DE2304380B2 - Electrodes with a Delafossit surface - Google Patents

Electrodes with a Delafossit surface

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Description

Für zahlreiche elektrochemische Reaktionen, wie die Elektrolyse von Solen, Chlorwasserstoffsäure und Sulfaten, die clektroplattierung, elektrolytische Gewinnung, elektrolytische Hersti 'lung von Metallpulvern, elektrolytische Reinigang, elektrolytische Beizung und elektrochemische Erzeugung ->n elektrischer Kraft werden nichtverbrauchbare Anoden benötigt. Bisher sind Graphitanoden für solche Zwecke verwendet worden, insbesondere für die Elektrolyse von Solen und die Elektrolyse von Chlorwasserstoffsäure. In jüngerer Zeit sind für solche Verfahren Elektroden entwickelt worden, die eine geeignete elektrisch leitende Grundlage oder Substrat und einen elektrokatalytischen Überzug darauf besitzen. Typischerweise bilden sulche elektrokatalytische Überzüge die Metalle der Platingruppe, wie z. B. Platin, Osmium, Iridium, Ruthenium, Palladium und Rhodium und ihre Oxide.For numerous electrochemical reactions, such as the electrolysis of brines, hydrochloric acid and sulfates, electroplating, electrolytic extraction, electrolytic production of metal powders, electrolytic cleaning, electrolytic pickling and electrochemical generation -> n electrical power, non-consumable anodes are required. Graphite anodes have heretofore been used for such purposes, particularly for the electrolysis of brines and the electrolysis of hydrochloric acid. More recently, electrodes have been developed for such processes which have a suitable electrically conductive base or substrate and an electrocatalytic coating thereon. Typically, these electrocatalytic coatings form the platinum group metals, such as. B. platinum, osmium, iridium, ruthenium, palladium and rhodium and their oxides.

Aus DE-OS 18 16 820 sind Elektroden bekannt, bei denen der elektrokatalytische Überzug mit einer anorganischen Glasur kombiniert ist. Der Nachteil besteht darin, daß dadurch ein Teil der aktiven Elektrodenoberfläche blockiert wird und die Elektroden eine geringere Effizienz aufweisen.From DE-OS 18 16 820 electrodes are known in which the electrocatalytic coating with a inorganic glaze is combined. The disadvantage is that it makes some of the active The electrode surface is blocked and the electrodes are less efficient.

DD-PS 77 963 beschreibt Elektroden mit Oberflächen aus Oxyden der Platinmetallgruppe. Diese Oberflächen weisen eine geringe elektrische Leitfähigkeit auf und sind bei den üblichen Belastungen noch nicht ausreichend beständig gegenüber chemischen Angriffen.DD-PS 77 963 describes electrodes with surfaces made of oxides of the platinum metal group. These surfaces have a low electrical conductivity and are not yet sufficient with the usual loads resistant to chemical attack.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung war es, die Nachteile der bekannten Elektroden zu vermeiden und eine Anode zu schaffen, die auch bei hohen Stromdichten eine niedrige Chlorüberspannung aufweist und unter Betriebsbedingungen auch längere Zeiten chemischen Angriffen widersteht.The object of the present invention was to avoid the disadvantages of the known electrodes and to create an anode that has a low chlorine overvoltage and below even at high current densities Resists chemical attack for long periods of time in operating conditions.

Es wurde nun gefunden, daß eine besonders geeignete Anode für die Durchführung von elektrochemischen Reaktionen erhalten wird, wenn eine Delafossitoberfläche auf einem geeigneten elektrisch leitenden Substrat oder Basis aufgebracht wird. Delafossite sind Oxide von hoher elektrischer Leitfähigkeit von der stöchiometriwobei in dieser Formel A Platin oder Palladium ist. B ist typischerweise Chrom, Kobalt oder Rhodium.It has now been found that a particularly suitable anode for carrying out electrochemical Reactions is obtained when a delafossite surface is placed on a suitable electrically conductive substrate or base is applied. Delafossite are oxides of high electrical conductivity from the stoichiometric being in this formula A is platinum or palladium. B is typically chromium, cobalt, or rhodium.

Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist eine Anode mit einer Chlorüberspannung von weniger als 0,33 Volt bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2, die gekennzeichnet ist durch einen elektrischThe present invention relates to an anode with a chlorine overvoltage of less than 0.33 volts at a current density of 53.82 amperes per dm 2 , which is characterized by an electrical

ίο leitfähigen Träger aus einem Gleichrichtermetall oder Graphit mit einer hierauf befindlichen Überzugsschicht, die im wesentlichen aus Delafossit besteht, wobei man als Delafossit den Platin-Kobalt-Delafossit, den Palladium-Kobalt-Delafossit, den Palladium-Chrom-Delafossit oder den Paliadium-Rhodium-Delafossit verwendet.ίο conductive carrier made of a rectifier metal or Graphite with a coating thereon, which consists essentially of Delafossit, whereby one as delafossite the platinum-cobalt-delafossite, the palladium-cobalt-delafossite, the palladium-chromium-delafossite or the paliadium-rhodium-delafossite is used.

Delafossite schließen auch nichtstöchiometrische Verbindungen ein, die mit den stöchiometrischen Delafossiten isostrukturell sind. Ein geeignetes elektrisch leitendes Substrat ist ein elektrisch leitendes Substrat, daß im wesentlichen nicht durch den Elektrolyten angegriffen wird.Delafossite also include non-stoichiometric Compounds that are isostructural with the stoichiometric Delafossites. A suitable electric conductive substrate is an electrically conductive substrate that is essentially not covered by the Electrolytes are attacked.

Wie schon ausgeführt wurde, besitzen die Anoden nach der Erfindung eine Delafossitoberfläche auf einem elektrisch leitenden Substrat Die Delafossite besitzen eine einzigartige Kristallstruktur, die derjenigen des natürlichen Micsrals Delafossit (CuFeO2) ähnlich ist, wobei die geringen Unterschiede in der Kristallstruktur auf die geringfügig verschiedenen Radien der Ionen zurückzuführen sind.As already stated, the anodes according to the invention have a delafossite surface on an electrically conductive substrate. The delafossite has a unique crystal structure which is similar to that of the natural micral delafossite (CuFeO 2 ), the small differences in the crystal structure being due to the slightly different radii the ions are due.

Delafossite ergeben besonders befriedigende Elektrodenmaterialien, da sie eine hohe elektrische Leitfähigkeit, die derjenigen von Metallen vergleichbar ist, mit einer hohen Beständigkeit gegen einen chemischen Angriff, die derjenigen von feuerfesten Metalloxiden vergleichbar ist, vereinigen. So liegt z. B. die elektrische Leitfähigkeit von komprimierten Pulvern des Platin- und Palladium-Delafossits in der Größenordnung von etwa 103 bis 10* (Ohm-Zentimeter)-'. Derartige Platin- und Palladium-Delafossite sind zusätzlich auch beständig gegen den Angriff von starken Säuren, wie Königswasser bei 70°C und auch gegen nascierendes Chlor.Delafossite produce particularly satisfactory electrode materials because they combine high electrical conductivity, which is comparable to that of metals, with high resistance to chemical attack, which is comparable to that of refractory metal oxides. So is z. B. the electrical conductivity of compressed powders of platinum and palladium delafossite on the order of about 10 3 to 10 * (ohm-centimeter) - '. Such platinum and palladium delafosites are also resistant to attack by strong acids, such as aqua regia at 70 ° C and also to nascent chlorine.

Die Delafossite sind eine Familie von Oxiden aus zwei oder mehr Metallen, wobei das Oxid eine rhomboetisehe Struktur mit einem hexagonalen Kristallhabitus hat, der demjenigen des Minerals Delafossit CuFeO2 ähnlich ist. Delafossite können weiterhin dadurch charakterisiert werden, daß ihre Kristalle eine Raumgruppe von 166 haben, eine Shoenflies-Gruppe von Z>LThe Delafossite are a family of oxides made from two or more metals, the oxide having a rhomboid structure with a hexagonal crystal habit similar to that of the mineral Delafossite CuFeO 2. Delafossite can also be characterized by the fact that their crystals have a space group of 166, a Shoenflies group of Z> L

'" ein volles Standard-Symbol von Ri-(R. — 3, zwei über'"a full standard symbol of Ri- (R. - 3, two over

m) und ein internationales Symbol von Rsm (R, Querstrich 3, m). Solche Oxide und ihre Kristallografie sind in der Literatur wiederholt beschrieben worden. m) and an international symbol of Rs m (R, slash 3, m). Such oxides and their crystallography have been described repeatedly in the literature.

-,-) Als allgemeine Regel sind die Delafossite ferner dadurch charakterisiert, daß die Α-Ionen, die dem Kupfer in dem Mineraldelafossit entsprechen, einen effektiven lonenradius haben, der zwei Sauerstoffkoordinationen entspricht, d. h., daß die effektiven lonenra--, -) As a general rule, the Delafossite are further characterized by the fact that the Α-ions, which the Copper in the mineral delafossite have an effective ionic radius equal to that of two oxygen coordinations corresponds to, d. that is, that the effective lonenra-

M) dien im Bereich von 0,45 bis 0,68 Angström liegen. Im Falle der elektrisch besonders gut leitenden Platin- und Palladium-Delafossite haben die Α-Ionen effektive lonenradien im Bereich von 0,58 bis 0,61 Angström. Die B-Ionen, die den Eisenionen in dem MineraldelafossitM) are in the range from 0.45 to 0.68 angstroms. in the In the case of platinum and palladium delafossite, which are particularly good electrical conductors, the Α ions are effective ion radii in the range from 0.58 to 0.61 angstroms. the B ions, which are the iron ions in the mineral delafossite

to entsprechen, haben einen lonenradius, der einer octahedralen Koordination entspricht, d. h., daß die effektiven Atomradien im Bereich von etwa 0,50 bis etwa 1,05 Angströmeinheiten liegen. Der hier benutzteto have an ionic radius that corresponds to one corresponds to octahedral coordination, d. that is, the effective atomic radii range from about 0.50 to are approximately 1.05 angstrom units. The one used here

Ausdruck »effektiver lonenradius« schließt den äquivalenten Ausdruck »Kristall-Ionenradius« ein.The term "effective ionic radius" includes the equivalent Expression "crystal ionic radius".

C. T. P r e w i 11, R. D. S h a η η ο η and D. B. R ο ge rs, Chemistry of Noble Metall Oxides, Inorganic Chemistry, Bd. 10 (1971), berichten, daß der synthetische Platin-, Kobalt-Delafossit (PtCoO2) die krystallografische Struktur vom Delafossit-Typ besitzt. Für die Verwendung in den Elektroden nach der Erfindung sind sowohl die stöchiometrischen als auch die nichtstöchiometrischen Platin-Kobalt-Delafossite ganz besonders geeignet.CT P rewi 11, RD S ha η η ο η and DB R ο ge rs, Chemistry of Noble Metall Oxides, Inorganic Chemistry, Vol. 10 (1971), report that the synthetic platinum, cobalt delafossite (PtCoO 2 ) has the delafossite type crystallographic structure. Both the stoichiometric and the non-stoichiometric platinum-cobalt delafosites are particularly suitable for use in the electrodes according to the invention.

Die Delafossit-KristaJlstruktur und die Relationen zwischen dem Platin-Kobalt-Delafossit, dem Palladium-Delafossit und dem Mineral-Delafossit (CuFeO2) wird durch die Bezugnahme auf die Figuren noch näher erläutert Die Figuren zeigen folgendes:The delafossite crystal structure and the relations between the platinum-cobalt-delafossite, the palladium-delafossite and the mineral-delafossite (CuFeO2) explained in more detail by referring to the figures The figures show the following:

F j g. 1 ist eine grafische Darstellung der Röntgenbeugungswerte, die in der Literatur für das Mineral-Delafossit (CuFeO2) zu finden sind und die in Tabelle I wiedergegeben sind;F j g. Figure 1 is a graphical representation of the X-ray diffraction values found in the literature for the mineral delafossite (CuFeO 2 ) presented in Table I;

F i g. 2 ist eine grafische Darstellung de~ Röntgenbeugungswerte, die in der Literatur für Platin-Kobalt-Delafossit (PtCoO2) angegeben und in Tabelle λ zusammengestellt sind;F i g. Figure 2 is a graph of the X-ray diffraction values reported in the literature for platinum-cobalt-delafossite (PtCoO 2 ) and summarized in Table λ;

F i g. 3 ist eine grafische Darstellung der Röntgenbeugungswerte, die in der Literatur für Palladium-Kobalt-Delafossitoxid (PdCoO2) angegeben und in Tabelle 3 zusammengestellt sind;F i g. 3 is a graph of the X-ray diffraction values reported in the literature for palladium-cobalt delafossite oxide (PdCoO 2 ) and summarized in Table 3;

F i g. 4 ist eine grafische Darstellung der köntgenbeugungswerte, die in der Literatur für Palladium-Chrom- jo Delafossit (PdCrO2) angegeben und in Tabelle 4 zusammengestellt sind;F i g. Fig. 4 is a graph of the x-ray diffraction values reported in the literature for palladium-chromium-jo delafossite (PdCrO 2 ) and summarized in Table 4;

F i g. 5 ist eine grafische Darstellung der Röntgenstrahlenbeugungswerte, die in der Literatur für Palladium-Rhodium-Delafossit (PdRhO2) angegeben und in Tabelle 5 zusammengestellt sind.F i g. 5 is a graph of the X-ray diffraction values reported in the literature for palladium-rhodium-delafossite (PdRhO 2 ) and summarized in Table 5.

Die F i g. 1 bis 5, die die in der Literatur angegebenen und in den Tabellen 1 bis 5 zusammengefaßten Werte wiedergeben, sind auf den gleichen Maßstab der Abszisse aufgetragen und besitzen eine gemeinsame Ordinate. Die Abszisse gibt l/lo, das angegebene Verhältnis der Intensität des reflektierten Strahls zu dem einfallenden Strahl an. Die Ordinate d gibt den angegebenen Abstand zwischen den Ebenen an, errechnet aus der später hier roch näher erläuterten Gleichung von Bragg.The F i g. 1 to 5, which reproduce the values given in the literature and summarized in Tables 1 to 5, are plotted on the same scale as the abscissa and have a common ordinate. The abscissa indicates l / lo, the specified ratio of the intensity of the reflected beam to the incident beam. The ordinate d indicates the specified distance between the planes, calculated from the Bragg equation, which will be explained in more detail here.

Fig. 1 wurde auf Basis der Werte von Salier und Thompson, Phys. Rev., Band 44, Seite 644 (1935), berichtet in A.S.T.M X-Ray Powder Diffraction File 12 — 752, und in Tabelle t wiedergegeben, erstellt. Die >n F i g. 2.3, 4 und 5 wurden aufgrund der Werte von R. D. Shannon et al., Inorganic Chemistry, Band 1C, Seiten 713, 717 op cit., und hiei in den Tabellen 2, 3, 4 und 5 wiedergegeben, erstellt.Fig. 1 was based on the values of Salier and Thompson, Phys. Rev. Volume 44, page 644 (1935) reported in A.S.T.M X-Ray Powder Diffraction File 12 - 752, and reproduced in table t. The> n F i g. 2.3, 4 and 5 were based on the values of R.D. Shannon et al., Inorganic Chemistry, Volume 1C, pages 713, 717 op cit., And here in Tables 2, 3, 4 and 5 reproduced, created.

F i g. 6 ist eine Röntgenstrahlbeugung von Palladium- η Kobalt-Delafossit (PdCoO2), der für die Verwendung als ein Elektrodenmaterial in Beispiel 1 hergestellt wurde;F i g. 6 is an X-ray diffraction of palladium-η cobalt delafossite (PdCoO 2 ) prepared for use as an electrode material in Example 1;

Fig. 7 ist eine Röntgenbeugung von Platin-Kobalt-Delafossit (Pto.eCoo,802), der für die Verwendung als Elektrodenmaterial in Beispiel 2 hergestellt wurde; *oFigure 7 is an X-ray diffraction of platinum-cobalt delafossite (Pto.eCoo, 80 2 ) prepared for use as an electrode material in Example 2; *O

Fig.8 ist eine Röntgenbeugung von Platin-Kobalt-Delafossit (Pto5Coo,73302), der für die Verwendung als Elektrodenmaterial in Beispiel 3 hergestellt wurde.8 is an X-ray diffraction of platinum-cobalt delafossite (Pto5Coo, 7330 2 ) prepared for use as an electrode material in Example 3.

Die kristallografischen Einheiten von Platin- und Palladium-Delafcssit geben eine einmalige Familie von Röntgenstrahlbeugungen, die durch Peaks bei »a« Abständen von 5,90/2 bis 6,0229 Angström, 2,9728 bis 3,0137 Angström, ein Doublet mit einem Abstand zwischen den Peaks von 0,06 bis 0,07 Angström mit dem ersten Peak bei 2,4260 bis 2,3609 Angström und dem zweiten Peak des Doublets bei 2,5384 bis 2,5141 Angström, einem Peak bei 2,1460 bis 2,2643 Angstrom und einem anderen Peak bei 1,6483 bis 1,7104 Angström charakterisiert sind. Für das Mineraldelafossit sind nur Werte von 2 θ Grad im Überschuß von etwa 30° bekannt, d. h. für d Abstände von weniger als 2,86 Angström. Das Mineraldelafossit (CuFeO2) hat das Doublel: bei 2,58 und 2,508 Angström und auf die Peaks bei 2,23B und 1,658 Angström. Die Unterschiede in den Ergebnissen der Röntgenstrahlbeugung zwischen den einzelnen Mitgliedern der Delafossitfamilie ist auf die geringfügig verschiedenen Kationenradien zurückzuführen. The crystallographic units of platinum and palladium delafssite give a unique family of X-ray diffractions represented by peaks at "a" spacings from 5.90 / 2 to 6.0229 Angstroms, 2.9728 to 3.0137 Angstroms, a doublet with a Distance between peaks from 0.06 to 0.07 Angstroms with the first peak at 2.4260 to 2.3609 Angstroms and the second peak of the doublet at 2.5384 to 2.5141 Angstroms, a peak at 2.1460 to 2 , 2643 Angstroms and another peak at 1.6483 to 1.7104 Angstroms. For the mineral delafossite only values of 2 θ degrees in excess of about 30 ° are known, ie for d distances of less than 2.86 angstroms. The mineral delafossite (CuFeO 2 ) has the doublel: at 2.58 and 2.508 Angstroms and on the peaks at 2.23B and 1.658 Angstroms. The differences in the results of X-ray diffraction between the individual members of the delafossite family are due to the slightly different cation radii.

