dm 2 , the anode has a voltage of 1.141 full against a calomel electrode and a chlorine overvoltage of 0.08 volts.

Man setzt die Anode in eine Chlordiaphragmazelle von den im Laboratorium üblichen Maßen ein und führt die Elektrolyse nach Beispiel 1 bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm? durch. Die Zelle hat am Beginn eine Spannung von 3,48 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,08 Volt. Nach einer Dauer der Elektrolyse von 576 Stunden hai die Zelle eine Spannung von 3,49 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,07 Volt.The anode is placed in a chlorine diaphragm cell of the dimensions customary in the laboratory and carried out the electrolysis according to Example 1 at a current density of 53.82 amperes per dm? by. The cell is on Beginning with a voltage of 3.48 volts and a chlorine overvoltage of 0.08 volts. After a period of Electrolysis of 576 hours has one cell Voltage of 3.49 volts and a chlorine overvoltage of 0.07 volts.

Hierzu 4 Blatt ZeichnungenFor this purpose 4 sheets of drawings

Claims (3)

Patentansprüche:Patent claims: 1. Anode für elektrochemische Verfahren mit einem elektrisch leitfähigen Träger aus einem Gleichrichtermetall oder Graphit mit einer hierauf befindlichen Oberzugsschicht, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberzugsschicht im wesentlichen aus Platin-Kobalt-Delafossit, Palladium-Kobalt-Delafossit, Palladium-Chrom-Delafossit oder Palladium-Rhodium-Delafossit besteht1. Anode for electrochemical processes with an electrically conductive carrier made of a rectifier metal or graphite with a top layer thereon, characterized in that that the top layer consists essentially of platinum-cobalt-delafossite, palladium-cobalt-delafossite, Palladium-Chromium-Delafossite or Consists of palladium-rhodium-delafossite Z Anode nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine zwischen dem Träger und der Delafossitoberfläche befindliche Zwischenschicht, die im wesentlichen aus Ruthenium, Rhodium, Palladium, Platin, Osmium, Iridium oder ihren Legierungen oder Rutheniumoxid, Rhodiumoxid, Palladiumoxid, Platinoxid Osmiumoxid, Iridiumoxid oder Mischungen davo»? iestehtZ anode according to claim 1, characterized by one between the carrier and the delafossite surface located intermediate layer, which essentially consists of ruthenium, rhodium, palladium, platinum, Osmium, iridium or their alloys or ruthenium oxide, rhodium oxide, palladium oxide, Platinum oxide osmium oxide, iridium oxide or mixtures thereof »? stands 3. Anode nach den Ansprüchen 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger aus Titan besteht3. Anode according to claims 1 or 2, characterized in that the carrier consists of titanium
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Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2255690C3 (en) * 1972-11-14 1985-01-31 Conradty GmbH & Co Metallelektroden KG, 8505 Röthenbach Anode for electrochemical processes
DE2312563A1 (en) * 1973-03-14 1974-10-03 Conradty Fa C METALLANODE FOR ELECTROCHEMICAL PROCESSES
FR2237986B1 (en) * 1973-07-20 1977-05-13 Rhone Progil
US4042483A (en) * 1973-07-20 1977-08-16 Rhone-Progil Electrolysis cell electrode and method of preparation
US4032417A (en) * 1974-09-03 1977-06-28 Hooker Chemicals & Plastics Corporation Electrolytic processes
US4173518A (en) * 1974-10-23 1979-11-06 Sumitomo Aluminum Smelting Company, Limited Electrodes for aluminum reduction cells
FR2312573A1 (en) * 1975-05-30 1976-12-24 Rhone Poulenc Ind NEW ELECTRODE FOR ELECTROLYSIS CELL
US4146438A (en) * 1976-03-31 1979-03-27 Diamond Shamrock Technologies S.A. Sintered electrodes with electrocatalytic coating
US4075070A (en) * 1976-06-09 1978-02-21 Ppg Industries, Inc. Electrode material
US4107025A (en) * 1977-11-09 1978-08-15 Noranda Mines Limited Stable electrode for electrochemical applications
US4552630A (en) * 1979-12-06 1985-11-12 Eltech Systems Corporation Ceramic oxide electrodes for molten salt electrolysis
US4399008A (en) * 1980-11-10 1983-08-16 Aluminum Company Of America Composition for inert electrodes
US4478693A (en) * 1980-11-10 1984-10-23 Aluminum Company Of America Inert electrode compositions
US4396485A (en) * 1981-05-04 1983-08-02 Diamond Shamrock Corporation Film photoelectrodes
US4633372A (en) * 1985-08-26 1986-12-30 The Standard Oil Company Polyoxometalate-modified carbon electrodes and uses therefor in capacitors
EP0306100A1 (en) * 1987-09-02 1989-03-08 MOLTECH Invent S.A. A composite ceramic/metal material
US5104502A (en) * 1989-12-18 1992-04-14 Oronzio De Nora S.A. Cathodic protection system and its preparation
US5062934A (en) * 1989-12-18 1991-11-05 Oronzio Denora S.A. Method and apparatus for cathodic protection
US6720100B2 (en) * 2000-10-27 2004-04-13 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Catalyst for oxidation of gaseous compound
US20060116285A1 (en) * 2004-11-29 2006-06-01 De Nora Elettrodi S.P.A. Platinum alloy carbon-supported catalysts
GB2461297A (en) * 2008-06-26 2009-12-30 Avocet Hardware Ltd Lock with additional security mechanism and clutch
DE102008032127A1 (en) * 2008-07-08 2010-02-04 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Sol and method of making a delafossite mixed oxide layer structure on a substrate and a mixed oxide coated substrate
KR101623664B1 (en) * 2009-12-17 2016-05-23 비와이디 컴퍼니 리미티드 Surface metallizing method, method for preparing plastic article and plastic article made therefrom
US9435035B2 (en) 2010-01-15 2016-09-06 Byd Company Limited Metalized plastic articles and methods thereof
CN102071424B (en) * 2010-02-26 2012-05-09 比亚迪股份有限公司 Plastic product and preparation method thereof
CN102071411B (en) 2010-08-19 2012-05-30 比亚迪股份有限公司 Plastic product and preparation method thereof
JP2015148010A (en) * 2014-01-10 2015-08-20 パナソニックIpマネジメント株式会社 Method for generating oxygen and water electrolysis device
CN108531939B (en) * 2018-04-11 2019-11-08 苏州工业职业技术学院 Pt modifies Fe2O3 package CuFeO2 photocathode and preparation method
WO2020064500A1 (en) * 2018-09-26 2020-04-02 Max Planck Gesellschaft Zur Förderung Der Wissenschaften eV Electrocatalysts for hydrogen evolution reactions (her) with delafossite oxides abo2

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DD77963A (en) *
GB1249300A (en) * 1967-12-27 1971-10-13 Ici Ltd Electrodes for electrochemical processes

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