Für das Mineral Delafossit (CuFeO2) sind in Tabelle 1 und in Fig. 1 die Werte der Röntgenstrahlbeugung angegeben bzw. grafisch dargestellt. Die Ergebnisse der Röntgtnstrahlbeugung bei Delafossiten von Metallen der Platingruppe sind in den Tunellen 2 bis 5 und den grafischen Darstellungen der F i g. 2 bis 5 wiedergegeben. Es wird noch einmal darauf hingewiesen, daß die Werte für die Tabellen 1 bis 5 und die grafischen Darstellungen 1 bis 5 der Literatur entnommen sind. Ditie Figuren sind idealisiert und zeigen Familienbeziehungen und -trends. Aus den F i g. 1 bis 5 ist kein Grundton und keine Regellosigkeit zu entnehmen, die normalerweise bei Röntgenstrahluntersuchungen auftreten. For the mineral delafossite (CuFeO 2 ), the values of the X-ray diffraction are given in Table 1 and in FIG. 1 or are shown graphically. The results of X-ray diffraction on delafossites of metals of the platinum group are shown in tunnels 2 to 5 and the graphs in FIG. 2 to 5 reproduced. It is pointed out once again that the values for Tables 1 to 5 and the graphic representations 1 to 5 are taken from the literature. The figures are idealized and show family relationships and trends. From the F i g. 1 to 5 does not reveal any keynote or irregularity that normally occurs in X-ray examinations.

Bei der Beobachtung und bei der Aufzeichnung von Röntgenstrahluntersuchungen werden Proben des Delafossitpulvers Röntgenstrahlen aus einem Kupfertarget unterworfen. Die Methoden für eine solche Untersuchung sind im Kapitel des Buches von Klug und Alexander, X-Ray Diffraction Procedures, John Wiley & Sons, Inc., New York (1954), Seiten 235 bis 318. insbesondere Seiten 270 bis 318, und bei N e w f i e I d X-Ray Diffraction Methods, John Wiley & Sons, Inc.. New York (1966), Seiten 177 bis 207, beschrieben.Samples of the delafossite powder are used when observing and recording X-ray examinations Subjected to x-rays from a copper target. The methods for such an investigation are in the chapter of the book by Klug and Alexander, X-Ray Diffraction Procedures, John Wiley & Sons, Inc., New York (1954), pages 235-318. especially pages 270 to 318, and at N e w f i e I d X-Ray Diffraction Methods, John Wiley & Sons, Inc. New York (1966), pp. 177-207.

Wie Klug und Alexander und auch N e w f i e I d angeben, werden Röntgenstrahlen von einer Wellenlänge von 1.5405 Angströmeinheiten veranlaßt, auf eine Probe des zu untersuchenden Pulvers aufzutreffen. Die Röntgenstrahlen werden durch eine Probe gebeugt. Die gebeugten Röntgenstrahlen sind bei bestimmten Winkeln (Θ) besonders intensiv, was zur Ausbildung von Peaks in den Blättern des Diffraktometers oder von Linien in fotografischen Beugungsaufnahmen führt.Like Klug and Alexander and also N e w f i e I d indicate, X-rays at a wavelength of 1.5405 Angstrom units are directed to a To hit the sample of the powder to be examined. The X-rays are diffracted by a sample. the Diffracted X-rays are particularly intense at certain angles (Θ), which leads to the formation of Peaks in the leaves of the diffractometer or of lines in diffraction photographs.

Diffraktionswerte werden bei der Röntgenuntersuchung mit Hilfe eines Diffraktometers erhalten, das eine direkte Ablesung in 2 θ hat. Der Wert (180° minu- 2 Θ) ist der Winkel zwischen dem einfallenden Strahl und dur. reflektierten Strahl.Diffraction values are used in the X-ray examination obtained using a diffractometer which has a direct reading in 2θ. The value (180 ° min- 2 Θ) is the angle between the incident ray and major. reflected beam.

Tabelle 1 zeigt die Diffraktionswerte der Röntgenanalyse für das ivlineral-Delafossit (CuFeO2). Besonders beachtenswert ist das Doublet bei 2.58 und 2.508 Angström unci die Peaks bei 2,238 und 1.658 Angström.Table 1 shows the diffraction values of the X-ray analysis for the ivlineral delafossite (CuFeO 2 ). Particularly noteworthy is the doublet at 2.58 and 2.508 Angstroms and the peaks at 2.238 and 1.658 Angstroms.

Für die Diffraktionswerte der Röntgenuntersuchung von pulverförmigen Delafossiten von Metallen der Platingruppe lassen sich einige Gemeinsamkeiten feststellen. Zuerst ist ein besonders starker Peak bei einem Wert von »d« etwa 5,9072 bis 6,0229 zu beobachten. Dann ist in den Fig.2 bis 5 festzustellen, daß ein starkes Doublet vorkommt, wobei die Peaks voneinander durch etwa 0,06 bis etwa 0,07 Angström getrennt sind mit größeren Trennungen der Peaks und größeren Unterschieden in den Intensitäten bei Delafossiiten der Platingruppe mit größeren Llementar-For the diffraction values of the X-ray examination of powdery delafossites of metals of the platinum group, some similarities can be established. First, a particularly strong peak can be observed at a value of "d" about 5.9072 to 6.0229. It can then be seen in FIGS. 2 to 5 that there is a strong doublet, the peaks being separated from one another by about 0.06 to about 0.07 Angstroms with larger separations of the peaks and larger differences in intensities in delafossiites of the platinum group larger elementary

zellen und enger aneinanderliegenden Peaks und von nahezu gleicher Intensität für Delafossite der Platingruppe mit einer kompakteren Elementarzelle.cells and closely spaced peaks and of nearly equal intensity for delafossite of the platinum group with a more compact unit cell.

Für den Platin-Kobalt-Delafossit (PtCoOz) liegen die Peaks des Doublets bei 2,4260 und 2,3609 Angström. Für den Palladium-Kobalt-Delafossit (PdCoO2) liegen die beiden Peaks des Doublets bei etwa 2,4272 und 2,3616 Angström, wogegen beim Palladium-Chrom-Delafossit die beiden Peaks bei 2,5065 und 2,4375 Angström und für Palladuim-Rhodium-Delafossit (PdRhOj) die beiden Peaks bei etwa 2,5884 und 2,5141 Angström liegen. Beachtenswert ist auch der zunehmende Unterschied in der Intensität zwischen den beiden Gliedern des Doublets beim Fortgang von den Delafossiten mit der kompakteren zu denjenigen mit den weniger kompakten Elementarzcllen. Der erste Peak des Doublets entspricht einem Abstand zwischen den Ebenen von etwa 2.42 Angstrom (PtCoO?) bis etwa 2,58 Angstrom (PdRhO2). wogegen der zweite Peak einem Abstand zwischen den Ebenen von etwa 2,36 Angström (PtCoO2) bis etwa 2,51 Angström (PdRhOj) entspricht.For the platinum-cobalt delafossite (PtCoOz) the peaks of the doublet are at 2.4260 and 2.3609 angstroms. For palladium-cobalt delafossite (PdCoO 2 ), the two peaks of the doublet are around 2.4272 and 2.3616 angstroms, whereas for palladium-chromium delafossite the two peaks are 2.5065 and 2.4375 angstroms and for palladium -Rhodium delafossite (PdRhOj) the two peaks are around 2.5884 and 2.5141 Angstroms. Also noteworthy is the increasing difference in intensity between the two members of the doublet in the progression from the Delafossites with the more compact to those with the less compact elementary cells. The first peak of the doublet corresponds to a distance between the levels of about 2.42 Angstroms (PtCoO?) To about 2.58 Angstroms (PdRhO 2 ). whereas the second peak corresponds to a distance between the planes of about 2.36 Angstroms (PtCoO 2 ) to about 2.51 Angstroms (PdRhOj).

Fernerhin ist ein starker Peak bei etwa 2.1460 bis etwa 2,2644 Angström festzustellen. Dieser Peak liegt bei etwa 2,14 Angström für die kompaktere Elementarzelle von Platin-Kobalt-Delafossit, bei einem Abstand von 2,1448 Angström für Palladium-Kobalt-Delafossit (PdCoO2), bei einem Abstand von 2,2088 für Palladium-Chrom-Delafossit (PdCrO2) und bei 2.26 Angström für die geringfügig weniger kompakte Elementarzelle von Platin-Rhodium-Delafossit (PtRhO2).There is also a strong peak at about 2.1460 to about 2.2644 Angstroms. This peak is about 2.14 Angstroms for the more compact unit cell of platinum-cobalt-delafossite, at a distance of 2.1448 angstroms for palladium-cobalt-delafossite (PdCoO 2 ), at a distance of 2.2088 for palladium-chromium -Delafossite (PdCrO 2 ) and at 2.26 Angstrom for the slightly less compact unit cell of platinum-rhodium-delafossite (PtRhO 2 ).

Von Interesse ist auch ein schwaches Doublet im Bereich von 2.0185 und 1.9814 Angström mit Intensitäten von 0,30 bis 0,40 für den kompakteren Platin-Kobalt-Delafossit. In dem Ausmaß, wie die Elementarzelle in ihrer Größe zunimmt, wird dieses spezielle Doublet stärker ausgebreitet und weniger intensiv. Für den nur geringfügig weniger kompakten Palladium-Kobalt-Delafossit tritt das Doublet bei »d« Abständen von 2.0165 bzw. 1,9715 Angstrom auf. wobei das schwächere der beiden Glieder eine Intensität von c[\\ a 0,15 hat. Für den Palladium-Chrom-Delafossit (PdCrO2) hat das schwächere der beiden Glieder des Doublets eine Intensität von etwa 0,02 und das Doublet tritt bei 2.0753 bzw. 2.0089 Angström auf. Für den noch weniger kompakten Palladium-Rhodium-Delafossit (PdRhO2) treten die Glieder des Doublets bei 2,1198 und 2.0088 Angström auf. wobei sie beide Intensitäten von weniger als 0.05 haben.Also of interest is a faint doublet in the 2.0185 and 1.9814 Angstrom range with intensities of 0.30 to 0.40 for the more compact platinum-cobalt delafossite. As the unit cell increases in size, this particular doublet becomes more spread out and less intense. For the only slightly less compact palladium-cobalt delafossite, the doublet occurs at "d" spacings of 2.0165 and 1.9715 Angstroms. where the weaker of the two members has an intensity of c [\\ a 0.15. For the palladium-chrome delafossite (PdCrO 2 ), the weaker of the two members of the doublet has an intensity of about 0.02 and the doublet occurs at 2.0753 and 2.0089 angstroms, respectively. For the even less compact palladium-rhodium-delafossite (PdRhO 2 ), the terms of the doublet occur at 2.1198 and 2.0088 angstroms. both having intensities less than 0.05.

Für die mehr kompakten Kristalle der Delafossite der Platingruppe existiert ein Peak bei etwa 1.76 bis 1,81 Angström. Dieser Peak liegt für Platin-Kobalt-Delafossit (PtCoO2) bei etwa 1,7655 und hat eine Intensität von etwa 030. Für den Palladium-Kobalt-Delafossit wird der Peak bei einer Entfernung der Ebenen von etwa 1,7616 Angström beobachtet und besitzt eine Intensität von etwa 030. Für den geringfügig weniger kompakten Palladium-Chrom-Delafossit (PdCrO2) tritt der Peak bei etwa 1,8084 Angström auf und hat eine Intensität von weniger als 0,05.For the more compact crystals of the delafossite of the platinum group, there is a peak at about 1.76 to 1.81 angstroms. This peak is for platinum-cobalt delafossite (PtCoO 2 ) at about 1.7655 and has an intensity of about 030. For the palladium-cobalt delafossite, the peak is observed and has a distance of the planes of about 1.7616 angstroms an intensity of about 030. For the slightly less compact palladium-chromium delafossite (PdCrO 2 ), the peak occurs at about 1.8084 angstroms and has an intensity of less than 0.05.

Tabelle 1Table 1

Röntgenstrahluntersuchung eines
Pulvers aus Kupfer-Eisen-Delafossit
(CuFeO2)
X-ray examination of a
Powder of copper-iron delafossite
(CuFeO 2 )

2,86
2.58
2.86
2.58

35
18
35
18th

(I(I. /7ii/ 7ii /'A./ 'A. i/ki / k 2,5082.508 100100 9090 4545 2,2382.238 2525th 100100 9090 2,0832.083 66th 7070 8080 1,9021.902 99 9090 100100 1,6581.658 3535 7070 8585 1,5121.512 4040 3030th 1515th 1,4341.434 2020th 4040 5050 1.3361,336 1818th 3030th 3030th 1.2951,295 1212th 6060 8585 1,2531.253 IOIO 2020th 3535 1.1841,184 66th 4040 7070 I. 19I. 19th IOIO 3030th 6565 1.1081.108 66th 1515th 1515th 1,0401.040 1818th 1010 1515th 0.9840.984 1616 3030th 6565 0,9650.965 it)it) Tabelle 2Table 2 einesone RöntgenstrahluntersuchungX-ray examination vonfrom Pulvers von Palladium-Kobalt-Palladium-Cobalt Powder Platin-Kobalt-Delafossit (PtCoO2)Platinum-Cobalt-Delafossite (PtCoO 2 ) Delafossit (PdCoO2)Delafossite (PdCoO 2 ) <l<l dd 5,94505.9450 2,90722.9072 2,97282.9728 2,95592.9559 2.42602.4260 2,42722.4272 2.36092.3609 2,36162.3616 2.14602.1460 2,14482.1448 2.01852.0185 2.01652.0165 1.98141.9814 1,97131.9713 1,76551.7655 1,76161.7616 1.64831.6483 1,64451.6445 1.48561.4856 1,47881.4788 1,44151.4415 1,43731.4373 1,41351.4135 1,41491.4149 1,37511.3751 1376213762 1,35131.3513 1,34741.3474 1.27641.2764 1,27621.2762 Tabelle 3Table 3 RöntgenstrahluntersuchungX-ray examination

Tabelle 4Table 4

Röntgenstrahluntersuchung eines
Pulvers von Palladium-Chrom-Delafossit (PdCrO2)
X-ray examination of a
Palladium-Chromium-Delafossite (PdCrO 2 ) powder

dd ///„/// "

6,02296.0229 2020th 1/I0 1 / I 0 3,01373.0137 6565 55 2,50652.5065 3030th 9090 2,43752.4375 KK)KK) 1010 2,20882.2088 4040 100100 2,07532.0753 22 9595 2,00892.0089 1010 55 ,8084, 8084 55 22 ,6864, 6864 3030th 8585 ,5074, 5074 55 1515th I 41-ί -\ I 41-ί - \ t Ct C
I J I J
7070
,4614, 4614 2020th 8585 ,3791, 3791 22 8080 1,31511.3151 1515th 6060 Tabelle 5Table 5 Röntgenstrahluntersuchung von PalX-ray examination of Pal ladium-Rhodium-Delafossitladium-rhodium-delafossite (PdRhOj)(PdRhOj) dd 6,02096.0209 3,01303.0130 2,58842.5884 2,51412.5141 2,26442.2644 2,11982.1198 2,00882.0088 1,71041.7104 1,50711.5071 1,48741.4874 1,51061.5106 1,35031.3503 1,29451.2945

beide kleiner als I sind und z.B. etwa 0,070 bis 1,00 betragen können. Derartige Delafossite lassen sich bei der Erfindung ebenfalls mit guter Wirkung verwenden.are both less than I and, for example, about 0.070 to 1.00 can be. Such delafosites can also be used to good effect in the invention.

Das in der Formel mit A wiedergegebene Metallion kann ein beliebiges einwertiges Metallion mit einem effektiven lonenradius von etwa 0,45 Angströmeinheiten bis etwa 0,68 Angströmeinheiten sein. Derartige einwertige Ionen sind Palladium (Pd+) mit einem effektiven lonenradius von etwa 0,59 Angström und Platin (Pt+) mit einem effektiven lonenradius von etwa 0,60 Angström. In dem gleichen Delafossitkristall können auch zwei oder mehrere solcher einwertigen Kationen vorkommen. Die bevorzugten Delafossite sind diejenigen, bei denen das einwertige Kation einen effektiven lonenradius von etwa 0,58 bis 0,61 Angström besitzt, wie z. B. Palladium (+ 1)und Platin (+ 1).The metal ion represented by A in the formula can be any monovalent metal ion with an effective ionic radius of about 0.45 Angstrom units to about 0.68 Angstrom units. Such monovalent ions are palladium (Pd + ) with an effective ionic radius of about 0.59 angstroms and platinum (Pt + ) with an effective ionic radius of about 0.60 angstroms. Two or more such monovalent cations can also exist in the same delafossite crystal. The preferred delafosites are those in which the monovalent cation has an effective ionic radius of about 0.58 to 0.61 angstroms, such as. B. Palladium (+ 1) and platinum (+ 1).

Das in der Formel durch B wiedergegebene Kation ist am häufigsten Chrom, Kobalt und Rhodium. B ist lypischerweise ein dreiwertiges Kation mit einem effektiven lonenradius von etwa 0,50 Angström bis etwa 1,05 Angström und meistens etwa 0,50 Angström bis etwa 0,89 Angström. Die bevorzugten dreiwertigen Kationen sind diejenigen mit einem effektiven lonenradius von etwa 0,50 bis etwa 0,70 Angström, wie z. B. Kobalt (Co3 + ) mit einem effektiven lonenradius von etwa 0,52 Angström, Chrom (Cr3 + ) mit einem effektiven lonenradius von 0,62 Angström und Rhodium (Rh3 + ) mit einem effektiven lonenradius von etwa 0,70 Angström.The cation represented by B in the formula is most commonly chromium, cobalt and rhodium. B is typically a trivalent cation with an effective ionic radius of about 0.50 Angstroms to about 1.05 Angstroms, and most often about 0.50 Angstroms to about 0.89 Angstroms. The preferred trivalent cations are those with an effective ionic radius of about 0.50 to about 0.70 Angstroms, such as. B. Cobalt (Co 3 +) with an effective ion radius of about 0.52 Angstrom, chromium (Cr 3 +) with an effective ion radius of 0.62 Angstrom and rhodium (Rh 3 +) with an effective ion radius of about 0.70 Angstrom.

Die Platin-Delafossite schließen die stöchiometrische Sauerstoffverbindung von Platin und Kobalt mit der Delafossitstruktur (PtCoO2) und auch die nichtstöchiometrischen Sauerstoffverbindungen von Platin und Kobalt mit der Delafossitstruktur ein. Derartige nichtstöchiometrische Delafossite haben die FormelThe platinum delafossite close the stoichiometric oxygen bond of platinum and cobalt with the Delafossite structure (PtCoO2) and also the non-stoichiometric Oxygen compounds of platinum and cobalt with the delafossite structure. Such non-stoichiometric Delafossite have the formula

Schließlich ist noch zu den Röntgenuntersuchungen auf einen Peak von mittlerer intensität bei etwa i,6453 bis etwa 1,7104 Angström hinzuweisen. Dieser Peak hat eine Intensität von etwa 030 für Palladium-Chrom-Delafossit und von etwa 0,85 für Palladium-Kobalt-Delafossit (PdCoO2) und Palladium-Rhodium-Delafossit (PdRhO2). Er liegt bei 1,6453 Angström für Platin-Kobalt- Delafossit (PtCoCh^ bei etwa 1,6445 Angström für Palladium-Kobalt-Delafossit, bei etwa 1,6864 Angström für Palladium-Chrom-Delafossit und bei etwa 1,7104 Angström für Palladium-Rhodium-DelafossiLFinally, with regard to the X-ray examinations, a peak of medium intensity at around 1.6453 to around 1.7104 Angstroms should be pointed out. This peak has an intensity of about 030 for palladium-chromium delafossite and of about 0.85 for palladium-cobalt-delafossite (PdCoO 2 ) and palladium-rhodium delafossite (PdRhO 2 ). It is 1.6453 angstroms for platinum-cobalt delafossite (PtCoCh ^ at about 1.6445 angstroms for palladium-cobalt delafossite, about 1.6864 angstroms for palladium-chromium delafossite and about 1.7104 angstroms for palladium -Rhodium DelafossiL

Es wird nun noch einmal auf die chemische Natur der Delafossite eingegangen. Die Delafossite sind Oxide oder Oxyverbindungen von zwei oder mehreren Metallen und entsprechen der folgenden allgemeinen FormelThe chemical nature of the Delafossite will now be discussed again. The delafossite are oxides or oxy compounds of two or more metals and are generally as follows formula

ABO2 SUBSCRIPTION 2

Bei der Betrachtung dieser Formel ist zu berücksichtigen, daß auch nichtstöchiometrische Verbindungen, die Fehlstellen in ihren Strukturen besitzen, gemäß der Erfindung gebraucht werden können. Solche nichtstöchiometrischen Delafossite mit Fehlern in ihrer Struktur haben die Formel AxByO2, wobei entweder χ oder yoder Pt.When considering this formula, it must be taken into account that non-stoichiometric compounds which have defects in their structures can also be used according to the invention. Such non-stoichiometric delafosites with errors in their structure have the formula A x ByO 2 , where either χ or y or Pt.

Co, Q2 Co, Q 2

I I — I, *I I - I, *

wobei η einen Wert zwischen 0,5 und 0,8 hat.where η has a value between 0.5 and 0.8.

Als zusätzliche Bestandteile können in den Delafossi-As additional components in the Delafossi

ten, insbesondere in den Platin-Delafossiten, kleine Mengen von anderen Metallionen vorkommen, wie z. B.th, especially in the platinum delafossites, small amounts of other metal ions occur, e.g. B.

Ionen von Scandium, Titan, Vanadin, Chrom, Mangan, Eisen, Kobalt oder Nickel. Wenn dies der Fall ist, hat der Deiafossit folgende Formel:Ions of scandium, titanium, vanadium, chromium, manganese, iron, cobalt or nickel. If so, the Deiafossit following formula:

Pt,Co,MO2 Pt, Co, MO 2

wobei χ etwa 0,70 bis 1,00 ist, y etwa 0,70 bis 1,00 und ζ weniger als 0,11 ist Typischerweise ist ζ etwa 0,004 bis etv a 0,11, und M ist Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co oder Ni.where χ is about 0.70 to 1.00, y is about 0.70 to 1.00 and ζ is less than 0.11 Typically ζ is about 0.004 to about 0.11, and M is Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co or Ni.

Der Platin-Kobalt-Delafossit, der als Elektrodenoberfläche gemäß dieser Erfindung besonders geeignet ist, hat die FormelThe platinum-cobalt delafossite used as the electrode surface particularly useful in accordance with this invention has the formula

Pi Co, Q2 Pi Co, Q 2

I + π I - n__ ■*I + π I - n__ ■ *

~~T~ ~~ T ~ 33

in der π einen Wert von etwa 0,50 bis etwa OJS hat.
Palladium-Delafossite, die als Elektrodenoberfläche besonders geeignet sind, entsprechen der Formel
in which π has a value from about 0.50 to about OJS .
Palladium delafossite, which is particularly suitable as an electrode surface, correspond to the formula

PdMO2 PdMO 2

wobei M Kobalt, Chrom, Rhodium oder eine Mischung davon ist Beispiele von ganz besonders gut geeigneten Palladium-Delafossiten sind Palladium-Kobalt-Delafossit (PdCoO2), Palladium-Chrom-Delafossit (PdCrO2), Palladium-Rhodium-Delafossit (PdRhO2).where M is cobalt, chromium, rhodium or a mixture thereof. Examples of particularly suitable palladium delafossites are palladium-cobalt delafossite (PdCoO 2 ), palladium-chromium delafossite (PdCrO 2 ), palladium-rhodium delafossite (PdRhO 2 ).

Die Anoden nach der Erfindung stellen in den meisten Fällen ein elektrisch leitendes Substrat oder Basisglied mit einer Delafossitoberfläche dar. Bei einer derartigen Ausbildungsform der Erfindung ist der Delafossit in direktem Kontakt mit dem Basisglied und dem r> Elektrolyten.The anodes according to the invention provide in most cases, an electrically conductive substrate or base member with a Delafossitoberfläche. In one such embodiment of the invention is the delafossite in direct contact with the base member and the r> electrolyte.

Außerdem können die Platin- und Palladium-Delafossite dazu verwendet werden, um einen elektrisch leitenden Überzug auf der elektrisch leitenden Basis oder Substrat zu bilden, wobei die Delafossitoberfläche einen weiteren äußeren Überzug von einem geeigneten elektrokatalytischen Material, wie z. B. einem Spinell besitzt, wie dieser z. B. in der US-PS 37 11 382 offenbart ist. Statt des Spinells kann auch ein Perowskit oder eine Perowskit-Bronze verwendet werden, wie dieses z. B. in r> der vorgängigen DE-OS 22 10 065 offenbart ist. Alternativ können als äußerer Überzug über den nplafnüiitiihprziig andere elektrokatalytische Materialien verwendet werden, wie Ruthenate, Rut'ienide, Rhodite, Rhodateu. dgl.Also, the platinum and palladium delafossite used to put an electrically conductive coating on the electrically conductive base or to form a substrate, the delafossite surface being a further outer coating of a suitable electrocatalytic material, such as. B. has a spinel, such as this z. B. in US-PS 37 11 382 disclosed is. Instead of the spinel, a perovskite or a perovskite bronze can be used, such as this z. B. in r> the previous DE-OS 22 10 065 is disclosed. Alternatively, as an outer coating over the Other electrocatalytic materials are required can be used, such as Ruthenate, Rut'ienide, Rhodite, Rhodateu. like

Fernerhin ist es möglich, zwischen der Delafossitoberfläche und dem Elektrolyten eine poröse Schicht eines im wesentlichen nicht reaktionsfähigen Materials, wie Titandioxid, Vanadinoxid, Tantaloxid, Wolframoxid, Nioboxid, Hafniumoxid, Zirkonoxid, Siliciumdioxid 2r> u. dgl. anzuordnen. Durch derartige äußere Überzüge wird die mechanische Beständigkeit der Delafossitoberfläche noch weiter verbessert. Außerdem bilden die porösen äußeren Überzüge eine große Oberfläche für katalytische Reaktionen der an der Elektrode gebilde- so ten Produkte oder der Ausgangsstoffe. Bevorzugt werden diese äußeren Oxidüberzüge »in situ« gebildet, wie dieses später noch näher erläutert wird.It is also possible to arrange a porous layer of an essentially non-reactive material such as titanium dioxide, vanadium oxide, tantalum oxide, tungsten oxide, niobium oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, silicon dioxide 2 r > and the like between the delafossite surface and the electrolyte. Such external coatings improve the mechanical resistance of the Delafossit surface even further. In addition, the porous outer coatings form a large surface for catalytic reactions of the products formed on the electrode or the starting materials. These outer oxide coatings are preferably formed "in situ", as will be explained in more detail later.

Mit den Delafossitmaterialien können verschiedene Stoffe gemischt werden. So kann man z. B. leitfähige j-, Materialien, wie Perowskite, Perowskit-Bronzen, Metalle der Platingruppe, Oxide der Platingruppe und gemischte Carbide, Nitride, Oxide und Boride, die gegenüber dem Elektrolyten beständig sind, in Mischung mit dem Delafossit verwenden. Derartige Materialien können zugegen sein, um eine bessere Leitfähigkeit oder Reaktionsfähigkeit zu ergeben. Alternative Materialien sind die Oxide von Titan, Tantal, Niob, Hafnium, Wolfram, Aluminium, Vanadin, Silicium und anderen filmbildenden Metallen. Auch diese Zusatzstoffe verbessern die Haltbarkeit der Delafossite. Um die Delafossitteilchen an das Substrat zu binden, können beliebige Oxide benutzt werden, die »in situ« während der Herstellung der Oberfläche gebildet werden und die im wesentlichen gegenüber dem Elektrolyten nicht reaktionsfähig sind.Different fabrics can be mixed with the Delafossit materials. So you can z. B. conductive j-, Materials such as perovskites, perovskite bronzes, platinum group metals, platinum group oxides, and mixed carbides, nitrides, oxides and borides, which are resistant to the electrolyte, in mixture use with the Delafossit. Such materials may be present for a better one Conductivity or reactivity. Alternative materials are the oxides of titanium, tantalum, Niobium, hafnium, tungsten, aluminum, vanadium, silicon and other film-forming metals. These too Additives improve the shelf life of the Delafossite. To bind the delafossite particles to the substrate, Any oxides that are formed "in situ" during surface fabrication can be used and which are essentially non-reactive with the electrolyte.

Die Anoden mit einem Delafossitüberzug nach der Erfindung schließen zwar auch eine Elektrode ein, die im ganzen aus Delafossit besteht, doch werden solche Elektroden aus wirtschaftlichen Gründen normalerweise nicht verwendet werden. Bevorzugt sind deshalb Anoden nach der Erfindung, die eine Delafossitoberfläche bzw. Überzug auf einem geeigneten elektrisch leitenden Substrat besitzen. Die Delafossitoberfläche kann nur 8 Angström dick sein. Aus praktischen μ Gründen wird aber mit einer Delafossitoberfläche gearbeitet, die mindestens eine Stärke oder Dicke von 1,52 Mikron hat, wobei Stärken von mindestens 3,81 bis 5,08 Mikron bevorzugt sind. Die Delafossitoberflächen brauchen aber nicht stärker zu sein als etwa 635 bis 7,62 & Mikron. Es kann zwar ein Delafossitüberzug verwendet werden, der stärker als 7,62 Mikron ist, z.B. 2032 Mikron, ohne daß dabei irgendwelche nachteiligen Wirkungen zu beobachten sind, doch wird auch kein weiterer Vorteil durch die Benutzung so starker Überzüge erreicht.Although the anodes with a delafossite coating according to the invention also include an electrode made entirely of delafossite, such electrodes will not normally be used for economic reasons. Therefore, anodes according to the invention are preferred which have a delafossite surface or coating on a suitable electrically conductive substrate. The delafossite surface can be only 8 angstroms thick. For practical reasons, however, a delafossite surface is used which has a thickness or thickness of at least 1.52 microns, with thicknesses of at least 3.81 to 5.08 microns being preferred. The Delafossitoberflächen need not be more than about 635 to 7.62 & microns. While a delafossite coating thicker than 7.62 microns, such as 2032 microns, can be used without any adverse effects being observed, no further benefit is obtained from using such thick coatings.

Unter einem »geeigneten elektrisch leitenden Substrat oder Basis« wird ein Substrat mit einem spezifischen elektrischen Widerstand innerhalb der wirtschaftlichen Grenzen gemeint, wobei dieses Substrat auch noch im wesentlichen nicht reaktionsfähig mit dem Elektrolyten und den Produkten der Elektrolyse sein soll. Bei der Elektrolyse von Solen soll z. B. ein geeignetes elektrisch leitendes Substrat nicht mit Lösungen von Natriumhydroxid oder Natriumchlorid reagieren und auch durch nassierendes Chlor nicht angegriffen werden.A "suitable electrically conductive substrate or base" means a substrate with a electrical resistivity within the economic limits meant with this substrate also still essentially non-reactive with the electrolyte and the products of electrolysis should be. In the electrolysis of brines, for. B. does not use a suitable electrically conductive substrate Solutions of sodium hydroxide or sodium chloride do not react and also do not react with wetting chlorine to be attacked.

Geeignete elektrisch leitende Substrate sind /.. B. Gleichrichter-Ventilmetalle. Die Gleichrichtermetaile sind solche Metalle, die einen Oxidfilm unter anodiscn^n Bedingungen ausbilden. Zu den Gleichrichtermetallen gehören z. B. Titan, Tantal, Niob, Hafnium, Wolfram, Aluminium, Zirkon, Vanadin und ihre Legierungen. In den meisten Fällen werden aus wirtschaftlichen Gründen Titan oder Titanlegierungen als Substrat für das Basisglied der Elektroden bei dieser Erfindung benutzt. Es können jedoch auch andere Materialien angewandt werden, wie Graphit oder Kohle. Man kann auch ein Laminat eines Gleichrichtermetalls mit einem weniger teuren Metall, wie Eisen oder Stahl, mit einem Delafossitüberzug auf dem Gleichrichtermetall benutzen. Suitable electrically conductive substrates are / .. B. Rectifier valve metals. The rectifier details are those metals that form an oxide film under anodic conditions. To the rectifier metals belong e.g. B. titanium, tantalum, niobium, hafnium, tungsten, aluminum, zirconium, vanadium and their alloys. In In most cases, for economic reasons, titanium or titanium alloys are used as the substrate for the base member of the electrodes used in this invention. However, other materials can also be used can be used, such as graphite or carbon. One can also laminate a rectifier metal with a use less expensive metal, such as iron or steel, with a delafossite coating on the rectifier metal.

Alternativ kann Titanhydrid oder ein anderes elektrisch leitendes, anodisch beständiges Hydrid als elektrisch leitendes Substrat bei der Elektrode dieser Erfindung benutzt werden. Ein solches Hydrid kann der einzige Bestandteil des Substrats sein oder es kann in Form eines ebenen Gebildes auf dem anderen Material aufliegen.Alternatively, titanium hydride or another electrically conductive, anodically stable hydride can be used as electrically conductive substrate can be used in the electrode of this invention. Such a hydride can be the sole component of the substrate or it can be in the form of a flat structure on the other material rest.

Alternativ kann das Hydrid eine Hydridoberfläche eines Metalls sein, z. B. eines Titansubstrats mit einer Titanhydridschicht zwischen dem metallischen Substrat und der Delafossitoberfläche.Alternatively, the hydride can be a hydride surface of a metal, e.g. B. a titanium substrate with a Titanium hydride layer between the metallic substrate and the delafossite surface.

Bei einer bevorzugten Ausführungsfonn der Erfindung wird eine Schicht eines elektrisch leitenden Materials, das eine bessere Leitfähigkeit als der Delafossit besitzt und gegenüber dem Elektrolyten beständig ist, zwischen dem Delafossit und dem Substrat angeordnet. Eine derartige Zwischenschicht kann aus einem Metall der Platingruppe gebildet sein, wie z. B. aus metallischem Ruthen, Rhodium, Palladium, Osmium, Iridium, Platin oder ihren Legierungen. Besonders geeignete Legierungen für diesen Zweck sind z. B. Platin-Palladium-Legierungen, insbesondere diejenigen, die etwa 3 bis etwa 15 Gew.-°/o Platin enthalten, ferner Platin-Iridium-Legierungen, besonders diejenigen, die etwa 2 bis etwa 50 Gew.-% iridium enthalten. Alternativ kann eine solche Zwischenschicht ein Oxid von einem Metall der Platingruppe sein, wie z. B. Ruthenoxid (RuO2), Rhodiumoxid (Rh2O3), Palladiumoxid (PdO2), Osmiumoxid (OsO2), Iridiumoxid (Ir2O3), Platinoxid (PtP2) oder Mischungen davon. Derartige Mischungen können Mischungen von Platinoxid und Palladiumoxid einschließen, die etwa 3 bis etwa 15 Gew.-°/o Platinoxid enthalten, oder Platinoxid- und Iridiumoxid-Mischungen, die etwa 2 bis etwa 50 Gew.-% Iridiumoxid enthalten. In Verbindung mit den Metallen der Platingruppe oder ihren Oxiden können zusätzlich noch Oxide von anderen Metallen verwendet werden, wie die Oxide von Titan, Zirkon, Hafnium, Vanadin, Niob, Tantal, Wolfram und Aluminium. Wenn solche Zwi-In a preferred embodiment of the invention, a layer of an electrically conductive material, which has a better conductivity than the delafossite and is resistant to the electrolyte, is arranged between the delafossite and the substrate. Such an intermediate layer may be formed from a platinum group metal such as e.g. B. of metallic ruthenium, rhodium, palladium, osmium, iridium, platinum or their alloys. Particularly suitable alloys for this purpose are, for. B. platinum-palladium alloys, especially those containing about 3 to about 15 wt .-% platinum, also platinum-iridium alloys, especially those containing about 2 to about 50 wt .-% iridium. Alternatively, such an intermediate layer may be an oxide of a platinum group metal such as e.g. B. ruthen oxide (RuO 2 ), rhodium oxide (Rh 2 O 3 ), palladium oxide (PdO 2 ), osmium oxide (OsO 2 ), iridium oxide (Ir 2 O 3 ), platinum oxide (PtP 2 ) or mixtures thereof. Such mixtures can include mixtures of platinum oxide and palladium oxide containing from about 3 to about 15 weight percent platinum oxide or platinum oxide and iridium oxide mixtures containing from about 2 to about 50 weight percent iridium oxide. In connection with the metals of the platinum group or their oxides, oxides of other metals can also be used, such as the oxides of titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, tungsten and aluminum. When such conflicts

schenschichten vorhanden sind, haben sie normalerweise eine Stärke von etwa 0,51 bis etwa 3,05 Mikron, wobei Stärken von etwa 1,52 bis 3,05 Mikron bevorzugt sind. Die Zwischenschichten können aber auch Hünner sein und beispielsweise nur eine Stärke von 0,13 Mikron haben, wenn sie gleichmäßig aufgetragen sind, so daß sie porenfreien Überzug ergeben. Ferner ist es möglich, auch dickere Zwischenschichten zu benutzen, doch ist dieses nicht mit einem wesentlichen Vorzug verbunden.layers are present, they usually have a thickness of about 0.51 to about 3.05 microns, with thicknesses of about 1.52 to 3.05 microns being preferred. The intermediate layers can also be Hünner and, for example, only 0.13 microns thick if they are applied evenly so that they result in a pore-free coating. It is also possible also to use thicker intermediate layers, but this is not associated with any significant advantage.

Wenn bei einer Anode mit einer Delafossitoberfläche auf einem Substrat das Substrat mit dem Delafossil unter Bildung einer elektrisch isolierenden Sperre nach längeren Betriebszeiten bei hohen Stromdichten reagiert, kann zwischen das Substrat und dem Delafossit eine Schicht eines weniger reaktionsfähigen Materials, das gegenüber dem Elektrolyten widerstandsfähiger ist als das Substrat, angeordnet werden. Unter weniger reaktionsfähigen Materialien werden Materialien verstanden, die keine elektrisch isolierende Sperre bilden oder bei der Bildung einer solchen Sperre mitwirken, wenn sie zwischen dem Delafossit und dem Substrat angeordnet werden. Solche weniger reaktionsfähigen Materialien können die schon genannten Edelmetalle oder ihre Oxide sein. Alternativ können als weniger reaktionsfähige Materialien Platin-Kobalt-Delafossit (PtCoO2), Palladium-Chrom-Oelafossit (PdCrO2) oder Palladium-Rhodium-Delafossit (PdRhO2) verwendet werden, um eine Zwischenschicht zwischen einem Palladium-Kobalt-Delafossit (PdCoO2) Überzug und einem Titansubstrat zu ergeben. Wenn solche Zwischenschichten benutzt werden, haben sie normalerweise eine Stärke von 0,51 bis 3,05 Mikron, wobei Stärken von 1,52 bis 3,05 Mikron bevorzugt sind. Wenn die Zwischenschichten gleichmäßig aufgetragen werden und porenfrei sind, können sie auch dünner sein, z. B. 0,13 Mikron stark. Dickere Überzüge sind auch möglich.If, in the case of an anode with a delafossite surface on a substrate, the substrate reacts with the delafossil to form an electrically insulating barrier after prolonged operating times at high current densities, a layer of a less reactive material that is more resistant to the electrolyte can be placed between the substrate and the delafossite the substrate. Less reactive materials are understood to mean materials which do not form an electrically insulating barrier or which contribute to the formation of such a barrier when they are arranged between the delafossite and the substrate. Such less reactive materials can be the noble metals already mentioned or their oxides. Alternatively, platinum-cobalt Delafossit (PtCoO 2) may, palladium-chromium Oelafossit (PdCrO 2) palladium-rhodium Delafossit (PdRhO 2) are used, or to be less reactive materials to form an intermediate layer between a palladium-cobalt Delafossit (PdCoO 2 ) coating and a titanium substrate. When such interlayers are used, they typically have a thickness of 0.51 to 3.05 microns, with thicknesses of 1.52 to 3.05 microns being preferred. If the intermediate layers are applied evenly and are pore-free, they can also be thinner, e.g. B. 0.13 microns thick. Thicker coatings are also possible.

Die Anoden mit Delafossitoberflächen nach der Erfindung lassen sich für beliebige elektrochemische Verfahren mit einer nicht verbrauchbaren Elektrode verwenden. Unter »nicht verbrauchbar« ist zu verstehen, daß die Elektrode durch den Elektrolyten nicht aufgelöst wird und nicht an der entgegengesetzten Elektrode wieder abgelagert wird. Die Elektroden nach der Erfindung können z. B. für die Elektrolyse von Solen, Sulfaten, Chlorwasserstoffsäure. Phosphaten u. dgl. benutzt werden. Alternativ sind die Elektroden bei Verfahren geeignet, bei denen Kationen auf einer Kathode abgelagert werden, wie z. B. bei der elektroiytischen Gewinnung von Metallen, elektrolytischen Raffination, Elektroplattierung, Elektrophorese, elektrolytischen Reinigung und elektrolytischen Beizung. Aus entsprechenden Lösungen können Kupfer, Nickel, Eisen, Mangan, Messing, Bronze, Cadmium, Gold, Indium, Silber, Zinn, Zink, Kobalt, Chrom und ähnliche Metalle auf Kathoden elektroplattiert werden. Alternativ kann man Metallpulver herstellen, indem man Kationenauslösung auf einer geeigneten Kathode bei Verwendung der Anoden nach dieser Erfindung abscheidet Die Elektroden nach der Erfindung können ferner für die elektrolytische Reinigung von wäßrigen Lösungen, von Natriumphosphat, Natriumcarbonat U. dgl. benutzt werden. Ferner kann man die elektrolytische Beizung von geeigneten Materialien, die kathodisch gegenüber den Anoden nach der Erfindung sind, dazu verwenden, um organische Verbindungen elektrolytisch zu oxidieren. So kann man z. B. die elektrolytische Oxidation von Propylen zu Propylenoxid oder Propylenglycol mit den Elektroden nach dieser Erfindung durchführen. Außerdem kann man Metallbauwerke, wie Schiffskörper, kathodisch unter Verwendung der Anoden nach dieser Erfindung schützen.
Zusätzlich kann die Anode nach dieser Erfindung in Brenstoffzellen verwendet werden. Bei oer Benutzung der Elektrode mit dem Delafossitüberzug in Brennstoffzellen werden diese Elektroden für den Fluß des Elektrolyten durchlässig sein. Eine derartige Elektroly*- permeabilität kann durch ein elektrisch leitendes poröses Substrat mit einem darauf abgelagerten Delafossitmaterial erreicht werden oder durch eine Dispersion von Delafossitteilchen in einem geeigneten inerten Medium oder durch andere in der Technik bekannte Verfahren.
The anodes with Delafossit surfaces according to the invention can be used for any electrochemical process with a non-consumable electrode. By "non-consumable" is meant that the electrode is not dissolved by the electrolyte and is not redeposited on the opposite electrode. The electrodes according to the invention can, for. B. for the electrolysis of brines, sulphates, hydrochloric acid. Phosphates and the like can be used. Alternatively, the electrodes are useful in processes in which cations are deposited on a cathode, such as e.g. B. in the electrolytic extraction of metals, electrolytic refining, electroplating, electrophoresis, electrolytic cleaning and electrolytic pickling. Copper, nickel, iron, manganese, brass, bronze, cadmium, gold, indium, silver, tin, zinc, cobalt, chromium and similar metals can be electroplated onto cathodes from appropriate solutions. Alternatively, metal powder can be prepared by depositing cationic release on a suitable cathode using the anodes of this invention. The electrodes of the invention can also be used for the electrolytic cleaning of aqueous solutions, sodium phosphate, sodium carbonate and the like. Furthermore, the electrolytic pickling of suitable materials, which are cathodic with respect to the anodes according to the invention, can be used to oxidize organic compounds electrolytically. So you can z. B. carry out the electrolytic oxidation of propylene to propylene oxide or propylene glycol with the electrodes of this invention. In addition, metal structures such as hulls can be cathodically protected using the anodes of this invention.
In addition, the anode of this invention can be used in fuel cells. When using the electrode with the Delafossit coating in fuel cells, these electrodes will be permeable to the flow of the electrolyte. Such electrolyte permeability can be achieved by an electrically conductive porous substrate having a delafossite material deposited thereon, or by dispersion of delafossite particles in a suitable inert medium, or by other methods known in the art.

ι ϊ Die Anoden nach der Erfindung lassen sich herstellen, indem man den Delafossit synthetisiert und nachher auf einem geeigneten elektrisch leitenden Substrat oder Träger aufträgt. Delafossite lassen sich durch Oxidation bei niedrigen Temperaturen und hohen Drücken, wieι ϊ The anodes according to the invention can be produced by synthesizing the delafossite and subsequently on a suitable electrically conductive substrate or Carrier applies. Delafossite can be made by oxidation at low temperatures and high pressures, such as

z. B. durch eine hydrothermale Reaktion, herstellen. Außerdem kann man sie auch durch Oxidation bei hohen Temperaturen und hohen Drücken durch Feststoffumsetzungen und durch Oxidation bei niedrigen Temperaturen und niedrigen Drücken in einemz. B. by a hydrothermal reaction. They can also be carried out by oxidation at high temperatures and high pressures Solid reactions and oxidation at low temperatures and low pressures in one

:> oxidierenden Flußmittel erhalten. Alternativ ist es möglich, Delafossite bei niedrigem Druck und niedrigen Temperaturen in einer Anionenaustausch-Reaktion herzustellen.:> Get oxidizing flux. Alternatively it is possible to delafossite at low pressure and low temperatures in an anion exchange reaction to manufacture.

Delafossite, die bei der vorliegenden Erfindung geeignet sind, können z. B. durch die Verfahren, die in folgenden Literaturstellen beschrieben sind, hergestellt werden: R. D. Shannon et al.. Chemistry of Noble Metal Oxides, 1. Syntheses and Properties of ABO: Delafossite Compounds, Inorganic Chemistry, Band 10.Delafossite useful in the present invention can e.g. B. by the procedures outlined in the following references are described: R.D. Shannon et al .. Chemistry of Noble Metal Oxides, 1. Syntheses and Properties of ABO: Delafossite Compounds, Inorganic Chemistry, Volume 10.

i-, Seite 713 (1971): US-PS 34 98 931: US-PS 35 14 414 und US-PS 34 14371.i-, page 713 (1971): US-PS 34 98 931: US-PS 35 14 414 and U.S. Patent 3,414,371.

Hydrothermale Synthesen von Delafossit werden bei relativ niedriger Temperatur unter oxidierenden Bedingungen durchgeführt. Die hydrothermale Methode kann z.B. zur Herstellung von Platin-Kobalt-Delafossiten. der Kupfer-Delafossite und tier Silber-Delafossite verwendet werden. Die Methode verlangt die Erwärmung von zwei Oxiden in Wasser in einem v, schlossen inerten Rohr, wie z. B ein Platin· oder Goldrohr (beiHydrothermal syntheses of Delafossite are carried out at relatively low temperature under oxidizing conditions carried out. The hydrothermal method can e.g. be used to produce platinum-cobalt delafossites. the copper delafossite and tier silver delafossite can be used. The method calls for heating of two oxides in water in a v, closed inert tube, such as B a platinum or gold tube (with

4> hohem Druck, z. B. etwa 3000 Atmosphären und einer Temperatur von etwa 500 bis 700=C für etwa 24 Stunden).4> high pressure, e.g. B. about 3000 atmospheres and a temperature of about 500 to 700 = C for about 24 hours).

Die Platin-, Palladium-Delafossite können bei relativ niedrigen Drücken und niedrigen Temperaturen in einerThe platinum, palladium delafossite can be at relative low pressures and low temperatures in one

-,o Reaktion hergestellt werden, die durch einen Austausch von Ionen und die Bildung von einem fesien oder geschmolzenen Salz als Nebenprodukt charakterisiert ist. Bei dieser Methode werden das Halogenid von Platin, Palladium und das Oxid ces zweiten Metalls unter Bildung von Delafossit und eines Halogenid* des zweiten Metalls umgesetzt. Alternativ kann das Halogenid oder das Metall und das Halogenid des ersten Metalls und eine Lithiumoxiverbindung des zweiten Metalls (wie Lithiumchromat, Lithiumkobaitat oder Lithiumrhodat) unter Bildung von Delafossit und Lithiumhalogenid umgesetzt werden.-, o reaction produced by an exchange characterized by ions and the formation of a solid or molten salt as a by-product is. This method uses the halide of platinum, palladium and the oxide of the second metal reacted to form delafossite and a halide * of the second metal. Alternatively, it can Halide or the metal and the halide of the first metal and a lithium oxide compound of the second metal (such as lithium chromate, lithium cobate or lithium rhodate) with the formation of delafossite and Lithium halide are implemented.

Die Anioner.austauschreaktion wird in einem evakuierten verschlossenen Siliciumdioxidrohr bei einer Temperatur von etwa 5Ou bis etwa 800cC durchgeführt.The Anioner.austauschreaktion is conducted in an evacuated sealed silica tube at a temperature of about 5Ou to about 800 C c.

o5 Die als Nebenprodukt erhaltenen Halogenidsaizc werden nach der Bildung des Delafossits durch Auslagen, z. B. mit Wasser entfernt Falls metallisches Platin oder Palladium zurückbleibt oder falls das Chlorido5 The halide salts obtained as a by-product are after the formation of the Delafossit through expenses, z. B. removed with water If metallic Platinum or palladium remains or if the chloride

des Edelmetalls zurückbleibt, werden diese Rückstande durch Auslaugen mit einem geeigneten Lösungsmittel, wie z. B. Bromwasserstoffsäure oder Königswasser, entfernt.of the precious metal remains, these residues become by leaching with a suitable solvent, such as. B. hydrobromic acid or aqua regia, removed.

Delafossite können auch durch Diffusion von feingepulverten gemischten Oxiden bei hohen Temperaturen hergestellt werden. Die Platin- und Palladium-Delafossite erfordern eine Temperatur oberhalb von 7000C und einen Druck von etwa 3000 Atmosphären, um den Delafossit durch eine Umsetzung im festen Zustand zu erhalten.Delafossite can also be made by diffusing finely powdered mixed oxides at high temperatures. The platinum and palladium delafossite require a temperature above 700 ° C. and a pressure of about 3000 atmospheres in order to obtain the delafossite through a reaction in the solid state.

Der nach einer dieser Methoden hergestellte Delafossit kann entweder als solcher für eine Elektrode verwendet werden oder bevorzugt als Oberfläche oder Überzug einer Elektrode aus einem geeigneten Basisoder Substratmaterial dienen.The delafossite produced by one of these methods can either be used as such for an electrode can be used or preferably serve as a surface or coating of an electrode made of a suitable base or substrate material.

In der "egel ist das elektrisch leitende Basis- oder Substratmaterial ein Gleichrichtermetall, wie Titan. Ein derartiges Substrat kann in der Form eines flachen, plattenartigen Gebildes vorliegen oder es kann auch die Form einer perforierten Platte oder eines expandierten Gitterwerks haben. Alternativ kann es in Form von feinen Drähten, Stäben oder anderen Formen vorliegen, wobei solche Formen den Abfluß der gebildeten Gase aus dem Volumen zwischen der Anode und der Kathode in Räume hinter die Anode erlauben.In the "egel" is the electrically conductive base or Substrate material a rectifier metal such as titanium. Such a substrate can be in the form of a flat, plate-like structure or it can also be in the form of a perforated plate or an expanded one Have latticework. Alternatively, it can be in the form of fine wires, rods, or other shapes, such forms the outflow of the gases formed from the volume between the anode and the cathode in spaces behind the anode.

Wenn ein Titanglied als Substratmaterial verwendet wird, kann man dieses Titanglied für seine Benutzung als Elektrode dadurch vorbereiten, daß man vor der Ablagerung des Delafossitüberzugs eine Entfettung und danach eine Ätzung vornimmt. Die Entfettung kann durch beliebige bekannte Methoden erfolgen, z. B. unter Verwendung von Detergentien, Schleifmitteln oder organischen Entfettungsmitteln. Dann kann das entfettete Titansubstrat mit Fluorwasserstoffsäure, Chlorwasserstoffsäure oder ähnlichen Materialien geätzt werden. Die Ätzung dient dazu, um den natürlicherweise vorkommenden Oxidfilm zu entfernen und ihn durch einen dünnen Hydridfilm zu ersetzen.When using a titanium link as a substrate material you can prepare this titanium member for its use as an electrode by having the Deposits the Delafossit coating, degreasing and then etching. Degreasing can be done by any known method, e.g. B. using detergents, abrasives or organic degreasing agents. Then the degreased titanium substrate can be etched with hydrofluoric acid, hydrochloric acid, or similar materials. The etching is used to remove the naturally occurring oxide film and through it to replace a thin film of hydride.

Der Delafossit kann in verschiedener Weise auf die geätzte Titanoberfläche aufgetragen werden. So kann man z. B. eine Aufschlämmung des Delafossits in einem Lösungsmittel, wie Äthanol, Butanol, Benzylalkohol, Phenol, Benzol, Cumol u. dgl. herstellen. Eine derartige Aufschlämmung kann man auf die Titanoberfläche, z. B. mit dem Pinsel oder der Bürste, auftragen. Nach jedem Aufstrich erwärmt man zur Zersetzung oder Verflüchtigung des Lösungsmittels. Die Aufschlämmung kann zusätzlich noch feinteilige Materialien enthalten, wie Silicium, Titan, Zirkon, Hafnium, Vanadin, Niob, Tantal, Molybdän, Wolfram oder andere Materialien, die in der Lage sind, »in situ« während des Vorgangs der Verdampfung oder Zersetzung des Lösungsmittels ein Oxid zu bilden. In der Regel wird als derartiges feinverteiltes Material ein Chlorid verwendet, wie z. B. Titantrichlorid.The delafossite can be applied to the etched titanium surface in various ways. So can one z. B. a slurry of delafossite in a solvent such as ethanol, butanol, benzyl alcohol, Produce phenol, benzene, cumene and the like. Such a slurry can be applied to the titanium surface, e.g. B. Apply with a paintbrush or a brush. After each spread, heat is applied to decompose or volatilize the solvent. The slurry can additionally contain finely divided materials such as silicon, titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, Molybdenum, tungsten, or other materials that are capable of being "in situ" during the process of Evaporation or decomposition of the solvent to form an oxide. Usually used as such finely divided material uses a chloride, such as. B. titanium trichloride.

Alternativ kann man eine Aufschlämmung herstellen aus Delafossi!, einem Metall, einem organischen Lösungsmittel wie Äthanol. Butanol, Benzylalkohol, Phenol, Benzol, Cumol, Polyen u.dgl., und einer Siliciumdioxidverbindung oder einer Metallverbindung, die in dem organischen Lösungsmittel löslich oder dispergierbar ist, wie z. B. ein Resinat. Eine derartige Aufschlämmung kann auf das Titan aufgestrichen werden, wobei man z. B. etwa 4 bis etwa 8 Aufstriche verwendet und nach jedem Aufstrich erwärmt, um die organischen Bestandteile zu zersetzen oder zu verflüchtigen. Alternativ können für das Aufbringen desAlternatively, you can make a slurry from Delafossi !, a metal, an organic one Solvents such as ethanol. Butanol, benzyl alcohol, phenol, benzene, cumene, polyene and the like, and one Silica compound or a metal compound which is soluble or in the organic solvent is dispersible, e.g. B. a resinate. Such a slurry can be painted onto the titanium be, where z. B. about 4 to about 8 spreads used and heated after each spread to the decompose or volatilize organic components. Alternatively, for the application of the Delafossits auf das Substrat aber auch andere Methoder verwendet werden, wie das Verbinden durch Verpres· sen oder die kathodische Elektrophorese.Delafossits can be used on the substrate but also other methods, such as joining by pressing sen or cathodic electrophoresis.

Bei den vorstehenden Verfahren für das Überzieher des Titansubstrats mit dem Delafossit wurde die Verwendung einer Titan- oder einer Silicium verbindung angegeben, doch sind derartige Verbindungen für da! Funktionieren der Elektrode nicht erforderlich. Die Oxidationsprodukte von solchen Verbindungen, wieIn the above procedures for the overcoat of the titanium substrate with the delafossite was the use of a titanium or a silicon compound indicated, but such connections are for there! Function of the electrode is not required. the Oxidation products of such compounds as

ίο z. B. Titandioxid oder Siliciumdioxid, verleihen jedoch der Delafossitoberfläche eine zusätzliche physikalische Festigkeit und Dauerhaftigkeit Alternativ könner Oxide von Zirkon, Hafnium, Vanadin, Niob, Tantal Molybdän oder Wolfram auf der Oberfläche deiίο z. B. titanium dioxide or silicon dioxide, however, confer the delafossite surface has an additional physical Strength and durability Alternatively, oxides of zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum can be used Molybdenum or tungsten on the surface of the dei

is Elektrode »in situ« hergestellt werden, um die Beständigkeit und Dauerhaftigkeit der Elektrodenober fläche zu verbessern.is electrode can be produced "in situ" in order to obtain the To improve the resistance and durability of the electrode surface.

Die Erfindung wird in den folgenden Beispielen noch näher erläutert.The invention is explained in more detail in the following examples.

Beispiel 1example 1

Man stellt eine aus einem Titansubstrat, einen-Überzug aus einem Palladium-Kobalt-Delafossii (PdCoO2) und einer zwischen dem Titan und den-One is made of a titanium substrate, a coating of a palladium-cobalt delafossii (PdCoO 2 ) and one between the titanium and the Delafossit eingelegten Schicht aus metallischem Platir bestehende Elektrode her.Delafossit inlaid layer of metallic platir existing electrode.

Den Delafossit stellt man aus 2,6642 g Palladiumchlo rid (PdCl2) und 2382 g Kobaltoxid auf die Weise her daß man das Chlorid und das Oxid gründlich mahlt, irThe delafossite is made from 2.6642 g of palladium chloride (PdCl 2 ) and 2382 g of cobalt oxide in such a way that the chloride and the oxide are thoroughly ground, ir

ίο ein 2 Stunden luftleer gesaugtes Quarzrohr von einen1 äußeren Durchmesser von 10 mm und einer Länge vor 12,7 cm füllt und darin 1 Stunde auf 110° C erhitzt worauf man das Quarzrohr verschließt. Dann erhitz man das verschlossene Quarzrohr auf 8500C, hält es Iifills cm ίο a 2 hour air sucked empty quartz tube 1 a outer diameter of 10 mm and a length before and 12.7 in 1 hour at 110 ° C heated after which closes the quartz tube. Then HEATER the sealed quartz tube to 850 0 C, it keeps Ii Minuten bei dieser Temperatur, läßt die Temperatui dann auf 7000C absinken und setzt das Erhitzen be dieser Temperatur 65 Stunden fort. Man schabt da; entstandene Produkt von der Quarzwand ab, mahlt e gründlich, wäscht es zweimal bei 25° C mit 200 mMinutes at this temperature, the Temperatui can then drop to 700 ° C. and the heating continues at this temperature for 65 hours. One scrapes there; resulting product from the quartz wall, grind it thoroughly, wash it twice at 25 ° C with 200 m Wasser, dann mit Aceton und trocknet es. Man erhäl 2,4 g eines grauen metallischen Produkts mit eine Teilchengröße im Bereich von 0,03 bis 0,5 und von 1 bis 1 Mikron.Water, then with acetone and dry it. You get 2.4 g of a gray metallic product with a particle size in the range from 0.03 to 0.5 and from 1 to 1 Micron.

Man untersucht dieses Pulver durch Röntgenstreuun)This powder is examined by X-ray scattering)

in einem Philips-Diffraktometer. Für die Röntgenröhn verwendet man eine Spannung von 35 Kilovolt und eini Stromstärke von 15 Milliampere, für den Detektor eini Spannung von 1265 Volt. Man verwendet die Strahlunj eines Kupfertargets und arbeitet mit einer Divergenzin a Philips diffractometer. For the X-ray roar a voltage of 35 kilovolts and an amperage of 15 milliamperes are used for the detector Voltage of 1265 volts. One uses the Strahlunj of a copper target and works with a divergence blende von Γ, einer Strahlblende von 0,1524 mm um einer Streublende von 1°. Man läßt den Detektor mi einer Zeitkonstanten von 2 Sekunden bei 2Θ = 2° pn Minute und den Prüfkörper bei 2Θ = Γ pro Minuti rotieren. Man erhält die in der folgenden Tabelle (6) un<diaphragm of Γ, a beam diaphragm of 0.1524 mm an aperture of 1 °. The detector is left with a time constant of 2 seconds at 2Θ = 2 ° pn Minute and the test specimen at 2Θ = Γ per minute rotate. The un <in the following table (6) are obtained in Fig. 6gezeigten Meßwerte.measured values shown in FIG.

Tabelle 6Table 6

5,925
4,572
3,448
2,957
2,566
2,440
2,362
5.925
4,572
3.448
2.957
2.566
2,440
2.362

40
5
5
40
5
5

9090

1010

6060

100100

Fortsetzungcontinuation

2,252 2,148 1,759 1,646 1,480 1,438 1,415 1,350 1,325 1,277 1,2732.252 2.148 1.759 1.646 1,480 1.438 1.415 1,350 1.325 1.277 1.273

4040

1010

5050

1010

2020th

3030th

20 2020th 20th

Man wäscht einen Titanstreifen von einer Länge von 14,6 cm, einer Breite von 9,5 mm und einer Stärke von 3,175 mm mit einem unter dem Warenzeichen »Comet« handelsüblichen schleifmittelhaltigen Haushaltsreinigungsmittel, spült ihn in destilliertem Wasser, taucht ihn eine Minute lang in l%ige Flußsäure ein und legt ihn dann 23 Stunden in 12' η-Salzsäure von 27" C.A titanium strip 14.6 cm long, 9.5 mm wide and thick 3.175 mm with a under the trademark »Comet« commercially available household cleaning agents containing abrasives, rinsing it in distilled water, dipping it for one minute in 1% hydrofluoric acid and then for 23 hours in 12 'η hydrochloric acid of 27 "C.

Man stellt eine Lösung von 10 g eines als Metall berechneten 73 Gew.-% Platin enthaltenden Platinresinats vom Typ Engelhard »0-5X« in 9 g Toluol her und trägt diese Lösung in drei Schichten auf den geätzten Titanstreifen auf. Jeweils nach dem Auftragen der beiden ersten Schichten erhitzt man den Streifen mit eir.er Geschwindigkeit von 50° C in 5 Minuten auf 500" C und hält ihn 10 Minuten bei dieser Temperatur. Nach dem Aufbringen der dritten Schicht erhitzt man den Streifen mit einer Geschwindigkeit von 50°C in 5 Minuten auf eine Temperatur von 550° C. Auch bei dieser Temperatur hält man ihn 10 Minuten.A solution of 10 g of a platinum resinate of the Engelhard type "0-5X" containing 73% by weight of platinum calculated as the metal in 9 g of toluene is prepared and applies this solution in three layers to the etched titanium strip. Each time after applying the In the first two layers, the strip is heated at a rate of 50 ° C to 500 "C in 5 minutes and keep it at this temperature for 10 minutes. After applying the third layer, heat the Strips at a speed of 50 ° C in 5 minutes to a temperature of 550 ° C. Also at this temperature is kept for 10 minutes.

Man stellt aus 0,5 g des Palladium-Kobalt-Delafossits (PdCoCb), 1 g einer durch die Zugabe von 3,4 g Titanchlorid (TiCI3) zu 20 g Äthanol hergestellten 4,5gew.-%igen Titanlösung und 1,0 g Äthanol einen Schlamm her und trägt hieraus sechs Überzüge mit einem Pinsel auf den wie beschriebenen Tiianstreifen auf. Nach jedem Überzug wird der Streifen auf 100° C erhitzt und 30 Minuten bei dieser Temperatur gehalten. Nach dem Aufbringen des letzten Überzuges erhitzt man den Streifen im Vakuum mit einer Geschwindigkeit von 100°C in 10 Minuten auf 400°C, wonach man ihn 40 Minuten bei dieser Temperatur hält.It is made from 0.5 g of palladium-cobalt delafossite (PdCoCb), 1 g of a 4.5% strength by weight titanium solution prepared by adding 3.4 g of titanium chloride (TiCl 3 ) to 20 g of ethanol, and 1.0 g of ethanol produced a sludge and applied six coats of this with a brush to the strip of Tiian as described. After each coating, the strip is heated to 100 ° C. and held at this temperature for 30 minutes. After the last coat has been applied, the strip is heated in vacuo at a rate of 100 ° C. in 10 minutes to 400 ° C., after which it is held at this temperature for 40 minutes.

Nach dem Auftragen der letzten Schicht prüft man die Elektrode in einer Becherglas-Chloratzelle. Als Chloratzelle verwendet man ein 500 ml fassendes Becherglas, das eine gesättigte Kochsalzlösung enthält und in dem die mit Platin beschichtete Titankathode durch einen Abstandhalter aus Teflon sich zu der Anode in einem Abstand von 9,5 mm befindet. Man führt die Elektrolyse bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 und einer Zellenspannung von 3,5 Volt durch. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 hat die Zelle eine Chlorüberspannung von 0,08 Volt.After applying the last layer, test the electrode in a beaker chlorate cell. The chlorate cell used is a 500 ml beaker which contains a saturated saline solution and in which the platinum-coated titanium cathode is located at a distance of 9.5 mm from the anode through a Teflon spacer. The electrolysis is carried out at a current density of 53.82 amperes per dm 2 and a cell voltage of 3.5 volts. At a current density of 53.82 amperes per dm 2 , the cell has a chlorine overvoltage of 0.08 volts.

Man setzt die Anode in eine laborübliche Chlordiaphragmazelle ein. Die Zelle hat eine Eisennetzkathode, die von der Anode einen Abstand von 9,5 mm hat und von dieser durch Asbestpapier getrennt ist. Man führt die Elektrolyse einer 315 g NaCI pro Liter enthaltenden Kochsalzlösung bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 und einer Temperatur von etwa 90°C durch. Die Zelle hat am Beginn eine Spannung von 3,64 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,08 Volt. NachThe anode is placed in a laboratory chlorine diaphragm cell. The cell has an iron mesh cathode which is 9.5 mm away from the anode and separated from it by asbestos paper. The electrolysis of a saline solution containing 315 g of NaCl per liter is carried out at a current density of 53.82 amperes per dm 2 and a temperature of about 90.degree. The cell initially has a voltage of 3.64 volts and a chlorine overvoltage of 0.08 volts. To einer Elektrolysendauer von 816 Stunden hat sie eine Spannung von 3,92 Volt und eine Chlorüberspannung von 033 Volt.an electrolysis time of 816 hours it has a Voltage of 3.92 volts and a chlorine overvoltage of 033 volts.

Beispiel 2Example 2

Man stellt aus einem Titansubstrat und dem Delafossit PtasCoasCh als Überzugsschicht eine Elektrode her.An electrode is produced from a titanium substrate and the Delafossite PtasCoasCh as a coating layer.

Das Delafossit stellt man durch Anionenaustausch ausThe delafossite is exhibited by an anion exchange

Platinchlorid, Kobaltoxid (CoO) und Kobaltoxid (Co3O4) her. Die Kobaltoxide verwendet man in Form eines aus 0^048g Co3O4 und 0,1274 g CoO bestehenden Gemisches. Sie haben die Form eines Pulvers mit einer Korngröße von weniger als 325 Maschen. Man zerstößtPlatinum chloride, cobalt oxide (CoO) and cobalt oxide (Co 3 O 4 ). The cobalt oxides are used in the form of a mixture consisting of 0 ^ 048 g Co 3 O 4 and 0.1274 g CoO. They are in the form of a powder with a grain size of less than 325 mesh. One pounds sie in einem Mörser zu noch größerer Feinheit Man gibt das Pulvergemisch in ein Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 10 mm und einer Länge von 10,16 cm, saugt dieses luftleer, verschließt es, erhitzt es au-r 700° C und hält es 25 Stunden bei dieser Temperatur. Manthe powder mixture in a mortar to even greater fineness is poured into a quartz tube of an outer diameter of 10 mm and a length of 10.16 cm, sucks this evacuated, it closes, it is heated au- r 700 ° C and keeps it 25 Hours at this temperature. Man erhält eine aus einem schwarzen Pulver und hellblauen Kristallen bestehende Mischphase. Man zermahlt dieses Material, füllt es in ein anderes Quarzrohr, saugt dieses 3 Stunden lang luftleer, erhitzt es auf 710° C, hält es 18 Stunden bei dieser Temperatur und danach weitere 15receives one from a black powder and light blue Mixed phase consisting of crystals. You grind this material, fill it into another quartz tube, suck it up 3 Evacuated for hours, heated to 710 ° C, held at this temperature for 18 hours, and then another 15 Stunden bei einer Temperatur zwischen 700 und 710° C, kühlt das Quarzrohr ab und entnimmt ihm das Material. Man zerstößt es in einem Mörser, gibt es in ein 150-ml-Becherglas und setzt ihm 100 ml Wasser zu. Man filtriert den erhaltenen Schlamm bei 25° C durch einenHours at a temperature between 700 and 710 ° C, the quartz tube cools down and removes the material from it. You crush it in a mortar, put it in a 150 ml beaker and add 100 ml of water. Man filtered the resulting sludge at 25 ° C through a

jo Filtertrichter aus gesintertem Glas. Den unlöslichen Rückstand wäscht man zweimal mit 25 ml Wasser und dann mit Aceton. Man erhält einen grau-schwarzen Feststoff, den man, wie in Beispiel 1 beschrieben, durch Röntgenstreuung untersucht. Man erhält ein Röntgenjo sintered glass filter funnel. The insoluble The residue is washed twice with 25 ml of water and then with acetone. You get a gray-black Solid which, as described in Example 1, is examined by X-ray scattering. An X-ray is obtained diagramm mit den in der Tabelle 7 und F i g. 7 gezeigten Meßwerten.diagram with the in Table 7 and F i g. 7 shown Readings.

Tabelle 7Table 7

I/IoI / Io

5,901 3,292 2,968 2,428 2,364 2,146 2,077 2,020 1,979 1,764 1,648 1,549 1,445 1,441 1,414 1,374 1,350 1,321 1,2775,901 3.292 2.968 2,428 2,364 2.146 2.077 2.020 1,979 1.764 1.648 1,549 1.445 1.441 1.414 1.374 1,350 1.321 1.277

90 10 100 30 70 4090 10 100 30 70 40

10 80 10 4010 80 10 40

60 20 1060 20 10

5 105 10

5 105 10

Man reinigt einen Titanstreifen von einer Länge von 14,6 cm, einer Breite von 9,5 mm und einer Stärke von 3,175 mm mit dem Haushaltsreinigungsmittel »Comet«, ätzt ihn 5 Minuten in einer 2volumenprozentigen Flußsäurelösung und danach 22 Stunden bei 27°C in 12 n-Salzsäure.A titanium strip 14.6 cm long, 9.5 mm wide and thick 3.175 mm with the household cleaning agent »Comet«, etches it for 5 minutes in a 2 percent volume Hydrofluoric acid solution and then 22 hours at 27 ° C in 12N hydrochloric acid.

Man stellt aus 0,25 g des oben beschriebenen Platin-Kobalt-Delafossits (PtOiCo03O2), 0,5 g einer 4,2gew.-%igen Lösung von Titanchlorid (TiCl3) in Äthanol und 0,5 g Äthanol einen Schlamm her und trägt hieraus mit einem Pinsel fünf Überzüge auf den Titanstreifen auf. Nach jedem der Überzüge 1 bis 4 erhitzt man den Streifen auf 1000C, wobei man ihn 30 Minuten lang hält Nach dem Auftragen des letzten Überzuges erhitzt man den Streifen in einem luftleeren Rohr dann auf 5000C. Auch bei dieser Temperatur hält man ihn 30 Minuten.0.25 g of the above-described platinum-cobalt delafossite (PtOiCo 03 O 2 ), 0.5 g of a 4.2% by weight solution of titanium chloride (TiCl 3 ) in ethanol and 0.5 g of ethanol are used Mud and applied five coats to the titanium strip with a brush. After each of the coatings 1 to 4 by heating the strip to 100 0 C, keeping it for 30 minutes after the application of the last coating by heating the strip in a vacuum tube then to 500 0 C. In this temperature is maintained him 30 minutes.

Man prüft die Elektrode zuerst in einer Becherglaszelle. Als Becherglaszelle verwendet man ein 400 ml fassendes Becherglas. Dieses enthält die zu prüfende Anode und, durch einen Abstandhalter aus Teflon 9,5 mm von dieser entfernt, eine platinierte Titankathode. Als Elektrolyt verwendet man eine gesättigte Kochsalzlösung, die pro Liter 315 g Kochsalz enthält. Nach 18 Stunden zeigt die Elektrode eine Spannung von 3,15 Volt bsi einer Stromdichte von 26,91 Ampere pro dm2 und eine Spannung von 3,8 Volt bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 beträgt die Spannung gegen eine Kalomelelektrode 1,12 Volt und die Chlorüberspannung 0,06 VoltThe electrode is first tested in a beaker cell. A 400 ml beaker is used as the beaker cell. This contains the anode to be tested and a platinum-coated titanium cathode, 9.5 mm away from it through a Teflon spacer. A saturated saline solution is used as the electrolyte, which contains 315 g of saline per liter. After 18 hours, the electrode shows a voltage of 3.15 volts with a current density of 26.91 amps per dm 2 and a voltage of 3.8 volts with a current density of 53.82 amps per dm 2 . At a current density of 53.82 amperes per dm 2 , the voltage against a calomel electrode is 1.12 volts and the chlorine overvoltage is 0.06 volts

Man setzt die Elektrode ,dann in eine laborübliche Chlordiaphragmazelle ein. Die Zelle enthält eine Eisennetzkathode, die sich zu der Anode in einem Abstand von 9,5 mm befindet und von dieser durch Asbestpapier getrennt gehalten wird. Bei einer Stromdichte von 5J.82 Ampere pro dm2 und einer Temperatur des Elektrolyten von 900C h^*. die Zelle am Beginn eine Spannung von 3,58 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,06 Volt. Nach einem Betrrb von 104 Tagen hat die Zelle eine Spannung von 3,70 Volt und eine Chlorüber- is spannung von 0,08 Volt.The electrode is then placed in a laboratory chlorine diaphragm cell. The cell contains an iron mesh cathode which is located at a distance of 9.5 mm from the anode and is kept separated from it by asbestos paper. At a current density of 5J.82 amperes per dm 2 and a temperature of the electrolyte of 90 0 C h ^ *. the cell initially had a voltage of 3.58 volts and a chlorine overvoltage of 0.06 volts. After a Betrrb of 104 days, the cell has a voltage of 3.70 volts and a residual chlorine is voltage of 0.08 volts.

Beispiel 3Example 3

Man stellt aus einem Titansubstrat und dem Delafossit PtO5Co0J33O2 als Überzugsschicht eine Elektrode her.An electrode is produced from a titanium substrate and the Delafossite PtO 5 Co 0 I 33 O 2 as a coating layer.

Man stellt das Platin-Kobalt-Delafossit nach dem Anionenaustauschverfahren auf die Weise her, daß man 5,322 g Platinchlorid (PtCI2), 1,9622 g Kobaltoxid (CO3O4) und 0,882 g Kobaltoxid (CoO) durch Mahlen auf eine Korngröße von weniger als 325 Maschen zerkleinert, mischt, das Gemisch in ein Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 12 mm und einer Länge von 12,7 cm einfüllt, das Rohr 2 Stunden bei 25°C und 16 Stunden bei 125° C luftleer saugt und dann -,0 verschließt. Danach erhitzt man das das Pulver enthaltende Rohr auf 7000C, hält es 70 Stunden bei dieser Temperatur, kühlt es dann rasch auf Raumtemperatur ab, worauf man es öffnet. Sein Inhalt besteht aus einem grauen metallischen Feststoff, festen blauen γ, Kristallen und einem grünen Feststoff. Man zerkleinert das Gesamtprodukt durch Mahlen auf eine Korngröße von weniger als 325 Maschen, füllt das zerkleinerte Produkt in ein zweites Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 12 mm und einer Länge von 12,7 cm, bn saugt das Rohr 1 Stunde bei 25°C und 3 Stunden bei I35°C luftleer, verschließt es, erhitzt es auf 700°C und hält es 47 Stunden bei dieser Temperatur. Hiernach kühlt man es auf Raumtemperatur ab und öffnet es. Es enthält blaue und grüne Kristalle an seinem abgekühlten 6 r> Ende und außerdem einen grauen metallischen Feststoff. Man zerkleinert den grauen metallischen Feststoff auf eine Korngröße von weniger als 325 Maschen, wäscht zweimal bei 25° C mit je 25 ml destilliertem Wasser, dann zweimal mit Aceton und trocknet bei 700C Danach hält man das Pulver 16 Stunden bei 25° C unter Vakuum. Man untersucht den erhaltenen leichten grauen kristallinen metallischen Stoff röntgenspektroskopisch auf die im Beispiel 1 beschriebene Weise. Das Röntgendiagramm ist in F i g. 8 dargestellt Es ist, von nur geringen Unterschieden abgesehen, mit dem aus der Literatur von Delafossit Pt03CoQ8O2 bekannten Röntgendiagramm im wesentlichen identisch.The platinum-cobalt delafossite is produced by the anion exchange process in such a way that 5.322 g of platinum chloride (PtCl 2 ), 1.9622 g of cobalt oxide (CO3O4) and 0.882 g of cobalt oxide (CoO) are milled to a grain size of less than 325 Chop up the mesh, mix it, pour the mixture into a quartz tube with an outer diameter of 12 mm and a length of 12.7 cm, vacuum the tube at 25 ° C for 2 hours and at 125 ° C for 16 hours and then seal it - .0 . The tube containing the powder is then heated to 700 ° C., kept at this temperature for 70 hours, and then rapidly cooled to room temperature, whereupon it is opened. Its contents consist of a gray metallic solid, solid blue γ, crystals and a green solid. Comminuting the total product by grinding to a particle size of less than 325 mesh, the crushed product filled into a second quartz tube of an outer diameter of 12 mm and a length of 12.7 cm, b n sucks the tube 1 hour at 25 ° C and 3 hours at 135 ° C, seal it, heat it to 700 ° C and keep it at this temperature for 47 hours. Then cool it down to room temperature and open it. It contains blue and green crystals at its cooled 6 r > end and also a gray metallic solid. Comminuting the gray metallic solid to a particle size of less than 325 mesh, washed twice at 25 ° C with 25 ml distilled water and then twice with acetone and dried at 70 0 C. Thereafter, the powder is kept for 16 hours at 25 ° C under Vacuum. The light gray crystalline metallic substance obtained is examined by X-ray spectroscopy in the manner described in Example 1. The X-ray diagram is shown in FIG. 8 It is, apart from only minor differences, essentially identical to the X-ray diagram known from the literature of Delafossit Pt 03 CoQ 8 O 2.

Man ätzt den Titanstreifen wie im Beispiel 1 beschrieben und trägt darauf aus einem Schlamm, der aus 0,25 g des Platin-Kobalt-Delafossits, 0,50 g einer als Metall berechnet 4,2 Gew.-°/o Titan enthaltenden Titanresinatlösung, 0,19 g Toluol und 0,06 g Phenol besteht fünf Überzugsschichten auf. Man erhitzt die Schichten 1 bis 4 mit einer Geschwindigkeit von 500C in 10 Minuten auf 425° C und die fünfte Schicht ebenfalls mit einer Geschwindigkeit von 500C in 10 Minuten auf 5000C. Alle Schichten hält man 10 Minuten bei ihrer jeweiligen Höchsttemperatur.The titanium strip is etched as described in Example 1 and carried on it from a sludge composed of 0.25 g of platinum-cobalt delafossite, 0.50 g of a titanium resinate solution containing 4.2% by weight of titanium, calculated as the metal, 0.19 g of toluene and 0.06 g of phenol consists of five coating layers. Heating the layers 1 to 4 at a rate of 50 0 C in 10 minutes to 425 ° C, and the fifth layer is also at a rate of 50 0 C in 10 minutes to 500 0 C. All layers is maintained for 10 minutes at their respective Maximum temperature.

Man prüft die erhaltene Elektrode auf die im Beispiel 1 beschriebene Weise in einer Becherglas-Chlorzelle. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 und einer Temperatur des Elektrolyten von 600C hat die Zelle eine Chlorüberspannung von 0,07 Volt und gegen eine Kalomelelektrode eine Elektrodenspannung von 1,125VoIt.The electrode obtained is tested in the manner described in Example 1 in a beaker chlorine cell. At a current density of 53.82 amps per dm 2 and a temperature of the electrolyte of 60 0 C, the cell has a chlorine overvoltage of 0.07 volts, and against a calomel electrode, an electrode voltage of 1,125VoIt.

Man setzt die Anode dann in eine laborübliche Chiordiaphra?mazelle von der im Beispiel 1 beschriebenen Art ein und führt die Elektrolyse ebenfalls wie im Beispiel 1 beschrieben bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 durch. Die Zelle hat am Beginn eine Spannung von 3,65 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,07 Volt. Nach einer Dauer der Elektrolyse von 744 Stunden hat die Zelle eine Spannung von 3,85 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,28 Volt.The anode is then placed in a laboratory Chiordiaphra? Mazelle of the type described in Example 1 and the electrolysis is also carried out as described in Example 1 at a current density of 53.82 amperes per dm 2 . The cell initially has a voltage of 3.65 volts and a chlorine overvoltage of 0.07 volts. After 744 hours of electrolysis, the cell has a voltage of 3.85 volts and a chlorine overvoltage of 0.28 volts.

Beispiel 4Example 4

Man stellt aus einem Titansubstrat und dem Palladium-Rhodium-Delafossit (PdRhO2) als Überzugsschicht eine Elektrode her. Den Delafossit stellt man nach dem Anionenaustauschverfahren aus Lithiumrhodanat (LiRhO2), metallischem Palladium und Palladiumchlorid (PdCI2) her. Das Lithiumrhodanat (LiRhO2) gewinnt man aus Rhodiumoxid (Rh2O3) und Lithiumcarbonat (Li2CO3). Rhodiumoxid (Rh2O3) erhält man, wenn man Rhodiumchlorid (RhCI3 · 3 H2O) 42 Stunden bei 7900C unter Luftzufuhr erhitzt. Zur Herstellung von Lithiumrhodat zermahlt man das Rhodiumoxid, mischt davon 1,0367 g mit 0,3660 g Lithiumcarbonat (Li2CO3), gibt das Pulvergemisch in eine Alundum-Schale, erhitzt es auf 10400C, hält es 66 Stunden bei dieser Temperatur, zerkleinert das erhaltene Produkt auf eine Korngröße von weniger als 325 Maschen und prüft sie röntgenspektroskopisch. Das erhaltene Röntgendiagramm ist mit dem aus der Literatur von Lithiummanganat (LiMnO2) bekannten Röntgendiagramm im wesentlichen identisch. An electrode is produced from a titanium substrate and the palladium-rhodium delafossite (PdRhO 2) as a coating layer. The delafossite to set (2 LiRhO) metallic palladium and palladium chloride (PdCl 2) following the anion exchange process from Lithiumrhodanat. The lithium rhodanate (LiRhO 2 ) is obtained from rhodium oxide (Rh 2 O 3 ) and lithium carbonate (Li 2 CO 3 ). Rhodium oxide (Rh 2 O 3) is obtained, when heated in an air stream to rhodium chloride (RhCl 3 · 3 H 2 O) for 42 hours at 790 0 C. To produce lithium rhodate, the rhodium oxide is ground, 1.0367 g of it is mixed with 0.3660 g of lithium carbonate (Li 2 CO 3 ), the powder mixture is placed in an alundum bowl, heated to 1040 ° C. and held there for 66 hours Temperature, the product obtained is comminuted to a grain size of less than 325 meshes and checked by X-ray spectroscopy. The X-ray diagram obtained is essentially identical to the X-ray diagram known from the literature on lithium manganate (LiMnO 2).

Man stellt den Delafossit auf die Weise her, daß man l,O817g Lithiumrhodanat (LiRhO2), 0,4068 g metallisches Palladium und 0,6672 g Palladiumchlorid (PdCI2) mischt, das Gemisch durch Mahlen zerkleinert, das Pulver in ein Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 9 mm und einer Länge von 12,7 cm füllt, das Rohr I Stunde bei 25°C und 3 Stunden bei 1100C luftleer saugt, das Rohr dann schließt, auf 79O°C erhitzt und 75 Stunden bei dieser Temperatur hält.The Delafossit is prepared by mixing 1.0817 g of lithium rhodanate (LiRhO 2 ), 0.4068 g of metallic palladium and 0.6672 g of palladium chloride (PdCl 2 ), the mixture is comminuted by grinding, and the powder is transferred to a quartz tube an outer diameter of 9 mm and fills a length of 12.7 cm, the pipe sucks I hour at 25 ° C and 3 hours at 110 0 C deflated, the tube closes, heated to 79O ° C and 75 hours at this temperature holds.

Man zermahlt das erhaltene Produkt, gibt es in ein zweites Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 9 mm und einer Länge von 12,7 cm, saugt das Rohr luftleer, erhitzt es auf 1800C, hält es 18 Stunden bei dieser Temperatur, verschließt es, erhitzt es auf 775°C und hält es bei dieser Temperatur 48 Stunden. Man wäscht das erhaltene Produkt viermal mit destilliertem Wasser und einmal mit Aceton.The product obtained is ground, placed in a second quartz tube with an outer diameter of 9 mm and a length of 12.7 cm, the tube is vacuumed, heated to 180 ° C., kept at this temperature for 18 hours, and closed , heats it to 775 ° C and keeps it at that temperature for 48 hours. The product obtained is washed four times with distilled water and once with acetone.

Man reinigt und ätzt einen 143 cm langen, 9,5 mm breiten und 3,175 mm starken Titanstreifen wie in Beispiel 1 beschrieben und streicht darauf vier Schichten aas einem Schlamm, hergestellt aus 0,2 g des Palladium-Rhodium-Delafossits (PdRhO2), 0,4 g eines als Metall berechnet 4,2 Gew.-Yo Titan enthaltenden Titanresinats, 0,05 g Phenol und 0,15 g Toluol, mit einem Pinsel auf. Nach jedem der Überzüge 1 bis 3 erhitzt man den Streifen mit einer Geschwindigkeit von 500C in 10 Minuten auf 45O0C, worauf man ihn 10 Minuten bei dieser Temperatur hält. Nach dem Auftragen der letzten Schicht erhitzt man ihn, ebenfalls mit einer Geschwindigkeit von 50°C in 10 Minuten, auf 5000C. Auch bei dieser Temperatur hält man den Streifen i0 Minuten.A titanium strip 143 cm long, 9.5 mm wide and 3.175 mm thick is cleaned and etched as described in Example 1 and four layers of a sludge made from 0.2 g of palladium-rhodium delafossite (PdRhO 2 ) are painted on it, 0.4 g of a titanium resinate containing 4.2% by weight of titanium, 0.05 g of phenol and 0.15 g of toluene, with a brush. After each of the coatings 1 to 3 by heating the strip at a rate of 50 0 C in 10 minutes at 45O 0 C, followed by keeping it for 10 minutes at this temperature. After applying the last layer, heating it, also at a rate of 50 ° C in 10 minutes, to 500 0 C. In this temperature is maintained the strip i0 minutes.

Man prüft die so hergestellte Elektrode als Anode wie beschrieben in einer Becherglas-Chloratzelie. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 und einer Temperatur des Elektrolyten von 600C hat die Elektrode eine Chlorüberspannung von 0,07 Volt.The electrode produced in this way is tested as an anode as described in a beaker chlorate cell. At a current density of 53.82 amps per dm 2 and a temperature of the electrolyte of 60 0 C, the electrode is a chlorine overvoltage of 0.07 volts.

Man setzt die Anode in eine laborübliche Chlordiaphragmazelle der im Beispiel 1 beschriebenen Art ein und führt die Eiektrolyse wie in Beispiel 1 beschrieben bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 durch. Am beginn hat die Zelle eine Spannung von 3,69 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,07 Volt. Nach einer Elektrolyse von 1320 Stunden hat die Zelle eine Spannung von 3,71 Volt und eine Chloriiberspannung von 0,15 Volt.The anode is placed in a laboratory chlorine diaphragm cell of the type described in Example 1 and the electrolysis is carried out as described in Example 1 at a current density of 53.82 amperes per dm 2 . At the beginning the cell has a voltage of 3.69 volts and a chlorine overvoltage of 0.07 volts. After 1320 hours of electrolysis, the cell has a voltage of 3.71 volts and a chlorine overvoltage of 0.15 volts.

Beispiel 5Example 5

Man stellt aus einem Titansubstrat und dem Palladiim-Chrom-Delafossit (PdCrO2) als Überzugsschicht eine Elektrode her. Den Delafossit stellt man nach dem Anionenaustauschverfahren aus Palladiummetall, Palladiumchlorid und Lithiumchromat her. Man gewinnt Lithiumchromat durch das Umsetzen von Lithiumcarbonat (Li2COj) mit Chromoxid (Cr2Oj). Man zermahlt hierzu ein Gemisch aus 3,6945 g Lithiumcarbonat (Li2COj) und 7,6010 g Chromoxid (Cr2O3), gibt das Pulver in eine Alundum-Schale und erhitzt es darin 4 Stunden auf 330°C und 12 Stunden auf 9300C. Man zermahlt das erhai'.ene Produkt, erhitzt es danach 23 Stunden auf 93O0C, zermahit es wieder und erhitzt es 23 Stunden auf 10400C. Man zermahli das erhaltene dunkelgrüne Produkt und untersucht es, wie im Beispiel 1 beschrieben, röntgenspektroskopisch. Nach seinem Röntgendiagramm hat es die gleiche Kristallform wie das LiMnO2.An electrode is produced from a titanium substrate and the palladium chromium delafossite (PdCrO 2) as a coating layer. Delafossit is made from palladium metal, palladium chloride and lithium chromate using the anion exchange process. Lithium chromate is obtained by reacting lithium carbonate (Li 2 COj) with chromium oxide (Cr 2 Oj). For this purpose, a mixture of 3.6945 g of lithium carbonate (Li 2 COj) and 7.6010 g of chromium oxide (Cr 2 O 3 ) is ground, the powder is placed in an alundum bowl and heated in it for 4 hours at 330 ° C. and 12 hours to 930 0 C. it grinds the erhai'.ene product, then heated 23 hours at 93O 0 C, zermahit it again and heated in 23 hours 1040 0 C. it zermahli the dark green product obtained and analyzed it, as in example 1 described, by X-ray spectroscopy. According to its X-ray diagram, it has the same crystal form as LiM n O 2 .

Man stellt aus 1,8190 g Lithiumchromat (LiCrO2), 1,0670 g Palladiummetall und 1,776t g Palladiumchlorid (PdCl2) durch Mahlen ein Pulver mit einer Korngröße von weniger als 325 Maschen her, gibt das Pulvergemisch in ein Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 10 mm und einer Länge von 12,7 cm, saugt das Rohr 16 Stunden bei 1300C luftleer, verschließt es, erhitzt es 46 Stunden auf 800°C und kühlt es. Man zermahlt das erhaltene Produkt, füllt es in ein zweites Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 10 mm und einer Länge on 12,7 cm, saugt das Quarzrohr 5 Stunden bei 1300C luftleer, verschließt es und erhitzt es 64 Stunden auf 8000C, was bedeutet, daß insgesamt 110 Stunden auf 800° C erhitzt wird.A powder with a particle size of less than 325 mesh is prepared from 1.8190 g of lithium chromate (LiCrO 2 ), 1.0670 g of palladium metal and 1.776 tg of palladium chloride (PdCl 2 ) by grinding, and the powder mixture is placed in a quartz tube with an outer diameter 10 mm and a length of 12.7 cm, the pipe sucks for 16 hours at 130 0 C deflated, it closes heated in 46 hours 800 ° C and cools it. The product obtained is ground up, filled into a second quartz tube with an outer diameter of 10 mm and a length of 12.7 cm, the quartz tube is vacuumed at 130 ° C. for 5 hours, closed and heated to 800 ° C. for 64 hours , which means that it is heated to 800 ° C for a total of 110 hours.

Man zermahlt das erhaltene Produkt auf eine Korngröße von weniger als 325 Maschen, wäscht es bei 25"C mit destilliertem V/asser, wäscht es danach noch zweimal mit Aceton bei 25° C und trocknet es.The product obtained is ground to a grain size of less than 325 meshes, and it is washed 25 "C with distilled water, then washes it twice more with acetone at 25 ° C and dries it.

Man reinigt und ätzt einen Tixanstreifen von einer Länge von 14,6 cm, einer Breite von 94 mm und einer Stärke von 3,175 mm auf die im Beispiel 1 beschriebeneOne cleans and etches a Tixan strip 14.6 cm long, 94 mm wide and one Thickness of 3.175 mm to that described in Example 1

ίο Weise.ίο wise.

Man stellt eine Lösung von 10 g eines als Metall berechnet 7,5 Gew.-% Platin enthaltenden Platinresinats vom Typ Engelhard i>0-5X« in 9 g Toluol her, so daß die Lösung 3,9 Gew.-% als Metall berechnetes Platin enthält und bringt aus dieser Lösung vier Überzüge auf den Titanstreifen auf. Man erhitzt den Streifen jeweils nach dem Aufbringen der Überzüge 1 bis 3 mit einer Geschwindigkeit von 5C°C in 5 Minuten auf 40O0C und nach dem Aufbringen des viertenA solution of 10 g of a platinum resinate of the Engelhard i> 0-5X «type containing 7.5% by weight of platinum as metal is prepared in 9 g of toluene, so that the solution is 3.9% by weight, calculated as metal Platinum contains and applies four coatings to the titanium strip from this solution. The strip is heated to 40O 0 C in 5 minutes after the application of the coatings 1 to 3 at a rate of 5 ° C. and after the application of the fourth

Überzuges, mit einer Geschwindigkeit von 50° C in 10 Minuten, auf 5000C und hält ihn in jedem Fall 10 Minuten bei der jeweiligen Höchsttemperatur.Coating, at a rate of 50 ° C in 10 minutes, to 500 0 C and holds it in each case 10 minutes at the respective maximum temperature.

Man stellt aus 0,2 g des Palladium-Chrom-Delafossits (PdCrO2), 0,4 g eines als Metall berechnet 4,2 Gew.-% Titan enthaltenden Titanresinats, 0,05 g Phenol und 0,'io g Toluol einen Schlamm her und trägt daraus mit einem Pinsel vier Überzugsschichten auf den Titanstreifen auf. Man erhitzt die Elektrode jeweils nach dem Aufbringen der Überzüge 1 bis 3 mit einer Geschwindigkeit von 500C in 10 Minuten auf 4500C und nach dem Aufbringen des letzten Überzuges, ebenfalls mit einer Geschwindigkeit von 500C in 10 Minuten, auf 500°C und hält sie in jedem Fall 10 Minuten bei der jeweiligen Höchsttemperatur.0.2 g of palladium-chromium delafossite (PdCrO 2 ), 0.4 g of a titanium resinate containing 4.2% by weight of titanium, 0.05 g of phenol and 0.16 g of toluene are prepared Mud and then apply four layers of coating to the titanium strip with a brush. Heating the electrode in each case after the application of the coatings 1 to 3 at a rate of 50 0 C in 10 minutes to 450 0 C and after application of the last coating, also at a rate of 50 0 C in 10 minutes, to 500 ° C and keeps it in any case for 10 minutes at the respective maximum temperature.

Man prüft die Elektrode dann als Anode in einer Becherglas-Chloratzelle wie im Beispiel 1 beschrieben. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 hat die Anode 0,05 Volt.The electrode is then tested as an anode in a beaker chlorate cell as described in Example 1. At a current density of 53.82 amps per dm 2 , the anode has 0.05 volts.

Beispiel 6Example 6

Man stellt mit einem Titansubstrat, einer hierauf aufgetragenen Platinschicht, einer weiteren Schicht aus dem Platin-Kobalt-Delafossit (PtOaCOn18O2) und einer diese Schicht bedeckenden Schicht aus porösemA titanium substrate is used, a layer of platinum applied to it, a further layer of platinum-cobalt delafossite (PtOaCOn 18 O 2 ) and a layer of porous material covering this layer

4ι Titandioxid eine Elektrode her.4ι titanium dioxide ago an electrode.

Man stellt den Platin-Kobalt-Delafossit auf die Weise durch die Umsetzung von Platinchlorid (PtCI2) mit Kobalt(ll + lll)-oxid (Co1O4) und Kobalt(Il)-oxid (CoO) her, daß man 7,9842 g Platinchlorid (PtCl2), 3,6123 gThe platinum-cobalt delafossite is produced by reacting platinum chloride (PtCl 2 ) with cobalt (II + III) oxide (Co 1 O 4 ) and cobalt (II) oxide (CoO) that 7 , 9842 g of platinum chloride (PtCl 2 ), 3.6123 g

-,n Kobalt(II + III)-oxid (Co3O4) und 1,1241g Kobalt(II)-oxid (CoO) in einem Mörser zu einem Pulver mit einer Kerngröße von weniger als 325 Maschen zerstößt und mischt, das Pulver in ein Qiuarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 10 mm und eine Länge von 12,7 cm- Pound n cobalt (II + III) oxide (Co 3 O 4 ) and 1.1241g cobalt (II) oxide (CoO) in a mortar to a powder with a core size of less than 325 mesh and mixes the powder into a quartz tube with an outer diameter of 10 mm and a length of 12.7 cm

v, füllt und darin im Vakuum 18 Stunden ?uf 1300C erhitzt, worauf man das Rohr verschließt.v, and heated in a vacuum to 130 0 C for 18 hours, whereupon the tube is closed.

Man erhitzt das verschlossene Quarzrohr 46 Stunden auf 7000C, nimmt das entstandene Produkt aus dem Quarzrohr heraus, mahlt es, gibt es in ein zweitesThe closed quartz tube is heated to 700 ° C. for 46 hours, the product formed is taken out of the quartz tube, it is ground, and it is put into a second one

w) Quarzrohr von einem äußeren Durchmesser von 10 mm und einer Länge von 12,7 cm, erhitzt das Rohr im Vakuum 8 Stunden auf 130° C, verschüeOt es und erhitzt es dann 64 Stunden auf 7000C.w) quartz tube mm from an outer diameter of 10 and a length of 12.7 cm, the tube is heated in a vacuum for 8 hours to 130 ° C, verschüeOt it and then heated it 64 hours at 700 0 C.

Man nimmt das entstandene Produkt aus dem RohrThe resulting product is taken out of the tube

b5 heraus, wäscht es fünfmal bei 25°C mit destilliertem Wasser, danach zweimal bei 25°C mit Aceton, trocknet es unter Luftzufuhr bei 700C, zerstößt es in einem Mörser zu einer Korngröße von weniger als 325 b 5 out, it is washed five times at 25 ° C with distilled water, then washed twice at 25 ° C with acetone, it is dried in an air stream at 70 0 C pounds it in a mortar to a grain size of less than 325

Maschen und zerkleinert es weiter, indem man es eine Stunde lang in einer handelsüblichen Hammermühle mit einem Hammer aus Borkarbid behandelt.Mesh and crush it further by using it in a commercial hammer mill for an hour treated with a hammer made of boron carbide.

Nach einer Untersuchung mit einem Elektronenmikroskop hat das erhaltene Material Korngrößen im Bereich zwischen 0,02 und 7,5 Mikron. Die Korngrößenverteilung liegt innerhalb zweier verschiedener Größenbereiche. In der Hauptsache liegen hierbei die Korngrößen zwischen 0,02 und 0,3 Mikron und zwischen 1,5 und 6,0 Mikron. Im Bereich der feinen Teilchen ist die mittlere Korngröße 0.1 Mikron, im Bereich der größeren Teilchen ist sie 2.5 Mikron.After examination with an electron microscope, the material obtained has grain sizes im Range between 0.02 and 7.5 microns. The grain size distribution lies within two different size ranges. The main grain sizes are between 0.02 and 0.3 microns and between 1.5 and 6.0 microns. In the area of fine particles is the mean grain size 0.1 micron, in the range of larger particles it is 2.5 microns.

Man reinigt und ätzt einen 14,6 cm langen, 9.5 mm breiten und 3,175 mm starken Titanstreifen, wie in Beispiel I beschrieben, und streicht darauf acht Schichten aus einem 0,25 g des Delafossits Pt0.eCon.sO2, 0.12 g Titantetrachlorid (TiCI4) in Butanol. 0.75 g Butanol und 0,15 g Phenol bestehenden Schlamm auf.A 14.6 cm long, 9.5 mm wide and 3.175 mm thick titanium strip is cleaned and etched, as described in Example I, and eight layers of 0.25 g of Delafossite Pt0.eCon.sO2, 0.12 g titanium tetrachloride (TiCl 4 ) in butanol. 0.75 g of butanol and 0.15 g of phenol on existing sludge.

k„r ,,,r. ηχ,Ι k " r ,,, r. ηχ, Ι

Geschwindigkeit von 500C in 5 Minuten auf 425"C.Speed from 50 0 C to 425 "C in 5 minutes.

Man stellt dann aus Titantetrachlorid (TiCU) in Butanol einen Schlamm her. der, als Metall berechnet. 2.25 Gew.-% Titan enthält und streicht diesen Schlamm in vier Schichten auf die Delafossitfläche des Titanstreifens auf. Man erhitzt den Streifen jeweils nach dem Aufbringen der Überzüge 1 bis 3 20 Minuten auf 1 IOC und danach 10 Minuten auf 4250C. Nach dem Aufbringen des letzten Überzuges erhitzt man ihn 20 Minuten auf 11O15C und 15 Minuten auf 5000C.A sludge is then made from titanium tetrachloride (TiCU) in butanol. who, billed as metal. 2.25% by weight titanium contains and spreads this sludge in four layers on the delafossite surface of the titanium strip. Heating the strip in each case after the application of the coatings 1 to 3 20 minutes 1 IOC and after 10 minutes 425 0 C. After application of the last coating heating it 20 minutes 11O 15 C and 15 minutes at 500 0 C.

Die auf diese Weise hergestellte Elektrode besteht aus einem Titansubstrat als Basis, einer Überzugsschicht aus dem Platin-Kobalt-Delafossit und einer diese bedeckenden äußeren Schicht aus Titandioxid. Man setzt die Elektrode in eine Becherglas-Chloratzelle als Anode ein. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 hat die Anode eine Spannung von 1,175 Volt gegen eine Kalomelelektrode und eine Chlori'iberspannung von 0,12 Volt.The electrode produced in this way consists of a titanium substrate as a base, a coating layer made of platinum-cobalt-delafossite and an outer layer of titanium dioxide covering this. The electrode is placed in a beaker chlorate cell as an anode. At a current density of 53.82 amperes per dm 2 , the anode has a voltage of 1.175 volts against a calomel electrode and a chlorine overvoltage of 0.12 volts.

Beispiel 7Example 7

Man stellt mit einem Titansubstrat als Basis, einem Überzug aus Platin-Kobalt-Delafossit Pt0.eCo0.sO2 und einer hierauf aufgetragenen äußeren Schicht aus Titandioxid eine Elektrode her.A titanium substrate is used as the base, a coating of platinum-cobalt-delafossite Pt0.eCo0.sO2 and an outer layer of titanium dioxide applied thereon to produce an electrode.

Man reinigt einen !4,6 cm langen, 9,5 mm breiten und 3.175 mm starken Titanstreifen auf die im Beispiel 1 beschriebene Weise, trägt darauf aus einem Schlamm aus 0,5 gdes nach Beispiel 6 hergestellten Pl3tin-Kobalt-Delafossits (PtOiCo08O2), 0.25 g Titantetrachlorid (TiCU), 0,75 g But?iol und 0.15 g Phenol sechs Überzüge auf und erhitzt den Streifen nach jedem Überzug zunächst 30 Minuten auf 110°C und dann 15 Minuten auf 4000C.A 4.6 cm long, 9.5 mm wide and 3.175 mm thick titanium strip is cleaned in the manner described in Example 1, and it is applied from a sludge made of 0.5 g of the platinum-cobalt delafossite (PtOiCo 08 O 2), 0.25g of titanium tetrachloride (TiCl), 0.75 g of but? iol and 0.15g phenol six coatings on and heats the strip after each coating first for 30 minutes 110 ° C and then 15 minutes at 400 0 C.

Man stellt eine auf das Metall berechnet 2,1 Gew.-% Titan enthaltende Lösung von Titantetrachlorid in Butanol her und trägt aus dieser Lösung vier Überzüge auf die Delafossitfläche der Elektrode auf. Nach jedem der Überzüge 1 bis 3 erhitzt man die Elektrode zunächst 20 Minuten auf 110°C und dann 10 Minuten auf 425°C. Nach dem vierten Überzug erhitzt man sie zunächst 20 Minuten auf 110° C und dann 15 Minuten auf 500° C.A solution of titanium tetrachloride containing, calculated on the metal, 2.1% by weight of titanium is prepared in Butanol and uses this solution to apply four coatings to the delafossite surface of the electrode. After every of coatings 1 to 3, the electrode is heated first to 110 ° C. for 20 minutes and then to 425 ° C. for 10 minutes. After the fourth coat, it is first heated to 110 ° C for 20 minutes and then to 500 ° C for 15 minutes.

Man prüft die aus dem Titansubstrat, einem Überzug aus dem Platin-Kobalt-Delafossit und einem äußeren Überzug aus porösem Titandioxid bestehende Elektrode wie im Beispiel 1 beschrieben als Anode in einer Becherglas-Chloratzelle. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 hat die Anode eine Spannung von 1,160 Volt gegen eine Kalomelelektrode und eine Chlorüberspannung von 0,10 Volt.The electrode consisting of the titanium substrate, a coating of platinum-cobalt delafossite and an outer coating of porous titanium dioxide is tested as described in Example 1 as an anode in a beaker-chlorate cell. At a current density of 53.82 amperes per dm 2 , the anode has a voltage of 1.160 volts against a calomel electrode and a chlorine overvoltage of 0.10 volts.

Man setzt die Anode in eine laborübliche Chlordiaphragmazelle von der im Beispiel 1 beschriebenen Art > ein und führt die Elektrolyse nach Beispiel 1 bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 durch. Die Zelle hat am Beginn eine Spannung von 374 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,10 Volt. Nach einer Elektrolyse von 74 Tagen hat die Zelle eine Spannung von 3,94 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,17 Volt.The anode is placed in a laboratory chlorine diaphragm cell of the type described in Example 1 and the electrolysis according to Example 1 is carried out at a current density of 53.82 amperes per dm 2 . The cell initially has a voltage of 374 volts and a chlorine overvoltage of 0.10 volts. After 74 days of electrolysis, the cell has a voltage of 3.94 volts and a chlorine overvoltage of 0.17 volts.

Beispiel 8Example 8

Man stellt mit einem Titansubstrat als Basis, einem I Jberzug aus dem Platin-Kobalt-Delafossit (Pt0*Coo.s02)With a titanium substrate as a base, a coating of platinum-cobalt-delafossite (Pt 0 * Coo.s02)

ι. und einer zwischen dem Substrat und dem Delafossitüber/ug eingelegten Schicht aus Rutheniumdioxid (RuO)) eine Elektrode her.ι. and one between the substrate and the delafossite over / ug Inlaid layer of ruthenium dioxide (RuO)) produces an electrode.

Man entfettet, reinigt und ätzt einen 14,6 cm langen, 9,5 niüi breiten und 3.175 γππρ itarkrn Titansireifen aufYou degrease, clean and etch a 14.6 cm long, 9.5 niüi wide and 3,175 γππρ itarkrn titanium tires

JIi die im Beispiel 1 beschriebene Weise und streicht darauf mit einem Pinsel fünf Schichten aus einem 1,5 g Ruthcniumtrichlorid (RuCh-3H2O) in 9 g Äthanol enthaltenden Schlamm auf. Man trocknet den Streifen nach jedem der ersten vier Überzüge 10 Minuten an derJIi the manner described in Example 1 and then spreads five layers of a 1.5 g of Ruthcniumtrichlorid (RuCh-3H 2 O) in 9 g of ethanol containing sludge with a brush. The strip is dried on the for 10 minutes after each of the first four coats

r. Luft und erhitzt ihn dann unter Luftzufuhr 10 Minuten auf 300'C. Man trocknet den letzten Überzug zunächst ebenfalls 10 Minuten an der Luft, erhitzt ihn dann aber 45 Minul' η unter Luftzufuhr auf 4500C.r. Air and then heats it to 300 ° C for 10 minutes with a supply of air. It also dries the last coating next 10 minutes in the air, but then heated it Minul 45 'η supply of air to 450 0 C.

Man stellt aus 0.5 g des Platin-Kobalt-DelafossitsIt is made from 0.5 g of the platinum-cobalt delafossite

in (Pl0.eCo0.nO2) nach Beispiel 6. 1,0 g einer als Metall berechnet 4,2 Gew.-% Titan enthaltenden Lösung von Titantetrachlorid (TiCU) in Butarcl, 0,2 g Phenol und einem Tropfen Nonylphenoxypolyoxyäthylenäthanol einen Schlamm her und trägt daraus sechs Überzüge aufin (Pl0.eCo0.nO2) according to Example 6. 1.0 g of a metal calculated 4.2 wt .-% titanium containing solution of titanium tetrachloride (TiCU) in Butarcl, 0.2 g phenol and a drop of nonylphenoxypolyoxyethylene ethanol and put on six coatings

r> den Streifen auf. Nach jedem Überzug erhitzt man den Streifen zunächst 20 Minuten auf 110"C und dann 15 Minuten auf 400"C.r> the strip on. After each coating you heat the Strip first at 110 "C for 20 minutes and then at 400" C for 15 minutes.

Danach überzieht man den Streifen mit einer Schicht aus einer als Metall berechnet 2,1 Gew.-°/o TitanThe strip is then coated with a layer of a titanium 2.1% by weight, calculated as metal

χι enthaltenden Lösung von Titantetrachlorid (TiCU) in Butanol und erhitzt ihn zunächst 20 Minuten auf HO0C und dann 15 Minuten auf 500°C. Die nach diesem Verfahren erhaltene Elektrode hat ein gleichmäßig graues Aussehen.χι containing solution of titanium tetrachloride (TiCU) in butanol and heated it first to HO 0 C for 20 minutes and then to 500 ° C for 15 minutes. The electrode obtained by this method has a uniform gray appearance.

1-, Man prüft die Elektrode auf die im Beispiel 1 beschriebene Weise als Anode in einer Becherglas-Chloratzelle. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 hat die Anode eine Spannung von 1,147 Volt gegen eine Kalomelelektrode und eine Chlorüberspan-1-, The electrode is tested in the manner described in Example 1 as an anode in a beaker chlorate cell. At a current density of 53.82 amps per dm 2 , the anode has a voltage of 1.147 volts against a calomel electrode and a chlorine surge

iii nung von 0,09 Volt.iii voltage of 0.09 volts.

Man setzt die Elektrode dann als Anode in --.ine laborübliche Chlordiaphragmazelle von der im Beispiel 1 beschriebenen Art ein und führt die Elektrolyse wie im Beispiel 1 beschrieben bei einer Stromdichte von 5332The electrode is then inserted as an anode laboratory chlorine diaphragm cell of the type described in Example 1 and conducts the electrolysis as in Example 1 described at a current density of 5332

Ampere pro dm2 durch. Die Zelle hat am Beginn eine Spannung von 3,60 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,09 Volt Nach einer Elektrolyse von 936 Stunden hat die Zelle eine Spannung von 3,72 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,07 VoltAmps per dm 2 . The cell initially has a voltage of 3.60 volts and a chlorine overvoltage of 0.09 volts. After electrolysis for 936 hours, the cell has a voltage of 3.72 volts and a chlorine overvoltage of 0.07 volts

Beispiel 9Example 9

Man stellt mit einem Titansubstrat als Basis, einem Überzug aus dem Palladium-Kobalt-Delafossil (PdCoO2) und einer zwischen dem Substrat und dem Delafossitüberzug eingelegten Schicht aus Ruthenium dioxid (RUO2) eine Elektrode her.It is made with a titanium substrate as a base, a coating made of the palladium-cobalt-Delafossil (PdCoO2) and a layer of ruthenium inserted between the substrate and the delafossite coating dioxide (RUO2) produces an electrode.

Man entfettet, reinigt und ätzt einen 14,6 cm langen 9,5 mm breiten und 3,175 mm starken Titanstreifen auiYou degrease, clean and etch a 14.6 cm long 9.5 mm wide and 3.175 mm thick titanium strips aui

die im Beispiel 1 beschriebene Weise und streicht darauf mit einem Pinsel vier Schichten aus einem 1,5 g Rutheniumtrichlorid (RuCIj ■ 3 H2O) in 9 g Äthanol enthaltende·.! Schlamm auf. Man trocknet den Streifen nach jedem der ersten drei Überzüge 10 Minuten an der Luft und erhitzt ihn dann in einem luftoffenen Ofen auf eine Temperatur von 3000C, bei der man ihn 10 Minuten h'-Mt. Man trocknet den Streifen nach dem vierten Überzug ebenfalls 10 Minuten an der Luft, erhitzt ihn dann aber in einem luftoffenen Ofen auf 4500C und hält ihn 45 Minuten bei dieser Temperatur.in the manner described in Example 1, and sweeps it, with a brush four layers of 1.5 g of ruthenium trichloride (RuCIj ■ 3 H 2 O) in 9 g ethanol containing ·.! Mud up. Dry the strip of any of the first three coatings 10 minutes in air and then heating it in an air-open furnace to a temperature of 300 0 C, at which it is h'-Mt 10 minutes. Dry the strip after the fourth coating is also 10 minutes in the air, but then heating it in an air-open oven at 450 0 C and holding it for 45 minutes at this temperature.

Man stellt aus 0,2 g des PalladiumKobalt-Delafossils (PdCoOi) nach Beispiel I, 0,4 g eines als Metall berechnet 4.2 Gew.-% Titan enthaltenden Titanresinats, 0,15 g Toluol und 0,05 g Phenol einen Schlamm her und trägt daraus sechs Überzüge auf den Titanstreifen auf. Nach jedem der ersten fünf Überzüge erhitzt man den Streifen mit einer Geschwindigkeit von 50"C in 5 Miniilrn :inf 475T' Narh Hrm Ipf7lpn llhpryng prl.im man den Streifen mit einer Geschwindigkeit von 50 C inIt is made from 0.2 g of the palladium-cobalt Delafossil (PdCoOi) according to Example I, 0.4 g of one as metal calculated 4.2% by weight of titanium-containing titanium resinate, 0.15 g of toluene and 0.05 g of phenol produced a slurry uses it to apply six coatings to the titanium strip. Heat the after each of the first five coats Strip at a speed of 50 "C in 5 miniilrn: inf 475T 'Narh Hrm Ipf7lpn llhpryng prl.im one the strip at a speed of 50 C in

5 Minuten auf eine Temperatur von 500°C, bei der man ihn 15 Minuten hält.5 minutes to a temperature of 500 ° C, at which one holds it for 15 minutes.

Man setzt die aus einem Titansubstrat, einem Überzug aus dem Palladium-Kobalt-Delafossit und einer zwischen dem Substrat und dem Delafossitüberzug eingelagerten Rutheniumdioxidschicht bestehende Elektrode als Anode in eine Becherglas-Chloratzelle nach Beispiel 1 ein. Bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 hat die Anode eine Spannung von 1,141 Volt gegen eine Kalomelelektrode und eine Chlorüberspannung von 0,08 Volt.The electrode consisting of a titanium substrate, a coating of the palladium-cobalt delafossite and a ruthenium dioxide layer interposed between the substrate and the delafossite coating is inserted as an anode in a beaker chlorate cell according to Example 1. At a current density of 53.82 amperes per dm 2 , the anode has a voltage of 1.141 volts against a calomel electrode and a chlorine overvoltage of 0.08 volts.

Man setzt die Anode in eine Chlordiaphragmazelle von den im Laboratorium üblichen Maßen ein und führt die Elektrolyse nach Beispiel 1 bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm2 durch. Die Zelle hat am Beginn eine Spannung von 3,48 Volt und eine Chlorüberspannung von 0,08 Volt. Nach einer Dauer der Elektrolyse von 576 Stunden hat die Zelle eine SInanniincr vrtn λ 4Q VnIt linH fMnp PhlnriiKorcnannnno -r ~ ■ -c ■--- -.■- . ~ .. _..,- ....... ~-........u....,f~· ····£The anode is placed in a chlorine diaphragm cell of the dimensions customary in the laboratory and the electrolysis is carried out according to Example 1 at a current density of 53.82 amperes per dm 2 . The cell initially has a voltage of 3.48 volts and a chlorine overvoltage of 0.08 volts. After a duration of the electrolysis of 576 hours, the cell has a SInanniincr vrtn λ 4Q VnIt linH fMnp PhlnriiKorcnannnno -r ~ ■ -c ■ --- -. ■ -. ~ .. _ .., - ....... ~ -........ u ...., f ~ · ···· £

von 0,07 VcIt.of 0.07 VcIt.

llier/u 4 lihill /.cichiiunccnllier / u 4 lihill /.cichiiunccn

Claims (3)

sehen Formel Patentansprüche: ABO2see formula claims: ABO2 1. Anode mit einer Chlorüberspannung von weniger als 0,33 Volt bei einer Stromdichte von 53,82 Ampere pro dm3, gekennzeichnet durch einen elektrisch leitfähigen Träger aus einem Gleichrichtermetall oder Graphit mit einer hierauf befindlichen Überzugsschicht, die im wesentlichen aus Delafossit besteht, wobei man als Delafossit den Platin-Kobalt-Delafossit den Palladium-Kobalt-Delafossit, den Palladium-Chrom-Delafossit oder den Paliadium-Rhodium-Delafossit verwendet1. Anode with a chlorine overvoltage of less than 0.33 volts at a current density of 53.82 amps per dm 3 , characterized by an electrically conductive carrier made of a rectifier metal or graphite with a coating thereon which consists essentially of delafossite, wherein the platinum-cobalt-delafossite, the palladium-cobalt-delafossite, the palladium-chromium-delafossite or the palladium-rhodium-delafossite are used as delafossite 2. Anode nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine zwischen dem Träger und der Delafossitoberfläche befindliche Zwischenschicht, die im wesentlichen aus Ruthenium, Rhodium, Palladium, Platin, Osmium, Iridium oder ihren Legierungen oder Rutheni'imoxid, Rhodiumoxid, Palladiumoxid, Platinoxid, Osmiumoxid, Iridiumoxid oder Mischungen davon besteht2. Anode according to claim 1, characterized by one between the carrier and the delafossite surface located intermediate layer, which essentially consists of ruthenium, rhodium, palladium, platinum, Osmium, iridium or their alloys or ruthenium oxide, rhodium oxide, palladium oxide, Platinum oxide, osmium oxide, iridium oxide or mixtures of which consists 3. Anode nach den Ansprüchen 1 oder 2, dadurch geken nzeichnet, daß der Träger aus Titan besteht.3. Anode according to claims 1 or 2, characterized in that the carrier consists of titanium.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2255690C3 (en) * 1972-11-14 1985-01-31 Conradty GmbH & Co Metallelektroden KG, 8505 Röthenbach Anode for electrochemical processes
DE2312563A1 (en) * 1973-03-14 1974-10-03 Conradty Fa C METALLANODE FOR ELECTROCHEMICAL PROCESSES
FR2237986B1 (en) * 1973-07-20 1977-05-13 Rhone Progil
US4042483A (en) * 1973-07-20 1977-08-16 Rhone-Progil Electrolysis cell electrode and method of preparation
US4032417A (en) * 1974-09-03 1977-06-28 Hooker Chemicals & Plastics Corporation Electrolytic processes
US4173518A (en) * 1974-10-23 1979-11-06 Sumitomo Aluminum Smelting Company, Limited Electrodes for aluminum reduction cells
FR2312573A1 (en) * 1975-05-30 1976-12-24 Rhone Poulenc Ind NEW ELECTRODE FOR ELECTROLYSIS CELL
US4098669A (en) * 1976-03-31 1978-07-04 Diamond Shamrock Technologies S.A. Novel yttrium oxide electrodes and their uses
US4075070A (en) * 1976-06-09 1978-02-21 Ppg Industries, Inc. Electrode material
US4107025A (en) * 1977-11-09 1978-08-15 Noranda Mines Limited Stable electrode for electrochemical applications
CA1159015A (en) * 1979-12-06 1983-12-20 Douglas J. Wheeler Ceramic oxide electrodes for molten salt electrolysis
US4399008A (en) * 1980-11-10 1983-08-16 Aluminum Company Of America Composition for inert electrodes
US4478693A (en) * 1980-11-10 1984-10-23 Aluminum Company Of America Inert electrode compositions
US4396485A (en) * 1981-05-04 1983-08-02 Diamond Shamrock Corporation Film photoelectrodes
US4633372A (en) * 1985-08-26 1986-12-30 The Standard Oil Company Polyoxometalate-modified carbon electrodes and uses therefor in capacitors
BR8807683A (en) * 1987-09-02 1990-06-26 Moltech Invent Sa A COMPOSITE CERAMIC / METAL MATERIAL
US5104502A (en) * 1989-12-18 1992-04-14 Oronzio De Nora S.A. Cathodic protection system and its preparation
US5062934A (en) * 1989-12-18 1991-11-05 Oronzio Denora S.A. Method and apparatus for cathodic protection
CA2395884A1 (en) * 2000-10-27 2002-05-02 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Catalyst for oxidation of gaseous compound
US20060116285A1 (en) * 2004-11-29 2006-06-01 De Nora Elettrodi S.P.A. Platinum alloy carbon-supported catalysts
GB2461297A (en) * 2008-06-26 2009-12-30 Avocet Hardware Ltd Lock with additional security mechanism and clutch
DE102008032127A1 (en) * 2008-07-08 2010-02-04 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Sol and method of making a delafossite mixed oxide layer structure on a substrate and a mixed oxide coated substrate
WO2011072506A1 (en) * 2009-12-17 2011-06-23 Byd Company Limited Surface metallizing method, method for preparing plastic article and plastic article made therefrom
US9435035B2 (en) 2010-01-15 2016-09-06 Byd Company Limited Metalized plastic articles and methods thereof
CN102071424B (en) * 2010-02-26 2012-05-09 比亚迪股份有限公司 Plastic product and preparation method thereof
CN102071411B (en) 2010-08-19 2012-05-30 比亚迪股份有限公司 Plastic product and preparation method thereof
JP2015148010A (en) * 2014-01-10 2015-08-20 パナソニックIpマネジメント株式会社 Method for generating oxygen and water electrolysis device
CN108531939B (en) * 2018-04-11 2019-11-08 苏州工业职业技术学院 Pt modifies Fe2O3 package CuFeO2 photocathode and preparation method
WO2020064500A1 (en) * 2018-09-26 2020-04-02 Max Planck Gesellschaft Zur Förderung Der Wissenschaften eV Electrocatalysts for hydrogen evolution reactions (her) with delafossite oxides abo2

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DD77963A (en) *
GB1249300A (en) * 1967-12-27 1971-10-13 Ici Ltd Electrodes for electrochemical processes

Also Published As

Publication number Publication date
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US3804740A (en) 1974-04-16
DE2304380A1 (en) 1973-08-09

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